JP6057700B2 - マルチ荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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Description
試料を載置する、移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部が形成され、複数の開口部全体が含まれる開口部形成領域に荷電粒子ビームの照射を受け、複数の開口部を荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
マルチビームを縮小する縮小光学系と、
縮小光学系の後段に配置され、倍率が1倍で磁束の向きが逆向きのダブレットレンズと、
を備えたことを特徴とする。
ダブレットレンズは、レーザ光および反射光の軌道上に干渉しない位置に配置されると好適である。
図1は、実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。図1において、描画装置100は、描画部150と制御回路160を備えている。描画装置100は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置の一例である。描画部150を構成する各機器は制御回路160によって駆動および制御される。描画部150は、電子鏡筒102と描画室103を備えている。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202、アパーチャ部材203、ブランキングプレート204、レンズ205、制限アパーチャ部材206、対物レンズ207、ダブレットレンズを構成するレンズ212,214、偏向器216、及び、静電レンズ218が配置されている。描画室103内には、XYステージ105が配置される。XYステージ105上には、描画時には描画対象基板となるマスク等の試料101が配置される。試料101には、半導体装置を製造する際の露光用マスク、或いは、半導体装置が製造される半導体基板(シリコンウェハ)等が含まれる。また、試料101には、レジストが塗布された、まだ何も描画されていないマスクブランクスが含まれる。描画室103上或いは描画室103上部には、試料面の高さ位置(Z方向位置)を測定するためのZセンサが配置される。Zセンサは、レーザ光を照射する投光器220と測定対象面(ここでは試料面)で反射した反射光を受光する受光器222を備えている。また、照明レンズ202、レンズ205、対物レンズ207、及びレンズ212,214は、共に、電磁レンズで構成される。
22 穴
24,26 電極
30 描画領域
32 ストライプ領域
34 照射領域
36 ショットパターン
100 描画装置
101,340 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
150 描画部
160 制御部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 アパーチャ部材
204 ブランキングプレート
205,212,214 レンズ
206 制限アパーチャ部材
207 対物レンズ
216 偏向器
218 静電レンズ
Claims (4)
- 試料を載置する、移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部が形成され、前記複数の開口部全体が含まれる開口部形成領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
前記マルチビームを縮小する縮小光学系と、
前記縮小光学系の後段に配置され、倍率が1倍で磁束の向きが逆向きのダブレットレンズと、
を備え、
前記ダブレットレンズの内径は、前記縮小光学系の内径よりも大きいことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記ダブレットレンズの内径側に配置された、前記マルチビームを試料面上へと偏向する偏向器をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記ダブレットレンズの内径側に配置された、静電レンズをさらに備えたことを特徴とする請求項1又は2記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
- レーザ光を前記試料面上に照射して、前記試料面からの反射光を用いて、前記試料面の高さ位置を測定するセンサをさらに備え、
前記ダブレットレンズは、前記レーザ光および前記反射光の軌道上に干渉しない位置に配置されることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
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