JP6234764B2 - ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、および、ワイヤーグリッド偏光子用基材 - Google Patents

Description

本開示の技術は、ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、および、ワイヤーグリッド偏光子の製造途中に形成されるワイヤーグリッド偏光子用基材に関する。

自然光を直線偏光に変える素子である偏光子の１つとして、１つの平面に対して互いに平行に並べられた複数の金属ワイヤーを有するワイヤーグリッド偏光子が知られている。ワイヤーグリッド偏光子は、例えば特許文献１に記載のように、基板の１つの側面に金属膜が形成される工程、金属膜上に互いに平行な複数の開口を有するマスクが形成される工程、および、マスクを用いて金属膜がエッチングされる工程によって形成される。

特開２００９−１６９２１３号公報

ところで、上述の製造方法では、複数の金属ワイヤーを形成するための金属材料が、基板における１つの側面の全体に供給される一方、エッチングを経て形成されたワイヤーグリッド偏光子では、複数の金属ワイヤーが位置する部分以外の金属材料が取り去られている。このように、ワイヤーグリッド偏光子の製造に用いられる金属材料のうち、エッチングによって取り除かれる金属材料は、ワイヤーグリッド偏光子の形成材料として利用されないため、金属材料の利用される効率をより高めることが望まれている。

本開示の技術は、金属材料の利用効率を高めることのできるワイヤーグリッド偏光子の製造方法、および、ワイヤーグリッド偏光子用基材を提供することを目的とする。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法の一態様は、基材の表面に段差部を形成することであって、前記段差部が、底面、頂面、および、前記底面と前記頂面とをつなぐ側面を備え、前記段差部の有する段差が、前記底面と前記頂面との高低の差であり、前記底面および前記頂面が、一つの方向に沿って延びることを備える。また、金属粒子を含む液状体を撥液する性質が撥液性であり、前記底面のなかで前記底面と前記側面とからなる角部以外の部分の有する撥液性、および、前記頂面の有する撥液性を、前記角部の有する撥液性、および、前記側面の有する撥液性よりも高く設定することを備える。そして、前記段差部に塗布された前記液状体を前記側面上、および、前記角部上に凝集させること、および、前記凝集した前記液状体を乾燥することを経てワイヤーを形成することを備える。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法によれば、金属ワイヤーを形成するための液状体が、金属ワイヤーの形成される部分に凝集するため、金属材料の利用効率を高めることができる。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法の他の態様では、前記段差部を形成することにおいて、前記側面と前記底面とのなす角度を鋭角に形成することが好ましい。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法の他の態様によれば、側面と底面とのなす角度が鈍角である方法と比べて、角部を構成する２つの面である側面と底面との間の距離が小さい。そのため、段差部の有する側面や底面に液状体が保持されやすくなる。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法の他の態様では、前記撥液性を設定することにおいて、フッ素を含むガスから生成されたプラズマを前記底面に向けて引込むことが好ましい。

側面と底面とのなす角度が鋭角である段差部において、底面と対向する方向からみて、段差部を構成する角部は、段差部を構成する側面によって覆われている。本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法によれば、前記底面に向けて引込まれるプラズマは、側面によって覆われる角部や側面そのものよりも、角部以外の底面や頂面に到達しやすい。それゆえに、段差部を構成する頂面や角部以外の底面に選択的に撥液処理を施すことが容易である。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法の他の態様では、前記段差部を形成することにおいて、前記段差部が一つの方向に沿って延びる直線形状を有した突条を備え、前記段差部の有する前記段差が前記突条の有する段差であり、前記突条の延びる方向とは交差する方向に沿って複数の前記段差部を並べることを含む。そして、前記突条が延びる方向とは交差する方向に沿って延び、かつ、互いに隣り合う２つの前記突条をつなぐ突部である補強部をさらに形成することを備えることが好ましい。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法によれば、１つの方向に沿って延びる直線形状を有した段差部に外力が作用するとき、段差部の延びる方向とは交差する方向に沿って段差部につながる補強部が段差部を支える。それゆえに、段差部の機械的な強度が高まる。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法の他の態様は、前記ワイヤーが形成された後に、前記段差部が前記基材の表面から前記補強部と共に取り除かれることをさらに備える。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法の他の態様によれば、一度の処理で、段差部と補強部との両方を基材上から取り除くことができる。
本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法の他の態様では、前記基材がガラス基板であり、前記撥液性が設定されることにおいて、前記プラズマの引込みの前に、前記底面のなかで前記角部以外の部分、および、前記頂面に、前記プラズマによるエッチングの耐性を与えることを備えることが好ましい。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法の他の態様によれば、フッ素を含むプラズマによってエッチングされるガラス基板が基材として用いられても、基材の側面上に撥液性が与えられる。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子用基材の一態様は、段差部を有する表面を備えた基材である。前記段差部は、底面、頂面、および、前記底面と前記頂面とをつなぐ側面を備え、前記段差部の有する段差は、前記底面と前記頂面との高低の差であって一つの方向に沿って連続している。そして、金属粒子を含む液状体を撥液する性質が撥液性であり、前記底面のなかで前記底面と前記側面とからなる角部以外の部分の有する撥液性、および、前記頂面の有する撥液性は、前記角部の有する撥液性、および、前記側面の有する撥液性よりも高い。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子用基材によれば、ワイヤーの材料となる金属粒子を含む液状体が、段差部を構成する角部、および、側面に凝集しやすくなる。それゆえに、段差部を構成する角部、および、側面にワイヤーが形成される構成において、金属材料の利用効率が高められる。

本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子用基材の他の態様は、前記角部、および、前記側面に前記液状体の硬化体をさらに備えることが好ましい。
本開示の技術におけるワイヤーグリッド偏光子用基材によれば、角部、および、側面に液状体の硬化体を有するため、金属粒子からなるワイヤー、あるいは、金属粒子の焼結体であるワイヤーを角部、および、側面に形成することが容易である。

ワイヤーグリッド偏光子の製造方法の第１実施形態における工程の流れを示すフローチャートである。 第１実施形態における段差形成工程を説明するための工程図である。 第１実施形態における撥液性設定工程を説明するための工程図であって、段差部の表面状態を模式的に示す図である。 第１実施形態における液状体塗布工程を説明するための工程図である。 第１実施形態の一例における段差形成工程を説明するための工程図である。 第１実施形態の一例における段差形成工程を説明するための工程図である。 第１実施形態の一例における撥液性設定工程を説明するための工程図である。 第１実施形態の一例における液状体塗布工程を説明するための工程図である。 第１実施形態の一例における段差部除去工程を説明するための工程図である。 ワイヤーグリッド偏光子の製造方法の第２実施形態における段差形成工程を説明するための工程図である。 ワイヤーグリッド偏光子用基材の第２実施形態を上面視した構造を示す上面図である。 図１１の１２−１２線に沿った断面構造であって、第２実施形態の一例における段差形成工程を説明するための工程図である。 第２実施形態の一例における液状体塗布工程を説明するための工程図である。 第２実施形態の一例における段差部除去工程を説明するための工程図である。

［第１実施形態］
図１から図５を参照して、本開示におけるワイヤーグリッド偏光子の製造方法、および、本開示におけるワイヤーグリッド偏光子用基材を具体化した第１実施形態を説明する。

図１が示すように、ワイヤーグリッド偏光子の製造方法は、段差部形成工程（ステップＳ１）と、撥液性設定工程（ステップＳ２）と、液状体塗布工程（ステップＳ３）と、液状体乾燥工程（ステップＳ４）とを、この順に進めることが最も重要である。段差部形成工程において、基材の表面に段差部が形成される。撥液性設定工程において、段差部を構成する各面に互いに異なる撥液性が設定される。液状体塗布工程において、金属粒子を含む液状体が段差部に塗布されて、塗布された液状体が相対的に低い撥液性を有する部分に凝集する。液状体乾燥工程において、液状体が乾燥してワイヤーが形成される。ワイヤーグリッド偏光子の製造方法は、乾燥した液状体を焼成する工程をさらに含んでいてもよいし、ワイヤーが形成された後に段差部を取り除く工程をさらに含んでいてもよいし、これらの工程が省略されてもよい。

図２が示すように、段差部形成工程において形成される段差部１０は、底面１１、頂面１２、および、底面１１と頂面１２とをつなぐ側面１３を備え、かつ、段差部１０の有する段差Ｕが、底面１１と頂面１２とから構成される。この際に、段差部１０の有する段差Ｕは、１つの方向に沿って連続すればよく、１つの方向において基材Ｓｂの全体にわたっていてもよいし、１つの方向において基材Ｓｂの全体よりも短くてもよい。複数の段差部１０が形成される方法において、複数の段差部１０の各々の有する段差Ｕは、互いに交差する複数の方向に沿って連続していてもよいし、複数の段差部１０の各々の有する段差Ｕが、互いに平行な方向に沿って連続していてもよい。段差部１０の有する段差Ｕの量は、段差部１０における底面１１および頂面１２が延びる方向において一定であってもよいし、互いに異なる大きさを有していてもよい。複数の段差部１０の各々の有する段差Ｕの量は、互いに同じであってもよいし、互いに異なる大きさであってもよい。

段差部形成工程は、平坦な面である基材Ｓｂの表面を表面Ｓｂ１とするとき、表面Ｓｂ１に突部を形成し、基材Ｓｂの表面Ｓｂ１と突部の頂面との高低の差として段差Ｕを形成することであってもよい。あるいは、平坦な面である基材Ｓｂの表面を表面Ｓｂ２とするとき、表面Ｓｂ２に凹部を形成し、基材Ｓｂの表面のなかで凹部が形成されていない部分と凹部の底面との高低の差として段差Ｕを形成することであってもよい。基材Ｓｂの表面Ｓｂ１に突部を形成することは、突部を構成する材料からなる薄膜を基材Ｓｂの表面Ｓｂ１に形成して、その薄膜の一部をエッチングすることであってもよいし、基材Ｓｂの表面Ｓｂ１の一部をエッチングして、基材Ｓｂの表面の残部によって突部を形成することであってもよい。基材Ｓｂの表面Ｓｂ２に凹部を形成することは、基材Ｓｂの表面において凹部に相当する部分のみをエッチングすることであってもよいし、基材Ｓｂの表面において凹部に相当する部分を他の部分よりも大きくエッチングすることであってもよい。

突部が段差部を構成するとき、突部の有する形状は、１つの方向に沿って延びる突条であってもよいし、互いに異なる２つの方向に沿って拡がる直方体形状であってもよい。凹部が段差部を構成するとき、凹部の有する形状は、１つの方向に沿って延びる溝形状であってもよいし、互いに異なる２つの方向に沿って拡がる矩形孔形状であってもよい。

基材Ｓｂの表面に形成される段差部１０は、ワイヤーグリッド偏光子において、液状体の乾燥後に取り除かれてもよいし、基材Ｓｂの表面の一部として残っていてもよい。なお、基材Ｓｂの表面から段差部１０が取り除かれる方法では、液状体の乾燥後において取り除くことの容易なレジストなどの材料によって、基材Ｓｂの表面に突部が形成されることが好ましい。

基材Ｓｂを形成する材料は、基材Ｓｂの表面に段差部１０を形成することの可能な材料であればよく、例えば、基材Ｓｂを形成する材料と突部を形成する材料とが同じであってもよいし、基材Ｓｂを形成する材料と突部を形成する材料とは互いに異なっていてもよい。基材Ｓｂの有する形状や大きさは、これもまた基材Ｓｂの表面に段差部１０を形成することの可能な形状や大きさであればよく、例えば、基材Ｓｂの有する形状は、板形状であってもよいし、塊形状であってもよい。また、基材Ｓｂの有する大きさは、例えば、１つの基材Ｓｂから１つのワイヤーグリッド偏光子が形成される大きさであってもよいし、１つの基材Ｓｂから複数のワイヤーグリッド偏光子が形成される大きさであってもよい。

突部が段差部１０を構成するとき、段差部１０の大きさの精度や段差部１０の形状の精度が高まる観点から、基材Ｓｂの表面Ｓｂ１において、突部との密着性、突部の加工に対する機械的な耐性、突部の加工に対する化学的な耐性が高いことが好ましい。例えば、突部がレジストによって形成されるとき、基材Ｓｂの表面Ｓｂ１は、レジストに対して高い密着性を有することが好ましく、また、レジストの露光やレジストのベークに際して変形し難いことが好ましい。

凹部が段差部１０を構成するとき、段差部１０の大きさの精度や段差部１０の形状の精度が高まる観点から、基材Ｓｂの表面Ｓｂ２において、凹部を形成するためのマスクと基材Ｓｂとの間におけるエッチングの選択比、凹部の加工における機械的な耐性が高いことが好ましい。例えば、凹部がエッチングによって形成されるとき、基材Ｓｂの全体がエッチングによって変形し難いことが好ましい。

上述した基材Ｓｂは、例えば、ガラス基板であってもよいし、各種樹脂によって形成された樹脂製基板であってもよいし、樹脂製基板よりも薄く、かつ、ロール形状に巻かれる程度に可撓性を有した樹脂製シートであってもよい。

図３が示すように、撥液性設定工程では、段差部１０が有する底面１１のなかの底面１１と側面１３とからなる角部１４以外の部分である底面撥液部１５の有する撥液性、および、頂面１２における頂面撥液部１６の有する撥液性を、角部１４における角部親液部１７の撥液性、および、側面１３における側面親液部１８の撥液性よりも高く設定することが最も重要である。この際に、段差部１０の有する底面１１のなかの角部親液部１７を構成する部分の大きさと、段差部１０の有する底面１１のなかの角部親液部１７以外の部分である底面撥液部１５の大きさは、互いに同じであってもよいし、互いに異なっていてもよい。要は、角部親液部１７の有する撥液性が、底面撥液部１５の有する撥液性よりも低く設定される構成であればよい。また、底面１１において底面撥液部１５、および、段差部１０の有する頂面撥液部１６に、そこでの撥液性が高まる処理が行われてもよいし、底面１１において角部親液部１７、および、段差部１０の有する側面親液部１８に、そこでの親液性が高まる処理と、上記撥液性が高まる処理とが組み合わされてもよい。撥液性設定工程は、基材Ｓｂのなかで段差部１０以外の部分において撥液性が高まる処理を含んでもよいし、この処理が省略されてもよい。

撥液性が高まる処理は、底面撥液部１５および頂面撥液部１６に、撥液性を有する官能基が導入される処理であってもよいし、底面撥液部１５および頂面撥液部１６に、撥液性を有する薄膜が形成される処理であってもよい。また、撥液性が高まる処理は、底面撥液部１５および頂面撥液部１６において、親液性を有する官能基が、親液性を有しない官能基に置換される処理であってもよいし、底面撥液部１５および頂面撥液部１６から、親液性を有する薄膜が取り除かれる処理であってもよい。そして、撥液性が高まる処理は、上述した複数の処理から選択される少なくとも２つの組合せであってもよい。

親液性が高まる処理は、角部親液部１７および側面親液部１８に、親液性を有する官能基が導入される処理であってもよいし、角部親液部１７および側面親液部１８に、親液性を有する薄膜が形成される処理であってもよい。また、親液性が高まる処理は、角部親液部１７および側面親液部１８において、撥液性を有する官能基が、撥液性を有しない官能基に置換される処理であってもよいし、角部親液部１７および側面親液部１８から、撥液性を有する薄膜が取り除かれる処理であってもよい。そして、親液性が高まる処理は、上述した複数の処理から選択される少なくとも２つの組合せであってもよい。

撥液性が高まる処理は、例えば、撥液性を与えるプラズマが、基材Ｓｂの上方から基材Ｓｂの表面に向けて供給される処理であってもよい。基材Ｓｂの表面に向けて供給されるプラズマは、通常、段差部１０の有する側面１３、および、段差部１０の有する角部１４と比べて、段差部１０の頂面１２、および、段差部１０の底面のなかの角部１４以外の部分に到達しやすい。そのため、こうした処理後の段差部１０であれば、段差部１０の有する側面親液部１８、および、角部親液部１７と比べて、頂面撥液部１６、および、底面撥液部１５において、撥液性が高まる。そして、撥液性を与えるプラズマが基材Ｓｂの上方から底面１１に向けて引込まれる処理であれば、段差部１０の頂面撥液部１６、および、底面撥液部１５において、撥液性がさらに高まる。

親液性が高まる処理は、例えば、親液性を与えるプラズマが、段差部１０の有する底面１１に対して斜め方向に沿って段差部１０に入射する処理であってもよい。段差部１０の有する底面１１に対して斜め方向に沿って段差部１０に入射するプラズマは、通常、底面撥液部１５と比べて、側面親液部１８、および、角部親液部１７に到達しやすい。そのため、こうした処理後の段差部１０であれば、底面撥液部１５と比べて、側面親液部１８、および、角部親液部１７において、親液性が高まる。そして、親液性が高まる処理の後に、上述した撥液性が高まる処理が進む方法であれば、段差部１０の有する各面での撥液性の差異が、より高まる。

なお、基材Ｓｂの形成材料が予め撥液性を有する場合には、段差部１０の底面撥液部１５において、撥液性の与えられる処理が省略されてもよい。また、基材Ｓｂの形成材料が予め親液性を有する場合には、段差部１０の角部親液部１７において、親液性の与えられる処理が省略されてもよい。また、基材Ｓｂの表面に段差部１０が形成される工程が、基材Ｓｂの表面に凹部が形成される工程であって、基材Ｓｂの形成材料が予め親液性を有する場合には、段差部１０の側面親液部１８、および、段差部１０の角部親液部１７において、親液性の与えられる処理が省略されてもよい。また、基材Ｓｂの表面に段差部１０が形成される工程が、基材Ｓｂの表面Ｓｂ１に突部が形成される工程であって、突部の形成材料が親液性を有する場合には、段差部１０の側面親液部１８において、親液性の与えられる処理が省略されてもよい。

図４が示すように、液状体塗布工程では、金属粒子を含む液状体１９が、段差部１０の側面１３上、および、角部１４上に凝集することが最も重要である。この際に、金属粒子を含む液状体１９は、段差部１０において相対的に撥液性の低い部位に向けて塗布されてもよいし、段差部１０において相対的に撥液性の低い部位と、段差部１０において相対的に撥液性の高い部位との両方に塗布されてもよいし、段差部１０において相対的に撥液性の高い部位に塗布されてもよい。いずれの方法であっても、段差部１０において相対的に撥液性の高い部位に塗布された液状体１９は、液状体１９の有する表面張力によって、段差部１０において相対的に撥液性の低い部位に塗布された液状体１９に引き寄せられる。そして、段差部１０に塗布された液状体は、段差部１０において相対的に撥液性の低い部位に凝集する。すなわち、段差部１０の有する側面１３、および、段差部１０の有する角部１４において、これらの有する低い撥液性や形状は、金属粒子の含まれる液状体１９の形状を、これら側面１３、および、底面１１に追従させる機能を有する。なお、液状体塗布工程は、段差部１０に塗布された液状体を基材Ｓｂの表面に吹き付けられる気体によって流動させる処理をさらに含んでもよいし、段差部１０に塗布された液状体を基材Ｓｂの振動によって流動させる処理をさらに含んでもよいし、これらが省略されてもよい。

ここで、段差部１０に塗布された液状体１９が、段差部１０の側面１３上、および、角部１４上に凝集することは、段差部１０に塗布された液状体１９の一部が、段差部１０の頂面１２上、および、段差部１０の底面１１のなかの角部１４以外の部分上の少なくとも１つから、段差部１０の側面１３上、および、角部１４上に集まることである。この際に、段差部１０の頂面１２上、および、段差部１０の底面１１のなかの角部１４以外の部分上の少なくとも１つにおいて、その一部に液状体１９が残ってもよい。

なお、ワイヤーを形成するための金属材料の利用効率が高まる観点において、段差部１０に塗布された液状体１９の多くは、段差部１０の側面１３上、および、角部１４上に凝集することが好ましく、段差部１０の頂面１２上、および、段差部１０の底面１１のうち角部１４以外の部分上には、液状体１９が残らないことが、より好ましい。この際に、段差部１０において側面１３と底面１１とのなす角度θは、鋭角であることが好ましく、こうした構成であれば、側面１３と底面１１とのなす角度θが鈍角である構成と比べて、側面１３と底面１１との距離が短く、それゆえに、段差部１０に塗布された液状体１９が角部１４に凝集しやすくなる。

また、突部が段差部１０を構成するとき、段差部１０の底面１１は、基材Ｓｂの表面において突部以外の部分であり、段差部１０の頂面１２は、突部の頂面１２であり、段差部１０の側面１３は、突部において底面１１から突出方向に沿って立ち上がる側面１３である。このように、１つの突部が２つ以上の側面１３を有するとき、液状体塗布工程では、１つの突部が有する２つ以上の側面１３の各々に向けて液状体１９が凝集してもよいし、１つの突部が有する１つの側面１３にのみ液状体１９が凝集してもよい。１つの突部が有する２つ以上の側面１３の各々に向けて液状体１９が凝集する方法であれば、１つの突部ごとに２以上のワイヤーを形成することが可能である。それゆえに、１つの突部ごとに１つのワイヤーを形成する方法と比べて、ワイヤーを形成するために必要な突部の数が抑えられる、あるいは、ワイヤー間の距離を短くすることが可能である。特に、複数の突部が１つの方向に沿って並び、かつ、突部の並ぶ方向において１つの突部にて互いに対向する２つの側面の各々に液状体が凝集するとき、１つの突部ごとに１つのワイヤーを形成する方法と比べて、突部の並ぶ方向でのワイヤー間の距離を短くすることができる。

また、凹部が段差部１０を構成するとき、段差部１０の底面１１は、凹部の底面１１であり、段差部１０の頂面１２は、基材Ｓｂの表面のなかの凹部以外の部分であり、段差部１０の側面１３は、凹部において底面１１から深さ方向に沿って立ち上がる側面１３である。このように、１つの凹部が２つ以上の側面１３を有するときもまた、液状体塗布工程では、１つの凹部が有する２つ以上の側面１３の各々に向けて液状体１９が凝集してもよいし、１つの凹部が有する１つの側面１３にのみ液状体１９が凝集してもよい。１つの凹部が有する２つ以上の側面１３の各々に向けて液状体１９が凝集する方法であれば、１つの凹部ごとに２以上のワイヤーを形成することが可能である。それゆえに、１つの凹部ごとに１つのワイヤーを形成する方法と比べて、ワイヤーを形成するために必要な凹部の数が抑えられる、あるいは、ワイヤー間の距離を短くすることが可能である。特に、複数の凹部が１つの方向に沿って並び、かつ、凹部の並ぶ方向において１つの凹部にて互いに対向する２つの側面の各々に液状体が凝集するとき、１つの凹部ごとに１つのワイヤーを形成する方法と比べて、凹部の並ぶ方向でのワイヤー間の距離を短くすることができる。

液状体塗布工程に用いられる液状体１９は、ワイヤーを形成する材料を含む金属粒子と金属粒子を分散させる分散媒とを含むことが最も重要であって、例えば、金属粒子の分散性を高める分散助剤を含んでいてもよいし、これが省略されてもよい。ワイヤーを形成する材料は、例えば、金、銀、および、銅から構成される群から選択される少なくとも１つである。液状体塗布工程に用いられる液状体は、段差部１０における撥液性を有する部分から遠ざかり、これに対して親液性を有する部分に追従して、親液性を有する部分に凝集する程度の粘度を有していればよく、例えば、５０ｃＰ以下の粘度であることが好ましい。

液状体塗布工程に用いられる液状体１９は、段差部１０における撥液性を有する部分での接触角と、これに対して親液性を有する部分での接触角とが、より大きくなる組成であることが好ましい。液状体塗布工程に用いられる液状体１９は、液状体１９の乾燥やその後の焼成によって体積を減少させるとしても、段差部１０の側面１３全体を覆う程度にしか体積を減少指せない程度に、固形分を含むことが好ましい。こうした液状体１９の塗布には、例えば、インクジェット装置、スプレーコーター、および、スピンコーター等が用いられる。

液状体乾燥工程では、段差部１０に塗布された液状体１９から分散媒が取り除かれて、液状体１９が硬化することが最も重要である。この際に、液状体１９に対する分散媒の除去は、液状体１９に加えられる熱によって分散媒が蒸発することであってもよいし、液状体１９の上方における分散媒の分圧の下降によって分散媒が蒸発することであってもよいし、これらの組合せであってもよい。なお、液状体乾燥工程は、液状体１９の硬化体を焼成する処理をさらに含んでもよいし、これを省略してもよい。また、液状体乾燥工程において、リブ部の間に形成される凹部に充填された液状体から金属ワイヤーが形成される方法と比べて、液状体１９の単位体積当たりに外部の雰囲気と接する面積が大きくなる。そのため、液状体乾燥工程が、液状体１９に熱が加えられる処理や、硬化体を焼成する処理を含んだとしても、上述した凹部に液状体が充填される方法よりも処理温度を低くすることが可能である。それゆえに、基材の形成材料として樹脂製基板や樹脂製シートが選択されることが可能になる。

段差部１０において凝集した液状体１９は、それに含まれる分散媒が取り除かれることによって、段差部１０の有する側面１３、および、段差部１０の有する側面１３に追従した状態で硬化する。すなわち、段差部１０の有する側面１３、および、段差部１０の有する角部１４は、液状体１９の乾燥する過程において、液状体１９の硬化体を、これら側面１３、および、底面１１において支持する機能を有する。なお、液状体１９の硬化体は、この状態においてワイヤーとして機能してもよいし、硬化体の焼成によってワイヤーとして機能してもよい。

以下、上述したワイヤーグリッド偏光子の製造方法のうち、レジストからなる突条が段差部を構成し、かつ、複数の段差部が突条の延在方向と交差する並設方向に沿って並び、こうした複数の段差部の各々に、撥液性が高まる処理が施される例を、図５から図９を参照して説明する。

図５が示すように、まず、段差部形成工程において、基材の一例である矩形板状を有したガラス基板２１の１つの側面である表面２１ｓに、所定の厚さを有するレジスト層２２が形成される。基材は、ガラス基板２１に限らず、例えば、各種樹脂によって形成された樹脂製基板であってもよいし、樹脂製基板よりも薄く、かつ、ロール形状に巻かれる程度に可撓性を有した樹脂製シートでもよい。

レジスト層２２の形成材料は、ポジ型のレジストでもよいし、ネガ型のレジストでもよい。レジストは、光レジスト、電子線レジスト、および、Ｘ線レジストのいずれであってもよい。レジスト層２２の形成には、例えば、スピンコーターやスプレーコーターが用いられる。

図６が示すように、レジスト層２２に対してプリベーク、露光、現像、および、ポストベークの各処理が順番に行われることによって、すなわち、フォトリソグラフィによってガラス基板２１の表面２１ｓにレジストパターン２３が形成される。レジストパターン２３は、突条である複数のリブ部２４と、複数の保護膜部２５とから構成される。

複数のリブ部２４の各々は、ガラス基板２１の表面２１ｓを構成する１つの辺に平行な方向である延在方向に沿って延びる直線形状を有している。複数のリブ部２４の各々は、リブ部２４の延在方向とは交差する方向である並設方向に沿って並んでいる。なお、図２において、複数のリブ部２４の各々の延在方向は、紙面に対して垂直な方向であり、複数のリブ部２４の並設方向は、紙面に対して左右方向である。複数の保護膜部２５の各々は、表面２１ｓにおける２つのリブ部２４によって挟まれて２つのリブ部２４から離れた部分の各々に位置する。

各リブ部２４は、リブ部２４の延在方向から見て逆台形柱状を有している。リブ部２４の有する表面のうち、リブ部２４の延在方向から見て逆台形の底辺を構成する面は、段差部の頂面の一例であるリブ頂面２４ｔである。リブ部２４の延在方向に沿って延びる面のうち、リブ頂面２４ｔ以外の２つの面の各々は、段差部が有する側面の一例であるリブ側面２４ｓである。ガラス基板２１の表面２１ｓのうち、互いに隣り合うリブ部２４の間に位置する部分は、段差部の底面の一例である表面部分２１ｂである。互いに隣り合う２つのリブ部２４において、互いに対向する２つのリブ側面２４ｓの間の距離は、ガラス基板２１の表面２１ｓに近いほど大きく、表面部分２１ｂにおいて最大である。

複数のリブ部２４は、ガラス基板２１の表面２１ｓにおいて、等間隔を空けて形成されてもよいし、互いに異なる間隔を空けて形成されてもよい。ガラス基板２１の表面２１ｓでは、並設方向において、１つのリブ部２４の占める部分と、互いに隣り合う２つのリブ部２４の隙間に相当する部分とが、互いに同じ長さを有していてもよいし、互いに異なる長さを有していてもよい。

例えば、ワイヤーグリッドが並設方向に並ぶ複数のワイヤーから構成され、かつ、並設方向において互いに隣り合う２つのワイヤーの間隔が互いに等しい場合には、複数のリブ部２４は、以下の構成を有する。すなわち、並設方向においてリブ部２４の繰り返される距離は、リブピッチＰ１であり、リブピッチＰ１は、並設方向においてリブ頂面２４ｔの有する幅と、並設方向において互いに隣り合う２つのリブ部２４の間の間隔との和である。複数のリブ部２４の各々において、リブピッチＰ１は一定であり、かつ、リブ頂面２４ｔの有する幅も一定である。

保護膜部２５は、リブ部２４の延在方向と平行な方向に沿って延び、ガラス基板２１の表面２１ｓに対する法線方向に沿った幅である厚さが、リブ部２４の厚さよりも小さく、リブ部２４の有する厚さの１０分の１よりも小さいことが好ましい。保護膜部２５における並設方向に沿った幅Ｗは、１つの保護膜部２５を挟む２つのリブ部２４のリブ頂面２４ｔの間の距離と等しいことが好ましい。ガラス基板２１の表面２１ｓに対する法線方向から見て、保護膜部２５の全体は、その保護膜部２５を挟む２つのリブ部２４の間の空間と重なることが好ましい。

こうした複数のリブ部２４と複数の保護膜部２５とを有するレジストパターン２３は、レジスト層２２に対する露光処理にて、例えば、レジストパターン２３に応じて露光量が調節されることや、多階調マスクを用いた露光によって形成される。

図７が示すように、レジストパターン２３を有するガラス基板２１を用いた撥液性設定工程が行われる。撥液が高まる処理では、例えば各種のプラズマ生成装置が用いられ、プラズマ生成装置の内部に位置するガラス基板２１に対して、フッ素を含むガスから生成されたプラズマＰが供給される。フッ素を含むガスは、例えば、炭化フッ化水素ガスであればよく、四フッ化炭素が好ましい。ガラス基板２１に対してプラズマＰが供給されることによって、主に各リブ部２４のリブ頂面２４ｔと、各保護膜部２５とに撥液性が与えられる。

このとき、各リブ部２４が逆台形柱状に形成されているため、ガラス基板２１のリブ側面２４ｓでは、プラズマＰが、各リブ部２４におけるガラス基板２１に接する縁の近くの部分、すなわち、段差部の角部２４ｅに供給されにくくなる。また、各保護膜部２５の全体が、各保護膜部２５を挟む２つのリブ部２４の間の空間と、ガラス基板２１の表面２１ｓに対する法線方向にて重なるため、各リブ部２４の間の隙間を通るプラズマＰは、主に保護膜部２５に到達する一方で、ガラス基板２１の表面２１ｓには、ほとんど到達しない。そのため、例えば、ガラス基板２１をエッチングする四フッ化炭素ガスから生成されたプラズマＰが用いられたとしても、ガラス基板２１の表面２１ｓがエッチングされることが抑えられ、かつ、リブ側面２４ｓと段差部の角部２４ｅ以外において、撥液性が高まる。これによって、ワイヤーグリッド偏光子の製造途中の構造体であるワイヤーグリッド偏光子用基材３１が形成される。

ガラス基板２１に対してプラズマＰが供給されるとき、バイアス電圧がガラス基板２１に対して印加されることがより好ましい。バイアス電圧がガラス基板に対して印加されることによって、プラズマＰ中のフッ素を含む正イオンが、ガラス基板２１の表面２１ｓに対する法線方向に沿って各リブ部２４のリブ頂面２４ｔや、各保護膜部２５に到達しやすくなる。そのため、互いに隣り合う２つのリブ部２４の間の隙間を通るプラズマＰは、段差部の有する角部２４ｅ以外の部分である保護膜部２５にのみ到達しやすくなる。

図８が示すように、金属粒子を含む液状体２６がガラス基板２１とレジストパターン２３とに塗布される。このとき、各リブ部２４のリブ頂面２４ｔと、保護膜部２５とが撥液性を有している。そのため、ガラス基板２１とレジストパターン２３とに塗布された液状体２６は、これら撥液性を有する部分に対して親液性である部分、すなわち、各リブ部２４における上述した２つのリブ側面２４ｓ、および、段差部の有する角部２４ｅに凝集する。それゆえに、ガラス基板２１に対して液状体が供給されることによって、各リブ部２４の２つのリブ側面２４ｓと、ガラス基板２１の表面における２つのリブ側面２４ｓに連なる部分とに液状体２６の膜が形成される。

各リブ部２４は、逆台形柱状に形成されているため、各リブ部２４のリブ側面２４ｓに塗布された液状体は、リブ側面２４ｓの全体に濡れ広がり、各リブ部２４と保護膜部２５との間の隙間、すなわち、段差部の有する角部２４ｅにも到達しやすくなる。また、各リブ部２４のリブ頂面２４ｔに塗布された液状体２６は、リブ側面２４ｓの全体に濡れ広がり、自重によって重力方向に沿って移動して各リブ部２４と保護膜部２５との間の隙間に溜まる。結果として、互いに隣り合う２つのリブ部２４の間に形成される液状体２６の膜において、並設方向に沿った幅は、ガラス基板２１の表面２１ｓに近いほど大きくなる。

図９が示すように、液状体２６の膜が焼成されることによって、ガラス基板２１上に複数の金属ワイヤー２７が形成される。上述の延在方向と直交する方向にて、２つの金属ワイヤー２７が１つのリブ部２４を挟む状態で形成される。そのため、複数の金属ワイヤー２７は、複数のリブ部２４の形成されるリブピッチＰ１の略半分のピッチであるワイヤーピッチＰ２でガラス基板２１の表面２１ｓ上に形成される。

このように、複数のリブ部２４を有するレジストパターン２３を用いて、複数のリブ部２４の形成されるリブピッチＰ１よりも小さいワイヤーピッチＰ２で金属ワイヤー２７を形成することができる。例えば、リブピッチＰ１が３００ｎｍであるとき、ワイヤーピッチＰ２を略１５０ｎｍとすることができる。結果として、リブピッチＰ１と同じピッチで金属ワイヤー２７が形成される場合と比べて、ワイヤーピッチＰ２が小さくなるため、複数の金属ワイヤー２７を備えるワイヤーグリッド偏光子の透過率を高めることができる。

同じく図９が示すように、金属ワイヤー２７を有するガラス基板２１に対してアッシング処理が行われることによって、複数のリブ部２４と複数の保護膜部２５とが取り除かれる。アッシング処理には、例えばアッシング装置が用いられ、アッシング装置の内部に位置するガラス基板２１に対して、酸素ガスから生成されたプラズマが供給される。これによって、複数の金属ワイヤー２７を有するワイヤーグリッド偏光子３２が形成される。

なお、ワイヤーグリッド偏光子３２の偏光特性を高める上では、ワイヤーグリッド偏光子３２がレジストパターン２３を有していないことが好ましい。
以上説明したように、第１実施形態によれば以下の効果が得られる。

（１）金属ワイヤー２７を形成するための液状体２６が、ガラス基板２１およびレジストパターン２３における金属ワイヤー２７が形成される部分に凝集するため、金属材料の利用効率を高めることができる。

（２）各リブ部２４が逆台形柱状に形成されているため、液状体２６が、各リブ部２４における互いに対向する２つのリブ側面２４ｓや表面部分２１ｂに液状体２６が保持されやすくなる。

（３）段差部を構成するリブ頂面２４ｔや角部２４ｅ以外の底面に選択的に撥液処理を施すことが容易である。
（４）四フッ化炭素ガスから生成されたプラズマＰによってエッチングされるガラス基板２１が基材として用いられても、保護膜部２５に撥液性が与えられることによって、ガラス基板２１の表面２１ｓ上に撥液性が与えられる。そのため、液状体２６が、各リブ部２４における互いに対向する２つのリブ側面２４ｓに付着しやすくなる。

（５）１つのリブ部２４に対して、２つの金属ワイヤー２７が形成されるため、２つのリブ部の間に形成された凹部に１つの金属ワイヤーが形成される方法と比べて、金属ワイヤー２７のワイヤーピッチＰ２を小さくすることが可能である。これにより、ワイヤーグリッド偏光子の透過率を高めることができる。

なお、第１実施形態は、以下のように適宜変更して実施することができる。
・撥液性が高まる処理において、ガラス基板２１にバイアス電圧が印加されなくともよい。各リブ部２４が逆台形柱状に形成されていれば、ガラス基板２１にバイアス電圧が印加されなくとも、各リブ部２４のリブ頂面２４ｔと保護膜部２５とにはプラズマＰが到達する一方、各リブ部２４におけるガラス基板２１に接する縁の近くには、プラズマＰが到達しにくくなる傾向は保たれる。

・各リブ部２４は、逆台形柱状に形成されなくともよく、台形柱状に形成されてもよいし、矩形柱状に形成されてもよいし、多角柱状に形成されてもよいし、これら逆台形柱状、台形柱状、矩形柱状、多角柱状からなる群から選択される少なくとも２つの形状を有するリブ部２４が混在していてもよい。各リブ部２４がこうした形状であっても、段差部の頂面、および、段差部の底面のなかで角部以外の部分において相対的に高い撥液が与えられる方法であれば、上述の（１）に準じた効果を得ることができる。

なお、互いに隣り合う２つのリブ部２４の間の隙間において、並設方向に沿った幅が、ガラス基板２１の表面２１ｓから離れるほど大きい構成、例えば、台形柱状を有する２つのリブ部２４が並ぶ構成では、以下のような撥液性設定工程が好ましい。すなわち、段差部のなかで相対的に高い撥液性を、段差部の側面と角部とに与えるために、段差部の側面と角部とが覆われるマスクをガラス基板２１の上方に配置して、上述のプラズマを供給することが好ましい。また、段差部のなかで相対的に高い撥液性を、段差部の側面と角部とに与えるために、段差部の側面と角部とが露出するマスクをガラス基板２１の上方に配置して、親液性が高まるプラズマを別途ガラス基板２１に向けて供給することが好ましい。

・レジストパターン２３は、保護膜部２５を有していなくともよい。レジストパターン２３が保護膜部２５を有しない場合には、フッ素を含むガスのプラズマＰによってエッチングされない基材が選択されること、すなわち、基材として樹脂製シート、および、プラスチック基板のいずれかが選択されることが好ましい。もしくは、フッ素を含むガスとして、プラズマＰが生成されたときにガラス基板２１をエッチングしないガスが選択されること、あるいは、プラズマＰの供給される時間やガラス基板２１の温度が、ガラス基板２１をエッチングしない程度であることが好ましい。なお、基材がガラス基板であり、かつ、フッ素を含むガスが四フッ化炭素ガスであっても、ガラス基板がエッチングされるものの、ガラス基板に対してフッ素を含む粒子が付着した部分には、少なからず撥液性が与えられる。

・撥液性設定工程において、基材がエッチングに対する耐性を有する一方、基材の表面にエッチングに対する耐性を有しない薄膜が形成されているとき、薄膜が基材上から取り除かれることによって、基材にエッチングに対する耐性が与えられればよい。

・撥液性設定工程において、基材がエッチングに対する耐性を有しないとき、基材の表面に対してエッチングに対する耐性を与える元素や官能基の置換によって、基材にエッチングに対する耐性が与えられればよい。

・各リブ部２４の延びる方向である延在方向は、ガラス基板２１を構成する１つの辺に平行な方向でなくともよく、例えば、１つの辺と直交以外の所定の角度で交わる方向であってもよい。

・図９が示す金属ワイヤー２７が、転写用基板に対して転写されることによって、ワイヤーグリッド偏光子が形成されてもよい。こうした構成によれば、フォトリソグラフィや撥液処理に対する耐性を有しない材料から形成された基材をワイヤーグリッド偏光子の基材に用いることができるため、ワイヤーグリッド偏光子の基材の選択における自由度が高まる。

・図８が示す液状体２６の焼成によって形成された金属ワイヤー２７が、複数のリブ部２４および複数の保護膜部２５とともに、転写用基板に対して転写されることによって、ワイヤーグリッド偏光子が形成されてもよい。なお、複数のリブ部２４および複数の保護膜部２５は、転写用基板に対する転写の後に取り除かれてもよいし、取り除かれなくてもよい。

［第２実施形態］
図１０から図１４を参照して、ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、および、ワイヤーグリッド偏光子用基材を具体化した第２実施形態を説明する。なお、第２実施形態は、第１実施形態と比べて、段差部形成工程にて形成される段差部の形状が異なる。そのため、以下では、こうした相違点を詳しく説明し、その他の説明を省略する。

段差部形成工程において、複数の段差部が、一つの方向に沿って並べられる。この際に、複数の段差部の各々は、複数の段差部が並ぶ方向と交差する方向に沿って延びる突条を備え、段差部の有する段差が、突条の有する段差である。段差部形成工程において、さらに、突条が延びる方向とは交差する方向に沿って延び、かつ、互いに隣り合う２つの突条をつなぐ突部である補強部が形成される。

図１０が示すように、段差部形成工程において形成される段差部１０は、底面１１、頂面１２、および、底面１１と頂面１２とをつなぐ側面１３で構成された突条４１を備えている。段差部１０は、互いに隣り合う２つの突条４１にて向かい合う側面１３の間をつなぐ補強部４２を備えている。この際に、突条４１は、複数の段差部１０が並ぶ並設方向と交差する方向に沿って延びていればよく、並設方向と直交する方向に沿って延びていてもよいし、並設方向と直交以外の角度を形成する方向に沿って延びてもよい。突条４１は、１つの方向に沿って延びていればよく、互いに異なる２つの方向に沿って拡がる直方体形状であってもよい。

段差部１０の有する補強部４２は、突条４１の延びる方向と交差する方向に沿って延びていればよく、突条４１の延びる方向と直交する方向に沿って延びていてもよいし、突条４１の延びる方向と直交以外の角度を形成する方向に沿って延びていてもよい。補強部４２は、基材Ｓｂの表面Ｓｂ１から上述の突出方向に沿って延び、補強部４２の頂面は、段差部１０の頂面１２と同一の平面上に位置してもよいし、頂面１２よりも高い平面上に位置してもよいし、頂面よりも低い平面上に位置してもよい。

補強部４２は、基材Ｓｂの表面Ｓｂ１から突出方向に沿って延びる突部であればよく、２つの方向に沿って延びる直方体形状であってもよいし、２つの方向に沿って延びる直方体形状以外の立方体形状であってもよい。補強部４２における突条４１の延びる延在方向に沿った大きさは、延在方向に沿った突条４１の大きさよりも小さければよい。互いに隣り合う２つの突条４１の間に１つの補強部４２が位置してもよいし、２つ以上の補強部４２が位置してもよい。

ワイヤーグリッド偏光子の製造方法は、ワイヤーが形成された後に段差部１０を取り除く工程を含んでいてもよく、段差部１０を取り除く工程は省略されてもよい。ワイヤーグリッド偏光子の製造方法が、段差部１０を取り除く工程を備えるとき、突条４１が補強部４２とともに取り除かれてもよいし、突条４１が補強部４２よりも先に取り除かれてもよいし、補強部４２が突条よりも先に取り除かれてもよい。

以下、上述したワイヤーグリッド偏光子の製造方法のうち、複数の段差部が突条の延在方向と交差する並設方向に沿って並び、かつ、複数の補強部が、突条の延在方向と交差する方向に沿って延びて、互いに隣り合う２つの突条をつなぐ例を、図１１から図１４を参照して説明する。

図１１が示すように、基材の一例であるプラスチック基板４３は、フォトリソグラフィによって形成されたレジストパターン２３を有する。レジストパターン２３は、突条である複数のリブ部２４と、複数の補強部４２とから構成される。

複数のリブ部２４の各々は、上述の延在方向に沿って延びる直線形状を有し、リブ部２４の延在方向とは交差する方向である並設方向に沿って並んでいる。なお、図１１において、複数のリブ部２４の各々の延在方向は、紙面に対して上下方向であり、複数のリブ部２４の並設方向は、紙面に対して左右方向である。レジストパターン２３は、並設方向に沿って延びて、並設方向にて互いに隣り合う２つのリブ部２４をつなぐ補強部４２を備えている。

図１２が示すように、各補強部４２は、リブ部２４の延在方向から見て台形柱状を有している。各補強部４２は、プラスチック基板４３の１つの側面である表面４３ｓから突出方向に沿って延び、各補強部４２の頂面は、各リブ部２４のリブ頂面２４ｔが位置する平面と同じ平面上に位置している。

なお、撥液性設定工程において、補強部４２を構成する複数の側面のうち、補強部４２の頂面にも撥液性が与えられる。これによって、ワイヤーグリッド偏光子用基材３１が形成される。

図１３が示すように、プラスチック基板４３とレジストパターン２３とに上述の液状体２６が塗布される。これによって、プラスチック基板４３とレジストパターン２３とに塗布された液状体２６は、上述した撥液性を有する部分に対して親液性である部分、すなわち、各リブ部２４における上述した２つのリブ側面２４ｓ、および、段差部の有する角部２４ｅに凝集する。

液状体塗布工程において、液状体２６の塗布によって各リブ部２４に外力が作用するとき、各リブ部２４の延びる方向とは交差する方向に沿って各リブ部２４につながる補強部４２がリブ部２４を支えるため、各リブ部２４の機械的な強度が高まる。

図１４が示すように、液状体２６の膜が焼成されることによって、プラスチック基板４３上に複数の金属ワイヤー２７が形成される。複数の金属ワイヤー２７は、複数のリブ部２４の形成されるリブピッチＰ１の略半分のピッチであるワイヤーピッチＰ２でプラスチック基板４３の表面４３ｓ上に形成される。

同じく図１４が示すように、金属ワイヤー２７を有するプラスチック基板４３に対してアッシング処理が行われることによって、複数のリブ部２４と複数の補強部４２とが取り除かれる。つまり、一度のアッシング処理で、複数のリブ部２４と複数の補強部４２との両方がプラスチック基板４３上から取り除かれる。

以上説明した第２実施形態によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（６）液状体２６の塗布によって各リブ部２４に外力が作用するとき、段差部につながる補強部４２がリブ部２４を支えるため、リブ部２４の機械的な強度が高くなる。

（７）一度のアッシング処理で、複数のリブ部２４と複数の補強部４２との両方をプラスチック基板４３上から取り除くことができる。
なお、第２実施形態は、以下のように適宜変更して実施することができる。

・レジストパターン２３は、１つ以上の補強部４２を有していれば、上述の（５）に準じた効果を得ることができる。
・基材は、プラスチック基板４３に限らず、ガラス基板でもよいし、樹脂製シートでもよい。なお、基材がガラス基板であるとき、第１実施形態にて説明された保護膜部２５がガラス基板上に形成されることが好ましい。もしくは、フッ素を含むガスから生成されて、ガラス基板をエッチングしないプラズマが撥液処理にて用いられること、あるいは、プラズマの供給される時間やガラス基板の温度が、ガラス基板をエッチングしない程度であることが好ましい。

・各リブ部２４は、逆台形柱状に形成されなくともよく、台形柱状に形成されてもよいし、矩形柱状に形成されてもよいし、多角柱状に形成されてもよいし、これら逆台形柱状、台形柱状、矩形柱状、多角柱状からなる群から選択される少なくとも２つの形状を有するリブ部２４が混在していてもよい。なお、補強部４２の形状は、台形柱状に限らず、リブ部２４の形状に合わせて変更することが好ましく、例えば、リブ部２４が台形柱状であるとき、補強部４２は、逆台形柱状に形成されることが好ましく、リブ部２４が矩形柱状であるとき、補強部４２も矩形柱状に形成されることが好ましい。

・各リブ部２４の延びる方向である延在方向は、プラスチック基板４３を構成する１つの辺に平行な方向でなくともよく、例えば、１つの辺と直交以外の所定の角度で交わる方向であってもよい。

・図１３が示す液状体２６の焼成によって形成された金属ワイヤー２７が、複数のリブ部２４および複数の補強部４２とともに、転写用基板に対して転写されることによって、ワイヤーグリッド偏光子が形成されてもよい。なお、複数のリブ部２４および複数の補強部４２は、転写用基板に対する転写の後に取り除かれてもよいし、取り除かれなくてもよい。

１０…段差部、１１…底面、１２…頂面、１３…側面、１４，２４ｅ…角部、１５…底面撥液部、１６…頂面撥液部、１７…角部親液部、１８…側面親液部、１９，２６…液状体、２１…ガラス基板、２１ｂ…表面部分、２１ｓ…表面、２２…レジスト層、２３…レジストパターン、２４…リブ部、２４ｓ…リブ側面、２４ｔ…リブ頂面、２５…保護膜部、２７…金属ワイヤー、３１…ワイヤーグリッド偏光子用基材、３２…ワイヤーグリッド偏光子、４１…突条、４２…補強部、４３…プラスチック基板、４３ｓ…表面、Ｐ１…リブピッチ、Ｐ２…ワイヤーピッチ、Ｓｂ…基材、Ｓｂ１、Ｓｂ２…表面。

Claims (8)

1. 基材の表面に段差部を形成することであって、前記段差部が、底面、頂面、および、前記底面と前記頂面とをつなぐ側面を備え、前記段差部の有する段差が、前記底面と前記頂面との高低の差であり、前記底面および前記頂面が、一つの方向に沿って延びることと、
   金属粒子を含む液状体を撥液する性質が撥液性であり、前記底面のなかで前記底面と前記側面とからなる角部以外の部分の有する撥液性、および、前記頂面の有する撥液性を、前記角部の有する撥液性、および、前記側面の有する撥液性よりも高く設定することと、
   前記段差部に塗布された前記液状体を前記側面上、および、前記角部上に凝集させること、および、前記凝集した前記液状体を乾燥することを経てワイヤーを形成することと、を備える
   ワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
2. 前記段差部を形成することにおいて、
   前記側面と前記底面とのなす角度を鋭角に形成する
   請求項１に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
3. 前記撥液性を設定することにおいて、
   フッ素を含むガスから生成されたプラズマを前記底面に向けて引込む
   請求項２に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
4. 前記段差部を形成することにおいて、
   前記段差部が一つの方向に沿って延びる直線形状を有した突条を備え、前記段差部の有する前記段差が前記突条の有する段差であり、前記突条の延びる方向とは交差する方向に沿って複数の前記段差部を並べることと、
   前記突条が延びる方向とは交差する方向に沿って延び、かつ、互いに隣り合う２つの前記突条をつなぐ突部である補強部をさらに形成することとを備える
   請求項１から３のいずれか一項に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
5. 前記ワイヤーが形成された後に、前記段差部が前記基材の表面から前記補強部と共に取り除かれることをさらに備える
   請求項４に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
6. 前記基材はガラス基板であり、
   前記撥液性が設定されることにおける前記プラズマの引込みの前に、
   前記底面のなかで前記角部以外の部分、および、前記頂面に、前記プラズマによるエッチングの耐性を与えることを備える
   請求項３に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
7. 段差部を有する表面を備えた基材であって、
   前記段差部が、
   底面、頂面、および、前記底面と前記頂面とをつなぐ側面を備え、前記段差部の有する段差は、前記底面と前記頂面との高低の差であって一つの方向に沿って連続し、
   金属粒子を含む液状体を撥液する性質が撥液性であり、
   前記底面のなかで前記底面と前記側面とからなる角部以外の部分の有する撥液性、および、前記頂面の有する撥液性は、前記角部の有する撥液性、および、前記側面の有する撥液性よりも高い
   ワイヤーグリッド偏光子用基材。
8. 前記角部、および、前記側面に前記液状体の硬化体をさらに備える
   請求項７に記載のワイヤーグリッド偏光子用基材。

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