JP6311542B2 - 結晶欠陥の評価方法及びウェーハの製造方法 - Google Patents
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Description
11,11a,11b,11c 結晶欠陥
12,12a,12b ウェーハの表面
13a〜13c 突起
G 合成曲線
S1〜S10 正規分布
T1〜T9 欠陥密度
Claims (11)
- 単結晶に含まれる結晶欠陥の深さ方向における分布を評価する方法であって、
前記結晶欠陥よりも前記単結晶に対するエッチング速度が大きい条件で反応性イオンエッチングを施すことにより、前記単結晶に含まれる前記結晶欠陥を突起として顕在化させる第1の工程と、
計測により前記突起の底面サイズ分布を求める第2の工程と、
前記突起の底面サイズ分布を突起の高さ分布に換算する第3の工程と、
前記突起の高さ分布を互いに平均値の異なる複数の正規分布に換算する第4の工程と、
前記複数の正規分布を前記結晶欠陥の深さ方向における分布に換算する第5の工程と、を備えることを特徴とする結晶欠陥の評価方法。 - 前記単結晶はシリコン(Si)であり、前記結晶欠陥は酸化シリコン(SiO2)であることを特徴とする請求項1に記載の結晶欠陥の評価方法。
- 前記第1の工程においては、鏡面加工された前記単結晶の表面に対して前記反応性イオンエッチングを行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の結晶欠陥の評価方法。
- 前記第2の工程においては、光学顕微鏡を用いて前記突起の底面サイズを計測することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の結晶欠陥の評価方法。
- 前記第2の工程においては、走査型電子顕微鏡を用いて前記突起の底面サイズを計測することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の結晶欠陥の評価方法。
- 前記第2の工程においては、光散乱法を用いて前記突起の底面サイズを計測することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の結晶欠陥の評価方法。
- 前記第3の工程においては、実測値に基づき作成された近似式を用いて、前記突起の底面サイズ分布を前記突起の高さ分布に換算することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の結晶欠陥の評価方法。
- 前記第4の工程においては、前記複数の正規分布の合成曲線が前記突起の高さ分布に近似するよう、前記複数の正規分布の標準偏差及び面積を決定することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の結晶欠陥の評価方法。
- 前記第5の工程においては、前記複数の正規分布の平均値及び面積に基づいて、前記複数の正規分布を前記結晶欠陥の深さ方向における分布に換算することを特徴とする請求項8に記載の結晶欠陥の評価方法。
- 前記単結晶を育成する育成工程と、
前記単結晶からウェーハを切り出す切り出し工程と、
前記ウェーハに含まれる前記結晶欠陥を、請求項1乃至9のいずれか一項に記載の評価方法によって評価する評価工程と、を備えることを特徴とするウェーハの製造方法。 - 前記切り出し工程においては、前記単結晶から複数のウェーハを切り出し、
前記評価工程は、前記複数のウェーハの一部のみに対して行うことを特徴とする請求項10に記載のウェーハの製造方法。
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