JP6536502B2 - パーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法 - Google Patents
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Description
CZ法(チョクラルスキー法)で成長させた直径300mmのシリコン単結晶インゴットから得られた鏡面ウェーハを2枚準備した。ここでパーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製フローは、図2(a)に示すものであり、在庫となっている鏡面シリコンウェーハ(欠陥領域がV領域であり、酸素濃度が14ppma(JEIDA)であるもの)を利用した。
ウェーハ上に37nm〜88nmまでのPSL粒子を塗布し、その後200℃のベーク温度で3分保持し、比較例のパーティクルカウンタ校正用ウェーハを作製した。このようにして作製した比較例のパーティクルカウンタ校正用ウェーハも上記の実施例と同時に洗浄テストを行った。洗浄条件は前述の実施例と同じである。実施例と同様にパーティクルカウンタSurfScan SP3で洗浄前後のカウント数を確認したところ、図8に示すように洗浄前は261個観察されていたPSL粒子が、洗浄後には185個と約3割のPSL粒子の脱落が確認された。
Claims (9)
- パーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法であって、
シリコンウェーハを準備する工程と、
前記準備したシリコンウェーハに対してアニールを行うことにより該シリコンウェーハのバルク部にCOPを成長させる工程と、
前記COPを成長させたシリコンウェーハの表面を鏡面研磨することにより、前記シリコンウェーハの表面に前記COPからなる穴を形成する工程と
を有し、
前記シリコンウェーハの表面に前記COPからなる穴が形成されたパーティクルカウンタ校正用ウェーハを作製することを特徴とするパーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法。 - 前記準備するシリコンウェーハを、鏡面研磨されたシリコンウェーハとすることを特徴とする請求項1に記載のパーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法。
- 前記準備するシリコンウェーハを、シリコン単結晶インゴットから切り出したアズスライスウェーハをラッピング又は研削し、エッチングを行った一方で、鏡面研磨をしていないシリコンウェーハとすることを特徴とする請求項1に記載のパーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法。
- 前記準備するシリコンウェーハを、酸素濃度が13ppma(JEIDA)以上のものとすることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のパーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法。
- 前記準備するシリコンウェーハを、欠陥領域がV領域であるものとすることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のパーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法。
- 前記アニールを行うときに、前記シリコンウェーハのバルク中に20〜80nmのサイズのCOPを成長させる条件でアニールを行うことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のパーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法。
- 前記アニールをアルゴン雰囲気で行うことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のパーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法。
- 前記COPを成長させたシリコンウェーハの表面を鏡面研磨するときに、前記シリコンウェーハの表面に20〜80nmのサイズのCOPが露出するように鏡面研磨することを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のパーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法。
- 前記パーティクルカウンタ校正用ウェーハは、測定対象のシリコンウェーハの表面上に存在する異物又は該測定対象のシリコンウェーハの表面に現れる窪みを異なるパーティクルカウンタ間で測定するときに、該異なるパーティクルカウンタ間の検出感度の校正に用いられるものであることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のパーティクルカウンタ校正用ウェーハの作製方法。
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