JP6220648B2 - 光偏向器及びその製造方法 - Google Patents
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- ミラー部と、該ミラー部を回動させるアクチュエータ部とを備える光偏向器であって、
前記アクチュエータ部は、
シリコン層とその上の酸化シリコン層とを含む基板と、
圧電膜の層を含み前記酸化シリコン層上に形成されたアクチュエータ層と、
前記シリコン層の上面を下端面において被膜しつつ、前記シリコン層の上面から上の前記酸化シリコン層及び前記アクチュエータ層を内側に包み込むように被膜する層間絶縁膜と、
前記シリコン層の上面を下端面において被膜しつつ前記層間絶縁膜を内側に包み込むように被膜する防湿膜とを備えることを特徴とする光偏向器。 - ミラー部と、該ミラー部を回動させるアクチュエータ部とを備える光偏向器の製造方法であって、
シリコン層とその上の酸化シリコン層とを含む基板の上に、圧電膜の層を含むアクチュエータ層を形成する第1工程と、
前記第1工程により製造された第1積層体に対し、前記アクチュエータ部の第1エッチング線より外側において、前記アクチュエータ層の上面から前記シリコン層の上面までエッチングして、前記シリコン層の上面を露出させる第2工程と、
前記第2工程により製造された第2積層体に対し、前記シリコン層の露出上面と該露出上面より上で露出する前記第2積層体の露出面全体とを層間絶縁膜により被膜する第3工程と、
前記第3工程により製造された第3積層体に対し、前記第1エッチング線より外側の第2エッチング線より外側において、前記層間絶縁膜を前記シリコン層の上面までエッチングして、前記シリコン層の上面を露出させる第4工程と、
前記第4工程により製造された第4積層体に対し、前記シリコン層の露出上面と該露出上面より上で露出する前記第4積層体の露出面全体とを防湿膜により被膜する第5工程と、
前記第5工程により製造された第5積層体に対し、前記第2エッチング線より外側の第3エッチング線より外側において前記防湿膜の上面から前記シリコン層の上面までエッチングして、前記シリコン層の上面を露出させる第6工程とを備えることを特徴とする光偏向器の製造方法。
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