JP5068738B2 - 基板処理装置およびその方法 - Google Patents
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また、基板載置棚の収納棚間の距離が収納容器の収納溝間の距離よりも大きいので、第2の基板搬送装置の基板保持部間の距離を第1の基板搬送装置の基板保持部間の距離よりも大きくすることができる。それにより、第2の基板搬送装置の各基板保持部の剛性を高めるとともに、第2の基板搬送装置の動作速度を増加させることができる。その結果、基板処理装置におけるスループットが向上する。
また、基板載置棚の収納棚間の距離が収納容器の収納溝間の距離よりも大きいので、第2の基板搬送装置の基板保持部間の距離を収納容器の収納溝間の距離よりも大きくすることができる。それにより、第2の基板搬送装置の各基板保持部の剛性を高めるとともに、第2の基板搬送装置の動作速度を増加させることができる。その結果、基板処理装置におけるスループットが向上する。
また、複数の第1の基板保持部により複数の第1の収納棚との間で基板の受け渡しが行われた後に複数の第2の基板保持部により複数の第2の収納棚との間で基板の受け渡しが行われる。したがって、収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の複数の基板を第1の基板搬送装置の2回の受け渡し動作により基板載置棚との間で受け渡すことができる。それにより、収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の複数の基板を第1の基板搬送装置により一括して搬送することができるとともに、第1の基板搬送装置と基板載置棚との間での複数の基板の受け渡し時間を短縮することができる。その結果、容器載置部上の収納容器と基板載置棚との間での複数の基板の搬送時間を十分に短縮することが可能となる。
(1)基板処理装置の構成
図1(a)は本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置の平面図であり、図1(b)は図1(a)の基板処理装置を矢印Xの方向から見た模式的側面図である。また、図2は、図1(a)のA−A線断面を模式的に示す図である。
次に、図1および図2を参照して基板処理装置100の動作の概要について説明する。なお、以下に説明する基板処理装置100の各構成要素の動作は、図1の制御部4により制御される。
図3は図1のキャリアCおよび基板載置部PASS1,PASS2の構造を説明するための縦断面図である。なお、図3は、図1の矢印Xの方向から見た縦断面図である。
続いて、インデクサロボットIRの詳細な構成について説明する。図4はインデクサロボットIRの側面図であり、図5はインデクサロボットIRの平面図である。
次に、メインロボットMRの詳細な構成について説明する。図6(a)は、メインロボットMRの側面図であり、図6(b)はメインロボットMRの平面図である。
次に、インデクサロボットIRの動作の詳細について説明する。
ここで、制御部4による基板処理装置100の制御動作を説明する。図15は制御部4による基板処理装置100の制御動作を示すフローチャートである。
本実施の形態においては、インデクサロボットIRにバッチ式のハンドIRHが設けられているので、インデクサロボットIRにより多数の基板Wを搬送することができる。それにより、キャリアCと基板載置部PASS1,PASS2との間での基板Wの搬送時間が短縮される。その結果、基板処理装置100のスループットを向上させることができる。
上記では、図7〜図14に示したように、上方から2段目の爪部261上に載置されている基板が最も上方の支持板51a,52aに載置されているが、最も上方の爪部261上に載置されている基板が最も上方の支持板51a,52aに載置されてもよい。この場合、上方から1、3、5、7、9および11段目の爪部261上に載置されている基板Wが上方から1、2、3、4、5および6段目の支持板51a,52a上に載置され、上方から2、4、6、8、10および12段目の爪部261上に載置されている基板Wが上方から7、8、9、10、11および12段目の支持板51a,52a上に載置される。
第2の実施の形態に係る基板処理装置は、以下の点で第1の実施の形態に係る基板処理装置100と構成が異なる。
第3の実施の形態に係る基板処理装置は、以下の点で第1の実施の形態に係る基板処理装置100と構成が異なる。
第4の実施の形態に係る基板処理装置は、以下の点で第1の実施の形態に係る基板処理装置100と構成が異なる。
上記においては、支持軸334(図21)を回転軸としてハンド支持部310(図21)を180°回転させることにより基板Wを反転させているが、基板Wの反転方法は上記の例に限定されない。
第5の実施の形態に係る基板処理装置に用いられるインデクサロボットIRのハンドIRHは、以下の構成を有する。図29は、第5の実施の形態に係る基板処理装置に用いられるハンドIRHの構造を説明するための図である。図29に示すハンドIRHが図5のハンドIRHと異なるのは以下の点である。
第6の実施の形態に係る基板処理装置は、以下の点で第1〜第5の実施の形態に係る基板処理装置100と構成が異なる。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
4a メイン制御部
4b インデクサロボット用制御部
4c メインロボット用制御部
10 インデクサブロック
11 処理ブロック
40 キャリア載置台
51a,52a,51P 支持板
100 基板処理装置
210 搬送レール部
211 水平移動機構
220 移動支持柱
221 鉛直移動機構
230 昇降支持部
240 ベース部
241 回転機構
250 回転ステージ
251 水平移動機構
260,300 ハンド要素
261 爪部
500 シリンダ同期機構
510 シリンダ
C キャリア
C2 基板収納溝
IR インデクサロボット
IAM1,IAM2 多関節型アーム
IRH,MRH1,MRH2 ハンド
MR メインロボット
PASS1,PASS2 基板載置部
PN 支持ピン
SS 表面洗浄ユニット
RSS 裏面洗浄ユニット
W 基板
Claims (14)
- 基板に処理を行う基板処理装置であって、
複数の基板が略水平姿勢で収納される収納容器が載置される容器載置部と、
前記容器載置部と対向するように配置され、少なくとも前記収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の基板が略水平姿勢で載置される複数段の収納棚を有する基板載置棚と、
前記基板載置棚を介して搬送される基板に処理を行う処理部と、
複数の基板を一括して保持することができ前記収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の複数の基板保持部を有し、前記容器載置部と前記基板載置棚との間で複数の基板を一括して搬送する第1の基板搬送装置と、
基板を一枚ずつ保持することができる複数の基板保持部を有し、前記基板載置棚と前記処理部との間で基板を搬送する第2の基板搬送装置とを備え、
前記収納容器は等間隔に設けられた複数段の収納溝を有し、前記基板載置棚の前記複数の収納棚は等間隔に設けられ、前記収納棚間の距離は前記収納溝間の距離よりも大きいことを特徴とする基板処理装置。 - 前記第1の基板搬送装置は、
前記基板保持部間の距離を調整する調整機構と、
前記調整機構を制御し、前記基板載置棚と前記複数の基板保持部との間での基板の受け渡しの際に、前記基板保持部間の距離を前記収納棚間の距離に調整する制御部とを含むことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 基板に処理を行う基板処理装置であって、
複数の基板が略水平姿勢で収納される収納容器が載置される容器載置部と、
前記容器載置部と対向するように配置され、少なくとも前記収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の基板が略水平姿勢で載置される複数段の収納棚を有する基板載置棚と、
前記基板載置棚を介して搬送される基板に処理を行う処理部と、
複数の基板を一括して保持することができ前記収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の複数の基板保持部を有し、前記容器載置部と前記基板載置棚との間で複数の基板を一括して搬送する第1の基板搬送装置と、
基板を一枚ずつ保持することができる複数の基板保持部を有し、前記基板載置棚と前記処理部との間で基板を搬送する第2の基板搬送装置とを備え、
前記基板載置棚の前記複数の収納棚は等間隔に設けられ、前記複数の基板保持部は等間隔に設けられ、前記収納棚間の距離は前記基板保持部間の距離の整数倍であることを特徴とする基板処理装置。 - 前記収納棚間の距離は前記基板保持部間の距離の2倍であることを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。
- 基板に処理を行う基板処理装置であって、
複数の基板が略水平姿勢で収納される収納容器が載置される容器載置部と、
前記容器載置部と対向するように配置され、少なくとも前記収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の基板が略水平姿勢で載置される複数段の収納棚を有する基板載置棚と、
前記基板載置棚を介して搬送される基板に処理を行う処理部と、
複数の基板を一括して保持することができ前記収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の複数の基板保持部を有し、前記容器載置部と前記基板載置棚との間で複数の基板を一括して搬送する第1の基板搬送装置と、
基板を一枚ずつ保持することができる複数の基板保持部を有し、前記基板載置棚と前記処理部との間で基板を搬送する第2の基板搬送装置とを備え、
前記複数の基板保持部は、複数の第1および第2の基板保持部を交互に含み、
前記基板収納棚の前記複数段の収納棚は、複数の第1の収納棚と複数の第2の収納棚とを含み、
前記第1の基板搬送装置を制御し、前記基板載置棚と前記複数の基板保持部との間での基板の受け渡しの際に、前記複数の第1の基板保持部により前記複数の第1の収納棚との間で基板の受け渡しが行われた後に前記複数の第2の基板保持部により前記複数の第2の収納棚との間で基板の受け渡しが行われるように前記複数の基板保持部を移動させる制御部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 基板に処理を行う基板処理装置であって、
複数の基板が略水平姿勢で収納される収納容器が載置される容器載置部と、
前記容器載置部と対向するように配置され、少なくとも前記収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の基板が略水平姿勢で載置される複数段の収納棚を有する基板載置棚と、
前記基板載置棚を介して搬送される基板に処理を行う処理部と、
複数の基板を一括して保持することができ前記収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の複数の基板保持部を有し、前記容器載置部と前記基板載置棚との間で複数の基板を一括して搬送する第1の基板搬送装置と、
基板を一枚ずつ保持することができる複数の基板保持部を有し、前記基板載置棚と前記処理部との間で基板を搬送する第2の基板搬送装置とを備え、
前記基板載置棚は、前記収納棚間の距離を調整する調整機構を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記第1の基板搬送装置の前記複数の基板保持部は上下方向に並ぶように設けられ、複数の基板を同時に一括して保持することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板に処理を行う基板処理装置であって、
基板を処理する処理領域と、
前記処理領域に対して基板を搬入および搬出する搬入搬出領域と、
前記処理領域と前記搬入搬出領域との間で基板を受け渡す受け渡し部とを備え、
前記搬入搬出領域は、
複数の基板が略水平姿勢で収納される複数の収納溝を有する収納容器が載置される容器載置部と、
前記容器載置部に載置された収納容器と前記受け渡し部との間で基板を搬送する第1の基板搬送装置とを含み、
前記処理領域は、
基板に処理を行う処理部と、
前記受け渡し部と前記処理部との間で基板を搬送する第2の基板搬送装置とを含み、
前記受け渡し部は、
基板が略水平姿勢で載置される複数段の収納棚を有する基板載置棚を含み、
前記第1の基板搬送装置は、
上下方向に並ぶように設けられ基板を略水平姿勢で保持する複数の基板保持部と、
前記収納容器および前記基板載置棚との間で基板の受け渡しを行うために前記複数の基板保持部を移動させるとともに略水平方向に進退させる駆動機構と、
前記基板保持部間の距離を調整する調整機構と、
前記調整機構を制御し、前記収納容器と前記複数の基板保持部との間での基板の受け渡しの際に、前記基板保持部間の距離を前記収納溝間の距離に調整し、前記基板載置棚と前記複数の基板保持部との間での基板の受け渡しの際に、前記基板保持部間の距離を前記収納棚間の距離に調整する制御部とを備え、
前記収納容器の前記複数段の収納溝は等間隔に設けられ、前記基板載置棚の前記複数段の収納棚は等間隔に設けられ、前記収納棚間の距離は前記収納溝間の距離よりも大きいことを特徴とする基板処理装置。 - 前記駆動機構は、前記複数の基板保持部を同時に移動させることを特徴とする請求項8記載の基板処理装置。
- 前記基板載置棚の前記収納棚間の距離は、前記収納容器の前記収納溝間の距離の整数倍であることを特徴とする請求項9記載の基板処理装置。
- 前記基板載置棚の前記収納棚間の距離は、前記収納容器の前記収納溝間の距離の2倍であることを特徴とする請求項9または10記載の基板処理装置。
- 前記処理部は、基板を洗浄する洗浄処理部を含むことを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記第1の基板搬送装置は、基板を反転させる反転機構を備えることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載の基板処理装置。
- 複数の基板が略水平姿勢で収納される収納容器が載置される容器載置部と、少なくとも前記収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の基板が略水平姿勢で載置される複数段の収納棚を有する基板載置棚とを備える基板処理装置により、基板に処理を行う基板処理方法であって、
前記収納容器に収納可能な基板の最大数と同数の複数の基板保持部を有する第1の基板搬送装置により、前記容器載置部に載置された前記収納容器から前記基板載置棚に複数の基板を一括して搬送するステップと、
基板を一枚ずつ保持することができる複数の基板保持部を有する第2の基板搬送装置により、前記基板載置棚から処理部に基板を順次搬送するステップと、
前記第2の基板搬送装置により搬送された基板に前記処理部により処理を行うステップと、
前記処理部による処理後の基板を前記第2の基板搬送装置により前記基板載置棚に順次搬送するステップと、
前記基板載置棚に搬送された処理後の複数の基板を前記容器載置部に載置された収納容器に前記第1の基板搬送装置により一括して搬送するステップとを備え、
前記複数の基板保持部は、複数の第1および第2の基板保持部を交互に含み、
前記基板収納棚の前記複数段の収納棚は、複数の第1の収納棚と複数の第2の収納棚とを含み、
前記基板載置棚と前記複数の基板保持部との間での基板の受け渡しの際に、前記複数の第1の基板保持部により前記複数の第1の収納棚との間で基板の受け渡しが行われた後に前記複数の第2の基板保持部により前記複数の第2の収納棚との間で基板の受け渡しが行われるように前記複数の基板保持部を移動させることを特徴とする基板処理方法。
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