JP6120627B2 - 切削装置 - Google Patents

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本発明は、被加工物を切削する切削装置に関する。
例えば半導体ウェーハ、セラミック板、樹脂基板等の板状物を多数のチップに分割する場合には、板状物である被加工物に対し切削ブレードを切り込ませて切断する切削装置が用いられている。この種の切削装置としては、複数の被加工物を収容したカセットから被加工物を1枚ずつ取り出して、切削、洗浄を順次行い、洗浄後の被加工物をカセットに戻す工程を自動制御で行う切削装置が知られている(特許文献1)。
特開2008−016673号公報
上記特許文献1に記載される切削装置では、被加工物を保持する保持手段を、搬入・搬出領域と切削領域との間で移動可能に配設し、これら領域間で保持手段を切削送りしながら、保持手段で保持した被加工物に対し切削加工を施している。切削後の被加工物は搬入・搬出領域に位置付けられた保持手段から洗浄手段に搬送されて洗浄されるが、切削時間に比べて洗浄時間が長い場合には、切削された被加工物は保持手段で保持された状態で搬入・搬出領域において待機する。
ここで、切削後の被加工物には切削で発生した切削屑を含む切削液が付着しているが、搬入・搬出領域で洗浄のために待機している時間が長くなると、被加工物の表面が乾燥することになる。被加工物の被加工物が乾燥すると切削屑が固着してしまい、一度固着した切削屑は、後に被加工物を洗浄しても容易に除去することができなくなるという問題を招く。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、搬入・搬出領域において被加工物に切削屑が固着してしまうおそれを防止し得る切削装置を提供することにある。
本発明の切削装置は、被加工物を保持する保持面を有した保持手段と、該保持手段で保持された被加工物を切削する切削ブレードと該切削ブレードが着脱自在に装着され該切削ブレードを回転させるスピンドルとを有した切削手段と、前記保持手段で保持された被加工物を前記切削手段で切削する切削領域と該保持手段に被加工物を搬入または該保持手段から被加工物を搬出する搬入・搬出領域との間で該保持手段を切削送りさせる切削送り手段と、を備えた切削装置であって、前記搬入・搬出領域において前記保持手段で保持される被加工物の上面より上方に配設され被加工物に対面した噴出孔と、該噴出孔に連通して乾燥防止液体供給源に接続される液体路と、を有し、該搬入・搬出領域で待機している切削された被加工物に対して乾燥防止液体を供給する乾燥防止液体供給手段を備え、前記搬入・搬出領域において前記保持手段の前記保持面を覆うカバー位置と退避位置とにそれぞれ位置付け可能なカバー手段を備え、前記乾燥防止液体供給手段の前記噴出孔は、該カバー手段の下面側に形成されていることを特徴とする。
本発明によれば、保持手段が搬入・搬出領域に位置付けられた状態で、被加工物の上面に、乾燥防止液体供給手段の噴出孔から乾燥防止液体を供給することができ、これによって、切削後、搬入・搬出領域に位置付けられた保持手段で保持された被加工物の乾燥が防止され、被加工物に切削屑が固着してしまうおそれを防止することができる。
また、本発明では、カバー手段をカバー位置に位置付けて、切削後の被加工物を保持した保持手段が搬入・搬出領域に位置付けられた状態で、カバー手段をカバー位置に位置付け、カバー手段の下面側の乾燥防止液体供給手段の噴出孔から乾燥防止液体を供給することができ、被加工物の乾燥防止、ならびに被加工物に切削屑が固着を防止することができる。また、この形態では、カバー手段をカバー位置に位置付けておくことで、保持手段で保持した被加工物を保護することができるといった利点がある。例えば、保持手段で被加工物を保持したままの状態で切削ブレードの交換が必要となった場合、交換作業中に工具や部品等を被加工物上で落下させてしまってもカバー手段上に落下し、また、工具や部品等が直接被加工物に接触することがなく、カバー手段で被加工物が保護される。
本発明によれば、搬入・搬出領域において被加工物に切削屑が固着してしまうおそれを防止し得る切削装置が提供されるといった効果を奏する。
本発明の一実施形態に係るウェーハ(被加工物)が粘着テープを介してフレームに支持された状態を示す斜視図である。 本発明の一実施形態に係る切削装置の斜視図である。 同切削装置の平面図である。 一実施形態に係る乾燥防止液体供給手段の断面図である。 本発明の他の実施形態の乾燥防止液体供給手段を備えた切削装置の斜視図であって、カバー手段が退避位置にある状態を示している。 他の実施形態に係る乾燥防止液体供給手段の断面図である。 他の実施形態の乾燥防止液体供給手段を備えた切削装置の斜視図であって、カバー手段が退避位置にある状態を示している。
以下、図面を参照して本発明の一実施形態を説明する。
[1]ウェーハ
図1の符号1は、一実施形態に係る円板状のウェーハ(被加工物)である。ウェーハ1は、例えば厚さが数百μm程度の半導体ウェーハ等であり、その表面1aには、多数の矩形状のデバイス2が配設されている。デバイス2は、格子状の分割予定ラインによって表面1aに区画された多数の矩形状領域にICやLSI等からなる電子回路を形成することで設けられる。
図1に示すように、ウェーハ1は、表面1a側を露出した状態に粘着テープ8に貼着され、粘着テープ8には、ウェーハ1を囲繞するフレーム9が同心状に貼着される。このようにウェーハ1は粘着テープ8を介してフレーム9に支持されたウェーハユニット7の状態で、図2および図3に示す一実施形態に係る切削装置10に搬入される。
フレーム9はステンレス等の剛性を有する金属板等からなるもので、粘着テープ8にウェーハ1と同心状に貼着され、ウェーハ1はフレーム9を把持することでハンドリングされる。ウェーハ1は切削装置10により分割予定ラインに対し切削加工が施され、分割予定ラインに沿って各デバイス2に個片化するダイシングがなされる。
[2]切削装置
次に、図2および図3によって切削装置10の構成ならびに切削加工のための基本動作を説明する。図2および図3でX・Yは水平で互いに直交する方向を示し、Zは鉛直方向を示している。
切削装置10は基台11を有しており、この基台11のX方向手前側(X1側)であってY1側には、カセット載置台12がZ方向に昇降可能に配設されている。カセット載置台12上には、複数のウェーハユニット7が積層して収容されるカセット13が着脱可能に載置される。カセット13内の互いに対向する内壁面には一対の棚131が上下方向に配列されており、これら各棚131にフレーム9が差し込まれてウェーハユニット7はカセット13内に水平な状態に収容される。
カセット13は、棚131の前後方向が開口し、その開口をX方向に向けてカセット載置台12上にセットされる。カセット載置台12が昇降して、1枚のウェーハユニット7が所定の出し入れ高さ位置に位置付けられ、その位置で、該ウェーハユニット7が出し入れ手段14(図3では図示略)によってX2側に引き出され、仮置き領域15において左右方向(Y方向)に一対の状態で配設されたセンタリングガイド16上に仮置きされる。
出し入れ手段14は、基台11上にX方向に移動可能に支持されたアーム141の先端にカセット13側に向いたクランプ142が取り付けられたもので、クランプ142がカセット13内のフレーム9を把持し、アーム141がX2方向に移動してウェーハユニット7は仮置き領域15のX方向所定位置まで引き出され、クランプ142の把持が解除されてウェーハユニット7はセンタリングガイド16上に載置される。
センタリングガイド16は、断面L字状のX方向に延びる板状部材が左右対称の状態で配設され、互いに近接したり離間したりするように作動する。ウェーハユニット7は、フレーム9が左右のセンタリングガイド16に載置され、センタリングガイド16が近接方向に動いてフレーム9が挟み込まれることで、仮置き領域15で搬送開始位置に位置付けられる。
仮置き領域15の下方には、切削後のウェーハ1を洗浄するスピンナ洗浄装置17が配設されている。スピンナ洗浄装置17は、基台11内に設けられた円筒状のチャンバ171の中でスピンナテーブル172に保持したウェーハ1を洗浄水で洗浄した後、乾燥処理するもので、スピンナテーブル172はZ方向に昇降可能に設けられ、チャンバ171内には、洗浄水供給ノズルおよび乾燥エア供給ノズルが配設されている。
センタリングガイド16で搬送開始位置に位置決めされたウェーハユニット7は、搬送手段18(図3では図示略)によってY2方向に搬送され、搬入・搬出領域19において真空吸着式の保持手段20でウェーハ1が保持される。搬送手段18は、Y方向に移動可能、かつ、上下動可能に支持されたアーム181の下端に真空吸着式の円板状のパッド182が取り付けられたもので、左右のセンタリングガイド16上のウェーハ1をパッド182が吸着し、アーム181の移動によってウェーハユニット7は保持手段20に搬送され、載置される。
保持手段20は、円板状に形成されウェーハ1を水平状態で吸引保持する保持面201を有している。保持手段20の周囲には、複数のフレームクランプ21が保持手段20に固定されて配設されている。保持面201はウェーハ1と同等の大きさを有しており、ウェーハ1は保持面201に同心状に載置されて吸引保持される。また、フレーム9はフレームクランプ21に把持され、固定される。
保持手段20は移動台22上に回転可能に支持されており、保持手段20は、移動台22を介して、搬入・搬出領域19と、搬入・搬出領域19のX2側の切削領域23との間を移動可能に配設されている。移動台22のX方向両側の移動スペースは、基台11内への切削屑等の異物の落下を防ぐために移動台22の移動に応じて伸縮する蛇腹状のカバー24で覆われている。
切削領域23には、切削ブレード253を有する左右一対の切削手段25が配設されている。切削手段25は、円筒状のスピンドルハウジング251内にY方向に延びるスピンドル252が収容され、スピンドル252の先端に切削ブレード253が固定されたもので、スピンドルハウジング251内にスピンドル252を回転させるモータが内蔵されている。一対の切削手段25は、X方向位置が同一で固定状態とされて切削ブレード253が互いに対向し、Y方向に移動可能、かつ、上下動可能に支持されており、切削ブレード253は互いに近接したり離間したりする。
スピンドル252を回転させて切削ブレード253を回転させ、切削ブレード253をウェーハ1に対する切り込み深さの高さに設定した状態で、移動台22により保持手段20で保持されたウェーハ1を搬入・搬出領域19から切削領域23に移動させ、さらに両領域19,23間を往復させるといった切削送りを行うことで、ウェーハ1に切削ブレード253を切り込ませて切削加工がなされる。切削手段25は、切削ブレード253およびウェーハ1に切削液を供給する切削液供給手段を有し、切削時には該切削液供給手段から切削ブレード253およびウェーハ1に切削液が供給される。
この場合、ウェーハ1の分割予定ラインに沿って切削ブレード253を切り込ませ、ウェーハ1をデバイス2に分割するダイシングを切削手段25で行う。したがって、保持手段20を回転させて分割予定ラインを切削送り方向であるX方向と平行に設定し、また、切削手段25をY方向に移動させることで、切削加工する分割予定ラインの割り出しを行う。
切削加工を実施するにあたっては、まずウェーハ1を切削領域23に移動させ、切削手段25に固定された顕微鏡を備えた撮像手段26でウェーハ1の表面1aを撮像し、撮像した画像から切削すべき分割予定ラインを検出する。そしてその検出結果に基づいて、切削手段25および保持手段20を作動させて、全ての分割予定ラインに対し切削加工を施す。
ダイシングのための切削加工は、分割予定ラインを貫通するフルカットや、所定深さの溝を形成する溝加工などが挙げられる。また、一対の切削手段25によって2本の分割予定ラインに対し同種の切削加工を同時に行うことができる。また、一対の切削手段25の切削ブレード253の厚さを変えて、1本の分割予定ラインに対し、一方の切削手段25ではじめは溝加工し、次に他方の切削手段25でフルカットするなどの切削加工も可能である。フルカットの場合はこの段階でウェーハ1はデバイス2を有する多数のチップに分割され、溝加工の場合には、この次の工程でウェーハ1に外力が付与されて、溝、すなわち分割予定ラインに沿ってウェーハ1は多数のチップに分割される。
ウェーハ1に対する切削加工が終了したら、ウェーハ1は搬入・搬出領域19に戻されるとともに、保持手段20によるウェーハ1の吸引保持およびフレームクランプ21によるフレーム9の把持が解除される。そして、搬送手段18のパッド182が、切削加工済みのウェーハ1を吸着し、ウェーハユニット7をスピンナ洗浄装置17に搬送し、チャンバ171内の待機位置に上昇しているスピンナテーブル172上にウェーハ1を載置する。スピンナ洗浄装置17では、スピンナテーブル172が下降して回転し、スピンナテーブル172とともに回転するウェーハ1に対しチャンバ171内でウェーハ1の洗浄、乾燥が行われる。
ウェーハ1が乾燥後、チャンバ171内の上記待機位置までスピンナテーブル172が上昇し、搬送手段18のパッド182がウェーハ1を吸着してセンタリングガイド16上に持ち上げる。次いで、センタリングガイド16が内側に移動し、スピンナテーブル172が下降することで、ウェーハユニット7のフレーム9がセンタリングガイド16で受けられる。この後、ウェーハユニット7のX2側に待機していた出し入れ手段14がX1側に動き、クランプ142によってセンタリングガイド16上のウェーハユニット7のフレーム9がX1側に押され、ウェーハユニット7はカセット13内に収容される。
ここまでが1枚のウェーハ1に対する切削加工の処理サイクルであり、このサイクルがカセット13内に収容されている複数のウェーハ1に対し連続的に行われる。この場合、スピンナ洗浄装置17でウェーハ1を洗浄している間に、カセット13から次のウェーハユニット7が出し入れ手段14で取り出され、センタリングガイド16上から搬送手段18によって搬入・搬出領域19の保持手段20にセットされ、ウェーハ1に対する切削加工が行われる。したがって切削装置10には、切削加工されるウェーハ1と、洗浄されるウェーハ1とが同時に存在することになる。
切削加工された最後のウェーハ1がカセット13内に収容されたら、そのカセット13はカセット載置台12から搬出されて次の工程に移され、カセット載置台12には、切削加工をすべきウェーハが収容された新たなカセット13が載置され、引き続き上記サイクルでそれらウェーハに切削加工が施される。
[3]乾燥防止液体供給手段
以上は切削装置10の基本動作であり、本実施形態の切削装置10は、搬入・搬出領域19においてウェーハ1の表面に乾燥防止液体を供給する本発明に係る乾燥防止液体供給手段を備えている。
図3に示すように一実施形態の乾燥防止液体供給手段30は、搬入・搬出領域19に配設されたX方向に延びる左右一対の板状の液体供給ノズル31を有している。各液体供給ノズル31は、X1側の端部が、アーム32を介してY方向に移動可能に配設されており、互いに近付いて搬入・搬出領域19に位置付けられた保持手段20で保持されるウェーハ1の上面よりも上方の供給位置(実線)と、保持手段20の両側に広がって保持手段20に対し搬送手段18によってウェーハユニット7を搬入・搬出することができる退避位置(二点鎖線)との間を移動する。
図4に示すように、液体供給ノズル31内には長手方向(X方向)に延びる液体路311が形成されており、液体供給ノズル31の下面には、液体路311に連通する複数の噴出孔312が、長手方向に間隔をおいて形成されている。液体供給ノズル31には液体路311に乾燥防止液体を導入する導入管33が接続されており、この導入管33は乾燥防止液体供給源34に連通されている。すなわち、乾燥防止液体供給源34は導入管33、液体路311を介して噴出孔312に連通している。導入管33の途中には電磁開閉弁35が介在して設けられており、電磁開閉弁35が開くと、乾燥防止液体供給源34の液体が導入管33、液体路311を経て噴出孔312から下方に向けて噴出するようになされている。乾燥防止液体としては、純水などが好適に用いられる。
一実施形態においては、切削加工を終えて搬入・搬出領域19にウェーハ1が戻されると、一対の液体供給ノズル31を供給位置に位置付け、電磁開閉弁35を開く。これにより、各液体供給ノズル31の噴出孔312から乾燥防止液体が下方に噴出され、ウェーハ1の上面に乾燥防止液体が供給されて乾燥することが防止される。ウェーハ1が搬入・搬出領域19に位置付けられているときには液体供給ノズル31からウェーハ1に乾燥防止液体を供給し、ウェーハ1がスピンナ洗浄装置17に搬送される際には、各液体供給ノズル31を退避位置に位置付けるとともに、液体供給ノズル31からの乾燥防止液体の噴出を停止し、搬送手段18によりウェーハ1をスピンナ洗浄装置17に移す。
したがって一実施形態では、ウェーハ1切削後、搬入・搬出領域19に位置付けられた保持手段20で保持されたウェーハ1の乾燥を防止することができる。ウェーハ1の切削に要する時間よりもスピンナ洗浄装置17による洗浄時間の方が長い場合、搬入・搬出領域19からスピンナ洗浄装置17へウェーハ1をすぐに搬送することができず、ウェーハ1は保持手段20で保持された状態で搬入・搬出領域19において待機することになる。ウェーハ1上には切削時に供給された切削液が付着しているが、待機時間が長いと乾燥し、切削屑が表面1aに固着して除去することが難しくなることは前述した通りである。
ところが本実施形態では搬入・搬出領域19に位置付けられた切削後のウェーハ1に乾燥防止液体を供給することができるため、例え搬入・搬出領域19での待機時間が長くても、待機時間の間に乾燥防止液体をウェーハ1に供給することでウェーハ1の乾燥を防ぐことができ、結果として乾燥による表面1aへの切削屑の固着を防止することができる。
[4]乾燥防止液体供給手段の他の実施形態
図5および図7は、カバー手段46を有する他の実施形態の乾燥防止液体供給手段40を備えた切削装置10を示している。図5および図7では、上記一実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付してある。
カバー手段46は略矩形状のもので、平坦な天板部461の縁に、下方に延びる側縁部462が形成されている。側縁部462の一辺部分が基台11にヒンジ42を介して結合されており、カバー手段46はヒンジ42を支点に回動可能に支持されている。カバー手段46は例えばエアシリンダ等からなる回動機構によって回動し、かつ、手動によっても回動可能とされている。
カバー手段46は、図5に示す状態が退避位置に位置付けられて開いた状態であり、カバー手段46が退避位置からC方向に回動させられると、図6および図7に示すように閉じられ、搬入・搬出領域19に位置付けられた保持手段20の保持面201を覆うカバー位置に位置付けられる。
カバー手段46の天板部461は、カバー位置では水平となる。その天板部461の内面中央には、円板状のシャワーヘッド部41が形成されている。シャワーヘッド部41はカバー位置において保持手段20の保持面201に対向する位置に形成されている。図6に示すように、シャワーヘッド部41内には液体路411が形成されており、シャワーヘッド部41の下面には、液体路411に連通する複数の噴出孔412が全面に形成されている。
シャワーヘッド部41には、乾燥防止液体供給源44に連通され、途中に電磁開閉弁45が設けられた導入管43が接続されている。シャワーヘッド部41においては、乾燥防止液体供給源44から導入管43を経て純水等の乾燥防止液体が液体路411に導入され、噴出孔412から乾燥防止液体が下方に向けて噴出するようになされている。
この実施形態の乾燥防止液体供給手段40によれば、切削加工を終えて搬入・搬出領域19にウェーハ1が戻されると、カバー手段46を閉じてカバー位置に位置付け、電磁開閉弁45を開くことにより、シャワーヘッド部41の噴出孔412から乾燥防止液体がウェーハ1の上面に供給され、乾燥が防止される。そしてスピンナ洗浄装置17にウェーハ1を搬送する際には、カバー手段46を開けて退避位置に位置付けるとともに、シャワーヘッド部41からの乾燥防止液体の噴出を停止し、搬送手段18によりウェーハ1をスピンナ洗浄装置17に移す。
このようにカバー手段46をカバー位置に位置付け、シャワーヘッド部41の噴出孔412から乾燥防止液体をウェーハ1に供給することで、ウェーハ1の切削後、搬入・搬出領域19に位置付けられた保持手段20で保持されたウェーハ1の乾燥を防止することができ、乾燥によるウェーハ1の表面1aへの切削屑の固着を防止することができる。
また、カバー手段46をカバー位置に位置付けておくことで、保持手段20で保持したウェーハ1を保護することができるといった利点がある。例えば、ウェーハ1を切削中に切削ブレード253が破損した場合には切削ブレード253を新品に交換するが、切削加工がフルカットの場合、途中まで切削されたウェーハ1を保持手段20から取り外してしまうとフルカットによって形成されたチップやバー(フルカットされた隣接する平行な分割予定ライン間の細長いデバイス2の集合片)が動いてしまい、切削ブレード253の交換後に切削を再開しようとしても加工精度が狂ってしまうという問題がある。
そこで、ウェーハ1を保持手段20に保持したままの状態で切削ブレード253の交換を行う必要があり、その際に、工具や部品等をウェーハ1に落下させてしまったりウェーハ1に接触させてしまうおそれがある。しかし切削ブレード253の交換時にカバー手段46を閉じて保持手段20上のウェーハ1をカバー手段46で覆った状態としておくことで、ウェーハ1に直接工具等が落下したり接触したりすることがなく、ウェーハ1が保護される。このように通常の工程以外にカバー手段46を閉じるときには、カバー手段46を手動で回動させればよい。
1…ウェーハ(被加工物)
10…切削装置
19…搬入・搬出領域
20…保持手段
201…保持面
22…移動台(切削送り手段)
23…切削領域
25…切削手段
252…スピンドル
253…切削ブレード
30,40…乾燥防止液体供給手段
311,411…液体路
312,412…噴出孔
34,44…乾燥防止液体供給源
46…カバー手段

Claims (1)

  1. 被加工物を保持する保持面を有した保持手段と、該保持手段で保持された被加工物を切削する切削ブレードと該切削ブレードが着脱自在に装着され該切削ブレードを回転させるスピンドルとを有した切削手段と、
    前記保持手段で保持された被加工物を前記切削手段で切削する切削領域と該保持手段に被加工物を搬入または該保持手段から被加工物を搬出する搬入・搬出領域との間で該保持手段を切削送りさせる切削送り手段と、を備えた切削装置であって、
    前記搬入・搬出領域において前記保持手段で保持される被加工物の上面より上方に配設され被加工物に対面した噴出孔と、該噴出孔に連通して乾燥防止液体供給源に接続される液体路と、を有し、該搬入・搬出領域で待機している切削された被加工物に対して乾燥防止液体を供給する乾燥防止液体供給手段を備え、
    前記搬入・搬出領域において前記保持手段の前記保持面を覆うカバー位置と退避位置とにそれぞれ位置付け可能なカバー手段を備え、
    前記乾燥防止液体供給手段の前記噴出孔は、該カバー手段の下面側に形成されていることを特徴とする切削装置。
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