JP6208804B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
本発明に係る基板処理装置は、複数の基板を収容可能な収容容器が搬入および搬出されるインデクサブロックと、基板に予め定められた処理を行う処理ブロックと、インデクサブロックから処理ブロックへ搬送される基板を複数枚載置可能な送りバッファ部と、処理ブロックからインデクサブロックへ搬送される基板を複数枚載置可能な戻りバッファ部とを備え、送りバッファ部および戻りバッファ部は、上下に重なるように配置され、インデクサブロックは、収容容器が載置される容器載置部と、容器載置部に載置された収容容器と処理ブロックとの間で互いに並行して基板を搬送する第1および第2の搬送機構とを含み、容器載置部は、処理ブロックによる処理前の基板が複数枚収容された収容容器が載置される第1の載置部と、処理後の基板を複数枚収容するための収容容器が載置される第2の載置部とを含み、第1の搬送機構は、上下に配置されかつ基板を保持可能に構成された第1および第2の保持部を有し、第1の搬送機構は、第1の載置部に載置された収容容器から第1および第2の保持部を用いて処理前の2枚の基板を同時に取り出して当該2枚の基板を送りバッファ部に搬送し、第2の搬送機構は、戻りバッファ部から処理後の基板を取り出して当該基板を第2の載置部に載置された収容容器に搬送し、インデクサブロックおよび処理ブロックは、水平面に平行な第1の方向に並ぶように設けられ、送りバッファ部および戻りバッファ部は、平面視において、第1の搬送機構と第2の搬送機構との間を通りかつ第1の方向に延びる第1の直線上に設けられ、第1の搬送機構は、第1の直線の一方側に設けられ、第1の直線に対して斜交する第2の直線に沿うように送りバッファ部に基板を搬送し、第2の搬送機構は、第1の直線の他方側に設けられ、第1の直線に対して斜交する第3の直線に沿うように戻りバッファ部から基板を搬送する。
第1および第2の搬送機構は、水平面上で第1の方向と交差する第2の方向に並ぶように設けられてもよい。
第1および第2の搬送機構は、送りバッファ部への基板の搬送と戻りバッファ部からの基板の取り出しとを互いに同時に行うことが可能に構成されてもよい。
第2の搬送機構は、上下に配置されかつ基板を保持可能に構成された第3および第4の保持部を有し、第2の搬送機構は、戻りバッファ部から第3および第4の保持部を用いて処理後の2枚の基板を取り出して当該2枚の基板を第2の載置部に載置された収容容器に同時に搬送してもよい。
処理ブロックは、上段搬送室に配置される第3の搬送機構と、下段搬送室に配置される第4の搬送機構とを含み、第3および第4の搬送機構は互いに別体であってもよい。
送りバッファ部および戻りバッファ部の各々は、第1の搬送機構による基板の載置および第2の搬送機構による基板の受け取りが可能に構成されてもよい。
第1および第2の載置部は、水平面上で第1の方向に交差する第3の方向に並ぶように配置され、第1および第2の搬送機構は第3の方向に並ぶように配置されてもよい。
収容容器は、上下に配置されかつ基板が載置される複数の棚を有し、第1の搬送機構は、第1の載置部に載置される収容容器の複数の棚のうち任意の一対の棚にそれぞれ載置される処理前の2枚の基板を第1および第2の保持部により同時に受け取り、第1の搬送機構が基板を受け取る一対の棚は、当該一対の棚の間に他の1以上の棚が位置するように選択されてもよい。
収容容器は、上下に配置されかつ基板が載置される複数の棚を有し、第2の搬送機構は、第2の載置部に載置される収容容器の複数の棚のうち任意の一対の棚に処理後の2枚の基板を同時に載置し、第2の搬送機構が基板を載置する一対の棚は、当該一対の棚の間に他の1以上の棚が位置するように選択されてもよい。
(1)参考形態に係る基板処理装置は、複数の基板を収容可能な収容容器が搬入および搬出されるインデクサブロックと、基板に予め定められた処理を行う処理ブロックとを備え、インデクサブロックは、収容容器が載置される容器載置部と、容器載置部に載置された収容容器と処理ブロックとの間で互いに並行して基板を搬送する第1および第2の搬送機構とを含むものである。
(1−1)基板処理装置の構成
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置の模式的平面図である。図1および図2以降の所定の図には、位置関係を明確にするために互いに直交するX方向、Y方向およびZ方向を示す矢印を付している。X方向およびY方向は水平面内で互いに直交し、Z方向は鉛直方向に相当する。なお、各方向において矢印が向かう方向を+方向、その反対の方向を−方向とする。
図2は、図1の塗布処理部121、塗布現像処理部131および洗浄乾燥処理部161の概略側面図である。図2においては、基板処理装置100の一方の側面に沿った領域(以下、+Y側と呼ぶ)に設けられた構成要素が主に示される。
図3は、図1の熱処理部123,133および洗浄乾燥処理部162の概略側面図である。図3においては、基板処理装置100の他方の側面に沿った領域(以下、−Y側と呼ぶ)に設けられた構成要素が主に示される。
(1−4−1)概略構成
図4は、第1の処理ブロック12の模式的側面図であり、図5は、搬送部112,122,132,163の模式的側面図である。図4には、インデクサブロック11から見た第1の処理ブロック12の構成が示され、図5には、+Y側から見た搬送部112,122,132,163の構成が示される。
図5を参照しながら搬送機構127,128,137,138の構成について説明する。図5に示すように、搬送機構127,128,137,138の各々は、ガイドレール311,312,313、移動部材314、回転部材315およびハンドH1,H2を備える。
以下、本実施の形態に係る基板処理装置100の各構成要素の動作について説明する。
以下、図1および図5を主に参照しながらインデクサブロック11の動作を説明する。インデクサブロック11のキャリア載置部111aには、未処理の基板Wが収容されたキャリア113が載置され、キャリア載置部111bには、基板Wが収容されていない空のキャリア113が載置される。搬送機構IR1は、キャリア載置部111aに載置されたキャリア113から未処理の基板Wを送りバッファ部SBF1,SBF2に交互に搬送する。搬送機構IR2は、戻りバッファ部RBF1,RBF2から処理後の基板Wをキャリア載置部111bに載置されたキャリア113に交互に搬送する。この場合、搬送機構IR1,IR2により並行して基板Wが搬送される。ここで、「基板Wが並行して搬送される」とは、搬送機構IR1,IR2が基板Wを全く同時に搬送する場合に限らず、搬送機構IR1による基板Wの搬送期間と搬送機構IR2による基板Wの搬送期間とが一部重複する場合も含む。搬送機構IR1,IR2の動作の詳細については後述する。
以下、図1〜図3および図5を主に参照しながら第1の処理ブロック12の動作について説明する。なお、以下においては、簡便のため、搬送機構127,128のX方向およびZ方向の移動の説明は省略する。
以下、図1〜図3および図5を主に用いて第2の処理ブロック13の動作について説明する。なお、以下においては、簡便のため、搬送機構137,138のX方向およびZ方向の移動の説明は省略する。
138が上下に設けられているので、基板処理装置100のフットプリントが増加することを防止することができる。
以下、図5および図7を主に用いて洗浄乾燥処理ブロック14Aおよび搬入搬出ブロック14Bの動作について説明する。
(1−6−1)キャリアの構成
図8(a)はキャリア113の斜視図であり、図8(b)はキャリア113の正面図である。図8(a)および図8(b)に示すように、キャリア113は、前面が開口する箱型形状を有する。キャリア113の内部には、両側面から内側に突出するように複数段の棚113aが設けられる。各棚113aに基板Wが載置される。本例では、キャリア113が25段の棚113aを有する。上下に隣り合う棚113aの間隔C2は、搬送機構IR1,IR2のハンドIH1,IH2の間隔C1の2分の1に設定される。
図9および図10は、送りバッファ部SBF1および戻りバッファ部RBF1の構成を示す外観斜視図および側面図である。送りバッファ部SBF2および戻りバッファ部RBF2は図9および図10の送りバッファ部SBF1および戻りバッファ部RBF1と同様の構成を有する。
搬送機構IR1,IR2による基板Wの搬送について説明する。上記のように、搬送機構IR1は、キャリア113から送りバッファ部SBF1,SBF2に交互に基板Wを搬送し、搬送機構IR2は、戻りバッファ部RBF1,RBF2からキャリア113に交互に基板Wを搬送する。
本実施の形態では、インデクサブロック11において、2台の搬送機構IR1,IR2により並行して基板Wが搬送される。それにより、インデクサブロック11における基板Wの搬送効率が高められる。その結果、基板処理装置100のスループットが向上される。
上記実施の形態では、搬送機構IR1がキャリア113から送りバッファ部SBF1,SBF2に基板Wを搬送し、搬送機構IR2が戻りバッファ部RBF1,RBF2からキャリア113に基板Wを搬送するが、搬送装置IR1,IR2の動作はこれに限らない。搬送装置IR1,IR2の各々が、キャリア113から送りバッファ部SBF1,SBF2への基板Wの搬送および戻りバッファ部RBF1,RBF2からキャリア113への基板Wの搬送を並行して行ってもよい。
図17および図18は、本発明の第2の実施の形態に係る基板処理装置100の構成を示す模式的側面図である。図17には、−Y側から見た基板処理装置100の一部構成が示され、図18には、キャリア載置部111a,111bおよびその周辺部が示される。図17および図18の基板処理装置100について、上記第1の実施の形態に係る基板処理装置100と異なる点を説明する。
図19は、本発明の第3の実施の形態に係る基板処理装置100の構成を示す模式的平面図である。図19の基板処理装置100について、上記実施の形態に係る基板処理装置100と異なる点を説明する。
図20および図21は、本発明の第4の実施の形態に係る基板処理装置100の構成を示す模式的平面図および模式的側面図である。図21には、−Y側から見た基板処理装置100の一部構成が示される。
(5−1)
上記実施の形態では、搬送機構IR1,IR2がそれぞれ2つのハンドIH1,IH2を有するが、これに限らず、搬送機構IR1,IR2がそれぞれ1つのハンドのみを有してもよく、または搬送機構IR1,IR2がそれぞれ3つ以上のハンドを有してもよい。
上記実施の形態では、搬送機構IR1,IR2のハンドIH1,IH2がそれぞれ1枚の基板Wを保持可能に構成されるが、ハンドIH1,IH2がそれぞれ複数枚の基板Wを保持可能に構成されてもよい。
上記実施の形態では、インデクサブロック11に2台の搬送機構IR1,IR2が設けられるが、これに限らず、インデクサブロック11に3台以上の搬送機構が設けられてもよい。
上記実施の形態では、液浸法により基板Wの露光処理を行う露光装置15が基板処理装置100の外部装置として設けられるが、これに限定されず、液体を用いずに基板Wの露光処理を行う露光装置が基板処理装置100の外部装置として設けられてもよい。その場合も上記実施の形態と同様の効果が得られる。
上記実施の形態は、基板Wに対してレジスト膜の塗布形成処理および現像処理を行う基板処理装置(いわゆるコータ/デベロッパ)に本発明が適用された例であるが、本発明の実施の形態は、これに限らない。例えば、基板Wに洗浄処理等の単一の処理を行う基板処理装置に本発明が適用されてもよい。その場合も上記実施の形態と同様の効果が得られる。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
12 第1の処理ブロック
13 第2の処理ブロック
14 インターフェイスブロック
14A 洗浄乾燥処理ブロック
14B 搬入搬出ブロック
15 露光装置
100 基板処理装置
111a,111b キャリア載置部
113 キャリア
114 制御部
129 塗布処理ユニット
139 現像処理ユニット
IH1,IH2,H1,H2,H3,H4 ハンド
IR1,IR2,127,128,137,138,141,142,146 搬送機構
P−BF1,P−BF2 載置兼バッファ部
RBF1,RBF2 戻りバッファ部
SD1,SD2 洗浄乾燥処理ユニット
SBF1,SBF2 送りバッファ部
W 基板
Claims (13)
- 複数の基板を収容可能な収容容器が搬入および搬出されるインデクサブロックと、
基板に予め定められた処理を行う処理ブロックと、
前記インデクサブロックから前記処理ブロックへ搬送される基板を複数枚載置可能な送りバッファ部と、
前記処理ブロックから前記インデクサブロックへ搬送される基板を複数枚載置可能な戻りバッファ部とを備え、
前記送りバッファ部および前記戻りバッファ部は、上下に重なるように配置され、
前記インデクサブロックは、
前記収容容器が載置される容器載置部と、
前記容器載置部に載置された前記収容容器と前記処理ブロックとの間で互いに並行して基板を搬送する第1および第2の搬送機構とを含み、
前記容器載置部は、前記処理ブロックによる処理前の基板が複数枚収容された収容容器が載置される第1の載置部と、前記処理後の基板を複数枚収容するための収容容器が載置される第2の載置部とを含み、
前記第1の搬送機構は、上下に配置されかつ基板を保持可能に構成された第1および第2の保持部を有し、
前記第1の搬送機構は、前記第1の載置部に載置された前記収容容器から前記第1および第2の保持部を用いて前記処理前の2枚の基板を同時に取り出して当該2枚の基板を前記送りバッファ部に搬送し、
前記第2の搬送機構は、前記戻りバッファ部から前記処理後の基板を取り出して当該基板を前記第2の載置部に載置された前記収容容器に搬送し、
前記インデクサブロックおよび前記処理ブロックは、水平面に平行な第1の方向に並ぶように設けられ、
前記送りバッファ部および前記戻りバッファ部は、平面視において、前記第1の搬送機構と前記第2の搬送機構との間を通りかつ前記第1の方向に延びる第1の直線上に設けられ、
前記第1の搬送機構は、前記第1の直線の一方側に設けられ、前記第1の直線に対して斜交する第2の直線に沿うように前記送りバッファ部に基板を搬送し、
前記第2の搬送機構は、前記第1の直線の他方側に設けられ、前記第1の直線に対して斜交する第3の直線に沿うように前記戻りバッファ部から基板を搬送する、基板処理装置。 - 前記第1および第2の搬送機構は、水平面上で前記第1の方向と交差する第2の方向に並ぶように設けられる、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記第1および第2の搬送機構は、前記送りバッファ部への基板の搬送と前記戻りバッファ部からの基板の取り出しとを互いに同時に行うことが可能に構成される、請求項1または2記載の基板処理装置。
- 前記第1の搬送機構は、前記第1の載置部に載置された前記収容容器から取り出した前記処理前の2枚の基板を前記送りバッファ部に同時に載置する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記処理ブロックは、上下に設けられた上段搬送室および下段搬送室を含み、
前記送りバッファ部は前記上段搬送室に対向する第1の送りバッファ部と、前記下段搬送室に対向する第2の送りバッファ部とを含み、
前記戻りバッファ部は前記上段搬送室に対向する第1の戻りバッファ部と、前記下段搬送室に対向する第2の戻りバッファ部とを含み、
前記第1の搬送機構は、前記処理前の基板を前記第1の載置部に載置された前記収容容器から前記第1および第2の送りバッファ部に交互に搬送する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第2の搬送機構は、上下に配置されかつ基板を保持可能に構成された第3および第4の保持部を有し、
前記第2の搬送機構は、前記戻りバッファ部から前記第3および第4の保持部を用いて前記処理後の2枚の基板を取り出して当該2枚の基板を前記第2の載置部に載置された前記収容容器に同時に搬送する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第2の搬送機構は、前記第3および第4の保持部を用いて前記戻りバッファ部から前記処理後の2枚の基板を同時に取り出す、請求項6記載の基板処理装置。
- 前記処理ブロックは、上下に設けられた上段搬送室および下段搬送室を含み、
前記送りバッファ部は前記上段搬送室に対向する第1の送りバッファ部と、前記下段搬送室に対向する第2の送りバッファ部とを含み、
前記戻りバッファ部は前記上段搬送室に対向する第1の戻りバッファ部と、前記下段の搬送室に対向する第2の戻りバッファ部とを含み、
前記第2の搬送機構は、前記処理後の基板を前記第1および第2の戻りバッファ部から前記第2の載置部に載置された前記収容容器に交互に搬送する、請求項6または7記載の基板処理装置。 - 前記処理ブロックは、前記上段搬送室に配置される第3の搬送機構と、前記下段搬送室に配置される第4の搬送機構とを含み、前記第3および第4の搬送機構は互いに別体である、請求項5または8記載の基板処理装置。
- 前記送りバッファ部および前記戻りバッファ部の各々は、前記第1の搬送機構による基板の載置および前記第2の搬送機構による基板の受け取りが可能に構成される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記第1および第2の載置部は、水平面上で前記第1の方向に交差する第3の方向に並ぶように配置され、
前記第1および第2の搬送機構は前記第3の方向に並ぶように配置される、、請求項1〜10のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記収容容器は、上下に配置されかつ基板が載置される複数の棚を有し、
前記第1の搬送機構は、前記第1の載置部に載置される前記収容容器の前記複数の棚のうち任意の一対の棚にそれぞれ載置される前記処理前の2枚の基板を前記第1および第2の保持部により同時に受け取り、
前記第1の搬送機構が基板を受け取る前記一対の棚は、当該一対の棚の間に他の1以上の棚が位置するように選択される、請求項1〜11のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記収容容器は、上下に配置されかつ基板が載置される複数の棚を有し、
前記第2の搬送機構は、前記第2の載置部に載置される前記収容容器の前記複数の棚のうち任意の一対の棚に前記処理後の2枚の基板を同時に載置し、
前記第2の搬送機構が基板を載置する前記一対の棚は、当該一対の棚の間に他の1以上の棚が位置するように選択される、請求項1〜11のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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