JP6020753B1 - 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
前記外周端面中の、凹状欠点が占める領域の面積の割合が0.0469%以下であり、
前記外周端面が有する、前記凹状欠点のうち、最も面積の大きい凹状欠点の面積である最大欠点面積が、100μm 2 以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
(磁気記録媒体用ガラス基板)
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の一構成例について説明を行う。
(工程1)ガラス素基板から、中央部に円孔を有する円板形状のガラス基板に加工する形状付与工程。
(工程2)ガラス基板の内周と外周の端面部分の面取りを行う面取り工程。
(工程3)ガラス基板の端面(内周端面及び外周端面)を研磨する端面研磨工程。
(工程4)ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程。
(工程5)ガラス基板を洗浄して乾燥する洗浄・乾燥工程。
[磁気記録媒体]
次に、本実施形態の磁気記録媒体の一構成例について説明する。
(1)外周端面中の凹状欠点が占める領域の面積の割合
以下の手順により外周端面中の凹状欠点が占める領域の面積の割合を算出した。
(表面画像取得ステップ)
マイクロスコープ(株式会社 キーエンス製 型番:VHX−900)を用いて、各実験例で作製したガラス基板の外周端面を複数の測定点で撮影した(倍率×200)。このように、表面画像取得ステップにおいて、マイクロスコープの倍率を200倍とした場合、凹状欠点を検出できる程度に十分に拡大しつつも、観察視野を十分に広くとることができ、局所的な観察とはならない。このため、凹状欠点を検出し易く、凹状欠点の存在を見逃す可能性を十分に抑制できる。
(閾値設定ステップ)
次に、取得した表面画像中の、外周側面部、及び一対の外周面取り部に含まれる凹状欠点の明度と、それ以外の部分の明度とが分離できるように閾値を設けた。具体的には取得した表面画像と、表面画像の明度分布とを比較しながら、凹状欠点を含む明度の領域の上限値と下限値との2つの閾値を設定した。
(二値化処理済み表面画像形成ステップ)
次いで、閾値設定ステップで設定した閾値を用いて、表面画像を二値化した、二値化処理済み表面画像を形成した。
(凹状欠点が占める領域の面積の割合の算出ステップ)
二値化処理済み表面画像から、凹状欠点の面積、すなわち設定した2つの閾値で挟まれる明度の領域の面積と、外周端面の面積とを算出し、外周端面中の、凹状欠点が占める領域の面積の割合を算出した。
(2)凹状欠点の最大欠点面積
外周端面中の凹状欠点が占める領域の面積の割合を算出する際に形成した、二値化処理済み表面画像から、各凹状欠点の面積を算出し、最も面積が大きい凹状欠点の面積を、最大欠点面積とした。
(3)パーティクル増加率
既述の様に、ガラス基板の外周端面に微小な疵がある場合、該疵内に研磨砥粒等が入り込み、洗浄を行った際などに主表面に研磨砥粒等が移動し付着する場合がある。そこで、洗浄前後での主表面でのパーティクルの増加率について評価を行う。
(パーティクル増加率:%)=[(洗浄後カウント)−(洗浄前カウント)]/(洗浄後カウント)×100
そして、得られたパーティクル増加率について、0以上100%以下の場合には◎と評価し、100%より大きく260%以下の場合には〇と評価し、260%を超えた場合には×と評価する。
[実験例1]
以下の順に各工程を実施して、磁気記録媒体用ガラス基板の作製を行う。
(形状付与工程)
外径65mm、内径20mm、板厚0.8mmの磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように、フロート法で成形されたガラス素基板を、中央部に円孔を有するドーナツ形状を有するガラス基板に加工する。
(面取り工程)
形状付与工程で得られたガラス基板の内周端面と外周端面とに、それぞれ内周面取り部、及び外周面取り部を形成する。この際、各面取り部について、面取り幅0.15mm、面取り角度45°のガラス基板が得られるように面取り加工を行っている。
(端面研磨工程:一次端面研磨工程)
面取り工程までを同様の条件で実施したガラス基板を樹脂製のスペーサーを介して積層し、ガラス基板積層体を形成する。そして、研磨具として略円柱形状のナイロン製の二本のブラシを用い、ガラス基板積層体の内周端面、及び外周端面に対し、それぞれブラシの側面と、ガラス基板積層体を構成するガラス基板の端面とが接触するように押しつける。
(主表面研磨工程:一次ラップ工程)
研磨具として平均粒径9μmのダイヤモンド粒子を含有する固定砥粒工具と、界面活性剤を含有する研削液とを用いて、両面研磨装置 (浜井産業社製、製品名:16BF)によりガラス基板の上下の主表面を研削する。
(主表面研磨工程:一次主表面研磨工程)
研磨具として、スウェードタイプのポリウレタン製研磨パッドと、平均粒径が1μmの酸化セリウムを含有する研削液とを用いて、両面研磨装置(浜井産業社製、製品名:16BF)によりガラス基板の上下の主表面をポリッシュする。
(端面研磨工程:二次端面研磨工程)
主表面研磨工程(一次主表面研磨工程)までを同様の条件で実施したガラス基板を、樹脂製のスペーサーを介して積層し、ガラス基板積層体を形成する。そして、研磨具として研磨面に不織布が配置されている、略円柱形状の研磨パッドを二本用い、ガラス基板積層体の内周端面、及び外周端面に対し、それぞれ研磨パッドの研磨面である側面と、ガラス基板積層体を構成するガラス基板の端面とが接触するように押しつける。
(主表面研磨工程:二次主表面研磨工程)
研磨具として、スウェードタイプのポリウレタン製研磨パッドと、平均粒径が20nmのコロイダルシリカを含有する研削液とを用いて、両面研磨装置(浜井産業社製、製品名:16BF)によりガラス基板の上下の主表面をポリッシュする。
(端面研磨工程:三次端面研磨工程)
研磨具としてスウェードタイプのポリウレタン製研磨パッドと、平均粒径が20nmのコロイダルシリカを含有する研削液とを用いて、ガラス基板一枚ごとに、すなわち枚葉で5分間ずつ外周端面の研磨を行う。
(洗浄・乾燥工程)
端面研磨工程(三次端面研磨工程)を行ったガラス基板は、スクラブ洗浄、洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い(精密洗浄)、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥を行う。
[実験例2]
実験例2においては、端面研磨工程(三次端面研磨工程)の時間を1分間とし、実験例1の場合よりも短くした点以外は、実験例1の場合と同様にして、ガラス基板を作製し、評価を行っている。また、端面研磨工程の研磨時間をまとめて表2に示す。
[実験例3〜実験例5]
実験例3〜5については、実験例3〜5では端面研磨工程(三次端面研磨工程)を実施していない点、及び実験例4、5では端面研磨工程(二次端面研磨工程)の研磨時間を変更した点以外は、実験例1の場合と同様にしてガラス基板を作製し、評価を行っている。
[実験例6〜実験例8]
実験例6〜実験例8については、実験例6〜実験例8では端面研磨工程(二次端面研磨工程)、及び端面研磨工程(三次端面研磨工程)を実施していない点、及び実験例7、8では端面研磨工程(一次端面研磨工程)の研磨時間を変更した点以外は、実験例1の場合と同様にしてガラス基板を作製し、評価を行っている。
121、122 主表面
13 外周端面
131、133、221、223 外周面取り部
132、222 外周側面部
14 内周端面
23 凹状欠点
Claims (6)
- ドーナツ形状を有し、一対の主表面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記外周端面は外周側面部と一対の外周面取り部とを有し、
前記外周端面中の、凹状欠点が占める領域の面積の割合が0.0469%以下であり、
前記外周端面が有する、前記凹状欠点のうち、最も面積の大きい凹状欠点の面積である最大欠点面積が、100μm 2 以下である磁気記録媒体用ガラス基板。 - 前記外周端面中の、前記凹状欠点が占める領域の面積の割合が0.01%以下である請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- 前記外周端面中の、前記凹状欠点が占める領域の面積の割合が0.005%以下である請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- 前記外周端面中の、前記凹状欠点が占める領域の面積の割合は、
前記外周端面について、表面画像を得て、
前記表面画像中の、前記外周側面部、及び一対の前記外周面取り部に含まれる凹状欠点の明度と、凹状欠点以外の部分の明度とが分離できるように閾値を設け、
前記表面画像を前記閾値で二値化した、二値化処理済み表面画像を形成し、
前記二値化処理済み表面画像から算出する、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。 - エネルギーアシスト磁気記録媒体用の磁気記録媒体用ガラス基板である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- 請求項1乃至5のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板を含む磁気記録媒体。
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