JP6307281B2

JP6307281B2 - Roll mold

Info

Publication number: JP6307281B2
Application number: JP2014003990A
Authority: JP
Inventors: 哲理三田村; 伊藤　隆一; 隆一伊藤
Original assignee: Asahi Kasei Corp
Current assignee: Asahi Kasei Corp
Priority date: 2014-01-14
Filing date: 2014-01-14
Publication date: 2018-04-04
Anticipated expiration: 2034-01-14
Also published as: JP2015131436A

Description

本発明は、ロールモールドに関し、特にシームレスロールモールドに関する。 The present invention relates to a roll mold, and more particularly to a seamless roll mold.

近年、半導体、光学・磁気記録等の分野において高密度化、高集積化等の要求が高まるにつれ、数百ｎｍ〜数十ｎｍ程度以下の微細パターン加工技術が必須となっている。 In recent years, with increasing demands for higher density and higher integration in the fields of semiconductors, optical / magnetic recording, etc., a fine pattern processing technique of several hundred nm to several tens of nm or less is essential.

微細パターンの転写方法として、ナノインプリント法が提案されている。ナノインプリント法は、微細パターンが付与されたモールドを作製し、そのモールドを元型として、樹脂等に転写して微細パターンを得る手法である。 A nanoimprint method has been proposed as a method for transferring a fine pattern. The nanoimprint method is a technique for producing a fine pattern by producing a mold having a fine pattern and transferring the mold to a resin or the like.

近年、ナノインプリント法で大面積の微細パターンを得る方法としてロールモールドが注目を集めている。例えば、ロールモールドを得る方法として、平板モールドをロール状基材に巻きつけて作製する疑似ロールモールドが報告されている。 In recent years, a roll mold has attracted attention as a method for obtaining a fine pattern of a large area by a nanoimprint method. For example, as a method for obtaining a roll mold, a pseudo roll mold produced by winding a flat plate mold around a roll-shaped substrate has been reported.

しかしながら、疑似ロールモールドは、平板モールドを巻き付けるため、巻き付け開始部と終了部にどうしても接合点（シーム）ができてしまい、均一な大面積の微細パターンを得ることが困難であった。一方、本出願人は、ロール状基材に直接微細パターンを形成するシームレスロールモールドについて提案している（特許文献１参照）。 However, since the pseudo roll mold winds a flat plate mold, joint points (seams) are inevitably formed at the winding start portion and the end portion, and it is difficult to obtain a uniform large-area fine pattern. On the other hand, the present applicant has proposed a seamless roll mold that directly forms a fine pattern on a roll-shaped substrate (see Patent Document 1).

また、モールドのパターン微細化に伴い、転写樹脂等との接触界面が大幅に増加するためモールドから転写樹脂が離型しにくいという問題があった。そこで、モールドのパターン表面に離型剤により構成された離型層を被覆し離型性を上げる検討がなされている（例えば特許文献２参照）。この方法は、離型剤中にモールドを含侵し、その後モールドを引上げ、風乾又は加熱してモールド表面に離型層を被覆して、離型性を向上させる方法である。一方、スパッタ法や蒸着法等のドライ工程で離型層をモールドに被覆する方法が公開されている（例えば特許文献３参照）。この方法は、溶液（ウェット）工程を介さないためゴミ等による汚れの影響を少なくすることができる。 Further, as the pattern of the mold is miniaturized, the contact interface with the transfer resin or the like is greatly increased, so that there is a problem that the transfer resin is difficult to release from the mold. In view of this, studies have been made to increase the releasability by covering the mold pattern surface with a release layer composed of a release agent (see, for example, Patent Document 2). In this method, the mold is impregnated in the mold release agent, and then the mold is pulled up, air-dried or heated to coat the mold surface with the mold release layer, and the mold release property is improved. On the other hand, a method of covering a mold with a release layer by a dry process such as a sputtering method or a vapor deposition method has been disclosed (for example, see Patent Document 3). Since this method does not involve a solution (wet) process, it is possible to reduce the influence of dirt due to dust and the like.

上述の疑似ロールモールドの場合、離型処理は、まず、平板モールド表面に離型層を被覆し、その後、離型層が被覆された平板モールドをロール状基材に巻きつける。そのため、平板モールドの離型層の被覆方法がそのまま使用できる（例えば特許文献４参照）。 In the case of the above-described pseudo roll mold, the mold release treatment first coats the mold layer on the surface of the plate mold, and then winds the plate mold coated with the mold release layer around the roll-shaped substrate. Therefore, the coating method of the release layer of the flat plate mold can be used as it is (see, for example, Patent Document 4).

国際公開第２００９／０９３７００号パンフレットInternational Publication No. 2009/093700 Pamphlet 特許第４６０５１８７号公報Japanese Patent No. 4605187 特開平１１−３９７３０号公報JP 11-39730 A 特開平４−３６８６４６号公報JP-A-4-368646

しかしながら、従来においては、良好な離型性とともに、微細パターンの変形を抑制でき、更に高強度且つ耐食性等に優れた離形層を円筒形のモールド表面に形成したシームレスモールドは存在しなかった。 However, in the past, there has been no seamless mold in which a release layer that has excellent mold release properties and can suppress deformation of a fine pattern, and further has a release layer having high strength and excellent corrosion resistance, etc. formed on the surface of a cylindrical mold.

また上述のように平板モールドに離型層を被覆する方法は多数開示されているが、シームレスロールモールドのような円筒形のモールドの表面に離型層を被覆する方法については開示がなかった。 Further, as described above, many methods for coating a release layer on a flat plate mold have been disclosed, but there has been no disclosure on a method for coating a release layer on the surface of a cylindrical mold such as a seamless roll mold.

ロールモールドに離型剤により構成された離型層を被覆する方法では、装置等の設備が簡便なウェット工程、及び、ゴミ等の影響が少ないドライ工程が挙げられる。中でも、微細パターンの欠陥を防ぐ上で、ゴミ等の影響が少ないドライ工程が好適であると考えられる。しかしながら、ドライ工程において、被処理物に繰り返し転写が可能な離型性を維持しつつ、離型層の被覆によるモールド表面の微細パターンの変形を抑制する必要があるが、これらの要求を実現する、ロールモールドへの離型層を被覆する方法の指針がなかった。 In the method of coating a roll mold with a release layer composed of a release agent, there are a wet process in which equipment such as an apparatus is simple and a dry process in which the influence of dust or the like is small. In particular, it is considered that a dry process that is less affected by dust and the like is suitable for preventing fine pattern defects. However, in the dry process, it is necessary to suppress the deformation of the fine pattern on the mold surface due to the coating of the release layer while maintaining the releasability that can be repeatedly transferred to the object to be processed. There was no guide on how to coat the release layer on the roll mold.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、ロールモールド本体の周面に、繰り返し転写に対して良好な離型性を維持しつつ微細パターンの変形を抑制できる離型層を具備したロールモールドを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above points, and has a release layer on the peripheral surface of a roll mold body that can suppress deformation of a fine pattern while maintaining good release properties for repeated transfer. An object is to provide a roll mold.

本発明者らは、かかる課題を解決すべき鋭意検討し実験を重ねた結果、ピッチが１ｎｍ以上１μｍ以下の凹凸構造で構成される微細パターンを有するロールモールドの周面（微細パターンが形成されている円筒表面）を離型層で被覆する際、繰り返し転写に対して良好な離型性を確保しつつ、微細パターン形状の変化を抑制するためには、離型層がアモルファス金属の離型剤により構成されるとともに、離型層の膜厚が０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であって、かつ、離型層の膜厚の分布が±５．０％以下であるべきことを見出し、本発明をなすに至った。すなわち、本発明は、以下のとおりである。 As a result of intensive studies and repeated experiments to solve the above problems, the present inventors have found that the peripheral surface of a roll mold (a fine pattern is formed) having a fine pattern composed of a concavo-convex structure having a pitch of 1 nm to 1 μm. In order to suppress changes in the shape of the fine pattern while ensuring good releasability for repeated transfer, the release layer is an amorphous metal release agent. And found that the thickness of the release layer should be not less than 0.5 nm and not more than 10 nm, and the thickness distribution of the release layer should be ± 5.0% or less. It came to an eggplant. That is, the present invention is as follows.

本発明に係るロールモールドは、ピッチが１ｎｍ以上１μｍ以下の凹凸構造で構成される微細パターンを有するロールモールド本体と、前記ロールモールド本体の前記凹凸構造を構成する凸部及び凹部を含む周面をアモルファス金属から成る離型剤により被覆してなる離型層と、を具備し、前記離型層の膜厚が０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であって、かつ、膜厚の分布が±５．０％以下であることを特徴とする。

The roll mold according to the present invention includes a roll mold body having a fine pattern composed of a concavo-convex structure having a pitch of 1 nm or more and 1 μm or less, and a peripheral surface including convex portions and concave portions constituting the concavo-convex structure of the roll mold body. A release layer coated with a release agent made of an amorphous metal, the release layer has a thickness of 0.5 nm to 10 nm, and the thickness distribution is ± 5.0. % Or less.

このような構成により、繰り返し転写に対して離型性を維持しつつ微細パターンの変形を抑制できる。 With such a configuration, it is possible to suppress deformation of the fine pattern while maintaining releasability with respect to repeated transfer.

本発明に係るロールモールドにおいて、前記離型層と前記ロールモールド本体との密着性が、前記離型層と被処理物との密着性に比べて高いことが好ましい。 The roll mold which concerns on this invention WHEREIN: It is preferable that the adhesiveness of the said mold release layer and the said roll mold main body is high compared with the adhesiveness of the said mold release layer and a to-be-processed object.

また本発明では、前記離型層が、Ｚｒ基アモルファス金属、Ｐｄ基アモルファス金属、Ｐｔ基アモルファス金属、Ｃｕ基アモルファス金属、Ｔｉ基アモルファス金属、Ｆｅ基アモルファス金属、Ａｕ基アモルファス金属、Ｃｏ基アモルファス金属、Ｎｉ基アモルファス金属、Ｍｏ基アモルファス金属、Ｎｂ基アモルファス金属、及び、Ｃａ基アモルファス金属の群から選択される少なくとも一つで構成されていることが好ましい。 In the present invention, the release layer may be a Zr-based amorphous metal, a Pd-based amorphous metal, a Pt-based amorphous metal, a Cu-based amorphous metal, a Ti-based amorphous metal, an Fe-based amorphous metal, an Au-based amorphous metal, or a Co-based amorphous metal. It is preferably composed of at least one selected from the group consisting of Ni-based amorphous metal, Mo-based amorphous metal, Nb-based amorphous metal, and Ca-based amorphous metal.

また本発明では、前記Ｚｒ基アモルファス金属は、ＺｒＣｕ、ＺｒＮｉ、ＺｒＰｄ、ＺｒＡｌＣｕ、ＺｒＡｌＣｕＮｉ、ＺｒＮｉＡｌ、ＺｒＣｕＡｇ、ＺｒＣｕＡｌＡｇ、及び、ＺｒＣｕＡｌＡｇＰｄから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｐｄ基アモルファス金属は、ＰｄＣｕＳｉ、ＰｄＣｕＮｉＰ、ＰｄＮｉＦｅＰ、ＰｄＣｕＢＳｉ、ＰｄＣｕＰ、及び、ＰｄＰｔＣｕＰから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｐｔ基アモルファス金属は、ＰｔＣｕＰであり、前記Ｃｕ基アモルファス金属は、ＣｕＺｒＴｉ、ＣｕＺｒＴｉＹ、及び、ＣｕＺｒＡｌＡｇから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｔｉ基アモルファス金属は、ＴｉＮｂＳｉ、ＴｉＣｕＮｉＳｎ、ＴｉＣｕＺｒＣｏ、及び、ＴｉＣｕＮｉＺｒＳｎから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｆｅ基アモルファス金属は、ＦｅＰＣ、ＦｅＢ、ＦｅＡｌＰ、ＦｅＮｂＡｌＰ、ＦｅＺｒＢ、ＦｅＣｏＬａＢ、ＦｅＳｉＢＮｂ、ＦｅＣｒＣＬａ、ＦｅＧａＰ、ＦｅＳｉＢＰ、及び、ＦｅＣｒＭｏＣＢから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ａｕ基アモルファス金属は、ＡｕＣｕＳｉ、ＡｕＣｕＳｉＡｇ、及び、ＡｕＣｕＳｉＡｇＰｄから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｃｏ基アモルファス金属は、ＣｏＦｅＢ、及び、ＣｏＴａＢから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｎｉ基アモルファス金属は、ＮｉＰ、ＮｉＳｉＢ、ＮｉＦｅＰＢＳｉ、ＮｉＺｒＴｉＳｎＳｉ、ＮｉＰｄＰ、及び、ＮｉＰｄＰＢから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｍｏ基アモルファス金属は、ＭｏＳｉＢであり、前記Ｎｂ基アモルファス金属はＮｂＳｉＢであり、前記Ｃａ基アモルファス金属は、ＣａＭｇＺｎであることが好ましい。 In the present invention, the Zr-based amorphous metal is composed of at least one selected from ZrCu, ZrNi, ZrPd, ZrAlCu, ZrAlCuNi, ZrNiAl, ZrCuAg, ZrCuAlAg, and ZrCuAlAgPd, and the Pd-based amorphous metal is , PdCuSi, PdCuNiP, PdNiFeP, PdCuBSi, PdCuP, and PdPtCuP, the Pt-based amorphous metal is PtCuP, and the Cu-based amorphous metal is CuZrTi, CuZrTiY, and , CuZrAlAg, and the Ti-based amorphous metal is TiNbSi, TiCuNiSn, TiCuZrCo, and T. The Fe-based amorphous metal is composed of at least one selected from CuNiZrSn, and the Fe-based amorphous metal is at least one selected from FePC, FeB, FeAlP, FeNbAlP, FeZrB, FeCoLaB, FeSiBNb, FeCrCLa, FeGaP, FeSiBP, and FeCrMoCB. The Au-based amorphous metal is composed of at least one selected from AuCuSi, AuCuSiAg, and AuCuSiAgPd, and the Co-based amorphous metal is selected from CoFeB and CoTaB. The Ni-based amorphous metal is selected from NiP, NiSiB, NiFePBSi, NiZrTiSnSi, NiPdP, and NiPdPB. Is composed of at least any one is, the Mo-based amorphous metals are MoSiB, the Nb-based amorphous metal is NbSiB, the Ca-based amorphous metal is preferably CaMgZn.

また本発明では、前記離型層の表面には不動態被膜が形成されていることが好ましい。これにより耐食性を向上させることができる。 Moreover, in this invention, it is preferable that the passive film is formed in the surface of the said mold release layer. Thereby, corrosion resistance can be improved.

本発明に係るロールモールドにおいて、蒸着法、ＣＶＤ法又はスパッタ法のいずれかを用いて、前記ロールモールド本体を円周方向に１０回転以上回転させて前記離型層を得ることが好ましい。 In the roll mold according to the present invention, it is preferable to obtain the release layer by rotating the roll mold main body 10 times or more in the circumferential direction using any one of a vapor deposition method, a CVD method, and a sputtering method.

本発明によれば、繰り返し転写に対して良好な離型性を維持しつつ微細パターンの変形を抑制できるロールモールドを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the roll mold which can suppress the deformation | transformation of a fine pattern can be provided, maintaining favorable mold release property with respect to repetitive transfer.

本実施の形態に係るロールモールド本体を示す斜視概略図である。It is a perspective schematic diagram which shows the roll mold main body which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るロールモールド本体を示す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the roll mold main body which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係る凹凸構造を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the uneven structure which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るロールモールドの一部を示す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows a part of roll mold which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るロールモールドの製造に用いるスパッタリング法を用いた成膜装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the film-forming apparatus using the sputtering method used for manufacture of the roll mold which concerns on this Embodiment.

以下、本発明の一実施の形態（以下、「実施の形態」と略記する。）について、詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。 Hereinafter, an embodiment of the present invention (hereinafter abbreviated as “embodiment”) will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement by changing variously within the range of the summary.

本実施の形態に係るロールモールドは、ピッチが１ｎｍ以上１μｍ以下の凹凸構造で構成される微細パターンを有するロールモールド本体１（図１参照）と、ロールモールド本体１の周面１ａをアモルファス金属から成る離型剤により構成された離型層と、を具備し、離型層の膜厚が０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であって、かつ、膜厚の分布が±５．０％以下である。 In the roll mold according to the present embodiment, a roll mold body 1 (see FIG. 1) having a fine pattern composed of a concavo-convex structure with a pitch of 1 nm or more and 1 μm or less, and a peripheral surface 1a of the roll mold body 1 are made of an amorphous metal. And a release layer composed of the release agent. The thickness of the release layer is 0.5 nm or more and 10 nm or less, and the film thickness distribution is ± 5.0% or less.

図１は、本実施の形態に係るロールモールド本体を示す斜視概略図である。ロールモールド本体１は、図１に示すように、略円筒形であって、その周面上（曲面を成す円筒表面）に微細パターン２が形成されている。図２は、図１中のＩＩ−ＩＩ線に対応する、本実施の形態に係るロールモールド本体を示す断面概略図である。図２に示すように、ロールモールド本体１の周面１ａ上に、微細パターン２を構成する凹凸構造が形成されている。凹凸構造は、複数の凸部３及び凹部４の繰り返しで構成されている。 FIG. 1 is a schematic perspective view showing a roll mold body according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the roll mold main body 1 has a substantially cylindrical shape, and a fine pattern 2 is formed on the peripheral surface (a cylindrical surface forming a curved surface). FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the roll mold body according to the present embodiment, corresponding to the line II-II in FIG. As shown in FIG. 2, an uneven structure constituting the fine pattern 2 is formed on the peripheral surface 1 a of the roll mold body 1. The concavo-convex structure is configured by repetition of a plurality of convex portions 3 and concave portions 4.

図３は、本実施の形態に係る凹凸構造を示す断面模式図である。図３に示すロールモールド本体１（図３中では便宜上平板状で示している）には、複数の凸部３及び凹部４からなる凹凸構造が形成されている。本実施の形態においては、この凹凸構造の隣接する凸部３間の距離をピッチＰという。図３では、隣り合う凸部３の図示右端間の距離をピッチＰとしているが、隣り合う凸部３の図示左端間の距離をピッチＰとしてもよいし、また隣り合う各凸部３の上面の幅方向の中心間距離をピッチＰとすることもできる。なお、本発明において、ピッチＰは、図３に示すように、必ずしも凹凸構造の隣接する凸部３間のピッチＰでなくとも良く、隣接する凹部４間のピッチであっても良い。また、図３では、平板状でピッチＰを示しているが、ロールモールド本体１の周面は曲面であり、その際の凸部３間のピッチＰは、隣り合う凸部３の上面の例えば、右端端部３ａ間（左端端部でも幅中心でもよい）を直線状に結んだ距離Ｐ´が、ピッチに該当する。なお、ロールモールド本体１の直径φはｃｍ以上オーダーで、ピッチＰはｎｍ〜μｍオーダーであるため、ピッチＰは曲率の影響を受けず、ピッチＰを凸部の高さ方向のどの位置で測定しても一定のピッチＰ（上面側と下面側とでピッチ誤差は１／１００％以下程度）を得ることができる。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the concavo-convex structure according to the present embodiment. The roll mold body 1 shown in FIG. 3 (shown as a flat plate in FIG. 3 for convenience) has a concavo-convex structure formed of a plurality of convex portions 3 and concave portions 4. In the present embodiment, the distance between adjacent convex portions 3 of this concavo-convex structure is referred to as a pitch P. In FIG. 3, the distance between the illustrated right ends of the adjacent convex portions 3 is the pitch P. However, the distance between the illustrated left ends of the adjacent convex portions 3 may be the pitch P, and the upper surface of each adjacent convex portion 3 The distance between the centers in the width direction can be the pitch P. In the present invention, as shown in FIG. 3, the pitch P is not necessarily the pitch P between the adjacent convex portions 3 in the concavo-convex structure, and may be the pitch between the adjacent concave portions 4. Moreover, in FIG. 3, although the pitch P is shown by flat form, the surrounding surface of the roll mold main body 1 is a curved surface, and the pitch P between the convex parts 3 in that case is the upper surface of the adjacent convex part 3, for example The distance P ′ connecting the right end portions 3a (which may be the left end portion or the width center) in a straight line corresponds to the pitch. In addition, since the diameter φ of the roll mold body 1 is on the order of cm or more and the pitch P is on the order of nm to μm, the pitch P is not affected by the curvature, and the pitch P is measured at any position in the height direction of the convex portion. Even so, a constant pitch P (a pitch error of about 1/100% or less between the upper surface side and the lower surface side) can be obtained.

また、本実施の形態において凹凸構造の形状としては、特に限定はないが、ラインアンドスペース形状、ドット形状、長穴形状、さらにこれらの混合形状等が挙げられる。また、凹凸構造の断面構造としては、矩形形状、三角形状、ドーム形状、レンズ形状等が挙げられる。 In the present embodiment, the shape of the concavo-convex structure is not particularly limited, and examples thereof include a line and space shape, a dot shape, a long hole shape, and a mixed shape thereof. In addition, examples of the cross-sectional structure of the concavo-convex structure include a rectangular shape, a triangular shape, a dome shape, and a lens shape.

本実施の形態に係るロールモールド本体１は、シームレスモールドである。ロールモールド本体１の製造方法は、例えば、特許文献１に開示されているように、ロール状基材の周面にレジスト膜を成膜し、レジスト膜を露光・現像して微細パターンに対応するマスクパターンを形成する。このレジスト膜をマスクとしてロール状基材をエッチングし、ロール状基材の周面に凹凸構造を形成し、ロールモールド本体１を得ることができる。 The roll mold main body 1 according to the present embodiment is a seamless mold. For example, as disclosed in Patent Document 1, the roll mold main body 1 is manufactured by forming a resist film on the peripheral surface of a roll-shaped substrate, and exposing and developing the resist film to cope with a fine pattern. A mask pattern is formed. Using this resist film as a mask, the roll-shaped substrate is etched to form a concavo-convex structure on the peripheral surface of the roll-shaped substrate, whereby the roll mold body 1 can be obtained.

図４は、本実施の形態に係るロールモールドの一部を示す断面概略図である。上述のロールモールド本体１には、図４に示すように、微細パターン２の凹凸構造を構成する凸部３及び凹部４を含む周面を覆うようにして、アモルファス金属から成る離型剤から構成される離型層５が形成されている。離型層５は、周面全体を隙間なく被覆している。この際、アモルファス金属から成る離型層５の膜厚が、０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であって、かつ、膜厚の分布が±５．０％以下とする。 FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a part of the roll mold according to the present embodiment. As shown in FIG. 4, the roll mold main body 1 is composed of a release agent made of an amorphous metal so as to cover the peripheral surface including the convex portions 3 and the concave portions 4 constituting the concave-convex structure of the fine pattern 2. A release layer 5 to be formed is formed. The release layer 5 covers the entire peripheral surface without any gaps. At this time, the film thickness of the release layer 5 made of amorphous metal is 0.5 nm or more and 10 nm or less, and the film thickness distribution is ± 5.0% or less.

アモルファス金属から成る離型層５の膜厚を０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下にすることで、ロールモールドの繰り返し転写に対して良好な離型性を確保しつつ、微細パターン形状を被処理物に適切に転写できる。微細パターン２の形状転写性は、微細パターン２のピッチやアスペクト比（溝の深さをパターン幅で除した値）にも依存するが、アモルファス金属から成る離型層５の膜厚が厚くなるにつれ、パターン形状がなまる（パターンの形状が不明瞭になる）傾向にある。従って、ロールモールドの微細パターン形状を可能な限り維持するためには、アモルファス金属から成る離型層５の膜厚を１０ｎｍ以下にすることが好ましく、より好ましくは５ｎｍ以下である。なお、膜厚の上限はピッチとアスペクト比の観点からも選択することができ、例えば、溝深さに対して１０％以下の膜厚が好ましく、５％以下の膜厚がより好ましい。一方、繰り返し転写に対する離型性を確保するという観点では、０．５ｎｍ以上の膜厚が好ましい。以上のように、ピッチが１ｎｍ以上１μｍ以下の凹凸構造で構成される微細パターンを有するロールモールド本体に対し、微細パターン形状を可能な限り維持し且つ良好な離型性を確保するために、アモルファス金属から成る離型剤により形成された離型層５の膜厚を０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下に設定している。 By setting the film thickness of the release layer 5 made of amorphous metal to 0.5 nm or more and 10 nm or less, a fine pattern shape is appropriately applied to the object to be processed while ensuring a good release property for repeated transfer of the roll mold. Can be transferred to. The shape transferability of the fine pattern 2 depends on the pitch and aspect ratio of the fine pattern 2 (the value obtained by dividing the groove depth by the pattern width), but the film thickness of the release layer 5 made of amorphous metal is increased. As a result, the pattern shape tends to be distorted (the pattern shape becomes unclear). Therefore, in order to maintain the fine pattern shape of the roll mold as much as possible, the film thickness of the release layer 5 made of amorphous metal is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less. The upper limit of the film thickness can also be selected from the viewpoint of the pitch and the aspect ratio. For example, the film thickness is preferably 10% or less, more preferably 5% or less with respect to the groove depth. On the other hand, a film thickness of 0.5 nm or more is preferable from the viewpoint of ensuring releasability for repeated transfer. As described above, in order to maintain the fine pattern shape as much as possible and to ensure good releasability with respect to the roll mold body having the fine pattern constituted by the uneven structure having a pitch of 1 nm or more and 1 μm or less, the amorphous The film thickness of the release layer 5 formed by a metal release agent is set to 0.5 nm or more and 10 nm or less.

さらには、アモルファス金属から成る離型層５の膜厚の分布が±５．０％以下であることが好ましい。「±５％以下」とは、−５％〜５％の範囲内を指す。膜厚の分布を±５．０％以下にすることで、ピッチが１ｎｍ以上１μｍ以下の凹凸構造で構成される微細パターン２を被処理物に転写するにあたり、均一な微細パターン２の転写ができる。光学用途や、撥水性及び親水性等の表面改質用途等を考慮すると、微細パターン形状の分布は可能な限り小さい方が好ましい。アモルファス金属から成る離型層５の膜厚の分布が大きいとその分布の影響を受けて、ロールモールドの微細パターン形状の転写の均一性が低下することになる。従って、アモルファス金属から成る離型層５の膜厚の分布は、±５．０％以下であることが好ましく、さらに好ましくは±３．０％以下であり、最も好ましくは±１．５％以下ある。アモルファス金属から成る離型層５の膜厚の分布が小さいほど、ロールモールドの微細パターン形状の転写の均一性が向上する。なお、上述の膜厚に対する分布（％）は、標準偏差から算出された値をいう。 Furthermore, it is preferable that the film thickness distribution of the release layer 5 made of amorphous metal is ± 5.0% or less. “± 5% or less” refers to a range of −5% to 5%. By transferring the film thickness distribution to ± 5.0% or less, the uniform fine pattern 2 can be transferred when transferring the fine pattern 2 having a concavo-convex structure with a pitch of 1 nm to 1 μm to the object to be processed. . In consideration of optical applications and surface modification applications such as water repellency and hydrophilicity, the distribution of fine pattern shapes is preferably as small as possible. If the distribution of the film thickness of the release layer 5 made of amorphous metal is large, the uniformity of transfer of the fine pattern shape of the roll mold is deteriorated due to the influence of the distribution. Therefore, the thickness distribution of the release layer 5 made of amorphous metal is preferably ± 5.0% or less, more preferably ± 3.0% or less, and most preferably ± 1.5% or less. is there. The smaller the film thickness distribution of the release layer 5 made of amorphous metal, the more uniform the transfer of the fine pattern shape of the roll mold. The above distribution (%) with respect to the film thickness refers to a value calculated from the standard deviation.

本実施の形態において、アモルファス金属から成る離型層５の膜厚及び膜厚の分布の測定方法は特に制限はないが、蛍光Ｘ線（ＸＲＦ）を用いて測定することができる。蛍光Ｘ線測定による膜厚及び膜厚の分布の測定は、対象となるアモルファス金属から成る離型層５の種類に応じて検量線を作成して、その検量線を元に実際のロールモールドを蛍光Ｘ線で測定して膜厚を算出して行う。なお、本発明の膜厚及び膜厚の分布において、例えば凹凸状のパターンの膜厚及び膜厚の分布を前記蛍光Ｘ線で測定する場合、凹凸状パターンの頂部、底部、側部の平均の膜厚及び膜厚の分布を指し、さらに蛍光Ｘ線の測定エリア内にある複数個の凹凸状パターンの平均の膜厚及び膜厚の分布のことを指す。なお、膜厚の分布は、標準偏差を指し、下記の式１、２から算出したσとして計算することができる。 In the present embodiment, the method for measuring the film thickness and the film thickness distribution of the release layer 5 made of amorphous metal is not particularly limited, but can be measured using fluorescent X-rays (XRF). The measurement of the film thickness and film thickness distribution by fluorescent X-ray measurement is to create a calibration curve according to the type of the release layer 5 made of the target amorphous metal, and use the actual roll mold based on the calibration curve. Measurement is performed with fluorescent X-rays to calculate the film thickness. In addition, in the film thickness and film thickness distribution of the present invention, for example, when measuring the film thickness and film thickness distribution of the concavo-convex pattern with the fluorescent X-ray, the average of the top, bottom, and side of the concavo-convex pattern is measured. It refers to the film thickness and film thickness distribution, and further refers to the average film thickness and film thickness distribution of a plurality of uneven patterns in the fluorescent X-ray measurement area. The film thickness distribution indicates the standard deviation and can be calculated as σ calculated from the following formulas 1 and 2.

式１

Formula 1

式２

Formula 2

式２により、Ｎ個のデータ（Ｘ_１，Ｘ_２・・・Ｘ_Ｎ）からなる母集団において、母平均（ｍ）を使って算出するσ^２（分散）の正の平方根σを標準偏差とする。 According to Equation 2, in a population composed of N pieces of data (X ₁ , X ₂ ... X _N ), the positive square root σ of σ ² (variance) calculated using the population mean (m) is defined as the standard deviation. To do.

本実施の形態に係るロールモールドにおいて、ロールモールドのアモルファス金属から成る離型層５としては、ロールモールドのアモルファス金属から成る離型層５とロールモールド本体１との密着性が、ロールモールドのアモルファス金属から成る離型層５と転写に用いられる被処理物を構成する樹脂又は無機物（以下、被転写剤）との密着性に比べて高い組成からなるアモルファス金属から成る離型層５を用いることが好ましい。ロールモールド本体１とロールモールドのアモルファス金属から成る離型層５との密着性が高い場合、ロールモールドと被転写剤との密着性よりも低い場合に比べて、続けて複数回転写を繰り返しても離型層５はロールモールド本体１から剥がれにくく、離型層５をロールモールド本体１に適切に保持でき、良好な繰り返し転写性を得ることができる。 In the roll mold according to the present embodiment, as the release layer 5 made of amorphous metal of the roll mold, the adhesiveness between the release layer 5 made of amorphous metal of the roll mold and the roll mold body 1 is such that the roll mold is amorphous. Use of a release layer 5 made of an amorphous metal having a composition higher than the adhesion between the release layer 5 made of metal and a resin or inorganic material (hereinafter referred to as a transfer agent) that constitutes an object to be used for transfer. Is preferred. When the adhesiveness between the roll mold body 1 and the release layer 5 made of amorphous metal of the roll mold is high, the transfer is continuously repeated a plurality of times as compared with the case where the adhesiveness between the roll mold and the transfer agent is lower. In addition, the release layer 5 is not easily peeled off from the roll mold body 1, the release layer 5 can be appropriately held on the roll mold body 1, and good repeatability can be obtained.

一般的にアモルファス金属の特徴として、高強度、高弾性、高耐食性、軟磁性、表面エネルギーが挙げられる。アモルファス金属の主な特徴は、アモルファスで粒界がないため、金属結晶のようなすべり面がなく、強度と粘りを両立することができる。また、化学的な活性が高いため、合金中にクロムのような不動態をつくるような元素を添加すると、厚い不動態被膜を作りやすく、高い耐腐食性を示す。さらに均一性が高く、腐食の起点となる結晶粒界が存在しないことも耐腐食性の高さに寄与している。本発明者らは、アモルファス金属と被転写剤との濡れ性を測定した所、非常に良好であることを見出した。これはアモルファス金属特有の表面状態に起因すると推測される。加えて、ロールモールドにアモルファス金属を離型層として付与した場合、ロールモールド本体１と離型層５との間の密着性が非常に優れることもわかった。これは、アモルファス金属には粒界がないため接触面積が増加したためだと推測される。高い濡れ性や高い密着性は、微細パターンの転写性能（離型性、繰り返し転写性）の向上に非常に大きく影響する。 In general, characteristics of amorphous metal include high strength, high elasticity, high corrosion resistance, soft magnetism, and surface energy. The main feature of amorphous metal is that it is amorphous and has no grain boundary, so there is no slip surface like a metal crystal, and both strength and viscosity can be achieved. In addition, since chemical activity is high, when an element that creates a passive state such as chromium is added to the alloy, it is easy to form a thick passive film and exhibits high corrosion resistance. Furthermore, the high uniformity and the absence of crystal grain boundaries as starting points of corrosion also contribute to the high corrosion resistance. The inventors of the present invention have found that the wettability between the amorphous metal and the transfer agent is very good. This is presumed to be due to the surface condition peculiar to the amorphous metal. In addition, it was also found that the adhesion between the roll mold body 1 and the release layer 5 is very excellent when amorphous metal is applied to the roll mold as a release layer. This is presumed to be due to the fact that the contact area is increased because there is no grain boundary in amorphous metal. High wettability and high adhesion greatly affect the improvement of fine pattern transfer performance (releasability, repeat transferability).

本発明では繰り返し転写に対して良好な離型性を確保でき、具体的には、ロールモールドの１回転分を転写１回と便宜上呼ぶと、平均転写回数を、２００回以上としても良好な離型性を確保でき、平均転写回数を４００回以上にできるとより好ましく、平均転写回数を６００回以上にできるとさらに好ましく、平均転写回数を８００回以上にできると最も好ましい。なお、平均転写回数とは、同じ条件で転写を３バッチ実施し、各バッチの転写回数を相加平均した値をいう。アモルファス金属から成る離型層５は、離型性が高いため微細パターンの転写が可能であり且つ、ロールモールドとの密着性が高いため、離型層５の脱離・劣化が少なく転写回数の増加が可能になる。 In the present invention, good releasability can be ensured for repeated transfer. Specifically, when one roll mold rotation is referred to as one transfer for convenience, the average transfer number is 200 times or more. More preferably, the moldability can be ensured and the average number of transfer times can be 400 times or more, the average number of transfer times can be more preferably 600 times or more, and the average number of transfer times can be most preferably 800 times or more. The average number of times of transfer refers to a value obtained by carrying out three batches under the same conditions and arithmetically averaging the number of times of transfer in each batch. The release layer 5 made of an amorphous metal has a high releasability, so that a fine pattern can be transferred. Further, since the adhesion to the roll mold is high, the release layer 5 is less detached and deteriorated and the number of times of transfer can be reduced. Increase is possible.

また、アモルファス金属は、導電性を有する。従って、アモルファス金属から成る離型層５は導電性を有し、特許文献２にて離型層として用いられるＦ系樹脂（フッ素系樹脂）と比べ静電気が発生しない。静電気は製造環境下や使用環境下にてゴミ等のパーティクルを吸い寄せ、微細パターンの欠損発生させる原因になる。従って、本願発明のアモルファス金属から成る離型層５は、パーティクルによる欠損発生を抑制するという観点でも好ましい。 In addition, the amorphous metal has conductivity. Therefore, the release layer 5 made of an amorphous metal has conductivity, and does not generate static electricity compared to the F-based resin (fluorine-based resin) used as the release layer in Patent Document 2. Static electricity attracts particles such as dust in a manufacturing environment or a usage environment, and causes a loss of a fine pattern. Therefore, the release layer 5 made of an amorphous metal of the present invention is also preferable from the viewpoint of suppressing the occurrence of defects due to particles.

なお、被転写剤としては、樹脂やガラスなどであり、一般的な光硬化性樹脂（ＰＡＫ−０１（東洋合成工業社製）、ＮＩＡＣ、ＮＩＣＴ、ＮＩＨＢシリーズ（ダイセル化学工業社製）、ＭＵＲシリーズ（丸善石油化学社製）等）、熱硬化性樹脂（ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ＭＴＲシリーズ（丸善石油化学社製）等）、水素化シルセスキオキサン（ＨＳＱ）、液状ガラス、低融点ガラス、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）等が好適である。ロールモールド本体１と被転写剤の密着性の観点から、被転写剤としては光硬化樹脂、熱硬化樹脂が好ましい。 The transfer agent is a resin or glass, and is a general photo-curing resin (PAK-01 (manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.), NIAC, NICT, NIHB series (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), MUR series. (Manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.)), thermosetting resins (polystyrene, polymethyl methacrylate, MTR series (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.), etc.), hydrogenated silsesquioxane (HSQ), liquid glass, low melting glass, Polydimethylsiloxane (PDMS) or the like is preferable. From the viewpoint of adhesion between the roll mold main body 1 and the transfer agent, the transfer agent is preferably a photocurable resin or a thermosetting resin.

本実施の形態において、アモルファス金属から成る離型層５には、離型性を発現する材料であれば特に限定はされないが、例えば、Ｚｒ基アモルファス金属、Ｐｄ基アモルファス金属、Ｐｔ基アモルファス金属、Ｃｕ基アモルファス金属、Ｔｉ基アモルファス金属、Ｆｅ基アモルファス金属、Ａｕ基アモルファス金属、Ｃｏ基アモルファス金属、Ｎｉ基アモルファス金属、Ｍｏ基アモルファス金属、Ｎｂ基アモルファス金属、及び、Ｃａ基アモルファス金属の群から選択される少なくともいずれか一つで構成されることが好ましい。中でも、離型性の観点からＺｒ基アモルファス金属、Ｐｔ基アモルファス金属、Ｐｄ基アモルファス金属、Ａｕ基アモルファス金属、Ｆｅ基アモルファス金属、Ｃｒ基アモルファス金属、及び、Ｔｉ基アモルファス金属の群から選択される少なくともいずれか一つで構成されることがより好ましく、後述する実験結果に基づいて、離型性と繰り返し転写性の観点からはＺｒ基アモルファス金属、及びＰｄ基アモルファス金属の少なくともいずれか一つから構成されることが最も好ましい。 In the present embodiment, the release layer 5 made of amorphous metal is not particularly limited as long as it is a material that exhibits release properties. For example, a Zr group amorphous metal, a Pd group amorphous metal, a Pt group amorphous metal, Select from the group of Cu-based amorphous metal, Ti-based amorphous metal, Fe-based amorphous metal, Au-based amorphous metal, Co-based amorphous metal, Ni-based amorphous metal, Mo-based amorphous metal, Nb-based amorphous metal, and Ca-based amorphous metal It is preferable to be composed of at least one of the above. Among these, from the viewpoint of releasability, it is selected from the group of Zr-based amorphous metal, Pt-based amorphous metal, Pd-based amorphous metal, Au-based amorphous metal, Fe-based amorphous metal, Cr-based amorphous metal, and Ti-based amorphous metal. More preferably, it is composed of at least one, and based on experimental results to be described later, from the viewpoint of releasability and repetitive transferability, from at least one of Zr-based amorphous metal and Pd-based amorphous metal Most preferably, it is configured.

本実施の形態において、離型層５に用いられるＺｒ基アモルファス金属は、ＺｒＣｕ、ＺｒＮｉ、ＺｒＰｄ、ＺｒＡｌＣｕ、ＺｒＡｌＣｕＮｉ、ＺｒＮｉＡｌ、ＺｒＣｕＡｇ、ＺｒＣｕＡｌＡｇ、及び、ＺｒＣｕＡｌＡｇＰｄから選択される少なくともいずれか一つで構成されることが好ましい。また離型層５に用いられるＰｄ基アモルファス金属は、ＰｄＣｕＳｉ、ＰｄＣｕＮｉＰ、ＰｄＮｉＦｅＰ、ＰｄＣｕＢＳｉ、ＰｄＣｕＰ、及び、ＰｄＰｔＣｕＰから選択される少なくともいずれか一つで構成されることが好ましい。また離型層５に用いられるＰｔ基アモルファス金属は、ＰｔＣｕＰであることが好ましい。また離型層５に用いられるＣｕ基アモルファス金属は、ＣｕＺｒＴｉ、ＣｕＺｒＴｉＹ、及び、ＣｕＺｒＡｌＡｇから選択される少なくともいずれか一つで構成されることが好ましい。また離型層５に用いられるＴｉ基アモルファス金属は、ＴｉＮｂＳｉ、ＴｉＣｕＮｉＳｎ、ＴｉＣｕＺｒＣｏ、及び、ＴｉＣｕＮｉＺｒＳｎから選択される少なくともいずれか一つで構成されることが好ましい。また離型層５に用いられるＦｅ基アモルファス金属は、ＦｅＰＣ、ＦｅＢ、ＦｅＡｌＰ、ＦｅＮｂＡｌＰ、ＦｅＺｒＢ、ＦｅＣｏＬａＢ、ＦｅＳｉＢＮｂ、ＦｅＣｒＣＬａ、ＦｅＧａＰ、ＦｅＳｉＢＰ、及び、ＦｅＣｒＭｏＣＢから選択される少なくともいずれか一つで構成されることが好ましい。また離型層５に用いられるＡｕ基アモルファス金属は、ＡｕＣｕＳｉ、ＡｕＣｕＳｉＡｇ、及び、ＡｕＣｕＳｉＡｇＰｄから選択される少なくともいずれか一つで構成されることが好ましい。また離型層５に用いられるｏ基アモルファス金属は、ＣｏＦｅＢ、及び、ＣｏＴａＢから選択される少なくともいずれか一つで構成されることが好ましい。また離型層５に用いられるＮｉ基アモルファス金属は、ＮｉＰ、ＮｉＳｉＢ、ＮｉＦｅＰＢＳｉ、ＮｉＺｒＴｉＳｎＳｉ、ＮｉＰｄＰ、及び、ＮｉＰｄＰＢから選択される少なくともいずれか一つで構成されることが好ましい。また離型層５に用いられるＭｏ基アモルファス金属は、ＭｏＳｉＢであることが好ましい。また離型層５に用いられるＮｂ基アモルファス金属はＮｂＳｉＢであることが好ましい。また離型層５に用いられるＣａ基アモルファス金属は、ＣａＭｇＺｎであることが好ましい。なお、例えば、Ｚｒ基アモルファス金属とは、アモルファス金属を構成する組成の中で主要素となる金属がＺｒであることを表し、多くの場合Ｚｒ量が最も多いアモルファス金属を指す。他のアモルファス金属についても同様である。 In the present embodiment, the Zr-based amorphous metal used for the release layer 5 is composed of at least one selected from ZrCu, ZrNi, ZrPd, ZrAlCu, ZrAlCuNi, ZrNiAl, ZrCuAg, ZrCuAlAg, and ZrCuAlAgPd. It is preferable. The Pd-based amorphous metal used for the release layer 5 is preferably composed of at least one selected from PdCuSi, PdCuNiP, PdNiFeP, PdCuBSi, PdCuP, and PdPtCuP. The Pt-based amorphous metal used for the release layer 5 is preferably PtCuP. The Cu-based amorphous metal used for the release layer 5 is preferably composed of at least one selected from CuZrTi, CuZrTiY, and CuZrAlAg. The Ti-based amorphous metal used for the release layer 5 is preferably composed of at least one selected from TiNbSi, TiCuNiSn, TiCuZrCo, and TiCuNiZrSn. The Fe-based amorphous metal used for the release layer 5 is composed of at least one selected from FePC, FeB, FeAlP, FeNbAlP, FeZrB, FeCoLaB, FeSiBNb, FeCrCLa, FeGaP, FeSiBP, and FeCrMoCB. It is preferable. The Au-based amorphous metal used for the release layer 5 is preferably composed of at least one selected from AuCuSi, AuCuSiAg, and AuCuSiAgPd. The o-based amorphous metal used for the release layer 5 is preferably composed of at least one selected from CoFeB and CoTaB. The Ni-based amorphous metal used for the release layer 5 is preferably composed of at least one selected from NiP, NiSiB, NiFePBSi, NiZrTiSnSi, NiPdP, and NiPdPB. The Mo-based amorphous metal used for the release layer 5 is preferably MoSiB. The Nb-based amorphous metal used for the release layer 5 is preferably NbSiB. The Ca-based amorphous metal used for the release layer 5 is preferably CaMgZn. For example, the Zr-based amorphous metal indicates that the main component of the composition constituting the amorphous metal is Zr, and in many cases, indicates the amorphous metal having the largest amount of Zr. The same applies to other amorphous metals.

次に、アモルファス金属から成る離型層５の膜厚及び膜厚の分布を制御する方法について説明する。本実施の形態におけるアモルファス金属から成る離型層５の成膜方法として、ドライ工程を実施することができる。 Next, a method for controlling the film thickness and film thickness distribution of the release layer 5 made of amorphous metal will be described. As a method for forming the release layer 5 made of amorphous metal in the present embodiment, a dry process can be performed.

ドライ工程においては、まず、ロールモールド本体１を回転させながら、蒸着法、ＣＶＤ法又はスパッタ法のいずれかを用いてアモルファス金属から成る離型層５をロールモールド本体１の周面上に成膜することが挙げられる。 In the dry process, first, a release layer 5 made of an amorphous metal is formed on the peripheral surface of the roll mold body 1 using any one of a vapor deposition method, a CVD method, and a sputtering method while rotating the roll mold body 1. To do.

図５は、本実施の形態に係るロールモールドの製造に用いるスパッタリング法を用いた成膜装置を示す模式図である。スパッタリング法を用いた成膜装置３０は、被処理体としてのロールモールド本体１をロードするロードロック室３１と、ロードロック室３１とバルブ３２を介して連結するチャンバ３３とを具備する。チャンバ３３内には、ターゲット３４が配設されており、このターゲット３４に対面するようにロールモールド本体１が設置される。ここでは、ロールモールド本体１が立設されるように設置されており、駆動手段３５により矢印方向に回転するようになっている。また、チャンバ３３には、バルブ３６を介して真空ポンプ３７が接続されており、チャンバ３３内を減圧するようになっている。また、チャンバ３３には、Ａｒガスのような放電ガスを供給する放電ガス供給部３８及び反応ガスを供給する反応ガス供給部３９が接続されている。さらに、ターゲット３４には、マッチング回路４０を介して電源４１が接続されている。 FIG. 5 is a schematic diagram showing a film forming apparatus using a sputtering method used for manufacturing the roll mold according to the present embodiment. A film forming apparatus 30 using a sputtering method includes a load lock chamber 31 for loading a roll mold body 1 as an object to be processed, and a chamber 33 connected to the load lock chamber 31 via a valve 32. A target 34 is disposed in the chamber 33, and the roll mold body 1 is installed so as to face the target 34. Here, the roll mold main body 1 is installed so as to be erected, and is rotated in the direction of the arrow by the driving means 35. Further, a vacuum pump 37 is connected to the chamber 33 via a valve 36 so that the inside of the chamber 33 is depressurized. The chamber 33 is connected to a discharge gas supply unit 38 that supplies a discharge gas such as Ar gas and a reaction gas supply unit 39 that supplies a reaction gas. Further, a power source 41 is connected to the target 34 via a matching circuit 40.

このような成膜装置３０において、真空ポンプ３７でチャンバ３３内を減圧し、ロールモールド本体１を回転させる。そして、放電ガス供給部３８から放電ガスを供給し、反応ガス供給部３９から反応ガスを供給して、電源４１を投入すると、ロールモールド本体１に対してスパッタリングが行われ、ロールモールド本体１の周面上にアモルファス金属から成る離型層５が成膜される。 In such a film forming apparatus 30, the pressure inside the chamber 33 is reduced by the vacuum pump 37, and the roll mold body 1 is rotated. When the discharge gas is supplied from the discharge gas supply unit 38, the reaction gas is supplied from the reaction gas supply unit 39, and the power supply 41 is turned on, the roll mold body 1 is sputtered, and the roll mold body 1 A release layer 5 made of amorphous metal is formed on the peripheral surface.

上述のようなスパッタリング法によるアモルファス金属から成る離型層５の成膜処理において、アモルファス金属から成る離型層５の膜厚の分布の制御は、ロールモールド本体１の回転数を制御することにより実現できる。すなわち、本実施の形態においては、ロールモールド本体１を円周方向に１０回転以上回転させることで膜厚の分布を±５．０％以下にすることができる。さらに、アモルファス金属から成る離型層５の膜厚の分布をより確実に±５．０％以下にするには、ロールモールド本体１を円周方向に２０回転以上回転させることが好ましく、さらに好ましくは５０回転以上である。回転数を増やすことで円周方向のアモルファス金属から成る離型層５の膜厚の分布を低減することができ、ロールモールドの微細パターン形状を維持した均一なパターン転写を実施することができる。なお、縦（ロール軸方向）方向のアモルファス金属から成る離型層５の膜厚及び膜厚の分布は、投入材料やターゲットのサイズ、組成、電力等で調整することができる。 In the film forming process of the release layer 5 made of amorphous metal by the sputtering method as described above, the film thickness distribution of the release layer 5 made of amorphous metal is controlled by controlling the rotation speed of the roll mold body 1. realizable. That is, in the present embodiment, the film thickness distribution can be made ± 5.0% or less by rotating the roll mold body 1 10 or more times in the circumferential direction. Furthermore, in order to more surely distribute the film thickness distribution of the release layer 5 made of amorphous metal to ± 5.0% or less, it is preferable to rotate the roll mold main body 1 20 times or more in the circumferential direction. Is 50 revolutions or more. By increasing the number of rotations, the distribution of the film thickness of the release layer 5 made of amorphous metal in the circumferential direction can be reduced, and uniform pattern transfer while maintaining the fine pattern shape of the roll mold can be performed. Note that the film thickness and film thickness distribution of the release layer 5 made of amorphous metal in the vertical (roll axis direction) direction can be adjusted by the input material, the size of the target, the composition, the power, and the like.

ロールモールド本体１に賦形された微細パターン２の凹凸構造に関して、深さ方向が深い微細パターン２やピッチが非常に狭い微細パターン２においては、凹部４の底まで均一に離型層５を塗布する方法が求められる。この場合、例えばスパッタ法においては、スパッタ圧力を低くして成膜する方法や、ロールモールド直上に、スリットを配して微細パターンの深さ方向に平行したスパッタ粒子の成分の割合を多くすることで、凹部４の底までアモルファス金属から成る離型層５を均一に塗布することができる。 With regard to the concavo-convex structure of the fine pattern 2 formed on the roll mold body 1, the release layer 5 is uniformly applied to the bottom of the recess 4 in the fine pattern 2 having a deep depth direction or the fine pattern 2 having a very narrow pitch. How to do it is required. In this case, for example, in the sputtering method, a method of forming a film by lowering the sputtering pressure, or by arranging a slit directly above the roll mold to increase the ratio of the components of the sputtered particles parallel to the depth direction of the fine pattern. Thus, the release layer 5 made of amorphous metal can be uniformly applied to the bottom of the recess 4.

また、アモルファス金属から成る離型層５の膜厚の制御は、以下の方法により実現できる。すなわち、電源４１に投入する電力を制御することで、成膜レートを制御することができ、成膜レートと成膜時間から、膜厚を制御することができる。投入電力を大きくすると成膜レートが早くなり、投入電力を小さくすると成膜レートが遅くなる。成膜レートを遅く設定し、成膜時間を長くすることで、ロールモールド本体１の回転数を多くすることができる。アモルファス金属から成る離型層５の所望の膜厚及び膜厚の分布からロールモールド本体１の回転数、成膜レート、成膜時間を決定することができる。 The film thickness of the release layer 5 made of amorphous metal can be controlled by the following method. In other words, the film formation rate can be controlled by controlling the power supplied to the power supply 41, and the film thickness can be controlled from the film formation rate and the film formation time. When the input power is increased, the deposition rate is increased, and when the input power is decreased, the deposition rate is decreased. The number of rotations of the roll mold main body 1 can be increased by setting the film formation rate slower and increasing the film formation time. The rotational speed, film formation rate, and film formation time of the roll mold body 1 can be determined from the desired film thickness and film thickness distribution of the release layer 5 made of amorphous metal.

アモルファス金属から成る離型層５の成膜方法として、蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタ法を挙げたが、これらの中でも、様々な離型層５を大面積に、かつ、均一に膜厚を塗布する手法として、スパッタ法が好ましい。 As the film formation method of the release layer 5 made of amorphous metal, the vapor deposition method, the CVD method, and the sputtering method have been mentioned. Among these, various release layers 5 are applied in a large area and uniformly with a film thickness. A sputtering method is preferable as a technique for this.

本実施の形態に係るロールモールドにおいて、ロールモールド本体１の材質は、アモルファス金属から成る離型層５の成膜方法やロールモールド本体１のエッチング方法の種類や条件に応じて適宜選択することができる。 In the roll mold according to the present embodiment, the material of the roll mold body 1 can be appropriately selected according to the film forming method of the release layer 5 made of amorphous metal and the type and conditions of the etching method of the roll mold body 1. it can.

ロールモールド本体１の材質は、例えば、石英ガラス、高ケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、アミノケイ酸ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス、バリウムガラス、リン珪酸ガラス、フッ化物ガラス、ランタンガラス、透明結晶化ガラス、熱線吸収ガラス等のガラス材、アルミ、銅、ＳＵＳ、チタン等の金属材、前述のガラス材、金属材の表面にクロムやニッケル等をメッキしたメッキ被覆材等を用いることができ、中でも、エッチングの観点で、石英ガラスが最も好ましい。 The material of the roll mold body 1 is, for example, quartz glass, high silicate glass, borosilicate glass, aminosilicate glass, alkali-free glass, lead glass, barium glass, phosphosilicate glass, fluoride glass, lanthanum glass, transparent crystallization Glass materials such as glass and heat-absorbing glass, metal materials such as aluminum, copper, SUS, and titanium, the above-mentioned glass materials, and plating covering materials in which chromium or nickel is plated on the surface of the metal materials can be used. From the viewpoint of etching, quartz glass is most preferable.

なお、ロールモールド本体１自身をアモルファス金属で作製することも可能であるが、以下の問題点がある。
（１）アモルファス金属表面に微細パターンを作製するのが難しい（ドライエッチング特性等）。
（２）アモルファス金属をロール形状に成形するのが難しい。
（３）アモルファス金属をバルクで作製するのが難しい。
（４）コスト高になる。 Although the roll mold body 1 itself can be made of an amorphous metal, there are the following problems.
(1) It is difficult to produce a fine pattern on the amorphous metal surface (dry etching characteristics, etc.).
(2) It is difficult to form an amorphous metal into a roll shape.
(3) It is difficult to produce amorphous metal in bulk.
(4) High cost.

以上により、ロールモールド本体１の周面に離型層５としてアモルファス金属を成膜することが好ましい。 As described above, it is preferable to form an amorphous metal film as the release layer 5 on the peripheral surface of the roll mold body 1.

本実施の形態に係るロールモールドを用いて、被処理物に微細パターン２を転写することができる。転写方法は、従来から当業者に知られている方法を用いることができる。 The fine pattern 2 can be transferred to the object to be processed using the roll mold according to the present embodiment. As the transfer method, a method conventionally known to those skilled in the art can be used.

以上説明したように本実施の形態に係るロールモールドを用いることで、設計されたパターン形状を忠実に転写することができるため、モスアイ無反射用途や光取出用途等の光学設計されたパターンを忠実に転写することが必要な用途等に好適である。 As described above, since the designed pattern shape can be faithfully transferred by using the roll mold according to the present embodiment, the optically designed pattern for moth-eye non-reflective use or light extraction use can be faithfully reproduced. It is suitable for applications that need to be transferred.

以下、本発明の効果を明確にするために実施した実施例及び比較例により本発明を詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples and comparative examples carried out in order to clarify the effects of the present invention. In addition, this invention is not limited at all by the following examples.

（実施例１）
ロールモールド本体として、ピッチが３００ｎｍのホールパターン（φ１５０ｎｍ）を有するφ１００ｍｍ、長さ４００ｍｍの石英ガラスモールドを準備した。離型層を構成する離型剤としてＺｒ_６５Ａｌ_７．５Ｃｕ_２７．５（ターゲット組成）、Ｚｒ_５０Ａｌ_１０Ｃｕ_４０（ターゲット組成）、Ｚｒ_６０Ａｌ_１０Ｃｕ_３０（ターゲット組成）及び、Ｚｒ_５５Ａｌ_１０Ｃｕ_３０Ｎｉ_５（ターゲット組成）を夫々、選択し、スパッタリング法を用いて表１の条件で膜厚２ｎｍの離型層を、準備したロールモールド本体の周面に夫々、成膜した。成膜は、成膜レートを調整することで、成膜中のロール基材の回転数を２５回として実施した。 Example 1
A quartz glass mold having a diameter of 100 mm and a length of 400 mm having a hole pattern (φ150 nm) with a pitch of 300 nm was prepared as a roll mold body. Zr ₆₅ Al _7.5 Cu _27.5 (target composition), Zr ₅₀ Al ₁₀ Cu ₄₀ (target composition), Zr ₆₀ Al ₁₀ Cu ₃₀ (target composition), and Zr _{55 are} used as a release agent constituting the release layer _. Each of Al ₁₀ Cu ₃₀ Ni ₅ (target composition) was selected, and a release layer having a film thickness of 2 nm was formed on the peripheral surface of the prepared roll mold body using the sputtering method under the conditions shown in Table 1. The film formation was performed by adjusting the film formation rate so that the number of rotations of the roll base material during film formation was 25 times.

その結果、表１に併記したように、実施例１では、いずれの場合にも、離型層の膜厚が２ｎｍとなり、且つ膜厚の分布が±０．０５ｎｍ（±２．５％の分布）と非常に良好な値を示した。 As a result, as shown in Table 1, in Example 1, in any case, the film thickness of the release layer was 2 nm, and the film thickness distribution was ± 0.05 nm (± 2.5% distribution). ) And very good value.

（実施例２）
実施例１で準備したロールモールドに、離型層を構成する離型剤としてＰｔ_６０Ｎｉ_１５Ｐ_２５（ターゲット組成）、Ｐｔ_４９Ｐｄ_１０Ｃｕ_１９Ｐ_２２（ターゲット組成）、Ｐｄ_４０Ｃｕ_３０Ｎｉ_１０Ｐ_２０（ターゲット組成）、Ａｕ_６０Ｃｕ_１５．５Ｓｉ_１７Ａｇ_５Ｐｄ_２．５（ターゲット組成）、Ｆｅ_４２Ｃｒ_１６Ｍｏ_１６Ｃ_１８Ｂ_８（ターゲット組成）、Ｃｕ_３６Ｚｒ_４８Ａｌ_８Ａｇ_８（ターゲット組成）、Ｔｉ_５０Ｃｕ_２５Ｎｉ_１５Ｚｒ_５Ｓｎ_５（ターゲット組成）を夫々、選択し、スパッタリング法を用いて表１の条件で膜厚４ｎｍの離型層を、準備したロールモールド本体の周面に夫々、成膜した。成膜は、成膜レートを調整することで、成膜中のロール基材の回転数を５０回として実施した。 (Example 2)
In the roll mold prepared in Example 1, Pt ₆₀ Ni ₁₅ P ₂₅ (target composition), Pt ₄₉ Pd ₁₀ Cu ₁₉ P ₂₂ (target composition), Pd ₄₀ Cu ₃₀ Ni _{10 are} used as a release agent constituting the release layer. P ₂₀ (target _{_{_{_{composition), Au 60 Cu 15.5 Si 17}}}} Ag 5 Pd 2.5 ( target _{_{_{_{composition), Fe 42 Cr 16 Mo 16}}}} C 18 B 8 ( target _{_{_{composition), Cu 36 Zr 48 Al 8}}} Ag 8 ( Target composition) and Ti ₅₀ Cu ₂₅ Ni ₁₅ Zr ₅ Sn ₅ (target composition), respectively, and a release layer having a film thickness of 4 nm was prepared under the conditions shown in Table 1 using a sputtering method. A film was formed on each surface. Film formation was performed by adjusting the film formation rate so that the number of rotations of the roll substrate during film formation was 50 times.

その結果、表１に併記したように、実施例２では、いずれの場合にも、離型層の膜厚が４ｎｍとなり、且つ及び膜厚の分布が±０．０３ｎｍ（±０．７５％の分布）と非常に良好な値を示した。 As a result, as shown in Table 1, in Example 2, in any case, the thickness of the release layer was 4 nm, and the thickness distribution was ± 0.03 nm (± 0.75%). Distribution) and very good value.

以上のように離型層を塗布した実施例１、２のロールモールドを用いて転写性を調べた。転写は、被処理物としてＵＶ硬化樹脂フィルムを使い、ロールモールドの表面の凹凸形状をＵＶ硬化樹脂フィルムに繰り返し２００回転写し、２００回転写後のフィルムをＳＥＭにて表面形状を観察した。ロールモールドの微細パターン形状が反転した微細パターンφ１５０ｎｍが観察され、ロールモールドパターンをほぼ維持しており、良好な転写が実施できていた。 The transferability was examined using the roll molds of Examples 1 and 2 to which the release layer was applied as described above. For the transfer, a UV curable resin film was used as an object to be processed, and the uneven shape on the surface of the roll mold was repeatedly transferred to the UV curable resin film 200 times, and the surface shape of the film after the 200 times transfer was observed with an SEM. A fine pattern φ150 nm in which the fine pattern shape of the roll mold was inverted was observed, and the roll mold pattern was almost maintained, and good transfer could be performed.

さらに、平均転写回数を測定した所、それぞれ、表１に示す通りの値で、全て２００回以上の転写が可能で、繰り返し転写に対して離型性が非常に優れていた。 Furthermore, when the average number of times of transfer was measured, each of the values shown in Table 1 was able to be transferred 200 times or more, and the releasability was extremely excellent for repeated transfer.

なお、本実施例では、パターンとして孤立した円形状を使用したが、形成する形状は目的とする用途によっては連続の溝形状や孤立した楕円形状等でも構わず、本発明は形状によって何ら制限を受けるものではない。 In this embodiment, an isolated circular shape is used as a pattern, but the shape to be formed may be a continuous groove shape, an isolated elliptical shape, or the like depending on the intended application, and the present invention is not limited by the shape. It is not something to receive.

（比較例１、２）
比較例１では、離型層としてＺｒ_６５Ａｌ_７．５Ｃｕ_２７．５（ターゲット組成）を選択し、実施例１で実施した内容において、成膜レートを速く調整することで、成膜中のロール基材の回転数を２回にした以外は、すべて同じ条件で実験を行った。 (Comparative Examples 1 and 2)
In Comparative Example 1, Zr ₆₅ Al _7.5 Cu _27.5 (target composition) was selected as the release layer, and in the content performed in Example 1, the film formation rate was adjusted quickly, so that All experiments were performed under the same conditions except that the number of rotations of the roll substrate was set to two.

その結果、比較例１では、離型層の膜厚は２ｎｍであったが、膜厚の分布が０．５ｎｍ（±２５％の分布）と悪かった。 As a result, in Comparative Example 1, the film thickness of the release layer was 2 nm, but the film thickness distribution was as bad as 0.5 nm (± 25% distribution).

比較例２では、離型層としてＺｒ_６５Ａｌ_７．５Ｃｕ_２７．５（ターゲット組成）を選択し、実施例１で実施した内容において、成膜時間を長くして離型層の膜厚を２０ｎｍにした以外はすべて同じ条件で実験をおこなった。このとき、膜厚の分布は±０．０５ｎｍ（±２．５％の分布）であった。このように膜厚の分布は良好であったが、上記したように２０ｎｍの厚い膜厚となった。 In Comparative Example 2, Zr ₆₅ Al _7.5 Cu _27.5 (target composition) was selected as the release layer, and in the content carried out in Example 1, the film formation time was increased to increase the thickness of the release layer. The experiment was performed under the same conditions except that the thickness was 20 nm. At this time, the film thickness distribution was ± 0.05 nm (± 2.5% distribution). Thus, although the film thickness distribution was good, the film thickness was 20 nm thick as described above.

以上のように離型層を塗布した比較例１〜２のロールモールドを用いて転写性を調べた。転写は、被処理物としてＵＶ硬化樹脂フィルムを使い、ロールモールドの表面の凹凸形状をＵＶ硬化樹脂フィルムに繰り返し２００回転写し、２００回転写後のフィルムをＳＥＭにて表面形状を観察した。その結果、離型層を成膜する前のロールモールドのパターンを維持している箇所と維持していない箇所が観察された。 As described above, the transferability was examined using the roll molds of Comparative Examples 1 and 2 coated with the release layer. For the transfer, a UV curable resin film was used as an object to be processed, and the uneven shape on the surface of the roll mold was repeatedly transferred to the UV curable resin film 200 times, and the surface shape of the film after the 200 times transfer was observed with an SEM. As a result, a portion where the pattern of the roll mold before the release layer was formed and a portion where the pattern was not maintained were observed.

（比較例３）
比較例３では、実施例１で実施した内容において、離型層をＴａにした以外は、すべて同じ条件で実験を行った。その結果、表１に併記したように離型層の膜厚は、２ｎｍで、膜厚の分布は、±０．０５ｎｍ（±２．５％の分布）と非常に良好な値を示した。しかしながら、ロールモールドとＴａとの密着性に比べ、被転写剤（ＵＶ硬化樹脂）とＴａとの密着性が高いため、離型性に乏しく、繰り返し転写ができなかった。 (Comparative Example 3)
In Comparative Example 3, the experiment was performed under the same conditions as in Example 1, except that the release layer was Ta. As a result, as shown in Table 1, the release layer had a thickness of 2 nm, and the thickness distribution was a very good value of ± 0.05 nm (± 2.5% distribution). However, since the adhesiveness between the transfer agent (UV curable resin) and Ta is higher than the adhesiveness between the roll mold and Ta, the releasability is poor and repeated transfer cannot be performed.

なお、上記離型層の膜厚及び膜厚の分布は、蛍光Ｘ線（ＸＲＦ）を用い、標準サンプルから作成した検量線から算出した。 The release layer thickness and thickness distribution were calculated from a calibration curve prepared from a standard sample using fluorescent X-rays (XRF).

なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状等については、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。 In addition, this invention is not limited to the said embodiment, It can change and implement variously. In the above-described embodiment, the size, shape, and the like illustrated in the accompanying drawings are not limited to this, and can be appropriately changed within a range in which the effects of the present invention are exhibited.

本発明は、例えば、半導体、光学・磁気記録等の分野におけるナノインプリント法に用いるロールモールドに好適に適用することが可能である。 The present invention can be suitably applied to, for example, a roll mold used in a nanoimprint method in the fields of semiconductors, optical / magnetic recording, and the like.

１ロールモールド本体
２微細パターン
３凸部
４凹部
５離型層
３０成膜装置
３１ロードロック室
３２、３６バルブ
３３チャンバ
３４ターゲット
３５駆動手段
３７真空ポンプ
３８放電ガス供給部
３９反応ガス供給部
４０マッチング回路
４１電源 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Roll mold main body 2 Fine pattern 3 Convex part 4 Concave part 5 Release layer 30 Film-forming apparatus 31 Load lock chamber 32, 36 Valve 33 Chamber 34 Target 35 Driving means 37 Vacuum pump 38 Discharge gas supply part 39 Reactive gas supply part 40 Matching Circuit 41 Power supply

Claims

ピッチが１ｎｍ以上１μｍ以下の凹凸構造で構成される微細パターンを有するロールモールド本体と、前記ロールモールド本体の前記凹凸構造を構成する凸部及び凹部を含む周面をアモルファス金属から成る離型剤により被覆してなる離型層と、を具備し、
前記離型層の膜厚が０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であって、かつ、前記膜厚の分布が±５．０％以下であることを特徴とするロールモールド。 A roll mold body having a fine pattern composed of a concavo-convex structure with a pitch of 1 nm or more and 1 μm or less, and a peripheral surface including a convex part and a concave part constituting the concavo-convex structure of the roll mold body by a release agent made of an amorphous metal A release layer formed by coating,
A roll mold characterized in that a film thickness of the release layer is 0.5 nm or more and 10 nm or less, and a distribution of the film thickness is ± 5.0% or less.

前記離型層と前記ロールモールド本体との密着性が、前記離型層と被処理物との密着性に比べて高いことを特徴とする請求項１記載のロールモールド。 The roll mold according to claim 1, wherein adhesion between the release layer and the roll mold main body is higher than adhesion between the release layer and the object to be processed.

前記離型層が、Ｚｒ基アモルファス金属、Ｐｄ基アモルファス金属、Ｐｔ基アモルファス金属、Ｃｕ基アモルファス金属、Ｔｉ基アモルファス金属、Ｆｅ基アモルファス金属、Ａｕ基アモルファス金属、Ｃｏ基アモルファス金属、Ｎｉ基アモルファス金属、Ｍｏ基アモルファス金属、Ｎｂ基アモルファス金属、及び、Ｃａ基アモルファス金属の群から選択される少なくとも一つで構成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のロールモールド。 The release layer is a Zr-based amorphous metal, Pd-based amorphous metal, Pt-based amorphous metal, Cu-based amorphous metal, Ti-based amorphous metal, Fe-based amorphous metal, Au-based amorphous metal, Co-based amorphous metal, Ni-based amorphous metal 3. The roll mold according to claim 1, wherein the roll mold is made of at least one selected from the group consisting of Mo group amorphous metal, Nb group amorphous metal, and Ca group amorphous metal.

前記Ｚｒ基アモルファス金属は、ＺｒＣｕ、ＺｒＮｉ、ＺｒＰｄ、ＺｒＡｌＣｕ、ＺｒＡｌＣｕＮｉ、ＺｒＮｉＡｌ、ＺｒＣｕＡｇ、ＺｒＣｕＡｌＡｇ、及び、ＺｒＣｕＡｌＡｇＰｄから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｐｄ基アモルファス金属は、ＰｄＣｕＳｉ、ＰｄＣｕＮｉＰ、ＰｄＮｉＦｅＰ、ＰｄＣｕＢＳｉ、ＰｄＣｕＰ、及び、ＰｄＰｔＣｕＰから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｐｔ基アモルファス金属は、ＰｔＣｕＰであり、前記Ｃｕ基アモルファス金属は、ＣｕＺｒＴｉ、ＣｕＺｒＴｉＹ、及び、ＣｕＺｒＡｌＡｇから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｔｉ基アモルファス金属は、ＴｉＮｂＳｉ、ＴｉＣｕＮｉＳｎ、ＴｉＣｕＺｒＣｏ、及び、ＴｉＣｕＮｉＺｒＳｎから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｆｅ基アモルファス金属は、ＦｅＰＣ、ＦｅＢ、ＦｅＡｌＰ、ＦｅＮｂＡｌＰ、ＦｅＺｒＢ、ＦｅＣｏＬａＢ、ＦｅＳｉＢＮｂ、ＦｅＣｒＣＬａ、ＦｅＧａＰ、ＦｅＳｉＢＰ、及び、ＦｅＣｒＭｏＣＢから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ａｕ基アモルファス金属は、ＡｕＣｕＳｉ、ＡｕＣｕＳｉＡｇ、及び、ＡｕＣｕＳｉＡｇＰｄから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｃｏ基アモルファス金属は、ＣｏＦｅＢ、及び、ＣｏＴａＢから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｎｉ基アモルファス金属は、ＮｉＰ、ＮｉＳｉＢ、ＮｉＦｅＰＢＳｉ、ＮｉＺｒＴｉＳｎＳｉ、ＮｉＰｄＰ、及び、ＮｉＰｄＰＢから選択される少なくともいずれか一つで構成され、前記Ｍｏ基アモルファス金属は、ＭｏＳｉＢであり、前記Ｎｂ基アモルファス金属はＮｂＳｉＢであり、前記Ｃａ基アモルファス金属は、ＣａＭｇＺｎであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のロールモールド。 The Zr-based amorphous metal is composed of at least one selected from ZrCu, ZrNi, ZrPd, ZrAlCu, ZrAlCuNi, ZrNiAl, ZrCuAg, ZrCuAlAg, and ZrCuAlAgPd, and the Pd-based amorphous metal is PdCuSi, PdCuNiP, It is composed of at least one selected from PdNiFeP, PdCuBSi, PdCuP, and PdPtCuP, the Pt-based amorphous metal is PtCuP, and the Cu-based amorphous metal is selected from CuZrTi, CuZrTiY, and CuZrAlAg. The Ti-based amorphous metal is TiNbSi, TiCuNiSn, TiCuZrCo, and TiCuNiZrS. The Fe-based amorphous metal is at least one selected from FePC, FeB, FeAlP, FeNbAlP, FeZrB, FeCoLaB, FeSiBNb, FeCrCLa, FeGaP, FeSiBP, and FeCrMoCB. The Au-based amorphous metal is composed of at least one selected from AuCuSi, AuCuSiAg, and AuCuSiAgPd, and the Co-based amorphous metal is at least selected from CoFeB and CoTaB. And the Ni-based amorphous metal is at least selected from NiP, NiSiB, NiFePBSi, NiZrTiSnSi, NiPdP, and NiPdPB. 2. The structure according to claim 1, wherein the Mo-based amorphous metal is MoSiB, the Nb-based amorphous metal is NbSiB, and the Ca-based amorphous metal is CaMgZn. The roll mold according to any one of 3 above.

前記離型層の表面には不動態被膜が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載のロールモールド。 The roll mold according to any one of claims 1 to 4, wherein a passive film is formed on a surface of the release layer.

蒸着法、ＣＶＤ法又はスパッタ法のいずれかのドライ工程を用いて、前記ロールモールド本体を円周方向に１０回転以上回転させて前記離型層を得ることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載のロールモールド。 The said release mold layer is obtained by rotating the said roll mold main body 10 times or more in the circumferential direction using the dry process of any one of a vapor deposition method, CVD method, or a sputtering method. The roll mold according to any one of 5.