JP6315681B2 - 部品内蔵基板及びその製造方法並びに実装体 - Google Patents
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Description
図2〜図5は、部品内蔵基板の製造方法による製造工程を示すフローチャートである。また、図6〜図8は、部品内蔵基板を製造工程毎に示す断面図である。まず、図2を参照しながら片面基板30の製造工程について説明する。
まず、樹脂基材11の両面に導体層が形成された両面CCLを準備し(ステップS200)、所定箇所にビアホール2を形成して(ステップS202)、例えばプラズマデスミア処理を行う。次に、樹脂基材11の全面にパネルめっき処理を施して(ステップS204)、導体層上及びビアホール2内にめっき層を形成し、配線12及びビア13の原型を形成する。
まず、図8(a)に示すように、例えばポリイミドフィルムからなる樹脂基材21の両面に導体層が形成された両面CCLを準備して、図8(b)に示すように、エッチングなどを施して配線23を一方の面側に形成する(ステップS300)。次に、図8(c)に示すように、配線23が形成された樹脂基材21の一方の面側に、ワニスを塗布硬化させて絶縁基材22を形成する(ステップS302)。これにより、樹脂基材21及び絶縁基材22の間に配線23が備えられることとなる。
すなわち、図11(a)に示すように、例えばポリイミドフィルムからなる樹脂基材21の両面に導体層が形成された両面CCLを準備して、図11(b)に示すように、エッチングなどを施して配線23を一方の面側に形成する(ステップS500)。次に、図11(c)に示すように、配線23が形成された樹脂基材21の一方の面側に、接着材27を介してポリイミドフィルムなどの樹脂基材28を貼り付けて(ステップS502)、絶縁基材22に相当する絶縁層を形成する。これにより、樹脂基材21と接着材27及び樹脂基材28との間に配線23が備えられる。
2、3,4,5 ビアホール
10 両面基板
11,21,31,28 樹脂基材
12,23,32 配線
13,25,26,34 ビア
19 開口部
20 中間基板
22 絶縁基材
24 接着層
27 接着材
30 片面基板
90,99 電子部品
91 再配線電極
91a 背面
91b 電極形成面
100 実装体
Claims (6)
- 複数の単位基板を積層し、電子部品を内蔵してなる多層構造の部品内蔵基板であって、
前記複数の単位基板は、
第1絶縁層の少なくとも一方の面側に形成された第1配線層及び前記第1絶縁層を貫通し前記第1配線層と接続された第1層間導電層を有し、前記電子部品が収容された開口部を備えた第1基板と、
第2絶縁層、前記第2絶縁層に形成された第3絶縁層、前記第2及び第3絶縁層の間に形成された第2配線層、前記第2及び第3絶縁層の表層にそれぞれ設けられた第1接着層、前記第1接着層と共に前記第2絶縁層を貫通し前記第2配線層と接続された第2層間導電層、及び前記第1接着層と共に前記第3絶縁層を貫通し前記第2層間導電層とは中心軸が異なる状態で前記第2配線層と接続された第3層間導電層を有する中間基板とを含み、
前記第1基板の前記第1配線層と前記中間基板の前記第2又は第3層間導電層とが接続されている
ことを特徴とする部品内蔵基板。 - 前記複数の単位基板は、
第4絶縁層の一方の面側に形成された第3配線層及び前記第4絶縁層を貫通し前記第3配線層と接続された第4層間導電層を有し、前記第4絶縁層の他方の面側に設けられた第2接着層を備えた第2基板を含み、
前記第2基板の他方の面側において、前記第4層間導電層の一部が前記電子部品と接続されている
ことを特徴とする請求項1記載の部品内蔵基板。 - 前記中間基板は、前記第2絶縁層がポリイミドからなり、前記第3絶縁層が前記第2絶縁層に塗布されたワニスからなる
ことを特徴とする請求項1又は2記載の部品内蔵基板。 - 前記中間基板は、前記第2絶縁層がポリイミドからなり、前記第3絶縁層が前記第2絶縁層に貼り付けられた接着材及びポリイミドからなる
ことを特徴とする請求項1又は2記載の部品内蔵基板。 - 複数の単位基板を積層し、電子部品を内蔵してなる多層構造の部品内蔵基板の製造方法であって、
前記単位基板として第1絶縁層の少なくとも一方の面側に第1配線層を形成すると共に、前記第1絶縁層を貫通して前記第1配線層と接続される第1層間導電層を形成し、前記電子部品が収容される開口部を形成して第1基板を作製する工程と、
前記単位基板として第2絶縁層の一方の面側に第2配線層を形成すると共に、前記第2配線層を含む前記第2絶縁層の一方の面側に第3絶縁層を形成し、前記第2及び第3絶縁層の表層にそれぞれ第1接着層を設け、前記第1接着層及び前記第2絶縁層を貫通し前記第2配線層と接続される第2層間導電層を形成すると共に、前記第1接着層及び前記第3絶縁層を貫通し前記第2層間導電層とは中心軸が異なる状態で前記第2配線層と接続される第3層間導電層を形成して中間基板を作製する工程と、
前記作製された第1基板の前記開口部に前記電子部品を収容し、前記単位基板を積層方向に複数積層する工程とを備え、
前記積層する工程では、前記第1基板の前記第1配線層と前記中間基板の前記第2又は第3層間導電層とが接続されるように前記第1基板及び前記中間基板を配置して積層する
ことを特徴とする部品内蔵基板の製造方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項記載の部品内蔵基板の表面及び裏面の少なくとも一つの実装面上に他の電子部品を表面実装した実装体。
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