JP6189102B2 - 塗布装置および高さ検出方法 - Google Patents
塗布装置および高さ検出方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6189102B2 JP6189102B2 JP2013132506A JP2013132506A JP6189102B2 JP 6189102 B2 JP6189102 B2 JP 6189102B2 JP 2013132506 A JP2013132506 A JP 2013132506A JP 2013132506 A JP2013132506 A JP 2013132506A JP 6189102 B2 JP6189102 B2 JP 6189102B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- height
- substrate
- image
- pixel
- application
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 48
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 44
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 97
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 42
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 31
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 28
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 claims description 20
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 19
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 100
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 59
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 19
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 18
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000012887 quadratic function Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0675—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating using interferometry
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J25/00—Actions or mechanisms not otherwise provided for
- B41J25/304—Bodily-movable mechanisms for print heads or carriages movable towards or from paper surface
- B41J25/308—Bodily-movable mechanisms for print heads or carriages movable towards or from paper surface with print gap adjustment mechanisms
- B41J25/3086—Bodily-movable mechanisms for print heads or carriages movable towards or from paper surface with print gap adjustment mechanisms with print gap adjustment means between the print head and its carriage
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0608—Height gauges
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/0209—Low-coherence interferometers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/005—Repairing damaged coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1306—Details
- G02F1/1309—Repairing; Testing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
[装置構成]
この発明の実施の形態1による欠陥修正装置1は、図1に示すように、観察光学系2、CCDカメラ3、カット用レーザ装置4、インク塗布機構5、およびインク硬化用光源6から構成される修正ヘッド部と、この修正ヘッド部を修正対象の液晶カラーフィルタ基板7に対して垂直方向(Z軸方向)に移動させるZステージ8と、Zステージ8を搭載してX軸方向に移動させるXステージ9と、基板7を搭載してY軸方向に移動させるYステージ10と、装置全体の動作を制御する制御用コンピュータ11と、CCDカメラ3によって撮影された画像などを表示するモニタ12と、制御用コンピュータ11に作業者からの指令を入力するための操作パネル13とを備える。
図4は、液晶カラーフィルタ基板7の表面を示す図である。図4において、液晶カラーフィルタ基板7は、ガラス基板の表面に形成された複数個の絵素PCを含む。縦横に形成されているブラックマトリックス部BMの交差位置に、絵素PCの始まりDSおよび絵素PCの終わりDEが存在する。また、絵素PCの始まりDSをカラーフィルタの位置と称する。制御用コンピュータ11は、このカラーフィルタの位置を特定する。また、同図において四角で囲まれた絵素PCの始まりDSから絵素の終わりDEまでの範囲が絵素PCを構成する。
この工程では、制御用コンピュータ11が欠陥修正装置1を制御し、白欠陥に塗布して硬化させた修正インクからなるインク塗布部の高さを求める。本実施の形態1の高さ検出方法は、対物レンズ16の焦点深度よりも高いインク塗布部の高さの検出に適している。
この工程では、塗布前後の画像に基づいてインク塗布部を抽出し、抽出したインク塗布部と基準部との高さを比較する。たとえば特許文献2(特開2009−237086号公報)に記載されているように、塗布前後の画像の明るさを比較し、比較結果に基づいてインク塗布部を抽出する。インク塗布部の抽出結果をb(x,y)とする。b(x,y)は位置(x,y)の画素がインク塗布部ならば1、それ以外なら0を返す関数である。
図9は、この発明の実施の形態2による欠陥修正装置の要部を示す図であって、図2と対比される図である。図9を参照して、この欠陥修正装置が実施の形態1の欠陥修正装置1と異なる点は、塗布ユニット17が静電インクジェット装置20と置換されている点である。静電インクジェット装置20は、可動板15の下面に固定される。
本実施の形態3の欠陥修正装置では、実施の形態1で説明した高さ検出方法とは異なる高さ検出方法が採用されている。この高さ検出方法では、対物レンズ16の代わりに二光束干渉対物レンズを使用し、焦点位置で干渉縞強度が最大になることを利用し、Zステージ8を基板7に対して相対的に移動させながら干渉縞の画像を撮像し、各画素毎に干渉強度が最大になるZステージ位置を求め、その位置を当該画素の高さとする。この高さ検出方法は、数μm以下の微小な高さの検出に適している。
[実施の形態4]
実施の形態4は、実施の形態3の高さ検出方法の検出精度を高める方法に関するものである。まず、実施の形態3の問題点について説明する。
位相情報は、数式(7)のαやγの影響なしに求めることができる。ここでは説明を分かり易くするため、中心波長λの光について考える。干渉縞波形の位相2π(2s−2h)/λをδとすると、数式(7)はgλ=α(1+γcosδ)となる。ここで、オイラーの公式より、次式(9)が得られる。
ところで、反射光と参照光は再度合流するまでにそれぞれ異なる光路を経由するため、厳密には数式(7)において位相差を考慮する方が好ましい。この理由は、参照鏡32と基板7の表面の反射特性が異なるためである。この位相差をφとすると、次式(13)が得られる。
コントラスト値Miのピークは雑音の影響で位置ずれが生じる可能性がある反面、前述したように位相差φの影響を受けずに対象物の高さを示すことができる。また、位相δは理論的には雑音の影響を最小限に止めることが可能であり、コントラスト値Miのピークと比較して高精度な検出が可能である。そこで、本発明では、コントラスト値Miのピークと位相δの双方を利用してインク塗布部の高さを検出することとした。
位相差φを予め求めておくことは難しいので、初期値としてコントラスト値Miのピークに最寄りの位相δの0点を該当する画素の高さとする。コントラスト値Miのピークを1次高さと呼び、コントラスト値Miのピークに最寄りの位相δの0点を2次高さと呼ぶものとする。
位相飛びが発生する要因はコントラスト値Miのピーク点の左右にある位相δの0点の選択ミスであるから、最終的に、どの画素においても左または右のいずれか一方を統一して選択するように修正すればよい。
1回当たりのインク塗布量はインクの粘度によって異なる。高粘度のインクは表面張力が大きいため、低粘度のインクと比較すると厚膜となる。なお、インクの性質に関しては、予め行なうサンプル試験で事前に明らかとなっている場合が多い。
Claims (13)
- 基板の表面に液状材料を塗布する塗布装置であって、
対物レンズを介して前記基板の表面を観察する観察光学系と、前記観察光学系を介して前記基板の表面の画像を撮像する撮像装置と、前記基板の表面に塗布針を用いて前記液状材料を塗布する塗布機構とを含むヘッド部と、
前記ヘッド部と前記基板とを相対移動させて前記ヘッド部を前記基板の表面の上方の所望の位置に位置決めする位置決め装置と、
前記位置決め装置および前記撮像装置を制御し、前記基板の表面に塗布された前記液状材料からなる塗布部の上方に前記対物レンズを位置決めした後、前記塗布部と前記対物レンズとを上下方向に相対移動させながら画像を撮像し、撮像した画像を構成する複数の画素の各々について焦点位置を求め、求めた焦点位置に基づいて前記塗布部の高さを求める高さ検出部と、
前記高さ検出部によって検出された前記塗布部の高さに基づいて前記塗布部が正常か否かを判定する検査部とを備え、
前記検査部には、塗布針毎に検査条件が登録されている、塗布装置。 - 前記撮像装置は前記塗布部の画像を撮像し、
前記位置決め装置は、前記ヘッド部を搭載して前記基板の表面の垂直方向に移動するZステージを含み、
前記高さ検出部は、各画素の輝度のコントラスト値が最大となるときの前記Zステージの位置を当該画素の焦点位置とする、請求項1に記載の塗布装置。 - 前記対物レンズは二光束干渉対物レンズであり、
前記撮像装置は干渉縞の画像を撮像し、
前記位置決め装置は、前記ヘッド部を搭載して前記基板の表面の垂直方向に移動するZステージを含み、
前記高さ検出部は、各画素の干渉縞強度のコントラスト値が最大となるときの前記Zステージの位置を当該画素の焦点位置とする、請求項1に記載の塗布装置。 - 前記高さ検出部は、撮像した画像を予め定められた周期でサンプリングし、サンプリングした画像の各画素の焦点位置を求める、請求項3に記載の塗布装置。
- 前記予め定められた周期はナイキスト周期を満たす周期である、請求項4に記載の塗布装置。
- 前記高さ検出部は、サンプリングした画像の各画素毎に、干渉縞強度のコントラスト値を計算し、計算値がピークとなる画像のサンプリング位置を1次高さとし、さらに干渉縞強度から位相を求め、前記1次高さに最寄りの0点を対応する画素の2次高さとし、さらに各画素毎に前記1次高さと前記2次高さを比較して位相飛びの発生を検出し、位相飛びが検出された場合は前記2次高さを修正し、位相飛びが修正された3次高さを測定結果とする、請求項4または請求項5に記載の塗布装置。
- 前記高さ検出部は、
前記3次高さを求める際、しきい値を設け、画像上のすべての画素に関し、各画素の前記2次高さから前記1次高さを減算した値と前記しきい値とを比較し、減算結果が前記しきい値を下回っているとき現在の2次高さに対して位相が2πだけ増加したサンプリング位置を修正後の2次高さとし、修正後の2次高さについて、各画素毎に、隣接画素との差分値を計算して画像上のすべての画素の差分値の総和を求める処理を実行し、
前記しきい値を予め定められた修正量ずつ修正しながら前記処理を合計M回繰り返してしきい値毎に差分値の総和を保持し、修正後の2次高さのうちの総和が最小となるしきい値で修正された2次高さを前記3次高さとする、請求項6に記載の塗布装置。 - 前記高さ検出部は、前記液状材料の塗布条件に応じて前記1次高さおよび前記3次高さのうちのいずれかを選択して測定する、請求項6または請求項7に記載の塗布装置。
- 前記検査部は、前記高さ検出部によって検出された前記塗布部の高さから前記基板の表面のうちの前記液状材料が塗布されていない基準部の高さを減算して前記塗布部の相対高さを求め、その相対高さに基づいて前記塗布部が正常か否かを判定する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の塗布装置。
- 前記検査部は、前記塗布部の画像を構成する前記複数の画素の相対高さの合計値、最大値、最小値、平均値、分散値のうちの少なくとも1つに基づいて前記塗布部が正常か否かを判定する、請求項9に記載の塗布装置。
- 前記塗布機構は、前記塗布針の先端部に付着した前記液状材料を前記基板の表面に塗布する、請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の塗布装置。
- 対物レンズを介して基板の表面を観察するための観察光学系と、前記観察光学系を介して前記基板の表面の画像を撮像する撮像装置と、前記基板の表面に塗布針を用いて液状材料を塗布する塗布機構とを含むヘッド部と、前記ヘッド部と前記基板とを相対移動させて前記ヘッド部を前記基板の表面の上方の所望の位置に位置決めする位置決め装置とを備えた塗布装置において、前記基板の表面に塗布された前記液状材料からなる塗布部の高さを検出する高さ検出方法であって、
前記位置決め装置および前記撮像装置を制御し、前記塗布部の上方に前記対物レンズを位置決めした後、前記塗布部と前記対物レンズとを上下方向に相対移動させながら画像を撮像し、
撮像した画像を構成する複数の画素の各々について焦点位置を求め、
求めた焦点位置に基づいて前記塗布部の高さを求め、
塗布針毎に登録された検査条件を用いて、求めた前記塗布部の高さに基づいて前記塗布部が正常か否かを検査する、高さ検出方法。 - 基板の表面に液状材料を塗布する塗布装置であって、
対物レンズを介して前記基板の表面を観察する観察光学系と、前記観察光学系を介して前記基板の表面の画像を撮像する撮像装置と、前記基板の表面に前記液状材料を塗布する塗布機構とを含むヘッド部と、
前記ヘッド部と前記基板とを相対移動させて前記ヘッド部を前記基板の表面の上方の所望の位置に位置決めする位置決め装置と、
前記位置決め装置および前記撮像装置を制御し、前記基板の表面に塗布された前記液状材料からなる塗布部の上方に前記対物レンズを位置決めした後、前記塗布部と前記対物レンズとを上下方向に相対移動させながら画像を撮像し、撮像した画像を構成する複数の画素の各々について焦点位置を求め、求めた焦点位置に基づいて前記塗布部の高さを求める高さ検出部とを備え、
前記対物レンズは二光束干渉対物レンズであり、
前記撮像装置は干渉縞の画像を撮像し、
前記位置決め装置は、前記ヘッド部を搭載して前記基板の表面の垂直方向に移動するZステージを含み、
前記高さ検出部は、各画素の干渉縞強度のコントラスト値が最大となるときの前記Zステージの位置を当該画素の焦点位置とし、
前記高さ検出部は、撮像した画像を予め定められた周期でサンプリングし、サンプリングした画像の各画素の焦点位置を求め、
前記高さ検出部は、サンプリングした画像の各画素毎に、干渉縞強度のコントラスト値を計算し、計算値がピークとなる画像のサンプリング位置を1次高さとし、さらに干渉縞強度から位相を求め、前記1次高さに最寄りの0点を対応する画素の2次高さとし、さらに各画素毎に前記1次高さと前記2次高さを比較して位相飛びの発生を検出し、位相飛びが検出された場合は前記2次高さを修正し、位相飛びが修正された3次高さを測定結果とし、
前記高さ検出部は、
前記3次高さを求める際、しきい値を設け、画像上のすべての画素に関し、各画素の前記2次高さから前記1次高さを減算した値と前記しきい値とを比較し、減算結果が前記しきい値を下回っているとき現在の2次高さに対して位相が2πだけ増加したサンプリング位置を修正後の2次高さとし、修正後の2次高さについて、各画素毎に、隣接画素との差分値を計算して画像上のすべての画素の差分値の総和を求める処理を実行し、
前記しきい値を予め定められた修正量ずつ修正しながら前記処理を合計M回繰り返してしきい値毎に差分値の総和を保持し、修正後の2次高さのうちの総和が最小となるしきい値で修正された2次高さを前記3次高さとする、塗布装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013132506A JP6189102B2 (ja) | 2013-06-25 | 2013-06-25 | 塗布装置および高さ検出方法 |
PCT/JP2014/065711 WO2014208362A1 (ja) | 2013-06-25 | 2014-06-13 | 塗布装置および高さ検出方法 |
CN201480030007.6A CN105247318B (zh) | 2013-06-25 | 2014-06-13 | 涂布装置以及高度检测方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013132506A JP6189102B2 (ja) | 2013-06-25 | 2013-06-25 | 塗布装置および高さ検出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015007564A JP2015007564A (ja) | 2015-01-15 |
JP6189102B2 true JP6189102B2 (ja) | 2017-08-30 |
Family
ID=52141706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013132506A Active JP6189102B2 (ja) | 2013-06-25 | 2013-06-25 | 塗布装置および高さ検出方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6189102B2 (ja) |
CN (1) | CN105247318B (ja) |
WO (1) | WO2014208362A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6389081B2 (ja) * | 2014-08-07 | 2018-09-12 | Ntn株式会社 | 形状測定装置、塗布装置および形状測定方法 |
JP6557014B2 (ja) * | 2015-02-05 | 2019-08-07 | Ntn株式会社 | パターン修正装置およびパターン修正方法 |
WO2016204062A1 (ja) * | 2015-06-18 | 2016-12-22 | Ntn株式会社 | 形状測定装置およびそれを搭載した塗布装置 |
JP6665028B2 (ja) * | 2015-06-18 | 2020-03-13 | Ntn株式会社 | 形状測定装置およびそれを搭載した塗布装置 |
WO2017082245A1 (ja) * | 2015-11-12 | 2017-05-18 | Ntn株式会社 | 高さ検出装置およびそれを搭載した塗布装置 |
JP6749814B2 (ja) * | 2015-11-12 | 2020-09-02 | Ntn株式会社 | 高さ検出装置およびそれを搭載した塗布装置 |
WO2017122633A1 (ja) * | 2016-01-13 | 2017-07-20 | Ntn株式会社 | 微小突起の体積測定方法および液状材料の塗布方法 |
JP6737693B2 (ja) | 2016-01-13 | 2020-08-12 | Ntn株式会社 | 微小突起の体積測定方法および液状材料の塗布方法 |
JP6680552B2 (ja) * | 2016-02-08 | 2020-04-15 | Ntn株式会社 | 形状測定装置および被塗布対象物の製造方法 |
JP6333323B2 (ja) * | 2016-08-29 | 2018-05-30 | Ntn株式会社 | 塗布装置および塗布方法 |
JP6883436B2 (ja) * | 2017-01-31 | 2021-06-09 | アルファーデザイン株式会社 | 塗布装置、塗布方法、プログラム |
JP6822864B2 (ja) * | 2017-01-31 | 2021-01-27 | アルファーデザイン株式会社 | 情報処理装置、情報処理方法、プログラム、 |
CN106918954A (zh) * | 2017-05-10 | 2017-07-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种配向膜制备方法、显示基板及显示面板 |
CN107367850B (zh) | 2017-05-31 | 2020-08-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 检测装置、检测方法和液晶滴注设备、液晶滴注方法 |
JP6461260B1 (ja) * | 2017-08-02 | 2019-01-30 | Ntn株式会社 | 塗布機構及び塗布装置 |
CN108871206B (zh) * | 2018-08-23 | 2021-06-22 | 业成科技(成都)有限公司 | 表面测量方法以及表面量测装置 |
JP6799046B2 (ja) * | 2018-11-15 | 2020-12-09 | Ntn株式会社 | 塗布方法および塗布装置 |
CN109884811A (zh) * | 2019-03-21 | 2019-06-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板缺陷高度检测方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2928548B2 (ja) * | 1989-08-02 | 1999-08-03 | 株式会社日立製作所 | 立体形状検出方法及びその装置 |
JP3670627B2 (ja) * | 2002-06-12 | 2005-07-13 | タカノ株式会社 | 微小形状部の寸法測定方法及び装置 |
JP2006084297A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Sharp Corp | 面形状計測方法、プログラム、記録媒体および面形状計測装置 |
JP4424165B2 (ja) * | 2004-11-15 | 2010-03-03 | 株式会社日立プラントテクノロジー | 液滴塗布装置 |
JP2007033217A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Keyence Corp | 干渉計測装置及び干渉計測方法 |
CN201050978Y (zh) * | 2007-06-15 | 2008-04-23 | 西安普瑞光学仪器有限公司 | 白光干涉测量样品表面形状精细分布的装置 |
JP5099688B2 (ja) * | 2007-11-13 | 2012-12-19 | Ntn株式会社 | 液状材料塗布装置およびそれを用いた欠陥修正装置 |
JP2009178627A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成方法、カラーフィルタの製造方法 |
JP2010112865A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Ryoka Systems Inc | 白色干渉計測装置及び方法 |
CN101435698B (zh) * | 2008-12-17 | 2010-08-25 | 天津大学 | 透明封装介质下微器件的表面形貌测量***与方法 |
JP5607392B2 (ja) * | 2010-03-12 | 2014-10-15 | 株式会社ミツトヨ | 光干渉測定装置 |
-
2013
- 2013-06-25 JP JP2013132506A patent/JP6189102B2/ja active Active
-
2014
- 2014-06-13 CN CN201480030007.6A patent/CN105247318B/zh active Active
- 2014-06-13 WO PCT/JP2014/065711 patent/WO2014208362A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015007564A (ja) | 2015-01-15 |
CN105247318B (zh) | 2018-10-12 |
CN105247318A (zh) | 2016-01-13 |
WO2014208362A1 (ja) | 2014-12-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6189102B2 (ja) | 塗布装置および高さ検出方法 | |
US10026162B2 (en) | Method and device for sealant coating inspection | |
JP6522344B2 (ja) | 高さ検出装置、塗布装置および高さ検出方法 | |
KR101849962B1 (ko) | 오버레이 계측 방법, 장치, 및 표시 장치 | |
EP3415864B1 (en) | Shape measuring apparatus and method of manufacturing target object to be coated | |
JP2005189069A (ja) | 表面形状測定方法及び表面形状測定装置 | |
JP2016038284A (ja) | 形状測定装置、塗布装置および形状測定方法 | |
JP2006136836A (ja) | 液滴塗布装置 | |
US11181362B2 (en) | Method of measuring volume of micro projection and method of applying liquid material | |
CN107709923B (zh) | 形状测定装置及搭载有形状测定装置的涂布装置 | |
US20110157458A1 (en) | Method and apparatus for focusing | |
JP2019219357A (ja) | 撮影装置、撮影方法および撮影プログラム | |
JP6792369B2 (ja) | 回路基板の検査方法及び検査装置 | |
JP2016102713A (ja) | 形状等測定装置 | |
JP6333351B1 (ja) | 測定装置、塗布装置、および膜厚測定方法 | |
WO2016125521A1 (ja) | パターン修正装置およびパターン修正方法 | |
JP2012233782A (ja) | 形状認識方法、形状認識装置及び実装基板生産装置 | |
WO2017122633A1 (ja) | 微小突起の体積測定方法および液状材料の塗布方法 | |
KR102664402B1 (ko) | 표시장치에 포함된 광학요소에 의한 노이즈를 보정하기 위한 보정패턴 획득장치와 이를 이용한 노이즈 보정패턴 획득방법 | |
JP2006153509A (ja) | 表面形状測定装置、表面形状測定方法、表面形状測定プログラム及び記録媒体 | |
EP3376156B1 (en) | Height detection apparatus and coating apparatus equipped with the same | |
JP2006084297A (ja) | 面形状計測方法、プログラム、記録媒体および面形状計測装置 | |
JP2018054373A (ja) | 検査装置、検査方法、検査プログラムおよび対象物の製造方法 | |
JP2011163805A (ja) | 光源設定値調整方法、検査方法および検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160906 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20161027 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170516 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170621 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170711 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170802 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6189102 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |