JP6295797B2 - 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
まず、本発明の実施形態の内容を列記して説明する。
次に、本発明の実施形態の具体例を図面を参照しつつ説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。また、本明細書中においては、個別面を()、集合面を{}でそれぞれ示す。また、負の指数については、結晶学上、”−”(バー)を数字の上に付けることになっているが、本明細書中では、数字の前に負の符号を付けている。
まず、本発明の一実施形態である実施形態1に係る炭化珪素半導体装置(MOSFET1)の構造について説明する。図1は、MOSFET1の平面構造を示している。図2は、図1中の線分II−IIに沿ったMOSFET1の断面構造を示している。図3は、図1中の線分III−IIIに沿ったMOSFET1の断面構造を示している。
次に、本発明の他の実施形態である実施形態2について説明する。実施形態2に係る炭化珪素半導体装置は、基本的には上記実施形態1に係る炭化珪素半導体装置と同様の構成を有し、かつ同様の効果を奏する。また、実施形態2に係る炭化珪素半導体装置の製造方法は、基本的には上記実施形態1に係る炭化珪素半導体装置の製造方法と同様の工程により実施され、かつ同様の効果を奏する。しかし、実施形態2に係る炭化珪素半導体装置およびその製造方法は、接続電極の構成およびその形成プロセスにおいて、上記実施形態1と場合とは異なっている。
次に、本発明のさらに他の実施形態である実施形態3について説明する。実施形態3に係る炭化珪素半導体装置は、基本的には上記実施形態2に係る炭化珪素半導体装置と同様の構成を有し、かつ同様の効果を奏する。また、実施形態3に係る炭化珪素半導体装置の製造方法は、基本的には上記実施形態2に係る炭化珪素半導体装置の製造方法と同様の工程により実施され、かつ同様の効果を奏する。しかし、実施形態3に係る炭化珪素半導体装置およびその製造方法は、接続電極の構成およびその形成プロセスにおいて、上記実施形態2と場合とは異なっている。
10 炭化珪素(SiC)基板
10A,10B,11A,11B 主表面
11 炭化珪素(SiC)層
12 ドリフト領域
13 ボディ領域
14 ソース領域
15 コンタクト領域
20 ゲート絶縁膜
30 ゲート電極
31 接続電極
31A バリア層
31B 電極層
32 接触部
33 幅広部
40 下層層間絶縁膜
41 上層層間絶縁膜
50 ソース電極
60 ドレイン電極
70 ソース配線
80 ゲートパッド電極
A 素子領域
CH チャネル領域
L1,L2 長さ
W1,W2 幅
Claims (19)
- 一方の主表面および前記一方の主表面と反対側の他方の主表面を含む炭化珪素層を備え、
前記炭化珪素層は、
前記他方の主表面を含み、第1導電型を有するドリフト領域と、
前記ドリフト領域上に形成され、第2導電型を有するボディ領域と、
前記一方の主表面を含み、前記ドリフト領域との間に前記ボディ領域を挟むように形成され、第1導電型を有するソース領域とを含み、
前記ボディ領域において前記ドリフト領域と前記ソース領域とにより挟まれ、前記一方の主表面を含むチャネル領域上に位置するように形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜を挟んで前記チャネル領域上に位置するように形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極よりも小さい幅を有する部分を含むとともに前記ゲート電極よりも小さい電気抵抗を有し、前記ゲート電極上に形成された接続電極と、
前記ゲート絶縁膜上において前記接続電極の上面を取り囲むように形成された上層層間絶縁膜と、
前記上層層間絶縁膜および前記接続電極を覆うように形成されたソース配線とをさらに備える、炭化珪素半導体装置。 - 前記ゲート絶縁膜上に形成された下層層間絶縁膜をさらに備え、
前記接続電極は、
前記ゲート電極と接触する接触部と、
前記接触部よりも幅が大きく、前記下層層間絶縁膜上に位置する幅広部とを含む、請求項1に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記接続電極は、前記下層層間絶縁膜と接触するバリア層を含む、請求項2に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記ゲート絶縁膜上に形成された下層層間絶縁膜をさらに備え、
前記接続電極は、前記下層層間絶縁膜と接触するバリア層を含む、請求項1に記載の炭
化珪素半導体装置。 - 前記バリア層は窒化チタンを含む、請求項3または請求項4に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記ゲート電極は、導電型がp型であるポリシリコンを含む、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記接続電極は、アルミニウム合金、アルミニウム、チタン、窒化チタン、タングステン、モリブデン、ニッケル、金および銅からなる群より選択される少なくとも一の金属を含む、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記アルミニウム合金は、合金元素としてシリコンを含むアルミニウム合金または合金元素としてシリコンおよび銅を含むアルミニウム合金である、請求項7に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記炭化珪素層の前記一方の主表面の平面視において少なくとも一辺の長さが2mm以上である四角形状の外周形状を有し、
前記接続電極と直接接続されたゲートパッド電極をさらに備える、請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記ゲートパッド電極は、最小幅に対する最大幅の比が2以上3以下である、請求項9に記載の炭化珪素半導体装置。
- 一方の主表面および前記一方の主表面と反対側の他方の主表面を含む炭化珪素層を形成する工程を備え、
前記炭化珪素層を形成する工程では、
前記他方の主表面を含み、第1導電型を有するドリフト領域と、
前記ドリフト領域上に位置し、第2導電型を有するボディ領域と、
前記一方の主表面を含み、前記ドリフト領域との間に前記ボディ領域を挟むように位置し、第1導電型を有するソース領域とが形成され、さらに、
前記ボディ領域において前記ドリフト領域と前記ソース領域とにより挟まれ、前記一方の主表面を含むチャネル領域上に位置するゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲート絶縁膜を挟んで前記チャネル領域上に位置するゲート電極を形成する工程と、
前記ソース領域上に接触するオーミック電極を形成する工程と、
前記オーミック電極を形成する工程後、前記ゲート電極上において前記ゲート電極よりも電気抵抗が小さい接続電極を形成する工程と、
前記ゲート絶縁膜上において前記接続電極の上面を取り囲むように上層層間絶縁膜を形成する工程と、
前記上層層間絶縁膜および前記接続電極を覆うようにソース配線を形成する工程とを備え、
前記接続電極は、前記ゲート電極よりも小さい幅を有する部分を含む、炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート電極を形成する工程後、前記オーミック電極を形成する工程前に、前記ゲート絶縁膜上において前記ゲート絶縁膜とともに前記ゲート電極を取り囲む下層層間絶縁膜を形成する工程をさらに備え、
前記接続電極を形成する工程では、前記ゲート電極と接触する接触部および前記接触部よりも幅が大きい幅広部を有し、前記幅広部が前記下層層間絶縁膜上に位置する前記接続電極が形成される、請求項11に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記接続電極を形成する工程では、前記下層層間絶縁膜と接触するバリア層を含む前記接続電極が形成される、請求項12に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記ゲート電極を形成する工程後、前記オーミック電極を形成する工程前に、前記ゲート絶縁膜上において前記ゲート絶縁膜とともに前記ゲート電極を取り囲む下層層間絶縁膜を形成する工程をさらに備え、
前記接続電極を形成する工程では、前記下層層間絶縁膜と接触するバリア層を含む前記接続電極が形成される、請求項11に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記バリア層は窒化チタンを含む、請求項13または請求項14に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記ゲート電極は、導電型がp型であるポリシリコンを含む、請求項11〜請求項15のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記接続電極は、アルミニウム合金、アルミニウム、チタン、窒化チタン、タングステン、モリブデン、ニッケル、金および銅からなる群より選択される少なくとも一の金属を含む、請求項11〜請求項16のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記アルミニウム合金は、合金元素としてシリコンを含むアルミニウム合金または合金元素としてシリコンおよび銅を含むアルミニウム合金である、請求項17に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記接続電極を形成する工程では、1000℃以下の温度において前記接続電極がアニールされる、請求項11〜請求項18のいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
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