JP5939350B1 - 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
前記外周側面部の算術平均粗さRaが0.1μm以下であり、
前記外周側面部について、表面から5μmをエッチングした後のエッチング後外周側面部の算術平均粗さRaが0.5μm以下であり、最大高さ粗さRzが10μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
(磁気記録媒体用ガラス基板)
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の一構成例について説明を行う。
(工程1)ガラス素基板から、中央部に円孔を有する円板形状のガラス基板に加工する形状付与工程。
(工程2)ガラス基板の内周と外周の端面部分の面取りを行う面取り工程。
(工程3)ガラス基板の端面(内周端面及び外周端面)を研磨する端面研磨工程。
(工程4)ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程。
(工程5)ガラス基板を洗浄して乾燥する洗浄・乾燥工程。
(原因1)工程2の面取り工程においては、外周面取り部だけではなく、外周側面部も研削することになるが、この際外周側面部に微小クラックが発生し、工程3の端面研磨工程で十分に除去できなかった場合。
(原因2)工程4の主表面研磨工程においては、キャリアに形成された円状の孔に、主表面研磨工程に供するガラス基板を挿入、保持し、両面研磨装置によりガラス基板の主表面を研磨できるが、研磨の際に、該キャリアの孔に保持されたガラス基板も回転している。この際にキャリアとガラス基板との擦れにより疵が発生する場合。
[磁気記録媒体]
次に、本実施形態の磁気記録媒体の一構成例について説明する。
外周側面部、及びエッチング後外周側面部の算術平均粗さRa、及びエッチング後外周側面部の最大高さ粗さRzは、キーエンスのレーザー顕微鏡(株式会社キーエンス製 Violet Laser color 3D、VK−9710、Laser Scanning Microscope)を使用して外周側面部を観察し、観察結果を用いて算出した。
(2)熱割れ試験
各実験例で作製したガラス基板について、急激な温度変化を加えて熱割れの発生率について評価を行った。
[実験例1]
以下の順に各工程を実施して、磁気記録媒体用ガラス基板の作製を行った。
(形状付与工程)
外径65mm、内径20mm、板厚0.8mmの磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように、表1のガラスAからなるガラス素基板を、中央部に円孔を有するドーナツ形状を有するガラス基板に加工した。
(面取り工程)
形状付与工程で得られたガラス基板の内周端面と外周端面とに、それぞれ内周面取り部、及び外周面取り部を形成した。この際、各面取り部について、面取り幅0.15mm、面取り角度45°のガラス基板が得られるように面取り加工を行った。
(主表面研磨工程:一次ラップ工程)
研磨具として平均粒径9μmのダイヤモンド粒子を含有する固定砥粒工具と、界面活性剤を含有する研削液とを用いて、両面研磨装置 (浜井産業社製、製品名:16BF)によりガラス基板の上下の主表面を研削した。両面研磨装置内でガラス基板を保持するキャリアとしては、ガラス繊維含有エポキシ樹脂からなるキャリアを使用した。
(端面研磨工程)
主表面研磨工程(一次ラップ工程)までを同様の条件で実施したガラス基板を積層した。そして、研磨具としてナイロン製のブラシを用い、平均粒径1μmの酸化セリウム研磨剤を供給しながら、積層されたガラス基板の内周端面、及び外周端面に対し、回転するブラシを押しつけることで内周端面、及び外周端面の研磨を行った。
(主表面研磨工程:二次ラップ工程)
研磨具として平均粒径4μmのダイヤモンド粒子を含有する固定砥粒工具と、界面活性剤を含有する研削液とを用いて、両面研磨装置 (浜井産業社製、製品名:16BF)によりガラス基板の上下の主表面を研削した。
(主表面研磨工程:一次ポリッシュ工程)
研磨具として、スウェードタイプのポリウレタン製研磨パッドと、平均粒径1μmの酸化セリウムを含有する研削液とを用いて、両面研磨装置 (浜井産業社製、製品名:16BF)によりガラス基板の上下の主表面をポリッシュした。
(主表面研磨工程:二次ポリッシュ工程)
研磨具として、スウェードタイプのポリウレタン製研磨パッドと、平均粒径が20nm以下のコロイダルシリカを含有する研削液とを用いて、両面研磨装置(浜井産業社製、製品名:16BF)によりガラス基板の上下の主表面をポリッシュした。
(洗浄・乾燥工程)
主表面研磨工程(二次ポリッシュ工程)を行ったガラス基板は、スクラブ洗浄、洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い(精密洗浄)、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥を行った。
[実験例2]
端面研磨工程における外周研磨の研磨量を11μmとした点以外は、実験例1と同様にしてガラス基板の製造、及び評価を行った。評価結果を表2に示す。
[実験例3〜実験例6]
以下の点以外は実験例1と同様にして、ガラス基板の製造、及び評価を行った。
(変更点1)
主表面研磨工程(一次ラップ工程)から、主表面研磨工程(二次ポリッシュ工程)までの工程の順番を以下の順に変更した。
(変更点2)
主表面研磨工程(一次ラップ工程)、主表面研磨工程(二次ラップ工程)、主表面研磨工程(一次ポリッシュ工程)、及び主表面研磨工程(二次ポリッシュ工程)で用いたキャリアの材料を変更した。
[実験例7〜実験例15]
以下の点以外は実験例1と同様にして、ガラス基板の製造、及び評価を行った。
(変更点1)
主表面研磨工程(一次ラップ工程)から、主表面研磨工程(二次ポリッシュ工程)までの工程の順番を以下の順に変更した。
(変更点2)
端面研磨工程の条件を以下のように変更した。
(変更点3)
主表面研磨工程(一次ラップ工程)、主表面研磨工程(二次ラップ工程)、主表面研磨工程(一次ポリッシュ工程)、及び主表面研磨工程(二次ポリッシュ工程)で用いたキャリアの材料を変更した。
[実験例16]
本実験例では、主表面研磨工程(一次ポリッシュ工程)の後、主表面研磨工程(二次ポリッシュ工程を実施する前にガラス基板の化学強化処理を行う化学強化工程を実施した点以外は、実験例1と同様にしてガラス基板の製造、及び評価を行った。評価結果を表2に示す。
[実験例17、実験例18]
本実験例では、端面研磨工程における外周研磨の研磨量を5μmとした点、化学強化工程において、外周側面部における圧縮応力の深さDOLが、実験例17は10μm、実験例18は17μmとなるように化学強化を実施した点以外は、実験例16と同様にしてガラス基板の製造、及び評価を行った。
[実験例19、実験例21]
形状付与工程に供するガラス基板として、表1のガラスB(実験例19)、ガラスC(実験例21)からなるガラス素基板を用いた点以外は、実験例1と同様にしてガラス基板の製造、及び評価を行った。評価結果を表2に示す。
[実験例20、実験例22]
形状付与工程に供するガラス基板として、表1のガラスB(実験例20)、またはガラスC(実験例22)からなるガラス素基板を用いた点以外は、実験例8と同様にしてガラス基板の製造、及び評価を行った。評価結果を表2に示す。
121、122 主表面
13 外周端面
131、133 外周面取り部
132 外周側面部
14 内周端面
141、143 内周面取り部
142 内周側面部
Claims (6)
- ドーナツ形状を有し、一対の主表面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記外周端面は外周側面部と一対の外周面取り部とを有し、
前記外周側面部の算術平均粗さRaが0.1μm以下であり、
前記外周側面部について、表面から5μmをエッチングした後のエッチング後外周側面部の算術平均粗さRaが0.5μm以下であり、最大高さ粗さRzが10μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。 - 50℃以上350℃以下の温度域における熱膨張係数が70x10−7/℃以下であり、
ガラス転移点Tgが650℃以上であるガラス材料からなる請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。 - 50℃以上350℃以下の温度域における熱膨張係数が55x10−7/℃以下であるガラス材料からなる請求項1または2に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- 少なくともガラス基板の外周側面部において、化学強化処理による圧縮応力の深さDOLが、1μm≦DOL≦15μmである請求項1乃至3のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- エネルギーアシスト磁気記録媒体用の磁気記録媒体用ガラス基板である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
- 請求項1乃至5のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板を含む磁気記録媒体。
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WO2019004484A1 (ja) * | 2017-06-30 | 2019-01-03 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク |
CN112119047A (zh) * | 2018-05-16 | 2020-12-22 | Hoya株式会社 | 磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板、磁记录介质、磁记录再生装置用玻璃间隔物和磁记录再生装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11175964A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-07-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁気記録媒体用基板 |
JP2006179180A (ja) * | 1995-04-27 | 2006-07-06 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気ディスク |
JP2013023420A (ja) * | 2011-07-22 | 2013-02-04 | Ohara Inc | 結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板 |
JP2015060614A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2015135720A (ja) * | 2013-02-22 | 2015-07-27 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク |
WO2015152316A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板 |
-
2015
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006179180A (ja) * | 1995-04-27 | 2006-07-06 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気ディスク |
JPH11175964A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-07-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁気記録媒体用基板 |
JP2013023420A (ja) * | 2011-07-22 | 2013-02-04 | Ohara Inc | 結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板 |
JP2015135720A (ja) * | 2013-02-22 | 2015-07-27 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク |
JP2015060614A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
WO2015152316A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019004484A1 (ja) * | 2017-06-30 | 2019-01-03 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク |
JP6467118B1 (ja) * | 2017-06-30 | 2019-02-06 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク |
US11152026B2 (en) | 2017-06-30 | 2021-10-19 | Hoya Corporation | Substrate for magnetic disks, and magnetic disk |
US11694718B2 (en) | 2017-06-30 | 2023-07-04 | Hoya Corporation | Substrate for magnetic disk, magnetic disk, and hard disk drive apparatus |
CN112119047A (zh) * | 2018-05-16 | 2020-12-22 | Hoya株式会社 | 磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板、磁记录介质、磁记录再生装置用玻璃间隔物和磁记录再生装置 |
US11447414B2 (en) | 2018-05-16 | 2022-09-20 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium, glass spacer for magnetic recording and reproducing apparatus, and magnetic recording and reproducing apparatus |
US11884584B2 (en) | 2018-05-16 | 2024-01-30 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate or for glass spacer for magnetic recording and reproducing |
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