JP6038573B2 - ガラス基板加工装置及びガラス基板加工方法 - Google Patents
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Description
第1の実施形態について図1乃至図8を参照して説明する。
本発明の第2の実施形態について図9を参照して説明する。第2の実施形態では、第1の実施形態との相違点について説明し、第1の実施形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。
2 第1の膜形成部
3 第1の膜除去部
4 第2の膜形成部
5 第2の膜除去部
5b 位置合わせ部
6 エッチング部
7 第1の洗浄部
8 第1の洗浄部
11 ガラス基板
12 第1の保護膜
13 第2の保護膜
M1 第1の表面
M2 第2の表面
Claims (12)
- 互いに向かい合う第1の表面及び第2の表面を有するガラス基板の第1の表面に、レーザ光吸収性及び耐エッチング性を有する第1の保護膜を形成する第1の膜形成部と、
前記ガラス基板の第1の表面に形成された前記第1の保護膜における前記ガラス基板側と反対側の面にレーザ光を照射し、前記ガラス基板の第1の表面に形成された前記第1の保護膜を部分除去する第1の膜除去部と、
前記第1の保護膜が前記第1の表面から部分除去された前記ガラス基板の第2の表面に、レーザ光吸収性及び耐エッチング性を有する第2の保護膜を形成する第2の膜形成部と、
前記ガラス基板の第2の表面に形成された前記第2の保護膜における前記ガラス基板側と反対側の面であって前記ガラス基板の第1の表面における前記第1の保護膜が除去された箇所に対向する箇所にレーザ光を照射し、前記ガラス基板の第2の表面に形成された前記第2の保護膜を部分除去する第2の膜除去部と、
前記第2の保護膜が前記第2の表面から部分除去された前記ガラス基板をエッチング液により処理するエッチング部と、
を備えることを特徴とするガラス基板加工装置。 - 前記第1の保護膜が前記第1の表面に形成された前記ガラス基板の第2の表面を洗浄する洗浄部をさらに備え、
前記第1の膜除去部は、前記第2の表面が洗浄された前記ガラス基板に対してレーザ光を照射することを特徴とする請求項1に記載のガラス基板加工装置。 - 前記第1の保護膜が前記第1の表面から部分除去された前記ガラス基板の第1の表面を
洗浄する洗浄部をさらに備え、
前記第2の膜除去部は、前記第1の表面が洗浄された前記ガラス基板に対してレーザ光を照射することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のガラス基板加工装置。 - 前記第2の膜形成部は、前記第2の保護膜が前記第2の表面から前記第1の表面に回り込むことを抑えて前記第2の表面に前記第2の保護膜を形成することを特徴とする請求項
1乃至請求項3のいずれか一項に記載のガラス基板加工装置。 - 前記第2の膜除去部は、前記ガラス基板の第1の表面における前記第1の保護膜が除去された箇所に対向する箇所にレーザ光の照射位置を合わせる位置合わせ部を具備することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のガラス基板加工装置。
- 互いに向かい合う第1の表面及び第2の表面を有するガラス基板の第1の表面に形成されたレーザ光吸収性及び耐エッチング性を有する第1の保護膜における前記ガラス基板側と反対側の面にレーザ光を照射し、前記ガラス基板の第1の表面に形成された前記第1の保護膜を部分除去する第1の膜除去部と、
前記ガラス基板の第2の表面に形成されたレーザ光吸収性及び耐エッチング性を有する第2の保護膜における前記ガラス基板側と反対側の面であって前記ガラス基板の第1の表面における前記第1の保護膜が除去された箇所に対向する箇所にレーザ光を照射し、前記ガラス基板の第2の表面に形成された前記第2の保護膜を部分除去する第2の膜除去部と、
を備えることを特徴とするガラス基板加工装置。 - 互いに向かい合う第1の表面及び第2の表面を有するガラス基板の第1の表面に、レーザ光吸収性及び耐エッチング性を有する第1の保護膜を形成する工程と、
前記ガラス基板の第1の表面に形成された前記第1の保護膜における前記ガラス基板側と反対側の面にレーザ光を照射し、前記ガラス基板の第1の表面に形成された前記第1の保護膜を部分除去する工程と、
前記第1の保護膜が前記第1の表面から部分除去された前記ガラス基板の第2の表面に、レーザ光吸収性及び耐エッチング性を有する第2の保護膜を形成する工程と、
前記ガラス基板の第2の表面に形成された前記第2の保護膜における前記ガラス基板側と反対側の面であって前記ガラス基板の第1の表面における前記第1の保護膜が除去された箇所に対向する箇所にレーザ光を照射し、前記ガラス基板の第2の表面に形成された前記第2の保護膜を部分除去する工程と、
前記第2の保護膜が前記第2の表面から部分除去された前記ガラス基板をエッチング液により処理する工程と、
を有することを特徴とするガラス基板加工方法。 - 前記第1の保護膜を部分除去する工程の前に、前記第1の保護膜が前記第1の表面に形成された前記ガラス基板の第2の表面を洗浄する工程をさらに有することを特徴とする請求項7に記載のガラス基板加工方法。
- 前記第2の保護膜を部分除去する工程の前に、前記第1の保護膜が前記第1の表面から部分除去された前記ガラス基板の第1の表面を洗浄する工程をさらに有することを特徴とする請求項7又は請求項8に記載のガラス基板加工方法。
- 前記第2の保護膜を形成する工程では、前記第2の保護膜が前記第2の表面から前記第1の表面に回り込むことを抑えて前記第2の表面に前記第2の保護膜を形成することを特徴とする請求項7乃至請求項9のいずれか一項に記載のガラス基板加工方法。
- 前記第2の保護膜を部分除去する工程では、前記ガラス基板の第1の表面における前記第1の保護膜が除去された箇所に対向する箇所にレーザ光の照射位置を合わせることを特徴とする請求項7乃至請求項10のいずれか一項に記載のガラス基板加工方法。
- 互いに向かい合う第1の表面及び第2の表面を有するガラス基板の第1の表面に形成されたレーザ光吸収性及び耐エッチング性を有する第1の保護膜における前記ガラス基板側と反対側の面にレーザ光を照射し、前記ガラス基板の第1の表面に形成された前記第1の保護膜を部分除去する工程と、
前記ガラス基板の第2の表面に形成されたレーザ光吸収性及び耐エッチング性を有する第2の保護膜における前記ガラス基板側と反対側の面であって前記ガラス基板の第1の表面における前記第1の保護膜が除去された箇所に対向する箇所にレーザ光を照射し、前記ガラス基板の第2の表面に形成された前記第2の保護膜を部分除去する工程と、
を有することを特徴とするガラス基板加工方法。
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JP2012213808A JP6038573B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | ガラス基板加工装置及びガラス基板加工方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4932059B1 (ja) * | 2011-12-16 | 2012-05-16 | 株式会社ミクロ技術研究所 | 強化ガラス、タッチパネル、及び強化ガラスの製造方法 |
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