JP6298318B2 - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
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Description
前記裏面洗浄処理ユニットを用いた基板処理スケジュールにおける前記許容値は、前記表面洗浄処理ユニットを用いた基板洗浄処理スケジュールにおける前記許容値よりも短い時間が設定される、請求項3に記載の基板処理装置である。
請求項5の発明は、並行使用可能な複数の基板処理ユニットと、前記複数の基板処理ユニットに基板を搬送し前記複数の基板処理ユニットから基板処理後の基板を搬出する基板搬送手段と、を備えた基板処理装置であって、前記基板処理ユニットで基板処理された後の基板が前記基板搬送手段によって前記基板処理ユニットから搬出されるのを待機する搬出待機時間が所定の許容値を超えない時間となるように、並行使用する基板処理ユニットを前記複数の基板処理ユニットの中から選択する選択手段と、前記並行使用する基板処理ユニットに向けた前記基板搬送手段による基板搬送処理と、前記並行使用する基板処理ユニットでの基板処理と、前記並行使用する基板処理ユニットからの前記基板搬送手段による基板搬出処理と、を含む基板処理スケジュールを作成するスケジュール作成手段と、前記スケジュール作成手段により作成された前記基板処理スケジュールに従って前記基板処理ユニットと前記基板搬送手段とを制御して複数の基板を順次基板処理する制御手段とを備え、前記基板処理ユニットには基板を洗浄する基板洗浄処理ユニットが含まれ、前記複数の基板処理ユニットには前記基板の表面を洗浄する表面洗浄処理ユニットと、前記基板の裏面を洗浄する裏面洗浄処理ユニットと、が含まれ、前記裏面洗浄処理ユニットを用いた基板処理スケジュールにおける前記許容値は、前記表面洗浄処理ユニットを用いた基板洗浄処理スケジュールにおける前記許容値よりも短い時間が設定される、基板処理装置。
前記裏面洗浄処理ユニットを用いた基板処理スケジュールにおける前記許容値は、前記表面洗浄処理ユニットを用いた基板洗浄処理スケジュールにおける前記許容値よりも短い時間が設定される、請求項8に記載の基板処理方法である。
請求項10の発明は、並行使用可能な複数の基板処理ユニットと、前記複数の基板処理ユニットに基板を搬送し前記複数の基板処理ユニットから基板処理後の基板を搬出する基板搬送手段と、を備えた基板処理装置における基板処理方法であって、前記基板処理ユニットで基板処理された後の基板が前記基板搬送手段によって前記基板処理ユニットから搬出されるのを待機する搬出待機時間が所定の許容値を超えない時間となるように、並行使用する基板処理ユニットを前記複数の基板処理ユニットの中から選択する選択ステップと、前記並行使用する基板処理ユニットに向けた前記基板搬送手段による基板搬送処理と、前記並行使用する基板処理ユニットでの基板処理と、前記並行使用する基板処理ユニットからの前記基板搬送手段による基板搬出処理と、を含む基板処理スケジュールを作成するスケジュール作成ステップと、前記基板処理スケジュールに従って前記基板処理ユニットと前記基板搬送手段とを制御して、複数の基板を順次基板処理するスケジュール実行ステップと、を備え、前記基板処理ユニットには基板を洗浄する基板洗浄処理ユニットが含まれ、前記複数の基板処理ユニットには前記基板の表面を洗浄する表面洗浄処理ユニットと、前記基板の裏面を洗浄する裏面洗浄処理ユニットと、が含まれ、前記裏面洗浄処理ユニットを用いた基板処理スケジュールにおける前記許容値は、前記表面洗浄処理ユニットを用いた基板洗浄処理スケジュールにおける前記許容値よりも短い時間が設定される、基板処理方法である。
<2.1 基板Wの受渡し動作>
<2.2 基板処理のパターン>
<3.フローレシピ>
<4.基板処理>
2 インデクサ区画
3 処理区画(処理部)
4 キャリア保持部
11 表面洗浄処理部
12 裏面洗浄処理部
60 制御部(スケジュール作成装置)
CR センターロボット(搬送手段)
71 スケジュール機能部
72 処理実行部
PASS 基板載置部
RT1 反転ユニット
RT2 反転受渡ユニット
SS(SS1〜SS8) 表面洗浄処理ユニット(基板処理ユニット)
SSR(SSR1〜SSR8) 裏面洗浄処理ユニット(基板処理ユニット)
Claims (11)
- 並行使用可能な複数の基板処理ユニットと、前記複数の基板処理ユニットに基板を搬送し前記複数の基板処理ユニットから基板処理後の基板を搬出する基板搬送手段と、を備えた基板処理装置であって、
前記基板処理ユニットで基板処理された後の基板が前記基板搬送手段によって前記基板処理ユニットから搬出されるのを待機する搬出待機時間が所定の許容値を超えない時間となるように、並行使用する基板処理ユニットを前記複数の基板処理ユニットの中から選択する選択手段と、
前記並行使用する基板処理ユニットに向けた前記基板搬送手段による基板搬送処理と、前記並行使用する基板処理ユニットでの基板処理と、前記並行使用する基板処理ユニットからの前記基板搬送手段による基板搬出処理と、を含む基板処理スケジュールを作成するスケジュール作成手段と、
前記スケジュール作成手段により作成された前記基板処理スケジュールに従って前記基板処理ユニットと前記基板搬送手段とを制御して複数の基板を順次基板処理する制御手段とを備え、
前記基板搬送手段は、前記並行使用する基板処理ユニットに対して複数の基板を順番に搬送する手段であり、
前記並行使用するすべての基板処理ユニットに向けて一通り基板を搬送する基板搬送サイクルを繰り返し実行する基板処理スケジュールに従って前記制御手段が前記基板処理ユニットと前記基板搬送手段とを制御する場合に、前記スケジュール作成手段は、前の基板搬送サイクルの実行中、次の基板搬送サイクルの開始前に、前記次の搬送サイクルのための基板処理スケジュールを作成する、基板処理装置。 - 前記基板を支持する基板支持部をさらに備え、
前記基板搬送手段は、前記基板を支持する基板支持部と前記基板処理ユニットとの間で往復移動する手段であり、
前記スケジュール作成手段は、前記基板搬送手段が前の基板搬送サイクルと次の基板搬送サイクルとを連続して実行する場合において、前記基板搬送手段が前記基板支持部と前記基板処理ユニットとの間を往復移動するのに要する時間が、前記次の基板搬送サイクルの方が前記前の基板搬送サイクルよりも長くなるときに、前記次の基板搬送サイクルにおいて並行使用する基板処理ユニットの数が前記前の基板搬送サイクルにおいて並行使用する基板処理ユニットの数よりも少なくなるように並行使用する基板処理ユニットの数を設定し、前記並行使用する基板処理ユニットの数に基づいて前記基板処理スケジュールを作成する、請求項1記載の基板処理装置。 - 前記基板処理ユニットには基板を洗浄する基板洗浄処理ユニットが含まれる、請求項1または請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記複数の基板処理ユニットには前記基板の表面を洗浄する表面洗浄処理ユニットと、前記基板の裏面を洗浄する裏面洗浄処理ユニットと、が含まれ、
前記裏面洗浄処理ユニットを用いた基板処理スケジュールにおける前記許容値は、前記表面洗浄処理ユニットを用いた基板洗浄処理スケジュールにおける前記許容値よりも短い時間が設定される、請求項3に記載の基板処理装置。 - 並行使用可能な複数の基板処理ユニットと、前記複数の基板処理ユニットに基板を搬送し前記複数の基板処理ユニットから基板処理後の基板を搬出する基板搬送手段と、を備えた基板処理装置であって、
前記基板処理ユニットで基板処理された後の基板が前記基板搬送手段によって前記基板処理ユニットから搬出されるのを待機する搬出待機時間が所定の許容値を超えない時間となるように、並行使用する基板処理ユニットを前記複数の基板処理ユニットの中から選択する選択手段と、
前記並行使用する基板処理ユニットに向けた前記基板搬送手段による基板搬送処理と、前記並行使用する基板処理ユニットでの基板処理と、前記並行使用する基板処理ユニットからの前記基板搬送手段による基板搬出処理と、を含む基板処理スケジュールを作成するスケジュール作成手段と、
前記スケジュール作成手段により作成された前記基板処理スケジュールに従って前記基板処理ユニットと前記基板搬送手段とを制御して複数の基板を順次基板処理する制御手段とを備え、
前記基板処理ユニットには基板を洗浄する基板洗浄処理ユニットが含まれ、
前記複数の基板処理ユニットには前記基板の表面を洗浄する表面洗浄処理ユニットと、前記基板の裏面を洗浄する裏面洗浄処理ユニットと、が含まれ、
前記裏面洗浄処理ユニットを用いた基板処理スケジュールにおける前記許容値は、前記表面洗浄処理ユニットを用いた基板洗浄処理スケジュールにおける前記許容値よりも短い時間が設定される、基板処理装置。 - 並行使用可能な複数の基板処理ユニットと、前記複数の基板処理ユニットに基板を搬送し前記複数の基板処理ユニットから基板処理後の基板を搬出する基板搬送手段と、を備えた基板処理装置における基板処理方法であって、
前記基板処理ユニットで基板処理された後の基板が前記基板搬送手段によって前記基板処理ユニットから搬出されるのを待機する搬出待機時間が所定の許容値を超えない時間となるように、並行使用する基板処理ユニットを前記複数の基板処理ユニットの中から選択する選択ステップと、
前記並行使用する基板処理ユニットに向けた前記基板搬送手段による基板搬送処理と、前記並行使用する基板処理ユニットでの基板処理と、前記並行使用する基板処理ユニットからの前記基板搬送手段による基板搬出処理と、を含む基板処理スケジュールを作成するスケジュール作成ステップと、
前記基板処理スケジュールに従って前記基板処理ユニットと前記基板搬送手段とを制御して、複数の基板を順次基板処理するスケジュール実行ステップと、を備え、
前記基板搬送手段は、前記並行使用する基板処理ユニットに対して複数の基板を順番に搬送する手段であり、
前記並行使用するすべての基板処理ユニットに向けて一通り基板を搬送する基板搬送サイクルを繰り返し実行する基板処理スケジュールに従って前記基板処理ユニットと前記基板搬送手段とが制御される場合には、前の基板搬送サイクルの実行中、次の基板搬送サイクルの開始前に、前記次の搬送サイクルのための基板処理スケジュールが作成される、基板処理方法。 - 前記基板搬送手段は、前記基板を支持する基板支持部と前記基板処理ユニットとの間で往復移動する手段であり、
前記基板搬送手段が前の基板搬送サイクルと次の基板搬送サイクルとを連続して実行する場合には、前記基板搬送手段が前記基板支持部と前記基板処理ユニットとの間を往復移動するのに要する時間が、前記次の基板搬送サイクルの方が前記前の基板搬送サイクルよりも長くなるときに、前記次の基板搬送サイクルにおいて並行使用する基板処理ユニットの数が前記前の基板搬送サイクルにおいて並行使用する基板処理ユニットの数よりも少なくなるように並行使用する基板処理ユニットの数を設定し、前記並行使用する基板処理ユニットの数に基づいて前記基板処理スケジュールが作成される請求項6記載の基板処理方法。 - 前記基板処理ユニットには基板を洗浄する基板洗浄処理ユニットが含まれる、請求項6または請求項7に記載の基板処理方法。
- 前記複数の基板処理ユニットには前記基板の表面を洗浄する表面洗浄処理ユニットと、前記基板の裏面を洗浄する裏面洗浄処理ユニットと、が含まれ、
前記裏面洗浄処理ユニットを用いた基板処理スケジュールにおける前記許容値は、前記表面洗浄処理ユニットを用いた基板洗浄処理スケジュールにおける前記許容値よりも短い時間が設定される、請求項8に記載の基板処理方法。 - 並行使用可能な複数の基板処理ユニットと、前記複数の基板処理ユニットに基板を搬送し前記複数の基板処理ユニットから基板処理後の基板を搬出する基板搬送手段と、を備えた基板処理装置における基板処理方法であって、
前記基板処理ユニットで基板処理された後の基板が前記基板搬送手段によって前記基板処理ユニットから搬出されるのを待機する搬出待機時間が所定の許容値を超えない時間となるように、並行使用する基板処理ユニットを前記複数の基板処理ユニットの中から選択する選択ステップと、
前記並行使用する基板処理ユニットに向けた前記基板搬送手段による基板搬送処理と、前記並行使用する基板処理ユニットでの基板処理と、前記並行使用する基板処理ユニットからの前記基板搬送手段による基板搬出処理と、を含む基板処理スケジュールを作成するスケジュール作成ステップと、
前記基板処理スケジュールに従って前記基板処理ユニットと前記基板搬送手段とを制御して、複数の基板を順次基板処理するスケジュール実行ステップと、を備え、
前記基板処理ユニットには基板を洗浄する基板洗浄処理ユニットが含まれ、
前記複数の基板処理ユニットには前記基板の表面を洗浄する表面洗浄処理ユニットと、前記基板の裏面を洗浄する裏面洗浄処理ユニットと、が含まれ、
前記裏面洗浄処理ユニットを用いた基板処理スケジュールにおける前記許容値は、前記表面洗浄処理ユニットを用いた基板洗浄処理スケジュールにおける前記許容値よりも短い時間が設定される、基板処理方法。 - 並行使用可能な複数の基板処理ユニットと前記複数の基板処理ユニットに対し基板を搬送する基板搬送手段とを有する基板処理装置における基板処理方法であって、
前記各基板処理ユニットでの前記基板の滞在時間が前記基板搬送手段による基板搬送サイクルを超えない長さとなる搬送律速状態が出現するように、並行使用する基板処理ユニットの数を設定するステップと、
前記並行使用する基板処理ユニットの数に基づいて基板処理スケジュールを作成するステップと、
前記基板処理スケジュールに沿って前記基板処理ユニットで基板処理された後の基板が前記基板搬送手段によって前記基板処理ユニットから搬出されるのを待機する搬出待機時間を計算するステップと、
前記搬出待機時間が許容値が超える場合には前記並行使用する基板処理ユニットの数を再設定し、前記再設定された基板処理ユニットの数に基づいて前記基板処理スケジュールを修正するステップと、
前記修正された基板処理スケジュールに基づいて、前記基板処理ユニットおよび前記基板搬送手段とを制御して複数の基板に対して順次基板処理を実行するステップと、を含む基板処理方法。
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