JP6032190B2

JP6032190B2 - 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体

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Publication number: JP6032190B2
Application number: JP2013252057A
Authority: JP
Inventors: 卓志佐々; 大樹柴田
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2013-12-05
Filing date: 2013-12-05
Publication date: 2016-11-24
Anticipated expiration: 2033-12-05
Also published as: KR102360003B1; CN104698758A; KR20150065590A; US20150159642A1; TW201540377A; US10036379B2; CN104698758B; DE102014225053A1; TWI601576B; JP2015109373A

Description

本発明は、被処理体に供給される処理液を移送する技術に関する。

半導体製造工程の一つであるフォトレジスト工程においては、被処理体である半導体ウエハ（以下、ウエハという）の表面にレジスト液を膜状に塗布し、得られたレジスト膜を所定のパターンで露光した後に現像してレジストパターンを形成している。

このフォトレジスト工程にて使用されるレジスト液や現像液などの処理液を、ノズル（吐出部）を介してウエハに吐出する処理液供給装置には、薬液容器（処理液供給源）などから、供給ポンプを利用してノズルへと処理液の供給を行うものがある。例えば特許文献１には、容器内に設けられたベローズ体の一端にピストンを取り付け、ピストンによりベローズ体を伸縮させて塗布ノズルへ向けてレジスト液を供給する薬液供給システムが記載されている。また、特許文献２に記載の薬液供給システムでは、ポンプ室内でダイアフラムを往復移動させるダイアフラムポンプを用いて吐出ノズルへのレジスト液の供給を行っている。

しかしながらこの種の往復ポンプは、吸引した処理液の一部がデッドスペースに残ってしまう場合がある。ポンプ内の処理液を全量、排出することができないと、例えば据え付け直後のポンプ内に残っている加工片などのパーティクルが処理液と共にポンプ内に長期間滞留してしまい、ウエハの処理の開始遅れや汚染の原因となる。

ここでポンプ内の滞留が少ないポンプとしてチューブポンプが知られているが、チューブポンプは脈動が大きく、ウエハ処理のタイミング毎に所定量の処理液を安定して供給する機器としては難点があった。
なお、特許文献３には、可撓性を有するチューブを回転可能に軸支された加圧コロで押圧し、記録ヘッドから廃インク処理部材へインクを排出する技術が記載されている。しかしながら特許文献３には、被処理体に対して処理液を安定して供給する技術は記載されていない。

特開２００８−３０５９８０号公報：段落００２２、図２特開２０１２−１５１１９７号公報：段落００３５、００４１、図４、５特開２００３−１１８１４７号公報：段落００２５、００２９、図３〜５

本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、処理液の置換性が高く、安定して処理液の供給を行うことが可能な処理液供給装置、処理液供給方法及びこの方法を記憶した記憶媒体を提供することにある。

第１の発明に係る処理液供給装置は、処理液供給源から供給された処理液を、供給路に設けられた供給ポンプにより吐出部を介して被処理体へ吐出する処理液供給装置において、
前記供給ポンプは、
弾性を有し、前記供給路の一部を構成するチューブと、
前記チューブの外面を規制するため、当該チューブが伸びる方向に沿って設けられたガイド部と、
前記チューブを挟んでガイド部の反対側に位置し、当該ガイド部との間でチューブを押圧した状態で移動することにより処理液を移送する１つの押圧部と、
前記押圧部を、処理液の移送方向の上流側であって、前記ガイド部との間にチューブが挟まれる位置に進入させ、当該ガイド部に沿って下流側へ向けて前記押圧部を移動させて前記吐出部へ処理液を供給した後、前記チューブを押圧する位置から押圧部を脱離させるように移動させる移動機構と、を備え、
前記供給ポンプにより前記吐出部へ向けて処理液を供給する期間中、前記チューブは前記押圧部のみによって押圧されることと、
前記吐出部へ処理液を供給する際、前記押圧部は、前記チューブが伸びる方向の予め設定された位置にてチューブを押圧した状態から移動を開始することと、
さらに、前記供給ポンプと吐出部との間の供給路から分岐する分岐路と、前記吐出部と分岐路との間で処理液の供給先を切り替える流路切替部と、前記押圧部が前記ガイド部との間にチューブが挟まれる位置に進入してから前記予め設定された位置まで前記チューブを押圧した状態で移動する期間中は、処理液の供給先を前記分岐路に切り替えた状態とするステップと、前記押圧部が当該予め設定された位置に到達した後は、処理液の供給先を前記吐出部側に切り替えた状態とするステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えることと、を特徴とする。
第２の発明に係る処理液供給装置は、処理液供給源から供給された処理液を、供給路に設けられた供給ポンプにより吐出部を介して被処理体へ吐出する処理液供給装置において、
前記供給ポンプは、
弾性を有し、前記供給路の一部を構成するチューブと、
前記チューブの外面を規制するため、当該チューブが伸びる方向に沿って設けられたガイド部と、
前記チューブを挟んでガイド部の反対側に位置し、当該ガイド部との間でチューブを押圧した状態で移動することにより処理液を移送する１つの押圧部と、
前記押圧部を、処理液の移送方向の上流側であって、前記ガイド部との間にチューブが挟まれる位置に進入させ、当該ガイド部に沿って下流側へ向けて前記押圧部を移動させて前記吐出部へ処理液を供給した後、前記チューブを押圧する位置から押圧部を脱離させるように移動させる移動機構と、を備え、
前記供給ポンプにより前記吐出部へ向けて処理液を供給する期間中、前記チューブは前記押圧部のみによって押圧されることと、
さらに、前記チューブよりも処理液供給源側の供給路に設けられ、当該チューブに流入する処理液の給断を行う開閉弁と、前記チューブよりも吐出部側の供給路に設けられたフィルターと、を備え、前記開閉弁とチューブとの間の供給路に処理液が存在する状態で前記押圧部によりチューブを押圧するステップと、次いで、前記開閉弁を閉じた状態で前記押圧部を吐出部側の供給路に向けて移動させ、チューブの形状が元に戻ろうとする力を利用して前記開閉弁とチューブとの間の供給路内を減圧し、処理液を脱気するステップと、しかる後、前記開閉弁を開いて脱気された処理液をチューブに進入させてから、再度、チューブを押圧した状態で前記押圧部を移動させることにより、前記フィルターへ処理液を供給し、脱気された処理液をろ過するステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えることと、を特徴とする。
第３の発明に係る処理液供給装置は、処理液供給源から供給された処理液を、供給路に設けられた供給ポンプにより吐出部を介して被処理体へ吐出する処理液供給装置において、
前記供給ポンプは、
弾性を有し、前記供給路の一部を構成するチューブと、
前記チューブの外面を規制するため、当該チューブが伸びる方向に沿って設けられたガイド部と、
前記チューブを挟んでガイド部の反対側に位置し、当該ガイド部との間でチューブを押圧した状態で移動することにより処理液を移送する１つの押圧部と、
前記押圧部を、処理液の移送方向の上流側であって、前記ガイド部との間にチューブが挟まれる位置に進入させ、当該ガイド部に沿って下流側へ向けて前記押圧部を移動させて前記吐出部へ処理液を供給した後、前記チューブを押圧する位置から押圧部を脱離させるように移動させる移動機構と、を備え、
前記供給ポンプにより前記吐出部へ向けて処理液を供給する期間中、前記チューブは前記押圧部のみによって押圧されることと、
前記移動機構は、複数の押圧部を移動させるように構成され、１つの押圧部を用いて前記吐出部へ向けて処理液を供給する期間中、前記ガイド部との間でチューブが挟まれる領域に他の押圧部を進入させないように構成されていることと、を特徴とする。

前記処理液供給装置は、以下の構成を備えていてもよい。
（ａ）前記第２、第３の発明において、前記吐出部へ処理液を供給する際、前記押圧部は、前記チューブが伸びる方向の予め設定された位置にてチューブを押圧した状態から移動を開始すること。
（ｂ）前記第１の発明において、前記分岐路は、前記チューブよりも処理液供給源側の供給路に合流し、処理液の供給先が分岐路に切り替えられた状態の期間中に前記供給ポンプから供給された処理液は、当該供給ポンプに戻されること。また前記供給ポンプから供給された処理液が前記分岐路を介して当該供給ポンプに戻されるまでの流路にフィルターが設けられていること。
（ｃ）前記供給ポンプは、前記吐出部への処理液の供給量を変更するため、前記チューブが伸びる方向に沿った長さの異なる複数のガイド部が取り替え自在に構成されていること。また、前記供給ポンプは、前記吐出部への処理液の供給量を変更するため、内径の異なる複数のチューブが取り替え自在に構成されていること。

本発明は、押圧部によりチューブを押圧して処理液を移送するので供給ポンプ内における処理液の滞留が少なくなると共に、１つの押圧部のみを用いてチューブを押圧するので送液動作に伴う脈動が小さくなり、所定量の処理液を安定して供給することができる。

発明の実施の形態に係る塗布、現像装置の横断平面図である。前記塗布、現像装置の斜視図である。前記塗布、現像装置に設けられているレジスト液供給装置の構成図である。前記レジスト液供給装置に設けられているチューブポンプの横断平面図である。前記チューブポンプの縦断側面図である。前記レジスト液供給装置の作用を示す第１の説明図である。前記レジスト液供給装置の作用を示す第２の説明図である。前記レジスト液供給装置の作用を示す第３の説明図である。前記レジスト液供給装置の作用を示す第４の説明図である。前記レジスト液供給装置の作用を示す第５の説明図である。前記レジスト液供給装置の他の作用を示す第１の説明図である。前記他の作用を示す第２の説明図である。レジスト液供給装置のさらに別の作用を示す説明図である。前記チューブポンプの他の構成例を示す説明図である。前記チューブポンプの変形例を示す平面図である。前記変形例に係るチューブポンプの縦断側面図である。前記チューブポンプの他の変形例を示す平面図である。比較例１に係るチューブポンプの構成を示す平面図である。実施例１に係るチューブポンプの供給圧力の経時変化を示す説明図である。比較例１に係るチューブポンプの供給圧力の経時変化を示す説明図である実施例１に係るチューブポンプを用いた場合のノズルからのレジスト液の吐出状態を示す説明図である。比較例１に係るチューブポンプを用いた場合のノズルからのレジスト液の吐出状態を示す説明図である。実施例２に係るローターによるレジスト液の供給開始位置を示す説明図である。前記供給開始位置に応じたレジスト液の吐出量の変化を示す説明図である。

以下、本発明の実施形態について、添付図面に基づいて説明する。ここでは、本発明に係る処理液供給装置を塗布、現像装置に適用した場合について説明する。
図１及び図２に示すように、塗布、現像装置は、被処理体であるウエハＷを複数枚例えば２５枚密閉収納するキャリア１０を搬出入するためのキャリアステーション１と、このキャリアステーション１から取り出されたウエハＷにレジスト塗布処理（以下、塗布処理という）や現像処理などを施す処理部２と、当該処理部２とウエハＷの表面に光を透過する液層を形成した液浸状態でウエハＷの表面を露光する露光部４との間でウエハＷの受け渡しを行うインターフェース部３とを具備している。

キャリアステーション１には、キャリア１０を複数個並べて載置可能な載置部１１と、この載置部１１から見て前方の壁面に設けられる開閉部１２と、開閉部１２を介してキャリア１０からウエハＷを取り出すための受け渡し手段Ａ１とが設けられている。

インターフェース部３は、処理部２と露光部４との間に前後に設けられる第１の搬送室３Ａ及び第２の搬送室３Ｂにて構成されており、それぞれに第１のウエハ搬送部３０Ａ及び第２のウエハ搬送部３０Ｂが設けられている。

また、キャリアステーション１の奥側には筐体２０にて周囲を囲まれる処理部２が接続されており、この処理部２には手前側から順に加熱・冷却系のユニットを多段化した棚ユニットＵ１、Ｕ２、Ｕ３及び液処理ユニットＵ４、Ｕ５が設けられ、さらに各ユニット間のウエハＷの受け渡しを行う主搬送手段Ａ２、Ａ３が交互に配列して設けられている。主搬送手段Ａ２、Ａ３は、キャリアステーション１から見て前後方向に配置される棚ユニットＵ１、Ｕ２、Ｕ３側の一面部と、例えば右側の液処理ユニットＵ４、Ｕ５側の一面部と、左側の一面をなす背面部とで構成される区画壁２１により囲まれる空間内に配置されている。また、キャリアステーション１と処理部２との間、処理部２とインターフェース部３との間には、各ユニットで用いられる処理液の温度調節装置や温湿度調節用のダクトなどを備えた温湿度調節ユニット２２が配置されている。

棚ユニットＵ１、Ｕ２、Ｕ３は、液処理ユニットＵ４、Ｕ５にて行われる処理の前処理及び後処理を行うための各種ユニットを複数段例えば１０段に積層した構成とされている。これら各種ユニットの組み合わせ例としてはウエハＷを加熱（ベーク）する加熱ユニット、ウエハＷを冷却する冷却ユニットなど（いずれも図示せず）が含まれる。また、ウエハＷに所定の処理液を供給して処理を行う液処理ユニットＵ４、Ｕ５は、例えば図２に示すように、レジストや現像液などの薬液収納部１４の上に反射防止膜を塗布する反射防止膜塗布ユニット（ＢＣＴ）２３、ウエハＷにレジスト液を塗布する塗布ユニット（ＣＯＴ）２４、ウエハＷに現像液を供給して現像する現像ユニット（ＤＥＶ）２５などを備え、これらのユニット２３、２４、２５が複数段例えば５段積層して構成されている。本実施の形態の処理液供給装置は、これらのユニット２３、２４、２５に設けられている。

上記のように構成される塗布、現像処理装置におけるウエハＷの処理の流れの一例について、図１及び図２を参照しながら簡単に説明する。塗布、現像処理装置では、ロットごとにウエハＷが連続して搬送される。つまり、同じロットのウエハＷが続けて搬送される。まず、例えば２５枚のウエハＷを収納したキャリア１０が載置部１１に載置されると、開閉部１２によりキャリア１０の蓋体が外され、受け渡し手段Ａ１によりウエハＷが取り出される。

取り出されたウエハＷは棚ユニットＵ１の一段をなす受け渡しユニット（図示せず）を介して主搬送手段Ａ２へと受け渡され、塗布処理の前処理として例えば反射防止膜塗布ユニット（ＢＣＴ）２３にて反射防止膜形成処理が行われ、さらに冷却処理が行われた後、塗布ユニット（ＣＯＴ）２４にてレジスト液が塗布される。次いでウエハＷは、主搬送手段Ａ２により棚ユニットＵ１〜Ｕ３の一の棚をなす加熱ユニットで加熱（ベーク処理）され、更に冷却された後棚ユニットＵ３の受け渡しユニットを経由してインターフェース部３へと搬入される。

このインターフェース部３において、ウエハＷは、第１の搬送室３Ａ及び第２の搬送室３Ｂの第１のウエハ搬送部３０Ａ及び第２のウエハ搬送部３０Ｂによって露光部４に搬送され、ウエハＷの表面に対向するように配置された露光手段（図示せず）によって露光が行われる。露光後、ウエハＷは露光部４への搬入時とは逆の経路で主搬送手段Ａ２まで搬送され、現像ユニット（ＤＥＶ）２５にて現像されることでパターンが形成される。パターン形成後のウエハＷは、載置部１１上に載置された元のキャリア１０へと戻される。

次に、液処理ユニットＵ４、Ｕ５内の個別のユニット２３、２４、２５に設けられている処理液供給装置の構成について図３を参照しながら説明する。図３には、塗布ユニット（ＣＯＴ）２４のノズル５１にレジスト液（処理液）を供給するレジスト液供給装置（処理液供給装置）５の例を示してある。レジスト液供給装置５は、レジスト液ボトル５４と、このレジスト液ボトル５４から移送されたレジスト液を一時的に貯留する中間タンク５３と、中間タンク５３から払い出されたレジスト液をノズル５１（吐出部）へ供給するチューブポンプ６（供給ポンプ）とを備えている。

レジスト液ボトル５４は、外部から搬入される取り替え可能な容器である。レジスト液ボトル５４には、加圧用の不活性ガス（例えば窒素（Ｎ_２）ガス）を加圧ガス供給源５５から受け入れ、内部のレジスト液を加圧して中間タンク５３へ向けて移送するための、電磁式の切替弁Ｖ７を備えた加圧ライン５０６が接続されている。

中間タンク５３は、レジスト液ボトル５４から移送されたレジスト液を一時的に貯溜してウエハＷへ向けて供給する役割を果たす。中間タンク５３には、レジスト液ボトル５４からのレジスト液の移送開始、及び移送停止タイミングを判断するための液面計５３１が設けられている。レジスト液ボトル５４と中間タンク５３との間では移送ライン５０５を介してレジスト液の移送が行われる。また中間タンク５３の上部には、中間タンク５３内のレジスト液を排出する際に用いられるドレンライン５０４が設けられ、当該ドレンライン５０４には電磁式の開閉弁Ｖ６が介設されている。さらに中間タンク５３には加圧ガス供給源５５から加圧用のガスを受け入れる不図示の加圧ラインが設けられている。
レジスト液ボトル５４及び中間タンク５３は、本実施の形態の処理液供給源に相当する。

中間タンク５３は、開閉弁Ｖ４が開設された供給ライン５０３を介してチューブポンプ６と接続されている。また、チューブポンプ６は、フィルター５２及びディスペンスバルブＶ１が介設された吐出ライン５０１を介してノズル５１に接続されている。フィルター５２の一次側（ろ材の入口側）には、開閉弁Ｖ２を備えたベントライン５０７が設けられ、パーティクルや気泡などを含んだレジスト液を外部へ排出することができる。
供給ライン５０３及び吐出ライン５０１はレジスト液の供給路に相当し、供給ライン５０３は処理液供給源側の供給路、吐出ライン５０１は吐出部側の供給路を構成している。

吐出ライン５０１におけるフィルター５２とディスペンスバルブＶ１との間の位置からは、開閉弁Ｖ３の設けられたリサイクルライン５０２（分岐路）が分岐し、当該リサイクルライン５０２は供給ライン５０３における開閉弁Ｖ４の上流側の位置に合流している。このリサイクルライン５０２を用いることにより、チューブポンプ６から流出したレジスト液を再びチューブポンプ６に戻すことができる。リサイクルライン５０２を用いる場合、ディスペンスバルブＶ１及び開閉弁Ｖ３はチューブポンプ６によるレジスト液の供給先をノズル５１とリサイクルライン５０２との間で切り替える切替部に相当する。

本実施の形態のレジスト液供給装置５において、チューブポンプ６は脈動の発生を抑え、所定量のレジスト液を安定してノズル５１に供給するための構成を備えている。以下、チューブポンプ６の構成について図４、図５を参照しながら説明する。

図４、図５に示すように、チューブポンプ６はレジスト液の移送が行われるチューブ６２と、チューブ６２の外面に沿って伸びる壁面を備えたガイド部６１と、チューブ６２を挟んでガイド部６１の反対側に位置し、当該ガイド部６１との間でチューブ６２を押圧するローター６５（押圧部）と、ローター６５を保持する回転体６４及び回転体６４を回転駆動する電動モーター６７と、を備えている。

チューブ６２は弾性を有する例えば樹脂製の配管であり、レジスト液の入口側、及び出口側の末端部が、各々継手６３を介して供給ライン５０３、吐出ライン５０１に接続されている。
ガイド部６１は、チューブ６２やローター６５、回転体６４などが配置される領域が円弧状に切り欠かれ、当該円弧の内周側の壁面に沿ってチューブ６２がＵ字状に配置される。

ガイド部６１に沿って配置されたチューブ６２の内側には、円板状の２枚の回転体６４（６４ａ、６４ｂ）が上下方向に互いに間隔を開けて配置され、これらの回転体６４ａ、６４ｂはモーターシャフト６７１によって支持されている。モーターシャフト６７１の基端部は、回転方向を切り替え可能な電動モーター６７に接続され、双方の回転体６４ａ、６４ｂを同じ方向へ向けて同じ角度だけ回転させることができる。

回転体６４ａ、６４ｂの周縁部の近傍位置には、これら回転体６４ａ、６４ｂを上下方向に貫通するようにローターシャフト６５１が設けられている。ローター６５は、ローターシャフト６５１によって、当該ローターシャフト６５１周りに回転自在に支持されている。ローター６５は、回転体６４ａ、６４ｂの外周よりも外側へ向けてその側周面を突出させるように配置され、当該側周面とガイド部６１との間にチューブ６２を挟み込んでチューブ６２を押しつぶすことができる。本例のチューブポンプ６は、ローター６５を１つだけ備えている。

上述のようにチューブ６２を押しつぶした状態で回転体６４を回転させると、ローター６５自体がローターシャフト６５１周りに回転し、さらに、ローター６５もモーターシャフト６７１の周りを公転するように移動する。この結果、ローター６５がチューブ６２を押しつぶす位置が移動し、この移動に伴ってチューブ６２内のレジスト液が移送される。
回転体６４、モーターシャフト６７１、電動モーター６７は、ローター６５の移動機構を構成している。

本例のチューブポンプ６において、ガイド部６１、チューブ６２、ローター６５及び回転体６４は、共通の筐体６０内に設けられている。またこの筐体６０内には、ローター６５が所定のホーム位置に戻ったことを検出するための光電センサー６６２が設けられている。光電センサー６６２は例えば不図示の投光部及び受光部を備え、投光部から投光されたビーム光がローター６５の上端部に設けられた反射板６６１にて反射されて受光部に入射したことを検知することにより、ローター６５がホーム位置にあることを検出する。
本例のチューブポンプ６においてホーム位置は、ローター６５がガイド部６１との間にチューブ６２を挟む位置から離脱した状態の予め決められた位置に設定されている。

図１に示すように塗布、現像装置には、当該装置全体の制御を行う制御部２００が設けられている。図３に示すように制御部２００はレジスト液供給装置５の制御も実行する。制御部２００はＣＰＵと記憶部とを備えたコンピュータからなり、記憶部にはレジスト液供給装置５の作用、即ちレジスト液ボトル５４から中間タンク５３へレジスト液を移送し、チューブポンプ６により、中間タンク５３内のレジスト液をノズル５１へ供給する動作についてのステップ（命令）群が組まれたプログラムが記録されている。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカードなどの記憶媒体に格納され、そこからコンピュータにインストールされる。

図４、図５に示すように、チューブポンプ６の動作制御に関し制御部２００は、反射板６６１の反射光が光電センサー６６２にて検知された旨の信号を取得し、ローター６５がホーム位置に位置していることを検出することができる。また、制御部２００は電動モーター６７に対して回転体６４の回転方向及び回転量を指示する信号を出力する。この結果、前記ホーム位置にてローター６５が検出された状態からの回転体６４の回転方向及び回転量に基づいて、ローター６５の現在位置を知ることができる。

以上に説明した構成を備えるレジスト液供給装置５の動作について図６〜図１０を参照しながら説明する。なお、図６〜図１３に示したチューブポンプ６においては、ガイド部６１や光電センサー６６２などの記載を適宜、省略してある。
初めに、供給ライン５０３の開閉弁Ｖ４及び吐出ライン５０１のディスペンスバルブＶ１を開状態としてレジスト液ボトル５４からノズル５１までの流路を連通させた後、加圧ライン５０６の切替弁Ｖ７を開いて加圧ガス供給源５５から加圧用のガスを受け入れる。加圧用のガスによってレジスト液ボトル５４内が加圧されると、レジスト液ボトル５４内のレジスト液が中間タンク５３に移送される。

さらに不図示の加圧ラインから受け入れた加圧用のガスにより中間タンク５３内を加圧すると供給ライン５０３−チューブポンプ６−フィルター５２−ノズル５１までの流路がレジスト液で満たされ、空気抜きが行われる（図６）。次いで、ディスペンスバルブＶ１を閉じ、開閉弁Ｖ３を開いて流路をノズル５１側からリサイクルライン５０２に切り替え、ベントライン５０７の開閉弁Ｖ２を開いて中間タンク５３の加圧を継続することにより、リサイクルライン５０２の配管内をレジスト液で満たし、ベントライン５０７へ向けて空気を排出する（不図示）。
これらの動作において、ローター６５はホーム位置にあり、チューブ６２は押しつぶされていない状態でレジスト液を満たす操作が行われる。

こうしてレジスト液供給装置５内の流路５０３、６２、５０１、５０２の空気抜きを終えたら、加圧用のガスの供給を停止し、チューブポンプ６の出口側をリサイクルライン５０２に接続した状態のまま、フィルター５２のベントライン５０７の開閉弁Ｖ２を閉じる。しかる後、回転体６４を回転させ、ホーム位置にて待機していたローター６５を、ガイド部６１との間でチューブ６２を挟む位置まで進入させる（図７）。

ガイド部６１との間でチューブ６２を挟む位置までローター６５が進入すると、チューブ６２が押しつぶされ、さらにローター６５を移動させると、チューブ６２内のレジスト液の移送に伴い、チューブポンプ６からレジスト液が押し出される。このとき、図７に示すようにチューブポンプ６の出口側の吐出ライン５０１はリサイクルライン５０２に接続され、ノズル５１側の吐出ライン５０１は閉じられているので、ローター６５の進入時に押し出されたレジスト液は、再びチューブポンプ６の入口側に戻される。

またチューブポンプ６の出口側にフィルター５２が設けられ、一度、フィルター５２でろ過されたレジスト液がチューブポンプ６に戻されることにより、ウエハＷへのレジスト液の吐出動作の際に（後述の図８参照）、戻されたレジスト液を再びフィルター５２でろ過することができる。この結果、パーティクルや気泡のより少ないレジスト液をウエハＷに吐出することができる。

ローター６５をさらに移動させて、予め設定されたレジスト液の供給開始位置（例えば図７に示す位置）に到達したら、ローター６５の移動を停止する。このように、ローター６５の位置を調整する段階では、チューブポンプ６から押し出されたレジスト液の流れをリサイクルライン５０２側へ流すことにより、ノズル５１からの不必要なレジスト吐出を防止することができる。また、リサイクルライン５０２をチューブポンプ６の出口側に接続し、チューブポンプ６から押し出されたレジスト液をチューブポンプ６に戻すことにより、レジスト液を有効に活用できる。

レジスト液の供給開始位置にてローター６５の移動を停止させ、チューブ６２や吐出ライン５０１内のレジスト液の圧力が安定したら、図８に示すようにリサイクルライン５０２の開閉弁Ｖ３を閉じる一方、吐出ライン５０１のディスペンスバルブＶ１を開いて、チューブポンプ６からのレジスト液の供給先をノズル５１側に切り替える。
しかる後、吐出ライン５０１との接続部側へ向けてローター６５を移動させると、チューブポンプ６から押し出された処理液がフィルター５２にてろ過された後、ノズル５１へ供給される。ノズル５１に供給されたレジスト液は、鉛直軸周りに回転するウエハＷの表面に吐出され、ウエハＷの表面に広がってレジスト膜が形成される。

このように、予め設定された供給開始位置から、供給終了位置へローター６５を移動させてチューブ６２内のレジスト液の移送を行うことにより、所定量のレジスト液をノズル５１に向けて正確に供給することができる。このとき、レジストの供給を開始する位置から終了する位置までの距離を一定にするだけでなく、供給開始位置を固定することにより、毎回異なる位置から供給を開始する場合に比べて、ノズル５１へのレジスト液の供給量を安定させることができることを実験的に確かめている（後述の（実験２）参照）。

また、１つのローター６５のみを用いてチューブ６２を押圧することにより、後述する比較例に示す複数のローター６５を備えたチューブポンプ６ｃ（図１８参照）にてチューブ６２の複数箇所を同時に押圧しながら処理液の移送を行う場合に比べて、圧力変動が少なく安定した状態でレジスト液を供給できる（後述の（実験１）参照）。この結果、ノズル５１から吐出されるレジスト液の液切れを抑え、良好なレジスト膜の形成に寄与する。

ローター６５をレジスト液の供給終了位置まで移動させたら、例えば所定回数のウエハＷ処理毎や所定時間経過毎など、必要に応じてフィルター５２にトラップされた気泡の泡抜き操作を行う（図９）。泡抜き操作を行う場合は、吐出ライン５０１のディスペンスバルブＶ１を閉じ、ベントライン５０７の開閉弁Ｖ２を開いた後、供給終了位置からさらに吐出ライン５０１側へローター６５を移動させて、フィルター５２に向けてレジスト液を供給し、フィルター５２内に滞留している気泡を含んだレジスト液を押し出す。

ここで、図９に示す例ではローター６５がレジスト液の供給終了位置まで移動した後に、引き続き泡抜きの動作を実行する場合について説明した。但し、フィルター５２の出口側をリサイクルライン５０２に切り替えた状態で前記供給終了位置からホーム位置までローター６５を移動させ、その後、再びガイド部６１との間でチューブ６２を挟む位置にローター６５を移動させてから図９に示すバルブＶ１〜Ｖ４の設定に切り替えて泡抜き操作を行ってもよい。

以上に説明した動作をまとめると、泡抜き操作を行わない場合には図８のバルブＶ１〜Ｖ４設定の状態から吐出ライン５０１のディスペンスバルブＶ１を閉じてリサイクルライン５０２の開閉弁Ｖ３を開く。また、泡抜き操作を行う場合には図９のバルブＶ１〜Ｖ４設定の状態からベントライン５０７の開閉弁Ｖ２を閉じる。しかる後、供給終了位置または泡抜き操作の終了位置にて停止しているローター６５をさらに吐出ライン５０１側へ移動させ、ガイド部６１の壁面に対向する位置からローター６５を離脱させてホーム位置に戻す（図１０）。

この動作においても、チューブポンプ６から押し出されたレジスト液の流れがリサイクルライン５０２側へ流され、ノズル５１からの不必要なレジスト吐出を防止することができる。また、チューブポンプ６から押し出されたレジスト液をチューブポンプ６に戻すことにより、レジスト液を有効に活用できる。
以上に説明した図７→図８（→必要に応じて図９）→図１０に示す動作を繰り返すことにより、複数枚のウエハＷに対して所定量のレジスト液を安定して供給し、レジスト膜の塗布処理を良好に実施することができる。

本実施の形態に係るレジスト液供給装置５によれば以下の効果がある。ローター６５によりチューブ６２を押圧してレジスト液を移送するのでチューブポンプ６内におけるレジスト液の滞留が少なくなる。また、１つのローター６５のみを用いてチューブ６２を押圧するので送液動作に伴う脈動が小さくなり、所定量のレジスト液を安定して供給することができる。

次に図１１、図１２を参照しながらレジスト液供給装置５を用いたレジスト液の脱気法について説明する。なお、以下の説明では、図３〜図１０を用いて説明したものと共通の構成要素には、これらの図に示したものと同じ符号を付してある。
脱気を行う場合には、開閉弁Ｖ４を開きその下流側の供給ライン５０３−チューブ６２にかけての流路内がレジスト液で満たされた状態とする。このとき吐出ライン５０１のディスペンスバルブＶ１及びベントライン５０７の開閉弁Ｖ２を閉じ、リサイクルライン５０２の開閉弁Ｖ３を開いておく。次いで、ホーム位置から、ガイド部６１の壁面と対向する位置にローター６５を移動させた後、供給ライン５０３の開閉弁Ｖ４を閉じる（図１１）。

供給ライン５０３の開閉弁Ｖ４を閉じてから、吐出ライン５０１との接続部側へ向けてローター６５を移動させると、チューブ６２の上流側からレジスト液が補充されないので、図１１に示すようにチューブ６２は押しつぶされたままの状態となる。一方、弾性を有するチューブ６２には、元の形状に戻ろうとする復元力が作用することから開閉弁Ｖ４の下流側からチューブ６２との接続部までの供給ライン５０３の配管内が減圧状態となり、レジスト液中に溶解した気体が脱気される。なお、このときチューブポンプ６からのレジスト液の流出先をリサイクルライン５０２に替えてベントライン５０７としてもよい。
内径が６ｍｍ、肉厚が１．２５ｍｍの樹脂製のチューブ６２を用いた予備実験では、チューブ６２の復元力により、大気圧に対して-７０ｋＰａの減圧状態を形成できることを確認している。これは、レジスト液の脱気操作を行うのに十分な圧力状態である。

こうして図１１に示す状態を所定時間維持し脱気操作を終えたら、供給ライン５０３の開閉弁Ｖ４を開くと共に、移動方向を変えずにローター６５をホーム位置まで移動させる。この結果、弾性力によりチューブ６２の形状が元に戻り、脱気されたレジスト液がチューブ６２内に進入する。しかる後、再度、ガイド部６１との間でチューブ６２を挟む位置にローター６５を移動させ、処理液の移送を実行することにより脱気された処理液がフィルター５２を通過し脱気操作の際に発生した気泡が除去される（図１２）。そして、適切なタイミングで泡抜き操作を行うことにより（図９）、フィルター５２にて除去された気泡は外部へ排出される。

さらに本例のレジスト液供給装置５は、塗布、現像装置の運転停止やレジスト液供給装置５のメンテナンスなどの際に、吐出ライン５０１からのレジスト液を回収する操作にも利用することができる。この場合には、ノズル５１へのレジスト液の供給時とは反対方向にローター６５を移動させ、ガイド部６１との間でチューブ６２を挟む位置へ向けて吐出ライン５０１との接続部側からローター６５を進入させる（図１３）。しかる後、吐出ライン５０１のディスペンスバルブＶ１、供給ライン５０３の開閉弁Ｖ４を開いてノズル５１から中間タンク５３までの流路を連通させ、リサイクルライン５０２の開閉弁Ｖ３及びベントライン５０７の開閉弁Ｖ２を閉じた状態で、供給ライン５０３との接続部側へ向けてローター６５を移動させる。この動作に伴い、吐出ライン５０１の配管内のレジスト液がチューブ６２に向けて吸引され、出口側の供給ライン５０３（中間タンク５３）へ向けて処理液を移送することができる。

次に、チューブポンプ６のバリエーションについて説明する。図４、図５に示したチューブポンプ６において、チューブ６２が伸びる方向に沿った長さの異なる複数種類のガイド部６１を取り替えて使用し、レジスト液の供給開始位置と供給終了位置との距離を変化させることにより、ノズル５１へのレジスト液の供給量を変化させてもよい。また、内径の異なる複数種類のチューブ６２を取り替えて使用することにより、レジスト液の供給量を変化させてもよい。

また、図１４のチューブポンプ６ａに示すように、回転体６４には複数のローター６５を設けてもよい。この場合には、回転体６４同士の配置関係やチューブ６２が伸びる方向に沿ったガイド部６１の長さを調整することにより、１つのローター６５を用いてレジスト液の供給動作を行っている期間中、ガイド部６１との間でチューブ６２が挟まれる領域に他のローター６５を進入させない構成とする。これにより、１つのローター６５のみを用いて送液を行う状態が維持され、脈動の発生を抑え所定量のレジスト液を安定して供給することができる。

さらに、チューブ６２やローター６５の移動機構の構成は、図４や図１４に示したチューブポンプ６、６ａの例に限定されるものではない。図１５、図１６には、Ｕ字型に折り曲がったチューブ６２に替えて、直線状に伸びるチューブ６２に沿ってガイド部６１が設けられ、このガイド部６１とは別に設けられたガイド壁６１１との間でローター６５を挟んで案内するタイプのチューブポンプ６ｂを示している。また、本例のチューブポンプ６ｂは、互いに間隔を開けて配置されたプーリー６４１に捲回された２本の駆動ベルト６８を上下に配置し、これらの駆動ベルト６８の間にローターシャフト６５１を架け渡している。

各駆動ベルト６８が捲回された一方側及び他方側のプーリー６４１は、各々共通のローターシャフト６５１に支持され、一方側のローターシャフト６５１の基端部に設けられた電動モーター６７により駆動ベルト６８を回動させるとローター６５が移動し、レジスト液の供給が行われる。本例のチューブポンプ６ｂにおいては、ガイド部６１に加えてガイド壁６１１がガイド部を構成し、またプーリー６４１、ローターシャフト６５１、電動モーター６７及び駆動ベルト６８が移動機構を構成している。

またここで、レジスト液供給装置５がリサイクルライン５０２を備えることは必須ではない。例えば図１７のチューブポンプ６ｃに示すように、駆動部６９２により、回転体６４の径方向へ向けて突没自在なシャフト６９１によってローターシャフト６５１を保持してもよい。この例では、レジスト液の供給開始位置に到達するまではチューブ６２と接触しない位置にローター６５を退避させておく。ローター６５が供給開始位置に到達した後は、ローター６５の側周面が回転体６４から突出する位置にローター６５を移動させてチューブ６２を押圧する。

また、レジスト液の供給実施後においても、チューブ６２と接触しない位置にローター６５を退避させ、この状態でホーム位置までローター６５を移動させる。図１７に示す例では、ローター６５が供給開始位置と供給終了位置との間の領域以外の位置を移動する間はチューブ６２にローター６５が接触しないので、リサイクルライン５０２レジスト液を流さなくても、ノズル５１からの不必要なレジスト吐出を防止することができる。また本例では、チューブ６２を押圧せずにローター６５が移動できるので、供給開始位置へとローター６５を進入させる方向は、レジスト液の移送方向の上流側からでもよいし、下流側からでもよい。

さらにまた、図３に示したレジスト液供給装置５の構成において、吐出ライン５０１からリサイクルライン５０２が分岐する位置をフィルター５２の上流側に設けてもよい。この場合には、リサイクルライン５０２の流路上に別途、フィルター５２を設けるとよい。

この他、ローター６５をホーム位置へ戻す動作は必ずしも毎回行わなくてもよい。例えばチューブ６２が伸びる方向に沿って設けられたガイド部６１を等距離の複数領域に分割し、ローター６５が供給終了位置まで到達したら、レジスト液の供給を停止してウエハＷを交換し、前記供給終了位置を次の供給開始位置として次のウエハＷへのレジスト液供給を行う動作を例示できる。後述の（実験２）で検討するように、レジスト液の供給開始位置が異なっていても、ほぼ同量のレジスト液供給を行える場合にはこのような動作を実行することが可能となる（（実施例２−１、２−２）参照）。

このほか塗布、現像装置において、図３に示した処理液供給装置５を設けるユニットの種類は塗布ユニットに限られるものではない。既述の反射防止膜塗布ユニット（ＢＣＴ）２３における反射防止膜の原料液の吐出や現像ユニット（ＤＥＶ）２５における現像液の吐出を行う処理液供給装置５のほか、レジスト膜の上層に保護膜を形成する保護膜形成ユニット（ＩＴＣ）における保護膜の原料液の吐出を行う処理液供給装置５など、各種の液処理ユニットにも本発明は適用することができる。

これらに加え、処理液供給装置５の適用対象は、塗布、現像装置に設けられている液処理ユニットに限定されるものではない。酸性やアルカリ性の洗浄液を用いたウエハＷの洗浄処理を行う液処理ユニットにおいてこれらの洗浄液の吐出を行う処理液供給装置５に対しても、本発明は適用することができる。
そして、本発明の処理液供給装置５を介して処理液が供給される被処理体の種類は半導体ウエハの例に限定されるものではなく、ＦＰＤ（Flat Panel Display）用のガラス基板などであってもよい。

（実験１）
図４、図５に示した１つのローター６５を備えるチューブポンプ６と、図１８に示した４つのローター６５を備えるチューブポンプ６ｄとを用いてノズル５１にレジスト液を供給する実験を行い、レジスト液の供給圧力の経時変化及びノズル５１からのレジスト液の吐出状態を観察した。
Ａ．実験条件
（実施例１）
図３に示したレジスト液供給装置５に、図４、図５を用いて説明したチューブポンプ６を設置し、チューブポンプ６からのレジスト液の供給流量が０．５ｍｌ／秒となる速度でローター６５を移動させ、チューブポンプ６の出口側の吐出ライン５０１に設けた圧力計５６によりレジスト液の供給圧力の経時変化を測定した。またノズル５１からのレジスト液の吐出状態を目視により観察した。チューブ６２は樹脂製であり、内径が６ｍｍ、肉厚が１．２５ｍｍのものを用いた。
（比較例１）
図１８に示すようにローターシャフト６５１を通って互いに直交する方向に引いた直線と回転体６４の外周とが交差する位置に４つのローター６５を配置した点以外は、（実施例１）と同様の条件でレジスト液の供給圧力の経時変化を測定及びノズル５１からの吐出状態の目視観察を行った。本例ではチューブ６２は２つ〜３つのローター６５によって同時に押圧され、レジスト液の移送が行われる。

Ｂ．実験結果
（実施例１）におけるレジスト液の供給圧力の経時変化を図１９に示し、ノズル５１からのレジスト液の吐出状態を図２１に示す。また、（比較例１）におけるレジスト液の供給圧力の経時変化を図２０に示し、ノズル５１からのレジスト液の吐出状態を図２２（ａ）、（ｂ）に示す。
図１９、図２１において横軸は時間、縦軸は大気圧状態を基準（０ｋＰａ）とした圧力計５６の指示値を示している。

図１９に示した（実施例１）の実験結果によれば、１つのローター６５のみを用いてレジスト液の供給を行った場合、ローター６５の移動開始直後と停止直後とに比較的大きな圧力変動が発生する他は、ローター６５の移動期間中は、ほぼ２ｋＰａ程度の安定した圧力でレジスト液の供給が行われている。この結果、図２１に示すようにノズル５１からはレジスト液を連続して吐出することができた。

一方、図２０に示した（比較例１）の実験結果によると、チューブポンプ６ｄの出口の圧力が＋２０ｋＰａ〜−１０ｋＰａ程度の範囲内で常時、激しく振動する脈動が発生していることが確認できる。このような脈動の発生に伴って、図２２（ａ）に示すようにノズル５１から連続的にレジスト液が吐出されるタイミングと、図２２（ｂ）に示すようにノズル５１から吐出されるレジスト液が途切れるタイミングとが発生し、安定したレジスト液供給を行うことができなかった。

また、吐出ライン５０１の配管を透明な配管で構成し、ノズル５１に供給されるレジスト液を観察すると、（実施例１）のときには観察されなかった細かい気泡がレジスト液内に多数含まれていることを確認した。これは、隣り合う複数のローター６５で挟まれたチューブ６２内の区間が負圧状態となり、レジスト液に含まれている気体が放出されて発泡してしまった結果であると考えられる。気泡を含むレジスト液がウエハＷに供給されると、塗布ムラの発生や、膜中に欠陥が発生する原因となる。

（実験２）
（実施例１）と同じチューブポンプ６を用い、ローター６５によるレジスト液の供給開始位置と供給終了位置との間の距離を揃える一方、供給開始位置を変化させてノズル５１から吐出されるレジスト液の吐出量の変化を測定した。
Ａ．実験条件
（実施例２−１）図２３の（ａ）の符号を付した矢印に示すように、供給ライン５０３からのレジスト液の進入方向と直交する方向に向けて引いた直径と回転体６４の外周との交差位置（図２３中、０°と記してある）を供給開始位置、この供給開始位置から吐出ライン５０１側へ向けて回転体６４を９０°回転させた位置（同図中、９０°と記してある）を供給終了位置とした。この条件でチューブポンプ６からノズル５１にレジスト液の供給を供給し、ノズル５１からのレジスト液の吐出量を測定した。レジスト吐出量の測定は１０回行った。
（実施例２−２）図２３の（ｂ）の符号を付した矢印に示すように、０°の位置から吐出ライン５０１側へ向けて回転体６４を４５°回転させた位置を供給開始とし、この供給開始位置から同方向に回転体６４を９０°回転させた位置（同図中、１３５°と記してある）を供給終了位置としてレジスト液の供給を行った点以外は（実施例２−１）と同様である。
（実施例２−３）図２３の（ｃ）の符号を付した矢印に示すように、０°の位置から吐出ライン５０１側へ向けて回転体６４を９０°回転させた位置を供給開始とし、この供給開始位置から同方向に回転体６４を９０°回転させた位置（同図中、１８０°と記してある）を供給終了位置としてレジスト液の供給を行った点以外は（実施例２−１）と同様である。

Ｂ．実験結果
（実施例２−１〜２−３）の実験結果を図２４に示す。図２４の横軸は、ノズル５１からのレジスト液の吐出回数、縦軸は各回にて測定されたレジスト液の吐出量を示している。図中、（実施例２−１）の結果をバツのプロットで示し、（実施例２−２）の結果を白丸のプロットで示す。また、（実施例２−３）の結果を白い四角のプロットで示している。

図２４に示した実験結果によれば、（実施例２−１〜２−３）のいずれにおいても、ローター６５の供給開始位置が同じであればレジスト液の供給回数によらず、レジスト液の吐出量はほぼ一定となった。これに対して、各実施例間でレジスト液の吐出量を比較すると、（実施例２−１）はレジスト液の平均吐出量が０．７２２ｍｌである一方、（実施例２−２）はこれよりも平均吐出量が僅かに少なく０．７１６ｍｌであった。また、（実施例２−３）は（実施例２−１、２−２）に比べてレジスト液の平均吐出量が大きく増加し、０．８０７ｍｌとなった。
このように、ローター６５の吐出開始位置に応じてノズル５１から吐出されるレジスト液の量が変化する正確な理由は不明であるが、チューブ６２の配置形状や押圧位置に応じて、押しつぶされたチューブ６２が形状を復元する力が変化するためではないかと考えられる。

以上に説明したように、（実施例２−１〜２−３）の実験結果から、ノズル５１からのレジスト液の吐出量は、ローター６５の吐出開始位置に大きな影響を受けるという新たな知見が得られた。そこで、１つのローター６５で処理液の移送を行うチューブポンプ６においては、ローター６５による吐出開始位置をウエハＷの処理の度に揃えることにより、ウエハＷ面間で安定した量のレジスト液を供給できることが分かった。

Ｗウエハ
２００制御部
５レジスト液供給装置
５０１吐出ライン
５０２リサイクルライン
５０３供給ライン
５１ノズル
５２フィルター
５３中間タンク
５４レジスト液ボトル
６、６ａ〜６ｃ
チューブポンプ
６１ガイド部
６２チューブ
６５ローター
６７電動モーター
６７１モーターシャフト
６９２駆動部

Claims

処理液供給源から供給された処理液を、供給路に設けられた供給ポンプにより吐出部を介して被処理体へ吐出する処理液供給装置において、
前記供給ポンプは、
弾性を有し、前記供給路の一部を構成するチューブと、
前記チューブの外面を規制するため、当該チューブが伸びる方向に沿って設けられたガイド部と、
前記チューブを挟んでガイド部の反対側に位置し、当該ガイド部との間でチューブを押圧した状態で移動することにより処理液を移送する１つの押圧部と、
前記押圧部を、処理液の移送方向の上流側であって、前記ガイド部との間にチューブが挟まれる位置に進入させ、当該ガイド部に沿って下流側へ向けて前記押圧部を移動させて前記吐出部へ処理液を供給した後、前記チューブを押圧する位置から押圧部を脱離させるように移動させる移動機構と、を備え、
前記供給ポンプにより前記吐出部へ向けて処理液を供給する期間中、前記チューブは前記押圧部のみによって押圧されることと、
前記吐出部へ処理液を供給する際、前記押圧部は、前記チューブが伸びる方向の予め設定された位置にてチューブを押圧した状態から移動を開始することと、
さらに、前記供給ポンプと吐出部との間の供給路から分岐する分岐路と、前記吐出部と分岐路との間で処理液の供給先を切り替える流路切替部と、前記押圧部が前記ガイド部との間にチューブが挟まれる位置に進入してから前記予め設定された位置まで前記チューブを押圧した状態で移動する期間中は、処理液の供給先を前記分岐路に切り替えた状態とするステップと、前記押圧部が当該予め設定された位置に到達した後は、処理液の供給先を前記吐出部側に切り替えた状態とするステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えることと、を特徴とする処理液供給装置。
処理液供給源から供給された処理液を、供給路に設けられた供給ポンプにより吐出部を介して被処理体へ吐出する処理液供給装置において、
前記供給ポンプは、
弾性を有し、前記供給路の一部を構成するチューブと、
前記チューブの外面を規制するため、当該チューブが伸びる方向に沿って設けられたガイド部と、
前記チューブを挟んでガイド部の反対側に位置し、当該ガイド部との間でチューブを押圧した状態で移動することにより処理液を移送する１つの押圧部と、
前記押圧部を、処理液の移送方向の上流側であって、前記ガイド部との間にチューブが挟まれる位置に進入させ、当該ガイド部に沿って下流側へ向けて前記押圧部を移動させて前記吐出部へ処理液を供給した後、前記チューブを押圧する位置から押圧部を脱離させるように移動させる移動機構と、を備え、
前記供給ポンプにより前記吐出部へ向けて処理液を供給する期間中、前記チューブは前記押圧部のみによって押圧されることと、
さらに、前記チューブよりも処理液供給源側の供給路に設けられ、当該チューブに流入する処理液の給断を行う開閉弁と、前記チューブよりも吐出部側の供給路に設けられたフィルターと、を備え、前記開閉弁とチューブとの間の供給路に処理液が存在する状態で前記押圧部によりチューブを押圧するステップと、次いで、前記開閉弁を閉じた状態で前記押圧部を吐出部側の供給路に向けて移動させ、チューブの形状が元に戻ろうとする力を利用して前記開閉弁とチューブとの間の供給路内を減圧し、処理液を脱気するステップと、しかる後、前記開閉弁を開いて脱気された処理液をチューブに進入させてから、再度、チューブを押圧した状態で前記押圧部を移動させることにより、前記フィルターへ処理液を供給し、脱気された処理液をろ過するステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えることと、を特徴とする処理液供給装置。
処理液供給源から供給された処理液を、供給路に設けられた供給ポンプにより吐出部を介して被処理体へ吐出する処理液供給装置において、
前記供給ポンプは、
弾性を有し、前記供給路の一部を構成するチューブと、
前記チューブの外面を規制するため、当該チューブが伸びる方向に沿って設けられたガイド部と、
前記チューブを挟んでガイド部の反対側に位置し、当該ガイド部との間でチューブを押圧した状態で移動することにより処理液を移送する１つの押圧部と、
前記押圧部を、処理液の移送方向の上流側であって、前記ガイド部との間にチューブが挟まれる位置に進入させ、当該ガイド部に沿って下流側へ向けて前記押圧部を移動させて前記吐出部へ処理液を供給した後、前記チューブを押圧する位置から押圧部を脱離させるように移動させる移動機構と、を備え、
前記供給ポンプにより前記吐出部へ向けて処理液を供給する期間中、前記チューブは前記押圧部のみによって押圧されることと、
前記移動機構は、複数の押圧部を移動させるように構成され、１つの押圧部を用いて前記吐出部へ向けて処理液を供給する期間中、前記ガイド部との間でチューブが挟まれる領域に他の押圧部を進入させないように構成されていることと、を特徴とする処理液供給装置。
前記吐出部へ処理液を供給する際、前記押圧部は、前記チューブが伸びる方向の予め設定された位置にてチューブを押圧した状態から移動を開始することを特徴とする請求項２または３に記載の処理液供給装置。
前記分岐路は、前記チューブよりも処理液供給源側の供給路に合流し、処理液の供給先が分岐路に切り替えられた状態の期間中に前記供給ポンプから供給された処理液は、当該供給ポンプに戻されることを特徴とする請求項１に記載の処理液供給装置。
前記供給ポンプから供給された処理液が前記分岐路を介して当該供給ポンプに戻されるまでの流路にフィルターが設けられていることを特徴とする請求項５に記載の処理液供給装置。
前記供給ポンプは、前記吐出部への処理液の供給量を変更するため、前記チューブが伸びる方向に沿った長さの異なる複数のガイド部が取り替え自在に構成されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の処理液供給装置。
前記供給ポンプは、前記吐出部への処理液の供給量を変更するため、内径の異なる複数のチューブが取り替え自在に構成されていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一つに記載の処理液供給装置。
処理液供給源から供給された処理液を、供給路に設けられた供給ポンプにより吐出部を介して被処理体へ吐出する処理液供給方法において、
弾性を有し、前記供給路の一部を構成するチューブと、前記チューブの外面を規制するため、当該チューブが伸びる方向に沿って設けられたガイド部と、前記チューブを挟んでガイド部の反対側に位置し、当該ガイド部との間でチューブを押圧した状態で移動することにより処理液を移送する１つの押圧部と、を備える供給ポンプを用い、
前記押圧部を、処理液の移送方向の上流側であって、前記ガイド部との間にチューブが挟まれる位置に進入させる工程と、
次いで、当該ガイド部に沿って下流側へ向けて前記押圧部を移動させて前記吐出部へ処理液を供給する工程と、
しかる後、前記チューブを押圧する位置から押圧部を脱離させる工程と、を含み、
前記供給ポンプにより前記吐出部へ向けて処理液を供給する期間中、前記チューブを前記押圧部のみによって押圧することと、
前記吐出部へ処理液を供給する工程にて、前記押圧部は、前記チューブが伸びる方向の予め設定された位置にてチューブを押圧した状態から移動を開始することと、
さらに、前記供給ポンプと吐出部との間の供給路から分岐する分岐路と、前記吐出部と分岐路との間で処理液の供給先を切り替える流路切替部と、を用い、
前記押圧部が前記ガイド部との間にチューブが挟まれる位置に進入してから前記予め設定された位置まで前記チューブを押圧した状態で移動する期間中は、処理液の供給先を前記分岐路に切り替えた状態とする工程と、
前記押圧部が当該予め設定された位置に到達した後は、処理液の供給先を前記吐出部側に切り替えた状態とする工程と、を含むことを特徴とする処理液供給方法。
前記分岐路は、前記チューブよりも処理液供給源側の供給路に合流し、
処理液の供給先が分岐路に切り替えられた状態とする工程においては、前記供給ポンプから供給された処理液は、当該供給ポンプに戻されることを特徴とする請求項９に記載の処理液供給方法。
前記供給ポンプから供給され、前記分岐路を介して当該供給ポンプに戻される処理液をフィルターによりろ過する工程を含むことを特徴とする請求項１０に記載の処理液供給方法。
前記チューブよりも処理液供給源側の供給路に設けられ、当該チューブに流入する処理液の給断を行う開閉弁と、前記チューブよりも吐出部側の供給路に設けられたフィルターとを用い、
前記開閉弁とチューブとの間の供給路に処理液が存在する状態で前記押圧部によりチューブを押圧する工程と、
次いで、前記開閉弁を閉じた状態で前記押圧部を吐出部側の供給路に向けて移動させ、チューブの形状が元に戻ろうとする力を利用して前記開閉弁とチューブとの間の供給路内を減圧し、処理液を脱気する工程と、
しかる後、前記開閉弁を開いて脱気された処理液をチューブに進入させてから、再度、チューブを押圧した状態で前記押圧部を移動させることにより、前記フィルターへ処理液を供給し、脱気された処理液をろ過する工程と、を含むことを特徴とする請求項９ないし１１のいずれか一つに記載の処理液供給方法。
吐出部を介して被処理体へ処理液を吐出する処理液供給装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、前記プログラムは請求項９ないし１２のいずれか一つに記載された処理液供給方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。