JP4723631B2 - 現像処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び現像処理装置 - Google Patents
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Description
20 スピンチャック
33 現像液ノズル
40 純水ノズル
50 制御部
60 薬液ノズル
C 混合液
D 現像液
P 純水
W ウェハ
Claims (10)
- 基板の現像処理方法であって、
基板の中心部に少なくとも現像液を供給し、基板全面を現像液で覆う第1の工程と、
その後、基板の中心部に純水を供給し、前記第1の工程で供給した現像液を基板全面から追い出す第2の工程と、
その後、基板を回転させながら当該基板に現像液を供給し、基板を現像処理する第3の工程と、を有し、
前記第3の工程において、現像液ノズルから基板の外周部に現像液を供給した後、前記現像液ノズルを基板の中心部に移動させながら、基板に現像液を供給することを特徴とする、現像処理方法。 - 前記第1の工程において、基板の中心部に現像液と純水を同時に供給することを特徴とする、請求項1に記載の現像処理方法。
- 基板の現像処理方法であって、
基板の中心部に少なくとも現像液を供給し、基板全面を現像液で覆う第1の工程と、
その後、基板の中心部に純水を供給し、前記第1の工程で供給した現像液を基板全面から追い出す第2の工程と、
その後、基板を回転させながら当該基板に現像液を供給し、基板を現像処理する第3の工程と、を有し、
前記第1の工程において、基板の中心部に現像液と界面活性剤を含む薬液を同時に供給することを特徴とする、現像処理方法。 - 前記第1の工程と前記第2の工程は、基板を回転させながら行われることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の現像処理方法。
- 請求項1〜4の現像処理方法を現像処理装置によって実行させるために、当該現像処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項5に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- 基板の現像処理を行う現像処理装置であって、
基板に現像液を供給する現像液ノズルと、
基板に純水を供給する純水ノズルと、
基板を保持して当該基板を回転させる回転保持部と、
基板の中心部に少なくとも現像液を供給し、基板全面を現像液で覆う第1の工程と、その後、基板の中心部に純水を供給し、前記第1の工程で供給した現像液を基板全面から追い出す第2の工程と、その後、基板を回転させながら当該基板に現像液を供給し、基板を現像処理する第3の工程と、を実行するように前記現像液ノズル、前記純水ノズル及び前記回転保持部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記第3の工程において、前記現像液ノズルから基板の外周部に現像液を供給した後、前記現像液ノズルを基板の中心部に移動させながら、基板に現像液を供給するように前記現像液ノズルを制御することを特徴とする、現像処理装置。 - 前記制御部は、前記第1の工程において、基板の中心部に現像液と純水を同時に供給するように前記現像液ノズル及び前記純水ノズルを制御することを特徴とする、請求項7に記載の現像処理装置。
- 基板の現像処理を行う現像処理装置であって、
基板に現像液を供給する現像液ノズルと、
基板に純水を供給する純水ノズルと、
基板に界面活性剤を含む薬液を供給する薬液ノズルと、
基板を保持して当該基板を回転させる回転保持部と、
基板の中心部に少なくとも現像液を供給し、基板全面を現像液で覆う第1の工程と、その後、基板の中心部に純水を供給し、前記第1の工程で供給した現像液を基板全面から追い出す第2の工程と、その後、基板を回転させながら当該基板に現像液を供給し、基板を現像処理する第3の工程と、を実行するように前記現像液ノズル、前記純水ノズル及び前記回転保持部を制御する制御部と、有し、
前記制御部は、前記第1の工程において、基板の中心部に現像液と薬液を同時に供給するように前記現像液ノズル及び前記薬液ノズルを制御することを特徴とする、現像処理装置。 - 前記制御部は、基板を回転させながら、前記第1の工程と前記第2の工程を実行するように前記回転保持部を制御することを特徴とする、請求項7〜9のいずれかに記載の現像処理装置。
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