JP6881387B2 - Dz層の測定方法 - Google Patents
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Description
しかし、この方法は目視検査であるため、スループットが悪いという問題があった。
ゲッタリングに寄与するBMDサイズは、BMD密度に依存し、例えばBMD密度が1×109/cm3の場合は、約40nm以上のBMDがゲッタリングに寄与する。これに対し、顕微鏡観察では、50nm以上のBMDが検出され、ゲッタリングに寄与するBMDのみを検出出来るため、顕微鏡観察により評価されるDZ層幅が重要である。
このようにして、スループットが悪い顕微鏡観察により求められるDZ層幅を簡便に求めることが出来る。
この時、両手法で求めたDZ層幅は相関関係があるが、実測値は異なる。これは、顕微鏡観察では目視で確認出来るBMDのみを、SIMSでは目視で確認できないBMDも併せて検出するためである。
窒素濃度[N2]=3×1013/cm3、酸素濃度[Oi]=1.1×1018atoms/cm3(ASTM’79)の直径300mmシリコンウェーハに、無欠陥層(DZ層)を形成させるため、Ar雰囲気で熱処理を行った。具体的には、最高到達温度/保持時間が1200℃/10min(サンプル1)、1200℃/20min(サンプル2)、1200℃/30min(サンプル3)の3水準とした。その後、測定間隔は0.03μmでSIMS測定を実施した。図6には、サンプル3の酸素濃度分布を示しており、5μm近傍から、急激に酸素濃度が増加していることが分かる。
1チップ当たりのスループットは、真空引きから測定まで併せて、約3時間であった。
実施例で用いたサンプル4を斜め研磨し、選択エッチングでBMDを顕在化させた後、顕微鏡で観察し、ウェーハ表面から3番目のBMDまでの深さ(DZ層幅)を求めた。その結果、31.6μmであった。求められたDZ層幅は実施例と同等であったが、斜め研磨から顕微鏡観察まで併せると1チップ当たり約4時間30分かかり、実施例と比較するとスループットが悪かった。
Claims (4)
- シリコンウェーハの表層に形成されるDZ層の測定方法であって、
SIMSで測定した酸素濃度の深さ分布から求められるDZ層幅と、顕微鏡観察により求められるDZ層幅との検量線を作成し、作成された前記検量線に基づいて、測定サンプルのSIMSにより求められたDZ層幅から、顕微鏡観察により求められるDZ層幅を求めることを特徴とするDZ層の測定方法。 - 前記SIMS測定において、酸素濃度の移動平均値と酸素濃度の測定値の乖離が酸素濃度の移動平均値に対して±3%以内となる最も浅い深さをAとし、前記Aより深い領域で酸素濃度の移動平均値と酸素濃度の測定値が酸素濃度の移動平均値に対して±5%以上乖離した深さBをSIMSのDZ層幅とすることを特徴とする請求項1に記載のDZ層の測定方法。
- 前記SIMS測定において、酸素濃度の移動平均値と酸素濃度の測定値の乖離が酸素濃度の移動平均値に対して±3%以内となる最も浅い深さをAとし、前記Aより深い領域で酸素濃度の移動平均値と酸素濃度の測定値が酸素濃度の移動平均値に対して±5%以上乖離した深さBの3/4の深さまでの領域の酸素濃度の測定値より近似曲線を作成し、前記Aより深い領域で前記近似曲線と酸素濃度の移動平均値が前記近似曲線に対して±5%以上乖離した深さCをSIMSのDZ層幅とすることを特徴とする請求項1に記載のDZ層の測定方法。
- 前記酸素濃度の移動平均値は、その測定深さの前後5個以上10個以下の酸素濃度の測定値の平均値であることを特徴とする請求項2または請求項3に記載のDZ層の測定方法。
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