JP6070910B1 - 弾性波装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
封止樹脂の上面と端子電極との平行度が良好であり、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良が生じ難い、弾性波装置を提供する。弾性波装置1は、対向し合っている第1の主面13a及び第2の主面13bを有する圧電基板13と、圧電基板13の第2の主面13bに設けられているIDT電極14と、平面視において、IDT電極14を囲むように、圧電基板13の第2の主面13b上に設けられている支持部材15と、支持部材15上に設けられており、支持部材15と圧電基板13と共にIDT電極14を封止しているカバー部材16と、を有する弾性波素子2と、弾性波素子2が実装されている実装基板3と、実装基板3の上面7a側に設けられており、弾性波素子2を封止している封止樹脂7とを備える。封止樹脂7の実装基板3の上面に接している面から、実装基板3とは反対側の面までの距離である厚みよりも実装基板3の厚みは薄い。
Description
本発明は、WLP(Wafer Level Package)構造を有する弾性波素子が実装基板に実装されている弾性波装置に関する。
従来、WLP構造を有する弾性波素子が実装基板に実装されている弾性波装置が、携帯電話機などに広く用いられている。
下記の特許文献1に記載の弾性波装置では、実装基板上の弾性波素子が、封止樹脂により封止されている。
実装基板は、理想的には、平坦な形状であることが望ましい。しかしながら、実際には、様々な理由により実装基板の厚みが不均一であることが多い。特許文献1における実装基板のように、内部配線が設けられている部分と設けられていない部分とを有する場合も、実装基板の厚みが不均一になることがあった。さらに、近年では、弾性波装置のより一層の小型化が求められている。そのため、実装基板の厚みは、より薄くされている。よって、実装基板が反り易くなっている。
このような実装基板に弾性波素子を搭載した後に樹脂モールドした場合、封止樹脂の上面と実装基板の下面及び端子電極との平行度が損なわれることがあった。よって、検査工程において、検査用の電極と端子電極との間で接触不良が生じることがあった。
本発明の目的は、封止樹脂の上面と端子電極との平行度が良好であり、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良が生じ難い、弾性波装置を提供することにある。
本発明に係る弾性波装置は、第1の主面及び該第1の主面に対向している第2の主面を有する圧電基板と、前記圧電基板の前記第2の主面上に設けられているIDT電極と、前記圧電基板の前記第2の主面側からの平面視において、前記IDT電極を囲むように、前記圧電基板の前記第2の主面上に設けられている支持部材と、前記支持部材上に設けられており、前記支持部材と前記圧電基板と共に前記IDT電極を封止しているカバー部材とを有する弾性波素子と、上面と下面とを有し、前記下面に設けられている端子電極を有し、前記上面に前記弾性波素子が実装されている実装基板と、前記実装基板の前記上面側に設けられており、前記弾性波素子を封止している封止樹脂とを備え、前記封止樹脂の前記実装基板の前記上面に接している面から、前記実装基板とは反対側の面までの距離である厚みよりも前記実装基板の厚みが薄い。
本発明の弾性波装置のある特定の局面では、前記カバー部材が、前記圧電基板側に湾曲している。この場合には、封止樹脂の上面と端子電極との平行度がより一層良好であり、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良がより一層生じ難い。
本発明の弾性波装置の他の特定の局面では、前記カバー部材が、前記実装基板よりも大きく湾曲している。この場合には、封止樹脂の上面と端子電極との平行度がより一層良好であり、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良がより一層生じ難い。
本発明の弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記封止樹脂の体積が、前記実装基板の体積以上である。この場合には、封止樹脂の上面と端子電極との平行度がより一層良好であり、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良がより一層生じ難い。
本発明の弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記圧電基板の前記第1の主面側からの平面視における前記封止樹脂の面積をA1、前記弾性波素子の面積をA2、前記実装基板の面積をA3とし、前記封止樹脂の前記実装基板の前記上面に接している面から、前記実装基板とは反対側の面までの距離である厚みをT1、前記弾性波素子の厚みをT2、前記実装基板の厚みをT3とすると、下記の式(1)
式(1)
A1×T1−A2×T2≧A3×T3
を満たす。この場合には、封止樹脂の上面と端子電極との平行度がより一層良好であり、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良がより一層生じ難い。
式(1)
A1×T1−A2×T2≧A3×T3
を満たす。この場合には、封止樹脂の上面と端子電極との平行度がより一層良好であり、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良がより一層生じ難い。
本発明の弾性波装置の別の特定の局面では、前記弾性波装置の厚みが1mm以下であり、前記実装基板の厚みが0.5mm以下であり、かつ前記弾性波装置の厚みに対する前記実装基板の厚みの占有率が45%以下である。この場合には、封止樹脂の上面と端子電極との平行度をより確実に良好にすることができ、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良がより一層生じ難い。
本発明の弾性波装置のさらに別の特定の局面では、前記実装基板の厚みが0.2mm以下である。この場合には、封止樹脂の上面と端子電極との平行度をより確実に良好にすることができ、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良がより一層生じ難い。
本発明の弾性波装置のさらに別の特定の局面では、前記実装基板上に、バンプにより前記弾性波素子が接合されている。この場合には、弾性波素子を実装基板上に好適に実装することができる。
本発明の弾性波装置の製造方法は、第1の主面及び該第1の主面に対向している第2の主面を有する圧電基板と、前記圧電基板の前記第2の主面上に設けられているIDT電極と、前記圧電基板の前記第2の主面側からの平面視において、前記IDT電極を囲むように、前記圧電基板の前記第2の主面上に設けられている支持部材と、前記支持部材上に設けられており、前記支持部材と前記圧電基板と共に前記IDT電極を封止しているカバー部材と、をそれぞれ有する複数の弾性波素子と、上面と下面とを有し、前記下面に設けられている端子電極を有するマザーの実装基板と、を用意する工程と、前記複数の弾性波素子を、前記カバー部材と前記マザーの実装基板の前記上面とが隙間を介して対向するように、前記マザーの実装基板の前記上面に実装する工程と、前記複数の弾性波素子が前記マザーの実装基板の前記上面に実装された前記マザーの実装基板を、第1の金型と第2の金型により形成された内部空間内に配置する工程と、前記弾性波素子が封止されるように、前記マザーの実装基板の前記上面上に、前記カバー部材が前記圧電基板側に湾曲するまで前記内部空間内に流動性を有する封止樹脂を加圧して供給する工程と、前記封止樹脂を硬化する工程と、前記マザーの実装基板及び前記封止樹脂を分割し、個片化する工程とを備える。この場合には、封止樹脂の上面と端子電極との平行度がより一層良好であり、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良がより一層生じ難い。
本発明の弾性波装置の製造方法のある特定の局面では、前記カバー部材が前記圧電基板側に湾曲するまで前記封止樹脂を加圧するとき、前記マザーの実装基板が前記内部空間の内壁面によって平坦化されることを特徴とする。この場合には、封止樹脂の上面と端子電極との平行度がより一層良好であり、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良がより一層生じ難い。
本発明によれば、封止樹脂の上面と端子電極との平行度が良好であり、実装基板上の端子電極と検査用の電極との接触不良が生じ難い、弾性波装置及びその製造方法を提供することができる。
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
なお、本明細書に記載の各実施形態は、例示的なものであり、異なる実施形態間において、構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることを指摘しておく。
図1は、第1の実施形態に係る弾性波装置の正面断面図である。
弾性波装置1は、実装基板3を有する。実装基板3は、対向し合っている上面3aと、下面3bとを有する。実装基板3の材料は特に限定されないが、例えば、適宜のセラミックスからなっていてもよい。あるいは、ガラスエポキシ樹脂を含む樹脂などからなっていてもよい。
実装基板3の上面3aには、電極ランド4a,4bが設けられている。下面3bには、外部と電気的に接続される端子電極5a,5bが設けられている。図示されていないが、電極ランド4a,4bと端子電極5a,5bと、実装基板3とは電気的に接続されている。
実装基板3の上面3aには、弾性波素子2が実装されている。より具体的には、バンプ6a,6bにより、弾性波素子2が電極ランド4a,4bに接合されている。バンプ6a,6bは、半田などの金属からなる。
弾性波素子2は、圧電基板13を有する。圧電基板13は、対向し合っている第1の主面13a及び第2の主面13bを有する。圧電基板13は、例えば、圧電単結晶や圧電セラミックスなどからなる。なお、弾性波素子2は、圧電基板13の第2の主面13b側から実装基板3上に実装されている。
圧電基板13の第2の主面13bには、IDT電極14が設けられている。IDT電極14に交流電圧を印加することにより、弾性波が励振される。さらに、第2の主面13bには、第2の主面13b側からの平面視において、IDT電極14を囲むように支持部材15が設けられている。支持部材15上には、カバー部材16が設けられている。圧電基板13、支持部材15及びカバー部材16により、IDT電極14が封止されている。カバー部材16は、その中央部が圧電基板13側に湾曲している。
支持部材15及びカバー部材16を貫通するように、アンダーバンプメタル層17a,17bが設けられている。アンダーバンプメタル層17a,17bは、第1の端部17a1,17b1及び第2の端部17a2,17b2をそれぞれ有する。第1の端部17a1,17b1は、圧電基板13上にそれぞれ至っている。第2の端部17a2,17b2は、バンプ6a,6bにそれぞれ接続されている。図示されていないが、アンダーバンプメタル層17a,17bとIDT電極14とは電気的に接続されている。よって、弾性波素子2では、バンプ6a,6b、電極ランド4a,4b、実装基板3の内部電極及び端子電極5a,5bを介して、外部に電気的に接続される。
実装基板3の上面3aには、封止樹脂7が設けられている。封止樹脂7は、弾性波素子2を封止している。封止樹脂7は、上面7a及び実装基板3側の面である下面7bを有する。実装基板3の厚みは、封止樹脂7の厚みよりも薄い。ここで封止樹脂の厚みとは、実装基板の上面に接している面から、実装基板とは反対側の面までの距離である。
本実施形態の特徴は、実装基板3の厚みが封止樹脂7の厚みよりも薄いことにある。それによって、封止樹脂7の上面7aと端子電極5a,5bとの平行度を良好にすることができ、実装基板3上の端子電極5a,5bと検査用の電極との接触不良が生じ難い。これを、本実施形態の製造方法と共に、以下において説明する。
図2(a)〜図2(c)は、第1の実施形態に係る弾性波装置の製造方法を説明するための正面断面図である。
図2(a)に示すように、複数の弾性波素子2Aを用意する。各弾性波素子2Aは、各カバー部材16Aが湾曲していない以外の点では、弾性波素子2と同様の構成を有する。さらに、上面3Aa及び下面3Abを有するマザーの実装基板3Aを用意する。マザーの実装基板3Aの上面3Aa上には、複数の電極ランド4a,4bが設けられている。マザーの実装基板3Aの下面3Ab上には、複数の端子電極5a,5bが設けられている。マザーの実装基板3Aとしては、後述する封止樹脂の厚みよりも薄い厚みとなるような基板を用いる。
マザーの実装基板3Aは、上面3Aa側に凸状になるように湾曲している。マザーの実装基板3Aは、理想的には湾曲していないことが望ましいが、実際には湾曲していることが多い。マザーの実装基板3Aの厚みが薄い場合、より湾曲し易い。
次に、マザーの実装基板3Aの上面3Aa上に複数の弾性波素子2Aを実装する。マザーの実装基板3Aの上面3Aaと、各弾性波素子2Aのカバー部材16Aとが隙間を介して対向するように、各弾性波素子2Aを実装する。このとき、マザーの実装基板3Aの各電極ランド4a,4b上に、各弾性波素子2Aをバンプ6a,6bにより接合する。それによって、各弾性波素子2Aとマザーの実装基板3Aとを電気的に接続する。
次に、図2(b)に示すように、封止樹脂7Aを、各弾性波素子2Aを覆うようにマザーの実装基板3Aの上面3Aa側に設けることにより、各弾性波素子2Aを封止する。該封止に際しては、金型Xを用いる。金型Xは、第1,第2の金型X1,X2を有する。第1の金型X1は、内壁面X1aを有する。第2の金型X2は、内壁面X2aを有する。金型Xを型締めすると、内壁面X1aと内壁面X2aとが対向し合うように、第1の金型X1が第2の金型X2上に配置される。それによって、金型Xに内部空間が形成されている。このとき、第1の金型X1の内壁面X1aと第2の金型X2の内壁面X2aとは、互いに平行に延びている。
各弾性波素子2Aの封止に際しては、マザーの実装基板3A及び各弾性波素子2Aを、マザーの実装基板3Aの下面3Ab側から第2の金型X2の内壁面X2a上に配置する。このとき、マザーの実装基板3Aの下面3Abまたは複数の端子電極5a,5bの少なくとも一部は、第2の金型X2の内壁面X2aに接している。次に、金型Xを型締めする。次に、金型Xの内部空間に封止樹脂7Aを充填する。該充填に際し、封止樹脂7Aの流動性は高くないため、封止樹脂7Aを加圧する。必要に応じ、封止樹脂7Aの流動性を高めるために、封止樹脂7Aを加熱してもよい。
第1の実施形態の弾性波装置の製造方法においては、各弾性波素子のカバー部材が圧電基板側に湾曲するまで加圧して、封止樹脂7Aを金型Xの内部空間に供給する。上述のように、封止樹脂7Aの厚みは、マザーの実装基板3Aの厚みよりも厚い。そのため、封止樹脂7Aに圧力を効果的に加えることができる。このように加圧することにより、マザーの実装基板3Aを下面3Ab側に押圧する。それによって、マザーの実装基板3Aを、下面3Ab側の第2の金型X2の内壁面X2aに沿う形状とすることができ、湾曲した形状を平坦化することができる。さらに、端子電極5a,5bが第2の金型X2に接するようにマザーの実装基板3Aを押圧するため、端子電極5a,5bを第2の金型X2に沿う配置とすることができる。封止樹脂7Aの上面7Aaは、第1の金型X1に沿う形状となるため、上面7Aaを平坦な形状とすることができる。なお、このとき、湾曲したカバー部材16を有する弾性波素子2が構成されている。
図2(b)に示されている形態では、マザーの実装基板3Aを平坦な形状とすることができており、この形態が最も望ましい。なお、マザーの実装基板3Aを必ずしも平坦な形状にはしなくともよく、マザーの実装基板3Aが湾曲していてもよい。
なお、図2(b)に示したカバー部材16Aを必ずしも湾曲させなくともよい。もっとも、カバー部材16Aが湾曲するまで封止樹脂7Aを加圧することにより、マザーの実装基板3Aを、より確実に平坦化することができる。
次に、封止樹脂7Aを硬化する。次に、図2(c)に示すように、ダイシング工程などによりマザーの実装基板3A及び封止樹脂7Aを分割する。これにより、複数の弾性波装置1を得ることができる。弾性波装置1の実装基板3の下面3bは、上記の加圧により、平坦な形状とされている。実装基板3の下面3b及び封止樹脂7の上面7aは、図2(b)に示した平行に延びる第1の金型X1の内壁面X1a及び第2の金型X2の内壁面X2aに沿う形状となっている。よって、実装基板3の下面3bと封止樹脂7の上面7aとの平行度を良好にすることができている。
封止樹脂の充填に際し、封止樹脂の加圧が不充分な弾性波装置を得た場合、実装基板が金型の内壁面にならわずに大きく湾曲する問題が発生していた。そのため、実装基板の下面と封止樹脂の上面との平行度は損なわれていた。よって、実装基板の下面上の端子電極と封止樹脂の上面との平行度も損なわれていた。
ところで、図1に示す弾性波装置1を選別するための検査に際し、実装基板3の下面3bの端子電極5a,5bを用いる。端子電極5a,5bに検査用の電極を接触させることにより、検査を行う。このとき、端子電極の表面と封止樹脂の上面との平行度が損なわれている場合、端子電極と検査用の電極との接触不良が生じ易かった。より具体的には、端子電極が、封止樹脂の上面を含む平面から大きく傾いていた。そのため、端子電極と検査用の電極との接触面積を大きくすることが困難であった。さらに、複数の端子電極同士の、弾性波装置の厚み方向の位置がずれることが多かった。そのため、複数の端子電極を同時に検査用の電極と接触させるに際し、接触不良が生じることが多かった。よって、再検査が行われることも多かった。
これに対して、本実施形態では、実装基板3の下面3bと封止樹脂7の上面7aとの平行度は良好である。さらに、端子電極5a,5bと封止樹脂7の上面7aとの平行度は良好である。従って、端子電極5a,5bと検査用の電極との接触不良が生じ難い。再検査の必要も生じ難いため、生産性を高めることもできる。
なお、実装基板は、湾曲していないことが最も望ましいが、湾曲していてもよい。この場合、カバー部材よりも実装基板の方が小さく湾曲していることが好ましい。カバー部材及び実装基板の湾曲の度合いは、カバー部材及び実装基板の湾曲部分の曲率により求められる。
カバー部材の湾曲部分の曲率及び実装基板の湾曲部分の曲率を測定するに際しては、弾性波装置を複数箇所において厚み方向に切断する。次に、複数の切断部分の断面に露出している各カバー部材の湾曲部分の曲率及び各実装基板の湾曲部分の曲率をそれぞれ測定する。測定された曲率の内、最大の曲率を湾曲の度合いとして、湾曲の度合いを対比すればよい。
カバー部材よりも実装基板の方が小さく湾曲している場合、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。以下において、この例を示す。
図3に示す第1の変形例の弾性波装置31では、実装基板33は、弾性波素子2側に湾曲している。カバー部材16よりも実装基板33の方が小さく湾曲している。
図4に示す第2の変形例の弾性波装置41では、実装基板43は、弾性波素子2とは反対側に湾曲している。カバー部材16よりも実装基板43の方が小さく湾曲している。
図1に戻り、弾性波装置1における封止樹脂7の体積は、実装基板3の体積以上であることが好ましい。ここで、弾性波素子2の圧電基板13の第1の主面13a側からの平面視における封止樹脂7の面積をA1、弾性波素子2の面積をA2、実装基板3の面積をA3とする。封止樹脂7の厚みをT1、弾性波素子2の厚みをT2、実装基板3の厚みをT3とする。このとき、下記の式(1)を満たすことが好ましい。
式(1)A1×T1−A2×T2≧A3×T3
図2(b)で示した樹脂モールディングの工程に際し、個片化後の封止樹脂7及び実装基板3が式(1)の関係となるように封止樹脂7によって弾性波素子2を封止することが好ましい。それによって、図2(b)に示した工程において、封止樹脂7Aを効果的に加圧することができ、マザーの実装基板3Aをより確実に平坦化させることができる。よって、個片化後の弾性波装置1において、実装基板3の下面3b及び端子電極5a,5bと封止樹脂7の上面7aとの平行度は良好である。なお、弾性波素子2のカバー部材が湾曲しており、あるいは実装基板が厚み方向にテーパー形状を有しており、厚みの値に分布を持つ場合、厚みの分布の中央値をT2やT3の厚みとして用いることができる。
本実施形態の弾性波装置1の厚みは、特に限定されないが、1mm以下である。この場合、実装基板3の厚みは、0.5mm以下であり、かつ弾性波装置1の厚みに対する実装基板3の厚みの占有率が45%以下であることが好ましい。このとき、図2(b)で示したマザーの実装基板3Aの厚みも薄い。よって、マザーの実装基板3Aを変形させ易く、マザーの実装基板3Aの形状を第2の金型X2に沿う形状とすることが容易となる。より好ましくは、実装基板3の厚みは0.4mm以下であることが望ましく、さらに好ましくは、実装基板3の厚みは0.3mm以下であることが望ましい。最も好ましくは、実装基板3の厚みは0.2mm以下であることが望ましい。一般的に弾性波装置1の実装基板として使用されていない厚み0.2mm以下の実装基板3を用いた場合、比較的高い柔軟性を有する実装基板3が得られる。このような実装基板3を用いれば、実装基板3の柔軟性が端子電極の変位を阻害しないよう作用する。従って、実装基板3の下面に設けた複数の端子電極が平坦な配置に修正されるとき、複数の端子電極の平坦性が高められる効果が特に大きい。
実装基板3の厚みが薄いほど、実装基板3の下面3bと封止樹脂7の上面7aとの平行度をより確実に良好にすることができる。さらに、端子電極5a,5bと封止樹脂7の上面7aとの平行度もより確実に良好にすることができる。よって、端子電極5a,5bと検査用の電極との接触不良がより一層生じ難い。さらに弾性波装置を小型にすることもできる。弾性波装置1の強度の観点から、実装基板3の厚みが0.1mm以上であることが望ましい。
一方、弾性波装置1をモジュール装置の基板に実装する場合、弾性波装置1の上面を吸引により保持して所定の位置に配置する工程が広く用いられている。吸引の際に、弾性波素子へ作用する応力により、弾性波素子が損傷する場合があった。これに対して、弾性波素子の上面を覆う封止樹脂の厚みの、弾性波素子の下面と実装基板3との間にある封止樹脂の厚みに対する比率を1以上に設定することが好ましい。それによって、弾性波装置1の封止部分の高さを維持したままで、吸引の際に、弾性波素子へ作用する応力を低減することができる。
なお、本実施形態では、端子電極5a,5bと検査用の電極との平行度が良好であるため、端子電極5a,5bと検査用の電極との接触面積を容易に大きくすることができる。従って、弾性波装置を小型にしても、端子電極5a,5bと検査用の電極との接触不良は生じ難い。
ここで、実装基板は、理想的には厚みが均一であることが望ましいが、実際には、厚みが均一でないことが多い。例えば、実装基板が内部配線を有する場合、内部配線が設けられている部分と内部配線が設けられていない部分とを有する。それによって、実装基板の厚みが不均一になることがある。
図5に、実装基板23の厚みが不均一である比較例を示す。弾性波装置51では、封止樹脂7の上面7aと実装基板23の上面23aとの平行度は良好である。しかしながら、封止樹脂7の上面7aと実装基板23の下面23bとの平行度は損なわれている。封止樹脂7の上面7aと端子電極5a,5bとの平行度も損なわれている。よって、端子電極5a,5bと検査用の電極との接触不良が生じ易かった。
これに対して、以下に示す第2の実施形態に係る弾性波装置では、実装基板の厚みが不均一であっても、第1の実施形態の弾性波装置1と同様の効果を得ることができる。
図6は、本発明の第2の実施形態に係る弾性波装置の正面断面図である。
弾性波装置21では、実装基板23の厚みは不均一である。弾性波素子2は、封止樹脂27の上面27aに対して傾いている。上記の点以外においては、弾性波装置21は、第1の実施形態の弾性波装置1と同様の構成を有する。
実装基板23は、対向し合っている第1,第2の端面23c,23dを有する。実装基板23においては、第1の端面23cにおける厚みよりも第2の端面23dにおける厚みの方が薄い。この場合においても、第1の実施形態と同様に、実装基板23の下面23bと封止樹脂27の上面27aとの平行度は良好である。端子電極5a,5bと封止樹脂27の上面27aとの平行度も良好である。
弾性波装置21を得るに際しても、第1の実施形態の弾性波装置1の製造方法と同様の方法により得ることができる。より具体的には、図2(b)に示したように、カバー部材が湾曲するまで封止樹脂を加圧して充填する。それによって、マザーの実装基板を、第2の主面側の金型に沿う配置にすることができる。さらに、端子電極5a,5bも、金型に沿う配置とすることができる。これにより、実装基板23の下面23b及び端子電極5a,5bと封止樹脂27の上面27aとの平行度が良好な弾性波装置21を得ることができる。
1…弾性波装置
2,2A…弾性波素子
3…実装基板
3A…マザーの実装基板
3a,3Aa…上面
3b,3Ab…下面
4a,4b…電極ランド
5a,5b…端子電極
6a,6b…バンプ
7,7A…封止樹脂
7a,7Aa…上面
7b…下面
13…圧電基板
13a,13b…第1,第2の主面
14…IDT電極
15…支持部材
16,16A…カバー部材
17a,17b…アンダーバンプメタル層
17a1,17b1…第1の端部
17a2,17b2…第2の端部
21…弾性波装置
23…実装基板
23a…上面
23b…下面
23c,23d…第1,第2の端面
27…封止樹脂
27a…上面
31…弾性波装置
33…実装基板
41…弾性波装置
43…実装基板
51…弾性波装置
X…金型
X1,X2…第1,第2の金型
X1a,X2a…内壁面
2,2A…弾性波素子
3…実装基板
3A…マザーの実装基板
3a,3Aa…上面
3b,3Ab…下面
4a,4b…電極ランド
5a,5b…端子電極
6a,6b…バンプ
7,7A…封止樹脂
7a,7Aa…上面
7b…下面
13…圧電基板
13a,13b…第1,第2の主面
14…IDT電極
15…支持部材
16,16A…カバー部材
17a,17b…アンダーバンプメタル層
17a1,17b1…第1の端部
17a2,17b2…第2の端部
21…弾性波装置
23…実装基板
23a…上面
23b…下面
23c,23d…第1,第2の端面
27…封止樹脂
27a…上面
31…弾性波装置
33…実装基板
41…弾性波装置
43…実装基板
51…弾性波装置
X…金型
X1,X2…第1,第2の金型
X1a,X2a…内壁面
Claims (8)
- 第1の主面及び該第1の主面に対向している第2の主面を有する圧電基板と、前記圧電基板の前記第2の主面上に設けられているIDT電極と、前記圧電基板の前記第2の主面側からの平面視において、前記IDT電極を囲むように、前記圧電基板の前記第2の主面上に設けられている支持部材と、前記支持部材上に設けられており、前記支持部材と前記圧電基板と共に前記IDT電極を封止しているカバー部材と、を有する弾性波素子と、
上面と下面とを有し、前記下面に設けられている端子電極を有し、前記上面に前記弾性波素子が実装されている実装基板と、
前記実装基板の前記上面側に設けられており、前記弾性波素子を封止している封止樹脂と、
を備え、
前記封止樹脂の前記実装基板の前記上面に接している面から、前記実装基板とは反対側の面までの距離である厚みよりも前記実装基板の厚みが薄く、
前記カバー部材が、前記圧電基板側に前記実装基板よりも大きく湾曲している、弾性波装置。 - 前記封止樹脂の体積が、前記実装基板の体積以上である、請求項1に記載の弾性波装置。
- 前記圧電基板の前記第1の主面側からの平面視における前記封止樹脂の面積をA1、前記弾性波素子の面積をA2、前記実装基板の面積をA3とし、前記封止樹脂の前記実装基板の前記上面に接している面から、前記実装基板とは反対側の面までの距離である厚みをT1、前記弾性波素子の厚みをT2、前記実装基板の厚みをT3とすると、下記の式(1)
式(1)
A1×T1−A2×T2≧A3×T3
を満たす、請求項1または2に記載の弾性波装置。 - 前記弾性波装置の厚みが1mm以下であり、前記実装基板の厚みが0.5mm以下であり、かつ前記弾性波装置の厚みに対する前記実装基板の厚みの占有率が45%以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記実装基板の厚みが0.2mm以下である、請求項4に記載の弾性波装置。
- 前記実装基板上に、バンプにより前記弾性波素子が接合されている、請求項1〜5のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 第1の主面及び該第1の主面に対向している第2の主面を有する圧電基板と、前記圧電基板の前記第2の主面上に設けられているIDT電極と、前記圧電基板の前記第2の主面側からの平面視において、前記IDT電極を囲むように、前記圧電基板の前記第2の主面上に設けられている支持部材と、前記支持部材上に設けられており、前記支持部材と前記圧電基板と共に前記IDT電極を封止しているカバー部材と、をそれぞれ有する複数の弾性波素子と、上面と下面とを有し、前記下面に設けられている端子電極を有するマザーの実装基板と、を用意する工程と、
前記複数の弾性波素子を、前記カバー部材と前記マザーの実装基板の前記上面とが隙間を介して対向するように、前記マザーの実装基板の前記上面に実装する工程と、
前記複数の弾性波素子が前記マザーの実装基板の前記上面に実装された前記マザーの実装基板を、第1の金型と第2の金型とにより形成された内部空間内に配置する工程と、
前記弾性波素子が封止されるように、前記マザーの実装基板の前記上面上に、前記カバー部材が前記圧電基板側に湾曲するまで前記内部空間内に流動性を有する封止樹脂を加圧して供給する工程と、
前記封止樹脂を硬化する工程と、
前記マザーの実装基板及び前記封止樹脂を分割し、個片化する工程と、
を備える、弾性波装置の製造方法。 - 前記カバー部材が前記圧電基板側に湾曲するまで前記封止樹脂を加圧するとき、前記マザーの実装基板が前記内部空間の内壁面によって平坦化される、請求項7に記載の弾性波装置の製造方法。
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