JP6042520B1 - Mn−Zn−O系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
<1> Mnと、Znと、Oと、元素X(ただし、XはWおよびMoからなる群より選択される1種単独または2種の元素である)と、を成分組成に含むMn−Zn−O系スパッタリングターゲットであって、
相対密度が90%以上であり、かつ、比抵抗が1×10-3Ω・cm以下であることを特徴とするスパッタリングターゲットである。
該<1>に記載のMn−Zn−O系スパッタリングターゲットは、混合相にX元素からなる粒子が分散しているので、DCスパッタリングに供することが可能なMn−Zn−O系スパッタリングターゲットを提供することができる。
前記スパッタリングターゲットのX線回折スペクトルにおいて、Wに起因するピークの最大ピーク強度Pwに対するMn及びOのみから構成されるマンガン酸化物に起因するピークの最大ピーク強度PMnOの比PMnO/Pwが、0.027以下であり、
前記最大ピーク強度Pwに対するWMnO4結晶相に起因するピークの最大ピーク強度PWMnOの比PWMnO/Pwが0.024以上である、前記<1>に記載のスパッタリングターゲットである。
前記スパッタリングターゲットのX線回折スペクトルにおいて、Moに起因するピークの最大ピーク強度PMoに対するMn及びOのみから構成されるマンガン酸化物に起因するピークの最大ピーク強度PMnOの比PMnO/PMoが、0.027以下であり、
前記最大ピーク強度PMoに対するZn2Mo3O8結晶相に起因するピークの最大ピーク強度PZnMoOの比PZnMoO/PMoが0.015以上である、前記<1>に記載のスパッタリングターゲットである。
マンガン酸化物粉末と、亜鉛酸化物粉末と、前記元素Xを成分含有する金属粉末とを、12時間以上湿式混合する混合工程と、
該混合工程の後、前記混合粉末を700℃以上の温度で焼結する焼結工程と、を含むことを特徴とする製造方法である。
該<7>に記載の製造方法によれば、DCスパッタリングに供することが可能なMn−Zn−O系スパッタリングターゲットの製造方法を提供することができる。
本発明のMn−Zn−O系スパッタリングターゲットは、Mnと、Znと、元素Xと、Oとを成分組成に含むMn−Zn−O系スパッタリングターゲットである。以下、本発明のMn−Zn−O系スパッタリングターゲットを単に「ターゲット」と称し、本発明に従うターゲットを詳細に説明する。なお、元素XはWおよびMoからなる群より選択される1種単独または2種の元素であり、以下、単に「(元素)XはWまたはMoである」と記載する。
本発明の一実施形態に従うターゲットは、Mnと、Znと、元素Xと、Oとを成分組成に含み、さらに、必要に応じて、その他の成分組成を含む。
そして、このターゲットにおいて、相対密度が90%以上であり、かつ、比抵抗が1×10-3Ω・cm以下であることが肝要である。
前述のとおり、元素XはWまたはMoである。すなわち、元素XはWの1種単独からなることができ、元素XはMoの1種単独からなることができる。また、元素XはWおよびMoの2種の元素からなることもできる。ここで、元素XがWおよびMoの2種の元素からなるとは、ターゲットの成分組成にWおよびMoが共に含まれることを意味する。
本実施形態に従うターゲットが高密度であることを示す指標として、本明細書では相対密度を用いることとする。ターゲットの相対密度を90%以上とすることが、本発明の特徴事項の一つである。
なお、相対密度とは、ターゲットの原料粉が100%充填されたと仮定して計算した場合の仮想密度に対する、原料分を焼結した後の実測密度である。
一方、本実施形態に従うターゲットが低抵抗であることを示す指標として、本明細書では比抵抗を用いることとする。ターゲットの比抵抗を1×10-3Ω・cm以下とすることが、本発明の特徴事項の一つである。なお、ターゲットの比抵抗は、9×10-4Ω・cm以下であることが好ましく、8×10-4Ω・cm以下であることがより好ましい。比抵抗は低ければ低いほど好ましい。
ここで、本実施形態に従うターゲットのX線回折スペクトルにおいて、元素XがWである場合、Wに起因するピークの最大ピーク強度Pwに対するMn及びOのみから構成されるマンガン酸化物に起因するピークの最大ピーク強度PMnOの比PMnO/Pwが、0.027以下であることが好ましい。さらに、この最大ピーク強度Pwに対するWMnO4結晶相に起因するピークの最大ピーク強度PWMnOの比PWMnO/Pwが0.024以上であることが好ましい。これらの条件を満たす場合、ターゲットが高密度化されているためである。以下、これらのピーク強度についてより詳細に説明する。
まず、Mn及びOのみから構成されるマンガン酸化物とは、Mn3O4(酸化マンガン(II,III))及びMn2O3(酸化マンガン(III))などの、酸化マンガンであり、後述のWMnO4などの、Mn及びO以外の元素を含むマンガン複合酸化物は除外される。マンガン酸化物としては、他にMnO、MnO2、MnO3及びMn2O7なども挙げられる。以下、本明細書においては、マンガン酸化物のうち、Mn及びOのみから構成される酸化マンガンを単に「酸化マンガン」と称し、Mn及びO以外の元素を含む複合酸化物を「マンガン複合酸化物」と称し、両者を区分する。本実施形態に従うターゲットにおいて、酸化マンガンの結晶相がターゲットに実質的に存在しないことが好ましく、その実質的な存否はX線回折におけるピーク強度を用いて特定することができる。
なお、ターゲットのX線回折スペクトルの取得は、常法に従い行うことができ、例えばSmartlab;株式会社リガク製を用いて、ターゲット表面をθ−2θスキャンしてスペクトルを取得すればよい。X線回折の測定条件はターゲットに応じて適宜定まり、例えば以下の条件の範囲内から選択することができる。
X線源:Cu―Kα線
出力設定:20〜100kV、10〜100mA
測角範囲:2θ=5°〜80°
スキャン速度:1°〜4°(2θ/min)、連続スキャン
発散スリット:0.5°〜2°
散乱スリット:0.5°〜2°
受光スリット:0.1mm〜0.5mm
Wの回折ピークは、40.26°±0.3°、58.27°±0.3°などの範囲で検出され、これらのうちの最大値をWに起因するピークの最大ピーク強度Pw(単位:cps、以下同じ。)とし、基準強度とすればよい。元素XがWである場合、このターゲットのX線回折スペクトルにおいて、Wに起因するピークの最大ピーク強度PWが、ターゲット中の各成分のピークの最大ピーク強度のうち最大強度となることが多いためである。酸化マンガンに起因するピークの最大ピーク強度PMnOについて、例えばMn3O4の回折ピークは28.88°±0.3°、59.84°±0.3°などの範囲で検出され、Mn2O3の場合には32.98°±0.3°、55.24°±0.3°などの範囲で検出される。これらのうち、酸化マンガンの回折ピークが有意に検出される場合には、酸化マンガンに起因するピークのピーク強度の最大値を最大ピーク強度PMnOとする。酸化マンガンの回折ピークがX線回折スペクトルのバックグラウンドに埋没している場合(例えばバックグラウンド強度の1.1倍以下)には、回折ピークが検出されないとみなしてピーク強度PMnOを0(ゼロ)とする。
さらに、元素XがWである場合のターゲットの相対密度が高いことを示す指標として、WMnO4結晶相が存在することが好ましい。焼結が十分に進むとWMnO4の形態が存在するようになるからである。WMnO4結晶相の存在はWMnO4結晶相に起因するピークの存在により特定することができ、この実施形態においては、WMnO4結晶相に起因するピークが存在することが好ましい。なお、WMnO4結晶相に起因するピークが存在するとは、X線回折スペクトルにおけるバックグラウンドに対して有意なピークが検出されることを意味する。
WMnO4結晶相に起因する回折ピークは、29.80°±0.3°、30.23°±0.3°などの範囲で検出され、これらのピークのうちの最大強度となるピークの強度を最大ピーク強度PWMnOとすると、比PWMnO/Pwが0.02以上であれば、WMnO4結晶相が確実に存在することとなり、好ましい。さらに、比PWMnO/Pwが0.03以上であることがより好ましく、0.04以上であることが最も好ましい。
また、本実施形態に従うターゲットのX線回折スペクトルにおいて、元素XがMoである場合、Moに起因するピークの最大ピーク強度PMoに対するMn及びOのみから構成されるマンガン酸化物に起因するピークの最大ピーク強度PMnOの比PMnO/PMoが、0.027以下であることが好ましい。さらに、この最大ピーク強度PMoに対するZn2Mo3O8結晶相に起因するピークの最大ピーク強度PZnMoOの比PZnMoO/PMoが0.015以上であることが好ましい。これらの条件を満たす場合、ターゲットの相対密度が確実に高くなっているためである。以下、これらのピーク強度についてより詳細に説明する。
Moの回折ピークは、40.52°±0.3°、58.61°±0.3°などの範囲で検出され、これらのうちの最大値をMoに起因するピークの最大ピーク強度PMo(単位:cps、以下同じ。)とし、基準強度とすればよい。元素XがMoである場合、このターゲットのX線回折スペクトルにおいて、Moに起因するピークの最大ピーク強度PMoが、ターゲット中の各成分のピークの最大ピーク強度のうち最大強度となることが多いためである。比PMnO/PMoが0.027以下であれば、元素XがWである場合と同様に、酸化マンガンの結晶相がターゲットに実質的に存在しないとみなすことができる。
さらに、元素XがMoである場合のターゲットの相対密度が高いことを示す指標として、Zn2Mo3O8結晶相が存在することが好ましい。焼結が十分に進むと、Zn2Mo3O8の形態が存在するようになるためである。Zn2Mo3O8結晶相の存在はZn2Mo3O8結晶相に起因するピークの存在により特定することができ、この実施形態においては、Zn2Mo3O8結晶相に起因するピークが存在することが好ましい。なお、Zn2Mo3O8結晶相に起因するピークが存在するとは、X線回折スペクトルにおけるバックグラウンドに対して有意なピークが検出されることを意味する。
Zn2Mo3O8結晶相に起因する回折ピークは、17.88°±0.3°、25.27°±0.3°などの範囲で検出され、これらのピークのうちの最大強度となるピークの強度を最大ピーク強度PZnMoOとすると、比PZnMoO/PMoが0.015以上であれば、Zn2Mo3O8結晶相が確実に存在することとなり、好ましい。さらに、比PZnMoO/PMoが0.02以上であることがより好ましく、0.03以上であることが最も好ましい。
ここで、本実施形態に従うターゲットの成分比としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、Mnと、Znと、元素Xとの合計100原子%に対してMn:4〜40原子%、Zn:15〜60原子%、元素X:5〜40原子%とすることができる。
本実施形態に従うターゲットには、必要に応じて他の金属元素がさらに含まれていてもよい。これら金属元素を適宜含有させることで、本実施形態に従うターゲットを例えば情報記録媒体の記録層形成に供する場合に、記録層の透過率、反射率および記録感度を変化させて、多層構造の記録層とすることができる。この目的のために、本実施形態に従うターゲットは、Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Ta、Cr、Tbからなる群より選択される1種単独又は2種以上の元素を成分組成に更に含むことが好ましい。
上記Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Ta、Cr、Tbからなる群より選択される1種単独又は2種以上の元素の含有率は、スパッタリングターゲットの構成元素のうち、O(酸素)を除いた合計100原子%に対して8〜70原子%とすることができ、この範囲で用途に応じて適宜選択することができる。
次に、図1を用いて、前述の本発明の一実施形態に従うターゲットの製造方法を説明する。本発明の一実施形態に従うターゲットの製造方法は、混合工程(S10)と、焼結工程(S20)と、を含み、さらに、必要に応じて適宜選択した、その他の工程を含む。
混合工程(S10)は、マンガン酸化物粉末と、亜鉛酸化物粉末と、元素Xを成分含有する金属粉末とを含む混合粉末を、12時間以上湿式混合する工程である。
湿式混合の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば従来公知のボールミル装置を用いた湿式混合方法、などが挙げられる。本工程で混合する混合粉末及び混合条件を以下に説明する。
マンガン酸化物粉末としては、目的に応じて適宜選択することができ、Mn3O4(酸化マンガン(II,III))及びMn2O3(酸化マンガン(III))の他、MnO、MnO2、MnO3及びMn2O7などMn3O4、Mn2O3、などを用いることができる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、Mn3O4粉末がより好ましい。焼結温度と融点の関係のためである。
なお、マンガン酸化物粉末の平均粒径としては、目的に応じて適宜選択することができる。Mn3O4粉末の平均粒径としては、市販の3μm〜7μm程度とすることができる。
亜鉛酸化物粉末としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化亜鉛(ZnO)粉末、過酸化亜鉛(ZnO2)粉末、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、ZnO粉末がより好ましい。焼結温度と融点の関係のためである。
なお、亜鉛酸化物粉末の平均粒径としては、目的に応じて適宜選択することができる。また、ZnO粉末の平均粒径としては、市販の1μm〜3μm程度とすることができる。
元素Xを成分含有する金属粉末としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Wの単体からなる金属タングステン粉末、Moの単体からなる金属モリブデン粉末、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。XがWおよびMoである場合には、金属タングステン粉末及び金属モリブデン粉末を共に用いる。
なお、元素Xを成分含有する金属粉末の平均粒径としては、目的に応じて適宜選択することができる。金属タングステン粉末の平均粒径としては、市販の2μm〜5μm程度とすることができる。また、金属モリブデン粉末の平均粒径としては、市販の1μm〜5μm程度とすることができる。
その他の粉末としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Cu、Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Ta、Cr、Tbからなる群より選択される1種単独又は2種以上の元素の単体又は化合物からなる粉末、などが挙げられる。ここで、製造するターゲットの所望の目的に応じて、かかる粉末を混合粉末に含ませてもよい。
ここで、混合粉末を12時間以上湿式混合することが本実施形態において肝要である。混合時間を12時間以上とすることにより、十分に混合粉末を混合することができるので、焼結中の酸化マンガンの固相反応を促進して、焼結後の酸化マンガン結晶相の残留を抑制することができる。また、上記範囲の中でも、混合時間を16時間以上とすることが好ましく、20時間以上とすることがより好ましく、24時間以上とすることが最も好ましい。24時間混合すると、混合の効果が飽和するものの、24時間以上混合しても構わず、上限を意図するものではないが、工業的な生産性を考慮し、上限を168時間と設定することができる。
焼結工程(S20)は、混合工程(S10)の後に行う工程であって、混合粉末を700℃以上の温度で焼結する焼結工程である。
焼結法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、不活性ガス雰囲気中でのホットプレス、熱間等方圧加圧法(HIP法;Hot Isostatic Pressing)、などが挙げられる。
その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、混合粉末の成形工程、などが挙げられる。
なお、上記混合粉末の成形工程は、本発明において必須ではなく、ターゲットの形状を成形するために行われることがある。
以下のとおり、元素XとしてWを用い、本発明に従うターゲットとして実施例1−1を作製し、対照用のターゲットとして比較例1−1〜1−3を作製し、異常放電の有無を評価した。
(実施例1−1)
原料粉末として、以下の粉末を用意した。
純度:99.9%以上、平均粒径:5μm、Mn3O4粉末
純度:99.9%以上、平均粒径:1.4μm、ZnO粉末
純度:99.9%以上、平均粒径:2μm、W粉末
各金属元素の割合を、Mn:Zn:W=20:50:30(原子%)となるように、上記Mn3O4粉末、ZnO粉末及びW粉末を秤量した。秤量した各原料粉末と、各原料粉末の合計重量の3倍のジルコニアボール(直径5mm)と、アルコールとをポリ容器に入れ、ボールミル装置にて、湿式混合を24時間行った。混合粉末を乾燥後、目開き500μmのふるいにかけた。次いで、焼結温度:900℃、焼結時間:2時間、圧力:200kgf/cm2、不活性ガス雰囲気中でホットプレスを行った。最後に、無酸素銅製のバッキングプレートにInはんだでボンディングを行って、実施例1−1に係るターゲットを作製した。
実施例1−1において、焼結温度を900℃とする代わりに、焼結温度を860℃とし、混合時間を24時間とする代わりに、混合時間を12時間とした以外は、実施例1−1と同様に実施例1−2に係るターゲットを作製した。
実施例1−1において、混合時間を24時間とする代わりに、混合時間を2時間とした以外は、実施例1−1と同様に比較例1−1に係るターゲットを作製した。
実施例1−1において、焼結温度を900℃とする代わりに、焼結温度を700℃とした以外は、実施例1−1と同様に比較例1−2に係るターゲットを作製した。
比較例1−1において、焼結温度を900℃とする代わりに、焼結温度を700℃とした以外は、比較例1−1と同様に比較例1−3に係るターゲットを作製した。
比較例1−1において、焼結温度を900℃とする代わりに、焼結温度を820℃とし、混合時間を24時間とする代わりに、混合時間を4時間とした以外は、実施例1−1と同様に比較例1−4に係るターゲットを作製した。
以上の実施例1−1〜1−2及び比較例1−1〜1−4で作製したターゲットについて、(A)相対密度測定、(B)比抵抗測定及び(C)異常放電の発生有無の評価、(D)X線回折による成分評価を行った。各評価は、次のように行った。
実施例1−1〜1−2、比較例1−1〜1−4のそれぞれの相対密度を計算するため、ターゲットの寸法測定を行い、次いで重量測定をして各ターゲットの密度を算出した。次いで、下記式を用いて相対密度を計算した。
相対密度=[焼結体の実測密度]/[原料粉が100%充填されたとして計算した仮想密度]
結果を表1に示す。
実施例1−1〜1−2、比較例1−1〜1−4のそれぞれの比抵抗を、抵抗率計、MCP-T610、株式会社三菱化学アナリテックより測定した。結果を表1に示す。
実施例1−1〜1−2及び比較例1−1〜1−4に係るターゲットをスパッタリング装置に取り付け、それぞれDCスパッタリングを行った。すなわち、スパッタリング装置内を1×10-4Pa以下まで真空排気し、ArガスとO2ガスを導入し、装置内圧力を0.3Paとした。酸素の分圧([O2]/[Ar+O2])は、70%とした。DC電源にて電力5W/cm2を印加して、30分間スパッタリングを行い、アーキングカウンターによりスパッタリング中の異常放電の回数を計測した。なお、放電直後の異常放電は除外した。結果を表1に示す。
相対密度が90%を超える実施例1−1及び比較例1−1に係るターゲットについて、X線回折法により、ターゲット中の成分評価を行った。X線回折にあたっては、SmartLab;株式会社リガク製を用いて、θ−2θスキャンし、X線回折スペクトルを得た。実施例1−1に係るターゲットのX線回折スペクトルを代表例として図2に示す。なお、強度は任意単位(a.u.)で示している。試験条件は以下のとおりである。
X線源:Cu―Kα線
出力設定:30kV、15mA
測角範囲:2θ=15°〜70°
スキャン速度:2°(2θ/min)、連続スキャン
発散スリット:1°
散乱スリット:1°
受光スリット:0.3mm
実施例1−1では、ピーク強度比PMnO/Pwは0であり、PWMnO/PWは0.04であった。一方、比較例1−1では、ピーク強度比PMnO/Pwは0.03であり、PWMnO/PWは0であった。
以下のとおり、元素XとしてMoを用い、本発明に従うターゲットとして実施例2−1を作製し、対照用のターゲットとして比較例2−1〜2−3を作製し、異常放電の有無を評価した。
(実施例2−1)
原料粉末として、以下の粉末を用意した。
純度:99.9%以上、平均粒径:5μm、Mn3O4粉末
純度:99.9%以上、平均粒径:1.4μm、ZnO粉末
純度:99.9%以上、平均粒径:2μm、Mo粉末
各金属元素の割合を、Mn:Zn:Mo=20:50:30(原子%)となるように、上記Mn3O4粉末、ZnO粉末及びW粉末を秤量した。秤量した各原料粉末と、各原料粉末の合計重量の3倍のジルコニアボール(直径5mm)と、アルコールとをポリ容器に入れ、ボールミル装置にて、湿式混合を24時間行った。混合粉末を乾燥後、目開き500μmのふるいにかけた。次いで、焼結温度:900℃、焼結時間:2時間、圧力:200kgf/cm2、不活性ガス雰囲気中でホットプレスを行った。最後に、無酸素銅製のバッキングプレートにInはんだでボンディングを行って、実施例2−1に係るターゲットを作製した。
実施例2−1において、混合時間を24時間とする代わりに、混合時間を2時間とした以外は、実施例2−1と同様に比較例2−1に係るターゲットを作製した。
実施例2−1において、焼結温度を900℃とする代わりに、焼結温度を700℃とした以外は、実施例2−1と同様に比較例2−2に係るターゲットを作製した。
比較例2−1において、焼結温度を900℃とする代わりに、焼結温度を700℃とした以外は、比較例2−1と同様に比較例2−3に係るターゲットを作製した。
以上の実施例2−1及び比較例2−1〜2−3で作製したターゲットについて、(A)相対密度測定、(B)比抵抗測定及び(C)異常放電の発生有無の評価、(D)成分評価を実験例1と同様にして行った。結果を表2に示す。
なお、評価(D)において、実施例2−1では、ピーク強度比PMnO/PMoは0であり、PZnMoO/PMoは0.03であった。一方、比較例2−1では、ピーク強度比PMnO/PMoは0.03であり、PZnMoO/PMoは0であった。
S20・・・焼結工程
Claims (6)
- Mnと、Znと、Oと、元素X(ただし、XはWおよびMoからなる群より選択される1種単独または2種の元素である)と、を成分組成に含むMn−Zn−O系スパッタリングターゲットであって、
相対密度が90%以上であり、かつ、比抵抗が1×10−3Ω・cm以下であり、
Mnと、Znと、前記元素Xとの合計100原子%に対してMn:4〜40原子%、Zn:15〜60原子%、前記元素X:5〜40原子%であることを特徴とするスパッタリングターゲット。 - 前記元素XはWであり、
前記スパッタリングターゲットのX線回折スペクトルにおいて、Wに起因するピークの最大ピーク強度Pwに対するMn及びOのみから構成されるマンガン酸化物に起因するピークの最大ピーク強度PMnOの比PMnO/Pwが、0.027以下であり、
前記最大ピーク強度Pwに対するWMnO4結晶相に起因するピークの最大ピーク強度PWMnOの比PWMnO/Pwが0.024以上である、請求項1に記載のスパッタリングターゲット。 - 前記元素XはMoであり、
前記スパッタリングターゲットのX線回折スペクトルにおいて、Moに起因するピークの最大ピーク強度PMoに対するMn及びOのみから構成されるマンガン酸化物に起因するピークの最大ピーク強度PMnOの比PMnO/PMoが、0.027以下であり、
前記最大ピーク強度PMoに対するZn2Mo3O8結晶相に起因するピークの最大ピーク強度PZnMoOの比PZnMoO/PMoが0.015以上である、請求項1に記載のスパッタリングターゲット。 - Mnと、Znと、Oと、元素X(ただし、XはWおよびMoからなる群より選択される1種単独または2種の元素である)と、を成分組成に含むMn−Zn−O系スパッタリングターゲットであって、
相対密度が90%以上であり、かつ、比抵抗が1×10 −3 Ω・cm以下であり、
Cu、Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Ta、Cr、Tbからなる群より選択される1種単独又は2種以上の元素を前記成分組成に更に含み、
前記Cu、Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Ta、Cr、Tbからなる群より選択される1種単独又は2種以上の元素の含有率は、前記スパッタリングターゲットの構成元素のうち、Oを除いた合計100原子%に対して8〜70原子%であることを特徴とするスパッタリングターゲット。 - 請求項1または4に記載のMn−Zn−O系スパッタリングターゲットを製造する方法であって、
マンガン酸化物粉末と、亜鉛酸化物粉末と、前記元素Xを成分含有する金属粉末とを含む混合粉末を、12時間以上湿式混合する混合工程と、
該混合工程の後、前記混合粉末を700℃以上の温度で焼結する焼結工程と、を含むことを特徴とする製造方法。 - 前記混合粉末は、Cu、Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Ta、Cr、Tbからなる群より選択される1種単独又は2種以上の元素の単体又は化合物からなる粉末を更に含む、請求項5に記載の製造方法。
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