JP6059934B2 - 試料搬送装置のティーチング方法 - Google Patents
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Description
本発明の目的は、ティーチングを短時間に効率よく行なうことのできる搬送ロボットのティーチング方法を提供することにある。
〔ステップ1〕
ウエハが載置されるステージにおけるウエハの載置される基準の位置である中心位置とウエハの中心とを高い精度で合わせ配置することが可能な治具を用いて、ウエハをステージ上に載置する。なお、ステージは、真空処理室3または真空搬送中間室111或いはロック室105の内部に配置されたウエハを載置あるいは保持可能な試料台である。
〔ステップ2〕
真空搬送ロボット108は制御装置の指令を受け、その何れかの搬送用のアームをステップ1でウエハを載置したステージに対して伸ばしてその先端部のハンド上にウエハを受け取る。なお、ウエハをその上に載せるハンドにも、そのウエハを載せられた基準の状態として想定される位置が予め設定されており、ハンドの特定の位置に対してウエハの中心が特定の相対位置となる基準の状態において、ウエハはハンド上でその周縁端はハンド上の突起との間に許容される隙間を有して保持される。具体的には、基準となる状態でウエハの中心と合致するようにハンドの特定の位置がハンドの中心位置として設定されている。
〔ステップ3〕
ウエハを受け取った後、真空搬送ロボット108は制御装置の指令を受け搬送用のアームを収縮してこのアームの根元の回転軸に接近した最もアームを収縮させた位置までハンドを移動させる。この収縮させた状態におけるハンドの中心位置は、予め当該アームの伸縮、回転の動作を制御装置が調節する際の基準となる位置であって、原点位置として予め定められて制御装置の記憶装置内に記憶されている。
〔ステップ4〕
制御装置によりずれ量が算出されたた後、真空搬送ロボット108は制御装置の指令を受けて再度ティーチング対象のアームを伸ばして、保持しているウエハを元のステージの元の位置に戻す。さらに、真空搬送ロボット108は、ウエハを元の位置に戻した後アームを縮め上記原点の位置まで収縮する。
〔ステップ5〕
次に、真空搬送ロボット108の搬送動作を制御する図示しない制御装置は、ステップ3にて求めたウエハのずれ量に基づいて、ウエハの受け取り位置のデータの修正を行い、制御装置の記憶装置にその修正したデータを記憶させる。このデータを用いて、真空搬送ロボット108のアームの収縮動作が調節されることで、対象のアームを伸ばした状態でのハンドのウエハ保持の基準位置と搬送目標であるステージ上で載置されるべきウエハの中心の位置とが高い精度で合わせられる。
〔ステップ6〕
ステップ5で記憶されたデータに基づいて、制御装置の指令を受け真空搬送ロボット108が対象のアームを先のステージに向けて伸ばして当該ステージ上に保持されたウエハを受け取る。
〔ステップ7〕
真空搬送ロボット108は制御装置の指令を受け、ウエハを受け取った後アームを収縮してアームの原点位置までハンドを移動させる。このアームの収縮動作の際に第一の真空搬送室内に配置されたセンサ121のON/OFFの出力から制御装置において検出されたウエハの座標値を用いて、再度ハンドの中心とウエハの中心とのずれ量が算出される。制御装置は、このずれ量が予め作業者等が定めたずれ量の許容範囲内か範囲外であるかを判定する。
〔ステップ8〕
ステップ7で求められたずれ量が予め定められた許容範囲内である場合、真空搬送ロボット108は制御装置の指令を受けて次のステップに進む。一方で、当該ずれ量が予め定められた許容範囲外であった、許容値を超えていると判定された場合には、制御装置は真空搬送ロボット108にステップ4に戻り再度ステップ4からステップ8の動作を実行するように指令する。
〔ステップ9〕
真空搬送ロボット108は制御装置の指令を受けアームを伸ばし、保持しているウエハを元の位置に戻す。
102…真空側ブロック
103…真空処理室
104…第一の真空搬送室
105…ロック室
106…筐体
107…カセット台
108…第一の真空搬送ロボット
109…大気搬送ロボット
110…第二の真空搬送室
111…真空搬送中間室
120…ゲートバルブ
121…センサ。
Claims (5)
- 大気圧の内部を試料が搬送される大気搬送室と、この大気搬送室の後方にロック室を介して連結されその内部に試料搬送装置を有してこの内部を試料が搬送される第一の搬送室と、この第一の搬送室の後方に中間室を介して連結された第二の搬送室と、前記第一及び第二の搬送室に連結され前記試料がその内部に配置された処理室内に搬送されて処理される複数の処理容器とを備えた真空処理装置の前記試料搬送装置のティーチング方法であって、
中心が前記処理室または中間室またはロック室内に配置されたステージの中心に合致する位置に配置された前記試料に対して前記試料搬送装置の搬送アームをその動作の調節の基準となる所定の位置から伸ばし当該アーム上に前記配置された試料を受け取る工程と、前記受け取った試料を保持して前記搬送アームを縮めて搬送し前記第一の搬送室の内側に配置された複数のセンサで前記保持された試料が搬送される際の当該試料の通過タイミングを検出してこの試料の中心位置及び前記搬送アーム上での基準の位置からのずれ量を求める工程と、前記試料を前記ステージの元の位置に戻す工程と、前記搬送アームを縮めて前記所定の位置に戻す工程と、前記試料の中心のずれ量に基づき前記試料の受け取り位置データの修正を行なう工程とを含む前記試料搬送装置の位置を設定する工程を備え、
前記試料中心のずれ量が許容範囲内であるかを判定し当該ずれ量が許容範囲内にないと判定された場合には、前記位置を設定する工程を再度実行する試料搬送装置のティーチング方法。
- 大気圧の内部を試料が搬送される大気搬送室と、この大気搬送室の後方にロック室を介して連結されその内部に試料搬送装置を有してこの内部を試料が搬送される第一の搬送室と、この第一の搬送室の後方に中間室を介して連結された第二の搬送室と、前記第一及び第二の搬送室に連結され前記試料がその内部に配置された処理室内に搬送されて処理される複数の処理容器とを備えた真空処理装置の前記試料搬送装置のティーチング方法であって、
(a)前記試料をその中心が前記処理室または中間室またはロック室内に配置されたステージの中心に合致する位置に配置する工程と、
(b)前記試料搬送装置の搬送アームをその動作の調節の基準となる所定の位置から伸ばしこのアーム上に前記配置された試料を受け取る工程と、
(c)前記受け取った試料を保持して前記搬送アームを縮めて搬送し前記第一の搬送室内に配置された複数のセンサで前記保持された試料が搬送される際の当該試料の通過タイミングを検出してこの試料の中心位置及び前記搬送アーム上での基準の位置からのずれ量を求める工程と、
(d)前記搬送装置により前記試料を前記ステージの元の位置に戻す工程と、
(e)前記搬送アームを縮めて前記所定の位置に戻す工程と、
(f)前記工程(c)において求められた前記試料の中心のズレ量に基づいて前記搬送装置の前記試料の受け取り位置を修正する工程と、
(g)前記搬送装置の搬送アームを伸ばして前記ステージ上の前記試料を受け取る工程と、
(h)前記受け取った試料を保持して前記搬送アームを縮めて搬送し前記複数のセンサで前記試料が搬送される際の前記保持された試料の通過タイミングを検出してこの試料の中心位置及び前記搬送アーム上での基準の位置からのずれ量を求める工程とを備え、
当該ずれ量が許容範囲内にないと判定された場合に前記ステップ(d)乃至(h)を再度実行する試料搬送装置のティーチング方法。
- 請求項1または2に記載の試料搬送装置のティーチング方法であって、
前記処理容器または前記ロック室または前記中間室を大気開放してその内部に配置された前記ステージ上に前記試料を両者の中心同士を合致させて配置する工程を備えた試料搬送装置のティーチング方法。
- 請求項3に記載の試料搬送装置のティーチング方法であって、
所定の真空度に減圧された前記処理室または中間室またはロック室内の前記ステージ上に前記試料搬送装置を用いて前記試料を両者の中心同士を合致させて配置する工程を備えた試料搬送装置のティーチング方法。
- 請求項4に記載の試料搬送装置のティーチング方法であって、
前記試料搬送装置が使用者により操作されて前記処理容器または前記ロック室または前記中間室内の前記ステージ上に前記試料を両者の中心同士を合致させて配置された後、前記試料搬送装置の搬送アームを伸ばしこのアーム上に前記配置された試料を受け取る工程からティーチングを開始する試料搬送装置のティーチング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012215450A JP6059934B2 (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | 試料搬送装置のティーチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014072263A JP2014072263A (ja) | 2014-04-21 |
JP6059934B2 true JP6059934B2 (ja) | 2017-01-11 |
Family
ID=50747241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012215450A Active JP6059934B2 (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | 試料搬送装置のティーチング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6059934B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08222620A (ja) * | 1995-02-10 | 1996-08-30 | Kokusai Electric Co Ltd | ウェーハ自動移載機の自動ティーチング方法 |
JP4389305B2 (ja) * | 1999-10-06 | 2009-12-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
JP2007149960A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置 |
JP5203102B2 (ja) * | 2008-09-01 | 2013-06-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 半導体処理装置の運転方法 |
JP2012049357A (ja) * | 2010-08-27 | 2012-03-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 真空処理装置 |
JP5785712B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-09-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置 |
-
2012
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014072263A (ja) | 2014-04-21 |
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