JP6310316B2 - バリアフィルム - Google Patents
バリアフィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6310316B2 JP6310316B2 JP2014090483A JP2014090483A JP6310316B2 JP 6310316 B2 JP6310316 B2 JP 6310316B2 JP 2014090483 A JP2014090483 A JP 2014090483A JP 2014090483 A JP2014090483 A JP 2014090483A JP 6310316 B2 JP6310316 B2 JP 6310316B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- inorganic film
- refractive index
- main surface
- inorganic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims description 111
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 306
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 description 39
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 31
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 24
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 23
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- -1 moisture Substances 0.000 description 6
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001780 ECTFE Polymers 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N oxotin;zinc Chemical compound [Zn].[Sn]=O KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- CHJAYYWUZLWNSQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,2,2-trifluoroethene;ethene Chemical group C=C.FC(F)=C(F)Cl CHJAYYWUZLWNSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002064 alloy oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係るバリアフィルムを示す断面図である。第1の実施形態では、樹脂フィルムからなる基材11上に有機物により形成されている平坦化層12、無機材料により形成されている無機膜13、電極として作用する透明な導電膜14がこの順に積層一体化されてバリアフィルムが構成されている。上記無機膜13は、第1,第2の主面13a,13bを有する。上記無機膜13の第1の主面13aは、上記基材11側に位置している。上記無機膜13の第2の主面13bは、上記導電膜14側に位置している。
図3は、本発明の第2の実施形態に係るバリアフィルムを示す断面図である。第2の実施形態に係るバリアフィルムにおいては、基材11上に無機膜13及び透明な導電膜14が積層されている。このように、本発明においては、平坦化層を設けなくともよい。
上記無機膜13は、第1の無機膜部分13A及び第2の無機膜部分13Bを有する。第1の無機膜部分13A上に第2の無機膜部分13Bが積層されている。
バリアフィルムの基材を構成している材料としては、特に限定されないが、樹脂フィルムを用いることが好ましい。樹脂フィルムを構成する樹脂としても、特に限定されず、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチルなどのアクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、イソフタレート共重合体などのポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂などのポリオレフィン系樹脂、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体(ETFE)、エチレンクロロトリフルオロエチレン樹脂(ECTFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂(PCTFE)、ポリフッ化ビニリデン樹脂(PVDF)、テトラフロオロエチレン−パーフロオロアルキルビニルエーテル共重合体(FAP)、ポリビニルフルオライド樹脂(PVF)、テトラフロオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(PVDF−HFP)及びポリフッ化ビニリデンとポリメタクリル酸メチルとの混合物(PVDF/PMMA)等のフッ素系樹脂などの樹脂が挙げられる。なお、樹脂は、1種のみが用いられても2種以上が併用されてもよい。
有機層からなる平坦化層を構成している材料としては、表面の平滑性を得られるものであれば特に限定されず、例えば、ラジカル重合性基を有するアルコキシシラン、ラジカル重合性基を有しないアルコキシシラン及び水を含む組成物を作成し、該組成物を塗布した後、塗布した上記組成物に活性エネルギー線を照射することにより得られる。
無機膜は、1)膜厚方向に屈折率が連続的に単調増加する屈折率傾斜構造を有し、2)無機膜と、平坦化層又は基材との界面においては、平坦化層又は基材の屈折率n0と、無機膜の平坦化層又は基材と接する第1の主面の屈折率n1がn0≦n1の条件を満たし、3)前述したように無機膜の第2の主面の屈折率n2と導電膜の屈折率n3との差が0.2以下であればよい。
導電膜は、透明であり、電気を流す機能を有する機能膜、すなわち透明電極であり、屈折率はn3である。
バリアフィルムの基材としてPETフィルム(東レ社製、商品名「ルミラー50T60」)を用いた。
次に、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン80重量部、テトラエトキシシラン53重量部、チタニウムテトラブトキシド30重量部及び水4.9重量部含む組成物に、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン(チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、商品名「イルガキュア907」)0.1重量部を加えて、9Wの紫外線ランプを用いて紫外線を15分間照射して予備重合を行った。この組成物をグラビアコーターにより上記基材の一面に塗布し、塗布した組成物に電子線照射装置(ESI社製、製品名「EC300/165/800」)を用いて、加速電圧175kV、照射線量150kGyの条件で電子線を照射することによって、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランのラジカル重合を行ってラジカル重合体を形成した後、電子線照射を行った組成物を一面に有するポリエチレンテレフタレートフィルムを45℃、相対湿度65%RHの環境下に1時間放置し、加水分解及び脱水縮合反応を促進することにより上記ラジカル重合体の主鎖間を架橋するテトラエトキシシランの脱水縮合物を形成し、平坦化層(厚み2μm)を得た。
ガスバリア層を図5に示すRtoRスパッタリング装置31を用いて形成した。RtoRスパッタリング装置31は巻き出し巻き取り室32と成膜室40により構成されている。巻き出し巻き取り室32には巻き出し軸33、巻き取り軸34、ガイドロール35及び36及びキャンロール37が備えられていて、真空ポンプ38により排気され減圧状態になる。巻き出し軸33には基材となるフィルム原反が取り付けられ、フィルム原反から巻き出された基材フィルム30はガイドロール35、キャンロール37及びガイドロール36を経て巻き取り軸34に巻き取られる。また、成膜室40にはターゲット41及び42が備えられバイポーラー電源43に接続されている。このバイポーラー電源43によりターゲット41とターゲット42に交互にパルス電力を供給することができる。さらに、成膜室40にはアルゴンガス供給ライン44と酸素ガス供給ライン45が接続されていて、成膜室40内にアルゴンガス及び酸素ガスを供給することができる。成膜室40にも真空ポンプ39が接続されていて、成膜室40内を減圧することができる。成膜室40を減圧後、アルゴンガス及び酸素ガスを所定の流量で供給し、さらに、ターゲット41、ターゲット42に電力を供給することにより、該ターゲット41,42とキャンロール37間の空間にプラズマを形成することができる。このプラズマによりターゲット41及びターゲット42を構成している材料が、該ターゲット41,42表面から弾き出される。そして、弾き出された材料がキャンロール37面上を通過する基材表面に堆積し、薄膜を形成する。バイポーラー電源43はターゲット41とターゲット42に供給するパルス数比を任意に制御することができる。パルス数比を制御することにより、ターゲット41表面から弾き出され基材フィルム30上に堆積する材料の量とターゲット42表面から弾き出され基材フィルム30上に堆積する材料の量の比をコントロールすることができる。ターゲット41とターゲット42に異なる材料を選択した場合、パルス数比を制御することにより基材フィルム30上に堆積する合金酸化物の組成を制御することができる。
具体的には、平坦化層が片面に形成された基材を図5に示す巻き出し軸33にセットし、さらにターゲット41としてSiを、ターゲット42としてZnSn合金(Zn:Sn=70:30wt%)ターゲットを取り付けた。RtoRスパッタリング装置31を真空ポンプ38及び真空ポンプ39により排気し、3.0×10−4Paまで減圧した。その後、基材フィルム30を巻き出し軸33から巻き取り軸34の方向にガイドロール35、キャンロール37、ガイドロール36を通る経路で搬送しながら、成膜室40において以下に示す成膜条件で平坦化層上に、SiO2により形成される第1の主面とZnSnOxにより形成される第2の主面とを有するSiZnSnOx薄膜を形成し、無機膜を得た。得られた無機膜においては、第1の主面が平坦化層に接しており、第1の主面から第2の主面に向かって、屈折率(n1)1.51から、屈折率(n2)1.96に連続的に変化している。
基材搬送速度:0.1m/分,張力100N,キャンロール冷却温度:10℃
アルゴンガス流量:80sccm,酸素ガス流量:80sccm
電源出力:5kW、電力パルス比:ターゲット41:ターゲット42=3:1
次に、ターゲット41としてITOターゲットを取り付け、上記形成された無機膜を巻き取り軸34から巻き出し軸33の方向に搬送しながら、無機膜の表面に成膜条件2に示す条件でITO膜を形成し、バリアフィルムを得た。
基材搬送速度:0.1m/分,張力100N,キャンロール冷却温度:10℃
アルゴンガス流量:80sccm,酸素ガス流量:80sccm
電源出力:5kW、電力パルス比:ターゲット41:ターゲット42=1:0
導電膜の形成の際に、ターゲット41としてAZOターゲットを取り付けて、AZO膜を形成したこと以外は、実施例1と同様にしてバリアフィルムを作製した。
無機膜を2段階で成膜し、1回目はターゲット41としてSiを、ターゲット42としてAlターゲットを取り付け、上記の成膜条件1で平坦化層上に第1の無機膜部分であるSiAlOx薄膜を形成した。更に、2回目はターゲット41としてAlを、ターゲット42としてZnSn合金(Zn:Sn=70:30wt%)ターゲットを取り付け、同じ成膜条件1でSiAlOx薄膜上に、第2の無機膜部分であるAlZnSnOx薄膜を形成し、無機膜を得た。
導電膜の形成の際に、ターゲット41としてAZOターゲットを取り付けたこと以外は、実施例3と同様にしてバリアフィルムを作製した。
無機膜において、2段階で成膜し、1回目はターゲット41としてSiを、ターゲット42としてZnSn合金(Zn:Sn=70:30wt%)ターゲットを取り付け、上記の成膜条件1で平坦化層上に、第1の無機膜部分であるSiZnSnOx薄膜を形成した。更に、2回目はターゲット41としてZnSn合金(Zn:Sn=70:30wt%)ターゲットを、ターゲット42としてITOターゲットを取り付け、下記成膜条件3でSiZnSnOx薄膜を有する無機膜上に第2の無機膜部分であるZnInSnOx薄膜を形成し、無機膜を得た。
基材搬送速度:0.1m/分,張力100N,キャンロール冷却温度:10℃
アルゴンガス流量:80sccm,酸素ガス流量:80sccm
電源出力:5kW、電力パルス比:ターゲット41:ターゲット42=1:3
基材としてアクリルフィルム(三菱レイヨン社製、商品名「アクリプレンHBS006」)を用いたこと以外は、実施例1と同様としてバリアフィルムを作製した。
基材としてフッ素フィルム(AGC社製、商品名「アフレックス25N1250NT」)を用いたこと以外は、実施例1と同様としてバリアフィルムを作製した。
ターゲット41としてSiを、ターゲット42としてZnSn合金(Zn:Sn=90:10重量%)ターゲットを取り付け、上記の成膜条件1で平坦化層上にSiZnSnOx薄膜を形成し、無機膜を得たこと以外は、実施例1と同様としてバリアフィルムを作製した。
ターゲット41としてSiを、ターゲット42としてZnSn合金(Zn:Sn=95:5重量%)ターゲットを取り付け、上記の成膜条件1で平坦化層上にSiZnSnOx薄膜を形成し、無機膜を得たこと以外は、実施例1と同様としてバリアフィルムを作製した。
ターゲット41としてSiを、ターゲット42としてZnSn合金(Zn:Sn=30:70重量%)ターゲットを取り付け、上記の成膜条件1で平坦化層上にSiZnSnOx薄膜を形成し、無機膜を得たこと以外は、実施例1と同様としてバリアフィルムを作製した。
平坦化層が片面に形成された基材フィルムを巻き出し軸33にセットし、さらにターゲット41としてSiを取り付け、上記の成膜条件2で平坦化層上にSiO2薄膜を形成し、無機膜を得た。また、ITOからなる導電膜を実施例1と同様の方法で、基材の無機膜が設けられてない側の面に成膜し、バリアフィルムを作製した。
平坦化層が片面に形成された基材フィルムを巻き出し軸33にセットし、さらにターゲット41としてAlを取り付け、上記の成膜条件2で平坦化層上にAl2O3薄膜を形成し、無機膜を得た。その他の点は、比較例1と同様にして、バリアフィルムを作製した。
平坦化層が片面に形成された基材フィルムを巻き出し軸33にセットし、さらにターゲット41としてZnSn合金(Zn:Sn=70:30重量%)ターゲットを、ターゲット42としてSiを取り付け、上記の成膜条件3で平坦化層上にZnSnOxにより形成される第1の主面とSiO2により形成される第2の主面とを有するZnSnSiOx薄膜を形成し、無機膜を得た。得られた無機膜においては、第1の主面が平坦化層に接しており、第1の主面から第2の主面に向かって、屈折率(n1)1.96から、屈折率(n2)1.51に連続的に変化している。その他の点は、比較例1と同様にして、バリアフィルムを作製した。
導電膜の形成面を無機膜上としたこと以外は、比較例2と同様にしてバリアフィルムを作製した。
平坦化層を形成しなかったこと以外は、比較例4と同様にしてバリアフィルムを作製した。
基材としてアクリルフィルム(三菱レイヨン社製、商品名「アクリプレンHBS006」)を用い、基材上に実施例1と同様の方法で平坦化層を形成した。無機膜においては、2段階で成膜し、1回目はターゲット41としてSiを取り付け、上記の成膜条件2で平坦化層上にSiO2薄膜を形成した。更に、2回目はターゲット41としてTiを取り付け、同じ成膜条件2でSiO2薄膜上にTiO2薄膜を形成し、2層の無機膜を得た。また、ITOからなる導電膜を実施例1と同様の方法で、TiO2薄膜上に形成し、バリアフィルムを得た。
無機膜において、ターゲット41としてSiを、ターゲット42としてTiを取り付け、上記の成膜条件1で平坦化層上にSiO2により形成される第1の主面とTiO2により形成される第2の主面とを有するSiTiOx薄膜を形成し、無機膜を得た。得られた無機膜においては、第1の主面が平坦化層に接しており、第1の主面から第2の主面に向かって、屈折率(n1)1.51から、屈折率(n2)2.05に連続的に変化している。また、ITOからなる導電膜を実施例1と同様の方法で、無機膜上に形成し、バリアフィルムを得た。
得られたバリアフィルムについて、以下の評価項目について評価を実施した。
バリアフィルムの各層の屈折率は反射分光膜厚計(大塚電子社製、製品名「FE−3000」)にて測定した。導電膜の屈折率n3と、第2の主面の屈折率n2との差を△n(n3−n2)とした。
得られたバリアフィルムのガスバリア性を評価するために、差圧式透湿度測定装置(GTRテック社製、品番「GTR−300XASC」)により温度40℃、湿度90%の条件で水蒸気透過率を測定した。
バリアフィルムの透明性の評価については、全光線透過率をヘイズメーター(東洋精機製作所社製、商品名「ヘイズガード2」)によりJIS K7361に基づいて透過率を測定した。
バリア耐久性の評価として、高温高湿試験を行った。高温高湿試験評価においては、バリアフィルムを10cm×10cmのサイズで切出し、導電膜側に100nmのCaを真空蒸着し、更にその上に200nmのAlを真空蒸着した。蒸着した後の積層体を65℃、85%RHの条件で高温高湿試験機に1000時間投入した。水が端部から浸入するとCaの金属光沢が消えるため、端部の色変化でバリア耐久性を評価した。
バリア耐久性の評価として、屈曲性評価を行った。具体的には、耐屈曲性試験を行い、試験後の水蒸気透過率を評価した。バリアフィルムの屈曲性はJIS C5016に準拠した耐屈曲性試験に基づいて行った。得られたバリアフィルムを耐屈曲性試験装置の固定板と可動板に屈曲半径が5mmとなるように固定し、ストローク120mm、繰り返し屈曲回数を10000として試験を行い、試験後の水蒸気透過率を評価した。
試料表面にカーボンを蒸着後、FIBにより薄膜切片を作製し、透過型電子顕微鏡FE−TEM(日本電子社製、商品名「JEM−2010FEF」)によりEDS線分析により測定した。なお、Sn比率は、ZnとSnの総和に対するSnの比Xsにて表されるものとする。
ガスバリア性、全光線透過率、高温高湿試験及び屈曲性評価結果を表1と表2に示す。なお、表1及び表2におけるガスバリア性、高温高湿試験及び屈曲性は、以下の評価基準で評価した。
水蒸気透過率:WVTR(g/m2/day)
WVTR<1.0×10−4…A
1.0×10−4≦WVTR<5.0×10−3…B
5.0×10−3≦WVTR<1.0×10−2…C
WVTR≧1.0×10−2…D
端部の色変化幅≦0.5mm…A
1≦端部の色変化幅<0.5…B
2≦端部の色変化幅<1…C
端部の色変化幅<2…D
耐屈曲性試験後の水蒸気透過率:B−WVTR(g/m2/day)
B−WVTR<1.0×10−4…A
1.0×10−4≦B−WVTR<5.0×10−3…B
5.0×10−3≦B−WVTR<1.0×10−2…C
B−WVTR≧1.0×10−2…D
12…平坦化層
13…無機膜
13a…第1の主面
13b…第2の主面
13c…第1の無機膜部分と第2の無機膜部分の接する面
13A…第1の無機膜部分
13B…第2の無機膜部分
14…導電膜
30…基材フィルム
31…RtoRスパッタリング装置
32…巻き出し巻き取り室
33…巻き出し軸
34…巻き取り軸
35…ガイドロール
36…ガイドロール
37…キャンロール
38…真空ポンプ
39…真空ポンプ
40…成膜室
41…ターゲット
42…ターゲット
43…バイポーラー電源
44…アルゴンガス供給ライン
45…酸素ガス供給ライン
Claims (3)
- 基材と、
前記基材上に積層されており、第1,第2の主面を有する無機膜と、
前記無機膜上に積層されており、電極として作用する透明な導電膜とを備え、
前記無機膜の第1の主面が前記基材側に位置し、前記無機膜の第2の主面が前記導電膜側に位置しており、
前記無機膜の第1の主面がSiの酸化物によって形成され、前記無機膜の第2の主面がAl、Zn、Sn及びInからなる群から選択される少なくとも1種の酸化物により形成され、前記無機膜の第1の主面から第2の主面に向かって組成が連続的に変化しており、 前記無機膜の第1の主面の屈折率をn1、前記無機膜の第2の主面の屈折率をn2、前記導電膜の屈折率をn3としたときに、
前記無機膜の第1の主面から第2の主面に向かって、前記無機膜の屈折率がn1からn2(n1<n2)に連続的に変化し、かつn2とn3との差が0.2以下であり、
前記無機膜が、Si、Zn及びSnの複酸化物を含んでいる、バリアフィルム。 - 前記Si、Zn及びSnの複酸化物において、ZnとSnの総和に対するSnの比Xsが70>Xs>0を満たす、請求項1に記載のバリアフィルム。
- 前記無機膜が、第1の無機膜部分と、該第1の無機膜部分上に積層されている第2の無機膜部分を有しており、
前記第1の無機膜部分の一方面から他方面に向かって、屈折率がn1からn4(n1<n4)に連続的に変化し、前記第2の無機膜部分の一方面から他方面に向かって、屈折率がn4からn2(n4<n2)に連続的に変化しており、
前記第1の無機膜部分の屈折率がn4である側の面に、前記第2の無機膜部分の屈折率がn4である側の面が接するように、前記第2の無機膜部分が積層されている、請求項1又は2に記載のバリアフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014090483A JP6310316B2 (ja) | 2014-04-24 | 2014-04-24 | バリアフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014090483A JP6310316B2 (ja) | 2014-04-24 | 2014-04-24 | バリアフィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015208889A JP2015208889A (ja) | 2015-11-24 |
JP6310316B2 true JP6310316B2 (ja) | 2018-04-11 |
Family
ID=54611516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014090483A Active JP6310316B2 (ja) | 2014-04-24 | 2014-04-24 | バリアフィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6310316B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6756148B2 (ja) * | 2016-05-17 | 2020-09-16 | 東レ株式会社 | 積層フィルムおよびその製造方法 |
JP6779672B2 (ja) * | 2016-06-20 | 2020-11-04 | 株式会社アルバック | 透明導電膜付き基板、液晶パネル及び透明導電膜付き基板の製造方法 |
JP2022138696A (ja) * | 2021-03-10 | 2022-09-26 | 日東電工株式会社 | 透明バリアフィルム |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0741337A (ja) * | 1993-07-30 | 1995-02-10 | Glaverbel Sa | 光彩防止透明体 |
JP3976614B2 (ja) * | 2002-05-13 | 2007-09-19 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | 帯電防止付カバーフィルム |
JP4858167B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2012-01-18 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2007073465A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子、それを用いた表示装置及び照明装置 |
JP5287201B2 (ja) * | 2008-12-12 | 2013-09-11 | 東洋紡株式会社 | 透明導電性積層フィルム |
JP5292358B2 (ja) * | 2010-05-28 | 2013-09-18 | 富士フイルム株式会社 | 水蒸気バリアフィルム |
JP5499904B2 (ja) * | 2010-05-28 | 2014-05-21 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着源材料、成膜方法、無機化合物膜及びガスバリアフィルム |
JP5775471B2 (ja) * | 2012-02-07 | 2015-09-09 | 積水化学工業株式会社 | 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途 |
-
2014
- 2014-04-24 JP JP2014090483A patent/JP6310316B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015208889A (ja) | 2015-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5667732B1 (ja) | 無機膜及び積層体 | |
US10209414B2 (en) | Infrared-reflecting film | |
JP5245893B2 (ja) | 多層フィルムおよびその製造方法 | |
US9859033B2 (en) | Conductive film and electronic device having conductive film | |
JP2012510723A (ja) | 層状素子およびその層状素子を含む光起電力デバイス | |
JP5417698B2 (ja) | 機能性フィルムの製造方法 | |
KR20140024883A (ko) | 다층 전자 장치 | |
US20190348621A1 (en) | Optoelectronic foil and manufacturing method of optoelectronic foil | |
KR102042404B1 (ko) | 적외선 조절 광학 필름 | |
JP6310316B2 (ja) | バリアフィルム | |
JP6442328B2 (ja) | 透明導電性フィルムの製造方法および透明導電性フィルム | |
KR20150118760A (ko) | 박막봉지 유닛 및 이의 제조 방법 | |
JP2016124219A (ja) | 積層無機膜及びバリアフィルム | |
TW201500217A (zh) | 具親水性、抗反射及抗霧之多層複合薄膜及其製作方法 | |
JP6606614B2 (ja) | 無機膜及びガスバリアフィルム | |
KR101719520B1 (ko) | 탄화불소 박막을 포함하는 다층 배리어 필름 및 이의 제조방법 | |
JP2020082660A (ja) | ガスバリア積層体 | |
WO2017090605A1 (ja) | ガスバリアー性フィルム及び電子デバイス | |
JP2007223101A (ja) | 積層体 | |
JP2005183007A (ja) | 透明導電性シート | |
WO2015011928A1 (ja) | 透明導電体の製造方法 | |
JP2024512522A (ja) | オプトエレクトロニクスデバイスのための光透過性多層構造 | |
JP6701626B2 (ja) | ガスバリアフィルム | |
KR20230157437A (ko) | 투명 도전성 압전 적층 필름 | |
JPWO2015151677A1 (ja) | 透明導電部材、及び、透明導電部材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170209 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180220 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180316 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6310316 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |