JP6198520B2 - アルカリ現像装置用洗浄剤組成物、およびアルカリ現像装置の洗浄方法 - Google Patents
アルカリ現像装置用洗浄剤組成物、およびアルカリ現像装置の洗浄方法 Download PDFInfo
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Description
さらに、現像液中には炭酸ナトリウム等の炭酸塩や、現像液の希釈に用いる希釈水中に含まれるミネラル成分(主にカルシウムとマグネシウム)に由来する無機系化合物(以下、「スケール汚れ」という。)が経時的に析出することも知られている。
また特許文献2には、水酸化アルカリおよび芳香族系アルコール等を含む水溶性塗料剥離剤が開示されている。
特許文献2に記載の水溶性塗料剥離剤は、塗装現場で使用される塗装器具などに付着した塗料を除去するためのものであり、アルカリ現像装置用への使用は想定されていない。
[1] アルカリ金属の水酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物よりなる群から選ばれる少なくとも1種(a)と、下記一般式(1)で表される水酸基含有芳香族化合物(b)と、キレート剤(c)とを含む、アルカリ現像装置用洗浄剤組成物。
[3] 前記キレート剤(c)が、アミノカルボン酸塩、ヒドロキシアミノカルボン酸塩、ヒドロキシカルボン酸塩およびエーテルカルボン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも1種である、[1]または[2]に記載のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物。
[4] [1]〜[3]のいずれか一項に記載のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を用いる、アルカリ現像装置の洗浄方法。
「アルカリ現像装置用洗浄剤組成物」
本発明のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物(以下、単に「洗浄剤組成物」という。)は、アルカリ金属の水酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物よりなる群から選ばれる少なくとも1種(a)(以下、「(a)成分」という。)と、以下に説明する水酸基含有芳香族化合物(b)(以下、「(b)成分」という。)と、キレート剤(c)(以下、「(c)成分」という。)とを含む。また、洗浄剤組成物は水を含むことが好ましい。
(a)成分は、アルカリ金属の水酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物よりなる群から選ばれる少なくとも1種(a)である。
(a)成分は、後述する(b)成分の作用により膨潤したスカム汚れを洗浄剤組成物中へ溶解しやすくする効果を有する。
アルカリ土類金属の水酸化物としては、例えば水酸化カルシウムなどが挙げられる。
これらアルカリ金属の水酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物は、それぞれ1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(a)成分としては、水への溶解性やスカム汚れの除去性に優れる点で、アルカリ金属の水酸化物が好ましく、その中でも水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが特に好ましい。
(b)成分は、下記一般式(1)で表される水酸基含有芳香族化合物(b)である。
(b)成分は、スカム汚れを膨潤させる効果を有する。
nは1〜3の整数である。nが1未満または3を超えるとスカム汚れに対する膨潤効果が低下する。
mは1〜3の整数である。mが1未満または3を超えるとスカム汚れに対する膨潤効果が低下する。
Lは0〜3の整数である。Lが3を超えるとスカム汚れに対する膨潤効果が低下する。
なお、Lが1〜3の整数の場合、Aはそれぞれ同じであってもよいし、異なっていてもよい。
これら(b)成分は、それぞれ1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(b)成分としては、スカム汚れの洗浄除去性がより向上する点で、ベンジルアルコール、フェネチルアルコールが好ましい。
(c)成分は、キレート剤(c)である。
(c)成分は、スケール汚れに含まれるマグネシウムやカルシウム成分をスケール汚れから引き離し、スケール汚れ自体の水への溶解性を高める効果を有する。アルカリ現像装置の壁面などに付着しているスケール汚れが水に溶解することで、スカム汚れの剥離も容易となる。さらに、スカム汚れがカルシウムやマグネシウムなどとイオン結合することで難溶化するのを防ぐこともできる。
これら(b)成分は、それぞれ1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
水は、(a)〜(c)成分を洗浄剤組成物中に安定して存在させる効果を有する。加えて、アルカリ現像装置内から除去したスカム汚れおよびスケール汚れの装置内への再付着を防止する効果も有する。
なお、(a)〜(c)成分は水中に完全に溶解していてもよいが、必ずしも完全に溶解している必要はない。
洗浄剤組成物は、本発明の効果を妨げない範囲内であれば、必要に応じてノニオン界面活性剤、両性界面活性剤、アニオン界面活性剤、防錆剤、アルカリ助剤(アルカノールアミン類)、有機溶剤(グリコール類、グリコールエーテル類)などを含むことができる。
洗浄剤組成物は、例えば(a)〜(c)成分と、必要に応じて水や他の成分とを、均一になるまで撹拌混合することで得られる。
濃度の調整については、(a)〜(c)成分の濃度(含有量)の高いもの(濃縮組成物)を予め調製しておき、洗浄するアルカリ現像槽内等で濃縮組成物を所定の濃度になるように水で希釈してもよいし、(a)〜(c)成分をアルカリ現像槽内で所定の濃度に調整してもよい。洗浄剤組成物の輸送や貯蔵を考慮すると、濃縮組成物を予め調製し、アルカリ現像槽内等で濃縮組成物を所定の濃度になるように水で希釈することが好ましい。
濃縮組成物における(a)〜(c)成分の濃度は特に限定されない。また、濃縮組成物中において(a)〜(c)成分は均一に溶解や分散していてもよいが、必ずしも溶解や分散している必要はない。
以上説明した本発明の洗浄剤組成物は、アルカリ現像装置に付着したスカム汚れとスケール汚れを少ない洗浄回数で効率よく除去することができる。また、特許文献1に記載のような2種類の洗浄液を用いる必要がないため、作業工程数や洗浄時間の増大、洗浄後の廃液量の増加を抑制できる。
このように、本発明の洗浄剤組成物は、既存のアルカリ現像装置用の洗浄剤と比較して経済的であり、スカム汚れとスケール汚れを短時間で十分に除去できる性能を有している。そのため、生産ラインに負担をかけることなく保守が可能となり、定期洗浄サイクルの延長が可能となる。また、本発明の洗浄剤組成物を用いれば、スカム汚れとスケール汚れに由来する現像不良、回路欠陥および短絡を防止できるため、生産歩留まりが向上する。
本発明の洗浄剤組成物は、アルカリ洗浄できるものであればいずれの用途にも使用できる。例えば、精密機械の洗浄、半導体基板の洗浄、プリント配線基板等の回路形成時に使用される装置の洗浄に使用できる。特に、アルカリ可溶型感光膜の現像に使用されるアルカリ現像装置、例えば液状レジスト現像装置、ドライフィルム現像装置等の洗浄に好適である。
本発明のアルカリ現像装置の洗浄方法では、上述した本発明の洗浄剤組成物を用いて洗浄対象となるアルカリ現像装置を洗浄する。
洗浄の仕方としては特に制限されないが、例えばアルカリ現像装置内に洗浄剤組成物を循環させたり吹き付けたりする方法、現像槽内のスプレーノズル、配管、壁面などを洗浄剤組成物に浸漬させる方法などが挙げられる。
洗浄剤組成物の温度は10〜80℃が好ましい。
なお、洗浄剤組成物を用いてアルカリ現像装置を洗浄した後に、水洗浄したりブラッシングしたりしてもよい。
<洗浄剤組成物の調製>
表1に示す配合に従い、(a)成分として水酸化カリウムと、(b)成分としてベンジルアルコールと、(c)成分としてエチレンジアミン四酢酸四ナトリウムと、水とを均一になるまで撹拌混合して洗浄剤組成物を調製した。
得られた洗浄剤組成物を用いて、以下のようにして汚れの除去性を評価した。
6ヶ月間、アルカリ現像工程に使用された液状レジスト現像装置内とドライフィルム現像装置内のスカム汚れおよびスケール汚れが付着しているスプレーノズルとギヤ部品、計4種類の部品を試験片として用意した。
4種類の部品を洗浄剤組成物に浸漬させ、40℃で60分撹拌した。各部品を取り出し、水洗浄とブラッシングを行い、各部品に付着しているスカム汚れおよびスケール汚れの除去具合をそれぞれ目視にて確認し、以下の評価基準にて評価した。結果を表1に示す。
◎:4種類全ての部品について、95%以上の汚れが除去できている。
○:4種類全ての部品について、80%以上95%未満の汚れが除去できている。
△:4種類全ての部品について、50%以上80%未満の汚れが除去できている。
×:少なくとも1種類の部品について、50%未満の汚れしか除去できていない。
表1、2に示す配合に変更した以外は、実施例1と同様にして洗浄剤組成物を調製し、汚れの除去性の評価を行った。結果を表1、2に示す。
表2に示す配合に従い、(a)成分として水酸化カリウムと、(b)成分としてベンジルアルコールと、(c)成分としてニトリロ三酢酸三ナトリウムと、水とを均一になるまで撹拌混合して濃縮組成物を調製した。
汚れの除去性の評価を行う際に、得られた濃縮組成物1質量部に対し、水2質量部を加えて濃縮組成物を希釈してから、実施例1と同様にして汚れの除去性の評価を行った。結果を表2に示す。
なお、希釈後の洗浄剤組成物の濃度((a)〜(c)成分の含有量の合計)は、実施例4で調製した洗浄剤組成物と同じである。
表2に示す配合に従い、(a)成分として水酸化カリウムと、(b)成分としてベンジルアルコールと、(c)成分としてニトリロ三酢酸三ナトリウムとを均一になるまで撹拌混合してスラリー状の濃縮組成物を得た。
汚れの除去性の評価を行う際に、得られた濃縮組成物14質量部に対し、水86質量部を加えて濃縮組成物を希釈してから、実施例1と同様にして汚れの除去性の評価を行った。結果を表2に示す。
なお、希釈後の洗浄剤組成物の濃度((a)〜(c)成分の含有量の合計)は、実施例9で調製した洗浄剤組成物と同じである。
表3に示す配合に変更した以外は、実施例1と同様にして洗浄剤組成物を調製し、汚れの除去性の評価を行った。結果を表3に示す。
一方、表3の結果より、(c)成分を含まない比較例1、(b)成分を含まない比較例2、(a)成分を含まない比較例3の場合、スカム汚れに対する除去性が不十分であった。特に比較例1の場合は、スケール汚れに対する除去性にも劣っていた。
Claims (3)
- 前記キレート剤(c)が、アミノカルボン酸塩、ヒドロキシアミノカルボン酸塩、ヒドロキシカルボン酸塩およびエーテルカルボン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項1に記載のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物。
- プリント配線基板の回路形成に使用されるアルカリ現像装置の洗浄方法であって、
請求項1または2に記載のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を用いる、アルカリ現像装置の洗浄方法。
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