JP6007155B2 - 現像処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び現像処理装置 - Google Patents
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Description
Tone Development)により、レジストパターンの解像度を2倍に向上させる方法が提案されている(特許文献1)。かかる方法では、先ず、ウェハW上に形成されたレジスト膜を所定のパターンのマスクを用いて露光処理し、次いでポジ現像によりレジストパターンを形成する。この際、図11に示すように、マスク400を介して露光されたレジスト膜401における露光量の分布は、露光した部分で高く、露光していない部分では低い、略正弦波状となる。そして、レジスト膜401にポジ現像用の現像液を供給して現像することにより、露光量が所定の値D1よりも高い領域のレジスト膜401が溶解し、図12に示すように所定のレジストパターン402が形成される。その後、レジストパターン402に対してネガ現像用の現像液を供給して現像することにより、図13に示すように、露光量が所定の値D2よりも低い領域のレジストパターン402が溶解する。その結果、マスク400のパターンの半分のピッチのレジストパターン403がウェハW上に形成される。
ことを目的としている。
30 現像処理装置
31 下部反射防止膜形成装置
32 レジスト塗布装置
33 上部反射防止膜形成装置
40 熱処理装置
154 ポジ型現像液供給ノズル
158 リンス液供給ノズル
161 ネガ型現像液供給ノズル
200 レジストパターン
201 レジストパターン
W ウェハ
Claims (6)
- レジスト膜が形成された基板を露光処理した後にポジ現像とネガ現像を行い、基板上に所定のパターンを形成する現像処理方法であって、
ポジ型現像液によりポジ現像した基板に対して、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコールもしくはターシャリー−ブチルアルコールのいずれか、または、イソプロピルアルコールと1−ブタノールを混合したものである有機溶剤を供給してリンス洗浄を行うリンス工程と、
その後、ネガ型現像液を基板に供給してネガ現像を行うネガ現像工程と、を有する、ことを特徴とする、現像処理方法。 - 前記イソプロピルアルコールと1−ブタノールとの混合液における1−ブタノールの濃度は60%以下であることを特徴とする、請求項1に記載の現像処理方法。
- 請求項1または2に記載の現像処理方法を現像処理装置によって実行させるために、当該現像処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項3に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- レジスト膜が形成された基板を露光処理した後にポジ現像とネガ現像を行い、基板上に所定のパターンを形成する現像処理装置であって、
基板にポジ型現像液を供給する第1の供給部と、
ポジ型現像液によりポジ現像された基板に対して、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコールもしくはターシャリー−ブチルアルコールのいずれか、または、イソプロピルアルコールと1−ブタノールを混合したものである有機溶剤を供給するリンス液供給部と、
ポジ型現像液によりポジ現像された後に前記有機溶剤を用いてリンス洗浄された基板に、ネガ型現像液を供給する第2の供給部と、を有することを特徴とする、現像処理装置。 - 前記イソプロピルアルコールと1−ブタノールとの混合液における1−ブタノールの濃度は60%以下であることを特徴とする、請求項5に記載の現像処理装置。
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