JP2014105374A - Stretchable metal mesh and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、多角形状ＤＬＣパターンが設けられたロールを用いて連続メッキにより作製された伸縮性を有する金属メッシュ及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a stretchable metal mesh produced by continuous plating using a roll provided with a polygonal DLC pattern and a method for producing the same.
連続メッキ用ロールは、連続メッキ装置に用いられるもので、例えば、リールに巻き付けた鋼板等の帯状のワークを連続的に巻き取りながらメッキ浴中を通すことで、連続的にメッキを行うものである。連続メッキ用ロールの例としては、例えば、特許文献１や特許文献２に開示されたシンクロール等のロールがある。 The roll for continuous plating is used for a continuous plating apparatus. For example, the roll is continuously plated by passing a strip-shaped workpiece such as a steel sheet wound around a reel through a plating bath while continuously winding it. is there. As an example of the roll for continuous plating, there exist rolls, such as a sink roll disclosed by patent document 1 or patent document 2, for example.
上述したような連続メッキ用ロールを製作する場合、基材に感光材を塗布して露光・現像・バーニングしてエッチングすると、いわゆるサイドエッチングと呼ばれるオーバーエッチングが発生する問題があった。そして、パターニングが微細になる程、サイドエッチングの問題がより一層顕在化する。 When manufacturing a roll for continuous plating as described above, if a photosensitive material is applied to a substrate and exposed, developed, burned, and etched, there is a problem that over etching called so-called side etching occurs. As the patterning becomes finer, the problem of side etching becomes more obvious.
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもので、サイドエッチングの問題を解消した多角形状ＤＬＣパターン付ロールを用いて作製され、伸縮性を有する金属メッシュ及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and provides a metal mesh having elasticity and produced using a roll with a polygonal DLC pattern that has solved the problem of side etching, and a method for producing the same. For the purpose.
上記課題を解決するため、本発明の伸縮性を有する金属メッシュは、メッキ可能な円筒状金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、露光・現像せしめてメッシュ状レジストパターンを形成し、前記円筒状金属基材及びメッシュ状レジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該メッシュ状レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該メッシュ状レジストパターンごと剥離せしめ、前記円筒状金属基材の表面に多角形状ＤＬＣパターンを形成して製造された多角形状ＤＬＣパターン付ロールを用いて、メッキ可能な金属を連続メッキすることにより製造された金属メッシュであり、前記金属メッシュの網目形状が、多角形であることを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems, the elastic metal mesh of the present invention is formed by applying a photoresist to the surface of a cylindrical metal substrate that can be plated, and exposing and developing to form a mesh-like resist pattern. Forming a DLC coating film on the surfaces of the metal-like metal substrate and the mesh-like resist pattern, and peeling the DLC coating film formed on the mesh-like resist pattern together with the mesh-like resist pattern; A metal mesh produced by continuously plating a metal that can be plated using a roll with a polygonal DLC pattern produced by forming a polygonal DLC pattern on the surface of the metal mesh, and the mesh shape of the metal mesh is It is a polygon.
このようにして、メッシュ状レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該メッシュ状レジストパターンごと剥離せしめるため、サイドエッチングの問題が解消される利点がある。すなわち、本発明では、エッチングではなくいわゆるリフトオフとよばれる手法を用いているため、従来のようなサイドエッチングの問題が生じないのである。前記多角形状ＤＬＣパターンは、多角形であればよく、例えば三角形、四角形、五角形、六角形、七角形、八角形など、いずれも含まれる。 Thus, since the DLC coating film formed on the mesh resist pattern is peeled off together with the mesh resist pattern, there is an advantage that the problem of side etching is solved. That is, in the present invention, since a technique called so-called lift-off is used instead of etching, the conventional side etching problem does not occur. The polygonal DLC pattern may be a polygon and includes, for example, a triangle, a quadrangle, a pentagon, a hexagon, a heptagon, and an octagon.
前記金属メッシュの網目形状は、多角形であればよく、例えば三角形、四角形、五角形、六角形、七角形、八角形など、いずれも含まれる。そして、本発明の金属メッシュは、前記多角形の各々の頂点の方向に伸縮性を有する。例えば、前記金属メッシュの網目形状が三角形である場合には、３つの頂点の方向に伸縮性を有する。一方、例えば、前記金属メッシュの網目形状が六角形である場合には、６つの頂点の方向に伸縮性を有する。故に、角の数が多い多角形形状ほどに多方位に伸縮性を有する。 The mesh shape of the metal mesh may be a polygon, and includes, for example, a triangle, a quadrangle, a pentagon, a hexagon, a heptagon, an octagon, and the like. And the metal mesh of this invention has a stretching property in the direction of each vertex of the said polygon. For example, when the mesh shape of the metal mesh is a triangle, the metal mesh has stretchability in the directions of three vertices. On the other hand, for example, when the mesh shape of the metal mesh is a hexagon, it has elasticity in the directions of the six apexes. Therefore, a polygonal shape with a large number of corners has stretchability in multiple directions.
前記フォトレジストが塗布される円筒状金属基材はメッキ可能な金属であればいずれも適用できるが、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、ステンレス鋼、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成されるのが好ましい。 The cylindrical metal substrate to which the photoresist is applied can be any metal that can be plated, but is made of nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, stainless steel, iron, copper, or aluminum. It is preferably composed of at least one material selected from the group.
前記連続メッキでメッキされるメッキ可能な金属についてもメッキ可能な金属であればいずれも適用でき、例えば、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムなどを適用することができる。 Any metal that can be plated is applicable to the metal that can be plated by the continuous plating. For example, nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, iron, copper, aluminum, and the like are applied. be able to.
前記被覆したＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜数１０μｍであるのが好適である。より具体的には、０．１μｍ〜５μｍがさらに好ましい。 The thickness of the coated DLC coating film is preferably 0.1 μm to several tens of μm. More specifically, 0.1 μm to 5 μm is more preferable.
前記円筒状金属基材が、ＣＦＲＰ（炭素繊維強化樹脂）材の上に設けられる構成としてもよい。 The cylindrical metal substrate may be provided on a CFRP (carbon fiber reinforced resin) material.
前記円筒状金属基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層の上に設けられる構成としてもよい。前記クッション層としては、シリコンゴム等の合成ゴムやポリウレタン、ポリスチレン等の弾力性のある合成樹脂を使用することができる。このクッション層の厚さはクッション性即ち弾力性を付与できる厚さであればよく、特別の限定はないが、例えば、１ｃｍ〜５ｃｍ程度の厚さがあれば充分である。ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えたグラビア版の例としては、例えば特許文献３などがあり、前記円筒状金属基材を同様の構成とすることができる。 The cylindrical metal base material may be provided on a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties. As the cushion layer, a synthetic rubber such as silicone rubber, or a synthetic resin having elasticity such as polyurethane or polystyrene can be used. The thickness of the cushion layer is not particularly limited as long as it can provide cushioning properties, that is, elasticity. For example, a thickness of about 1 cm to 5 cm is sufficient. As an example of the gravure plate provided with a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties, there is, for example, Patent Document 3 and the like, and the cylindrical metal substrate can have the same configuration.
前記フォトレジストが、ネガ型フォトレジストであるのが好ましい。 The photoresist is preferably a negative photoresist.
本発明の伸縮性を有する金属メッシュの製造方法は、メッキ可能な円筒状金属基材を準備する工程と、該円筒状金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、露光・現像せしめてメッシュ状レジストパターンを形成する工程と、該円筒状金属基材及びメッシュ状レジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成する工程と、該メッシュ状レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該メッシュ状レジストパターンごと剥離せしめて前記円筒状金属基材の表面に多角形状ＤＬＣパターンを形成し、多角形状ＤＬＣパターン付ロールを作製する工程と、前記多角形状ＤＬＣパターン付ロールを用いて、メッキ可能な金属を連続メッキすることにより金属メッシュを作製する工程と、を含み、前記金属メッシュの網目形状が、多角形であることを特徴とする。 The method for producing a stretchable metal mesh according to the present invention comprises a step of preparing a cylindrical metal substrate that can be plated, and a photoresist is applied to the surface of the cylindrical metal substrate, and exposed and developed to form a mesh. A step of forming a resist pattern, a step of forming a DLC coating film on the surfaces of the cylindrical metal substrate and the mesh resist pattern, and a DLC coating film formed on the mesh resist pattern. A step of forming a polygonal DLC pattern on the surface of the cylindrical metal substrate by peeling off the resist pattern together and producing a roll with a polygonal DLC pattern, and a metal that can be plated using the roll with the polygonal DLC pattern Forming a metal mesh by continuously plating the metal mesh, and the mesh shape of the metal mesh is a polygon. To.
また、前記フォトレジストが塗布される金属基材が、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、ステンレス鋼、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成されるのが好適である。 The metal substrate to which the photoresist is applied is made of at least one material selected from the group consisting of nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, stainless steel, iron, copper, and aluminum. Is preferable.
前記フォトレジストが塗布される金属基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備える構成としても良い。 The metal substrate to which the photoresist is applied may have a cushion layer made of rubber or a resin having a cushioning property.
前記フォトレジストが、ネガ型フォトレジストであるのが好ましい。 The photoresist is preferably a negative photoresist.
前記ＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜数１０μｍであるのが好適である。 The thickness of the DLC coating film is preferably 0.1 μm to several tens of μm.
本発明によれば、サイドエッチングの問題を解消した多角形状ＤＬＣパターン付ロールを用いて作製され、伸縮性を有する金属メッシュ及びその製造方法を提供することができるという著大な効果を有する。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is produced using the roll with a polygonal shape DLC pattern which eliminated the problem of side etching, and has the remarkable effect that the metal mesh which has a stretching property, and its manufacturing method can be provided.
本発明に係る金属メッシュは、例えば、目開きが１μｍ〜１００μｍ以下のサイズにすることができ、高精度に作製することができる。このため、様々な用途に適用可能である。用途としては、例えば、リチウムイオン電池の陰極板や陽極板、電磁波シールド、医療用器具などの医療用途、その他、種々の電子部品や電子製品に使用可能である。 The metal mesh according to the present invention can have a mesh size of 1 μm to 100 μm or less, for example, and can be manufactured with high accuracy. For this reason, it is applicable to various uses. As a use, for example, it can be used for various electronic parts and electronic products such as a cathode plate and an anode plate of a lithium ion battery, an electromagnetic shield, a medical instrument, and other medical applications.
以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。 Embodiments of the present invention will be described below, but these embodiments are exemplarily shown, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention.
図１において、符号１０Ａは金属メッシュを示す。金属メッシュ１０Ａは、図２に示される多角形状ＤＬＣパターン付ロールを用いて、メッキ可能な金属を連続メッキすることにより製造された金属メッシュであり、前記金属メッシュの網目１２の形状が、多角形とされている。図１の例では、網目形状が六角形である例を示した。 In FIG. 1, the code | symbol 10A shows a metal mesh. The metal mesh 10A is a metal mesh manufactured by continuously plating a metal that can be plated using a roll with a polygonal DLC pattern shown in FIG. 2, and the shape of the mesh 12 of the metal mesh is a polygon. It is said that. In the example of FIG. 1, an example in which the mesh shape is a hexagon is shown.
図２において、符号１４はメッキ可能な円筒状金属基材である。円筒状金属基材１４はメッキ可能な金属であればいずれも適用できるが、例えば、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、ステンレス鋼、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成することができる。 In FIG. 2, reference numeral 14 denotes a cylindrical metal substrate that can be plated. The cylindrical metal substrate 14 may be any metal that can be plated, but is selected from the group consisting of nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, stainless steel, iron, copper, aluminum, for example. It can be composed of at least one material.
また、円筒状金属基材１４は、ＣＦＲＰ（炭素繊維強化樹脂）材の上に設けられる構成としてもよいし、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層の上に設けられる構成としてもよい。 Moreover, the cylindrical metal base material 14 is good also as a structure provided on a CFRP (carbon fiber reinforced resin) material, and is good also as a structure provided on the cushion layer which consists of resin which has rubber | gum or cushioning properties.
まず、円筒状金属基材１４を準備し（図３のステップ１００）、図２（ａ）に示すように、前記円筒状金属基材１４の表面にフォトレジスト１６を塗布し、前記フォトレジスト１６を露光・現像せしめてメッシュ状レジストパターン１８を前記円筒状金属基材１４の表面に形成する（図３のステップ１０２）。前記フォトレジスト１６としては、ネガ型フォトレジストが好適である。このようにして、図２（ｂ）に示す状態となる。 First, a cylindrical metal substrate 14 is prepared (step 100 in FIG. 3), and as shown in FIG. 2A, a photoresist 16 is applied to the surface of the cylindrical metal substrate 14, and the photoresist 16 is applied. Are exposed and developed to form a mesh-like resist pattern 18 on the surface of the cylindrical metal substrate 14 (step 102 in FIG. 3). The photoresist 16 is preferably a negative photoresist. In this way, the state shown in FIG.
そして、該円筒状金属基材１４及びメッシュ状レジストパターン１８の表面にＤＬＣ被覆膜２０を形成する（図３のステップ１０４）。このようにして、図２（ｃ）に示す状態となる。 Then, a DLC coating film 20 is formed on the surfaces of the cylindrical metal substrate 14 and the mesh resist pattern 18 (step 104 in FIG. 3). In this way, the state shown in FIG.
次に、メッシュ状レジストパターン１８上に形成されたＤＬＣ被覆膜２０を該メッシュ状レジストパターン１８ごと剥離せしめて前記円筒状金属基材１４の表面に多角形状ＤＬＣパターン２２を形成して多角形状ＤＬＣパターン付ロール２４を作製する（図３のステップ１０６）。このようにして、図２（ｄ）に示す状態となる。 Next, the DLC coating film 20 formed on the mesh-like resist pattern 18 is peeled off together with the mesh-like resist pattern 18 to form a polygonal DLC pattern 22 on the surface of the cylindrical metal substrate 14, thereby forming a polygonal shape. A roll 24 with a DLC pattern is produced (step 106 in FIG. 3). In this way, the state shown in FIG.
そして、多角形状ＤＬＣパターン付ロール２４を用いて、メッキ可能な金属を連続メッキすることにより、図１に示すような、金属メッシュ１０Ａが出来る。前記多角形状ＤＬＣパターン付ロール２４を用いて、メッキされるメッキ可能な金属については、メッキ可能な金属であればいずれも適用でき、例えば、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムなどを適用することができる。例えば、円筒状金属基材１４が銅の場合、前記多角形状ＤＬＣパターン付ロール２４を用いて、メッキする金属としてはニッケルが適用できる。 And metal mesh 10A as shown in FIG. 1 is made by continuously plating the metal which can be plated using the roll 24 with a polygonal DLC pattern. As the metal that can be plated using the roll 24 with the polygonal DLC pattern, any metal that can be plated can be applied. For example, nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, Iron, copper, aluminum, or the like can be applied. For example, when the cylindrical metal substrate 14 is copper, nickel can be applied as a metal to be plated using the roll 24 with the polygonal DLC pattern.
ＤＬＣ被覆膜２０の形成にあたっては、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法やスパッタ法によってＤＬＣで被覆することが可能である。 When the DLC coating film 20 is formed, it can be coated with DLC by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method or a sputtering method.
前記ＤＬＣ被覆膜２０の厚さは、０．１μｍ〜数１０μｍであるのが好適である。より具体的には、０．１μｍ〜５μｍがさらに好ましい。 The thickness of the DLC coating film 20 is preferably 0.1 μm to several tens of μm. More specifically, 0.1 μm to 5 μm is more preferable.
また、前記金属メッシュの網目の形状は、多角形とされていれば良いものであるから、図１に示した六角形以外にも、例えば三角形、四角形、五角形、七角形、八角形など、いずれも適用できる。図４に、網目の形状を三角形とした例を示した。 In addition, since the mesh shape of the metal mesh may be a polygon, in addition to the hexagon shown in FIG. 1, for example, a triangle, a quadrangle, a pentagon, a heptagon, Is also applicable. FIG. 4 shows an example in which the mesh shape is triangular.
図４において、符号１０Ｂは金属メッシュを示す。金属メッシュ１０Ｂは、多角形の形状を変えた以外は、金属メッシュ１０Ａと同様にして作製された多角形状ＤＬＣパターン付ロールを用いて、メッキ可能な金属を連続メッキすることにより製造された金属メッシュであり、前記金属メッシュの網目２６の形状が、多角形とされている。図４の例では、網目形状が三角形である例を示した。 In FIG. 4, the code | symbol 10B shows a metal mesh. The metal mesh 10B is produced by continuously plating a metal that can be plated using a roll with a polygonal DLC pattern produced in the same manner as the metal mesh 10A, except that the polygonal shape is changed. The shape of the mesh 26 of the metal mesh is a polygon. In the example of FIG. 4, an example in which the mesh shape is a triangle is shown.
以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。 The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, it is needless to say that these examples are shown by way of illustration and should not be construed in a limited manner.
（実施例１）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍの版母材（アルミ中空ロール）を準備し、ブーメランライン（株式会社シンク・ラボラトリー製全自動レーザーグラビア製版ロール製造装置）を用いて下記する銅メッキ層の形成までを行った。
Example 1
Prepare a plate base material (aluminum hollow roll) with a circumference of 600 mm and a surface length of 1100 mm, and use the boomerang line (a fully automatic laser gravure plate making apparatus manufactured by Sink Laboratories, Inc.) to form the copper plating layer described below. went.
まず、版母材（アルミ中空ロール）を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて電流密度３０Ａ／ｄｍ2、電圧６．０Ｖで８０μｍの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。 First, a plate base material (aluminum hollow roll) was mounted in a copper plating tank, and the hollow roll was completely immersed in the plating solution to form a copper plating layer having a current density of 30 A / dm 2 and a voltage of 6.0 V with a thickness of 80 μm. The plating surface was free of bumps and pits, and a uniform copper plating layer was obtained.
この銅メッキ層の表面を２ヘッド型研磨機（株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機）により研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。形成した銅メッキ層を基材としてその表面に感光膜（半導体レーザー用レジスト：ＴＳＥＲ−ＮＳ（株式会社シンク・ラボラトリー製））を塗布（ファウンテンコーター）、乾燥した。得られた感光膜の膜厚は膜厚計（ＦＩＬＬＭＥＴＲＩＣＳ社製Ｆ２０、松下テクノトレーデイング社販売）で計ったところ、１５μｍであった。ついで、画像をレーザー露光し現像した。上記レーザー露光は、Ｌａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸを用い露光条件３００ｍＪ／ｃｍ2で所定のパターン露光を行った。また、上記現像は、ＴＬＤ現像液（株式会社シンク・ラボラトリー製現像液）を用い、現像液希釈比率（原液１：水７）で、２４℃９０秒間行い、所定のレジストパターンを形成した。 The surface of the copper plating layer was polished by a two-head type polishing machine (Sinc Laboratory Co., Ltd. polishing machine) to make the surface of the copper plating layer a uniform polishing surface. Using the formed copper plating layer as a base material, a photosensitive film (resist for semiconductor laser: TSER-NS (manufactured by Sink Laboratories)) was applied to the surface (Fountain coater) and dried. The film thickness of the obtained photosensitive film was 15 μm as measured by a film thickness meter (F20 manufactured by FILLMETRICS, sold by Matsushita Techno Trading). The image was then developed with laser exposure. In the laser exposure, a laser stream FX was used and a predetermined pattern exposure was performed under an exposure condition of 300 mJ / cm 2 . The development was performed at 24 ° C. for 90 seconds at a developer dilution ratio (stock solution 1: water 7) using a TLD developer (Sink Laboratory Co., Ltd. developer) to form a predetermined resist pattern.
アルゴン／水素ガス雰囲気、原料ガスにヘキサメチルジシロキサン、成膜温度８０−１２０℃、成膜時間６０分で膜厚０．１μｍの中間層を成膜した。次に、原料ガスにトルエン、成膜温度８０−１２０℃、成膜時間１８０分で膜厚２μｍのＤＬＣ層を成膜した。
ついで、５％水酸化ナトリウム水溶液にてレジストを剥離させ、複数の六角形のＤＬＣパターンを形成した。このようにして、パターン付ロールを得た。
An intermediate layer having a thickness of 0.1 μm was formed in an argon / hydrogen gas atmosphere, hexamethyldisiloxane as a source gas, a film formation temperature of 80 to 120 ° C., and a film formation time of 60 minutes. Next, a DLC layer having a thickness of 2 μm was formed as a source gas using toluene, a film formation temperature of 80 to 120 ° C., and a film formation time of 180 minutes.
Next, the resist was peeled off with a 5% aqueous sodium hydroxide solution to form a plurality of hexagonal DLC patterns. In this way, a roll with a pattern was obtained.
ついで、銅メッキ槽に装着し、メッキ液に全没させて２Ａ／ｄｍ2、７．０Ｖで厚さ２０μｍの銅パターン箔を得た。表面を光学顕微鏡で観察したところ、図５に示すように、高精細な六角形の網目２６の形状を有する金属メッシュであった。また、線幅は４０μｍであった。そして、縦方向と横方向に伸縮性が確認された。図５における金属メッシュのピッチＰは３００μｍであった。 Next, it was mounted in a copper plating bath and completely immersed in a plating solution to obtain a copper pattern foil having a thickness of 2 A / dm 2 and 7.0 V and a thickness of 20 μm. When the surface was observed with an optical microscope, it was a metal mesh having a high-definition hexagonal mesh 26 as shown in FIG. The line width was 40 μm. And the elasticity was confirmed in the vertical direction and the horizontal direction. The pitch P of the metal mesh in FIG. 5 was 300 μm.
（実施例２）
複数の四角形のＤＬＣパターンを形成した以外は実施例１と同様にして、パターン付ロールを得た。ＤＬＣ被覆膜の厚さは２μｍであった。得られたパターン付ロールを実施例１と同様にニッケルメッキ槽に装着し、メッキ液に全没させて２Ａ／ｄｍ2、７．０Ｖで厚さ２０μｍのニッケルパターン箔を得た。表面を光学顕微鏡で観察したところ、図６に示すように、高精細な四角形の網目２８の形状を有する金属メッシュであった。また、線幅は４０μｍであった。そして、縦方向と横方向に伸縮性が確認された。図６における金属メッシュのピッチＰは４００μｍであった。
(Example 2)
A patterned roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that a plurality of square DLC patterns were formed. The thickness of the DLC coating film was 2 μm. The obtained roll with a pattern was mounted on a nickel plating tank in the same manner as in Example 1 and completely immersed in a plating solution to obtain a nickel pattern foil having a thickness of 2 A / dm 2 and 7.0 V and a thickness of 20 μm. When the surface was observed with an optical microscope, it was a metal mesh having a high-definition square mesh 28 shape as shown in FIG. The line width was 40 μm. And the elasticity was confirmed in the vertical direction and the horizontal direction. The pitch P of the metal mesh in FIG. 6 was 400 μm.
１０Ａ，１０Ｂ：金属メッシュ、１２,２６,２８：網目、１４：円筒状金属基材、１６：フォトレジスト、１８：メッシュ状レジストパターン、２０：ＤＬＣ被覆膜、２２：多角形状ＤＬＣパターン、２４：多角形状ＤＬＣパターン付ロール、Ｐ：ピッチ。 10A, 10B: Metal mesh, 12, 26, 28: Mesh, 14: Cylindrical metal substrate, 16: Photoresist, 18: Mesh resist pattern, 20: DLC coating film, 22: Polygonal DLC pattern, 24 : Roll with polygonal DLC pattern, P: Pitch.
Claims (10)
前記多角形状ＤＬＣパターン付ロールを用いて、メッキ可能な金属を連続メッキすることにより金属メッシュを作製する工程と、
を含み、
前記金属メッシュの網目形状が、多角形であることを特徴とする伸縮性を有する金属メッシュの製造方法。 A step of preparing a cylindrical metal substrate that can be plated, a step of applying a photoresist to the surface of the cylindrical metal substrate, exposing and developing to form a mesh-like resist pattern, and the cylindrical metal substrate And a step of forming a DLC coating film on the surface of the mesh-like resist pattern, and a surface of the cylindrical metal substrate by peeling off the DLC coating film formed on the mesh-like resist pattern together with the mesh-like resist pattern. Forming a polygonal DLC pattern on the substrate and producing a roll with a polygonal DLC pattern;
A step of producing a metal mesh by continuously plating a metal that can be plated using the roll with the polygonal DLC pattern;
Including
A method for producing a metal mesh having elasticity, wherein the mesh shape of the metal mesh is a polygon.
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