JP6230295B2 - 描画装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図2は、本発明の描画装置が備える複数の電子光学系(荷電粒子光学系)100の1つの構成を示す図である。例えば、電子放出材としてLaB6またはBaO/W(ディスペンサーカソード)等を含むいわゆる熱電子型の電子源である。コリメータレンズ102は、例えば静電型のレンズであって、電界により電子線を収束させる。電子源101から射出された電子線は、コリメータレンズ102によって略平行の電子線となる。
ショット領域の幅Wsが描画領域の幅βWdの整数倍でない場合には、第1実施形態を示す図5の(b)のように、1つの電子光学系においても描画領域の並び方向のショット領域毎に描画領域が異なる。しかし、第2実施形態は、1つの電子光学系における描画領域の並び方向のショット領域毎に描画領域を同一にしている。
第1、第2実施形態では、描画領域間の描画位置ずれにより描画パターンが分断したりするため、通常は、描画領域間を重複させて多重描画するようにしている。したがって、図7に示すように描画領域単位の描画データの端部に部分領域の単位のスティッチング領域のデータを付加しても構わない。
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。該製造方法は、感光剤が塗布された基板の該感光剤に上記の描画装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板に描画を行う工程)と、当該工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含みうる。さらに、該製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (6)
- 荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
第1方向に沿って前記基板上のショット領域の幅より大きい間隔で配置された複数の荷電粒子光学系と、
前記第1方向において前記基板上のショット領域を分割して得られるサブ描画領域を単位とする、前記複数の荷電粒子光学系により共用される描画データを格納する格納部と、
前記複数の荷電粒子光学系それぞれの前記基板上の描画領域を前記サブ描画領域の集合として決定し、前記複数の荷電粒子光学系に前記描画データに基づいて前記描画を並行して行わせるように、前記複数の荷電粒子光学系それぞれを前記集合に基づいて制御する制御部と、
を備え、
前記複数の荷電粒子光学系それぞれは、前記第1方向に沿って前記基板上で荷電粒子線を偏向する偏向器を含み、
前記格納部は、第1描画領域のための第1描画データと、前記第1描画領域の次に描画される第2描画領域のための第2描画データとを格納しており、
前記制御部は、
前記複数の荷電粒子光学系のうちの少なくとも1つの荷電粒子光学系の前記描画領域の一端が前記基板上のショット領域の一端と重なるように、前記複数の荷電粒子光学系それぞれの前記偏向器を制御し、
前記複数の荷電粒子光学系それぞれに、対応する前記第1描画領域の前記描画を前記第1描画データに基づいて行わせ、
前記複数の荷電粒子光学系それぞれに、対応する前記第2描画領域の前記描画を前記第2描画データに基づいて行わせるとともに、前記第2描画領域の次に描画される第3描画領域のための第3描画データを生成し、該第3描画データを前記格納部の前記第1描画データに上書きする
ことを特徴とする描画装置。 - 前記基板を保持して前記第1方向に沿って移動可能なステージを備え、
前記制御部は、前記描画を開始する場合、前記第1方向において、前記複数の荷電粒子光学系のうちの少なくとも1つの荷電粒子光学系の前記描画領域の一端が前記基板上のショット領域の一端と重なるように、前記ステージを制御する、ことを特徴とする請求項1記載の描画装置。 - 前記基板を保持して前記第1方向に沿って移動可能なステージを備え、
前記制御部は、前記複数の荷電粒子光学系それぞれによる前記描画領域の描画と、前記ステージを前記第1方向に前記描画領域の幅だけ移動させるステップ移動とを繰り返すように、前記複数の荷電粒子光学系および前記ステージを制御する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の描画装置。 - 前記基板を保持して前記第1方向に沿って移動可能なステージを備え、
前記制御部は、前記複数の荷電粒子光学系それぞれによる前記描画領域の描画と、前記ステージを前記第1方向に前記描画領域の幅だけ移動させる第1ステップ移動とを繰り返し行うことによって、前記複数の荷電粒子光学系それぞれにより前記基板上のショット領域の幅だけ第1の描画を行い、前記第1の描画での描画対象の各ショット領域と前記複数の荷電粒子光学系それぞれとの相対位置関係が第2の描画での描画対象の各ショット領域と前記複数の荷電粒子光学系それぞれとの相対位置関係となるようにして、前記複数の荷電粒子光学系それぞれによる前記描画領域の描画と、前記ステージを前記第1方向に前記描画領域の幅だけ移動させる第2ステップ移動とを繰り返し行うことによって、前記複数の荷電粒子光学系それぞれにより前記基板上のショット領域の幅だけ前記第2の描画を行うように、前記複数の荷電粒子光学系および前記ステージを制御する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の描画装置。 - 前記描画領域は、その端部に、スティッチング領域としてのサブ描画領域を含む、ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の描画装置。
- 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の描画装置を用いて基板に描画を行う工程と、
前記工程で描画を行われた基板を現像する工程と、
を含む、ことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013134210A JP6230295B2 (ja) | 2013-06-26 | 2013-06-26 | 描画装置及び物品の製造方法 |
US14/302,885 US10361067B2 (en) | 2013-06-26 | 2014-06-12 | Drawing apparatus, and method of manufacturing article by controlling a plurality of charged particle optical systems based on respective sets of sub-drawing regions |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013134210A JP6230295B2 (ja) | 2013-06-26 | 2013-06-26 | 描画装置及び物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015012035A JP2015012035A (ja) | 2015-01-19 |
JP2015012035A5 JP2015012035A5 (ja) | 2016-08-12 |
JP6230295B2 true JP6230295B2 (ja) | 2017-11-15 |
Family
ID=52114669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013134210A Expired - Fee Related JP6230295B2 (ja) | 2013-06-26 | 2013-06-26 | 描画装置及び物品の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10361067B2 (ja) |
JP (1) | JP6230295B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018041790A (ja) | 2016-09-06 | 2018-03-15 | 株式会社アドバンテスト | 露光装置および露光データ構造 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4694178A (en) * | 1985-06-28 | 1987-09-15 | Control Data Corporation | Multiple channel electron beam optical column lithography system and method of operation |
EP1369896A3 (en) * | 1996-03-04 | 2004-12-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus and method and device manufacturing method |
JPH11329322A (ja) * | 1998-05-11 | 1999-11-30 | Advantest Corp | 電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置 |
US6313476B1 (en) * | 1998-12-14 | 2001-11-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charged beam lithography system |
JP2000260686A (ja) * | 1999-03-08 | 2000-09-22 | Toshiba Corp | 露光方法及び露光装置 |
US20040018863A1 (en) * | 2001-05-17 | 2004-01-29 | Engstrom G. Eric | Personalization of mobile electronic devices using smart accessory covers |
JP4421836B2 (ja) * | 2003-03-28 | 2010-02-24 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
GB2408143B (en) | 2003-10-20 | 2006-11-15 | Ims Nanofabrication Gmbh | Charged-particle multi-beam exposure apparatus |
JP4468752B2 (ja) * | 2004-06-30 | 2010-05-26 | キヤノン株式会社 | 荷電粒子線露光方法、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5020745B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2012-09-05 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データの作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
CN102113083B (zh) * | 2008-06-04 | 2016-04-06 | 迈普尔平版印刷Ip有限公司 | 对目标进行曝光的方法和*** |
-
2013
- 2013-06-26 JP JP2013134210A patent/JP6230295B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-06-12 US US14/302,885 patent/US10361067B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015012035A (ja) | 2015-01-19 |
US20150001419A1 (en) | 2015-01-01 |
US10361067B2 (en) | 2019-07-23 |
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