JP6002470B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
SEM筐体1は、電子源11、引出電極12、アノード電極13、コンデンサレンズ14、ExB形フィルタa15、変換板16、検出器a17、ExB形フィルタb18、信号電子制限板19、検出器b20、ExB形フィルタc21、ExB形フィルタd22、偏向器23、対物レンズ24、高さセンサ25で構成される。SEM筺体1では、電子源11と引出電極12との間の電位差で1次電子線を引き出す。1次電子線は、変換板16並びに信号電子制限板19の中央に設けられた穴を通過するようコンデンサレンズ14で収束させられる。
試料室2はステージ27、絶縁材28、試料フォルダ29、ミラー30で構成される。試料フォルダ29と接地されたステージ27とは、絶縁材28で電気的に絶縁されており、試料26、ミラー30は、試料フォルダ29に対し電気的に接地されている。試料フォルダ29には試料室2の外部からフィードスルーを介し高電圧を印加することができる。また、ステージ制御部5内のステージ駆動装置31により、ステージ27はSEM筐体1の中心軸に対し垂直方向に2次元的に駆動することで、試料26全ての領域をSEM筺体1の中心軸の直下に移動させることができる。なお、ミラー30は試料26の位置を計測するため、試料フォルダ29に取り付けられており、ステージ制御部5内にあるレーザ測長装置32から試料室2の真空を隔壁するガラス窓を介してレーザが照射できる構成となっており、レーザ測長装置32で試料26の位置を計測することで、微細なパターンが集積された半導体パターンでも、所望の位置の走査像を得ることができる。
筐体制御部3は、コンソール6から送られる制御信号に基づき、SEM筐体1に含まれる電子源11や各種レンズを動作させる。筺体制御部3には、筺体制御電源36、収差補正電源37、信号電子軌道制御電源38、1次電子軌道制御電源39、リターディング電源40で構成される。筺体制御電源36は、電子源11、コンデンサレンズ14、並びに対物レンズ24に定電圧または定電流を供給し、試料26に収束した1次電子線を照射することができる。1次電子軌道制御電源39は、偏向器23に電圧または電流を供給し、試料26の所望の箇所に1次電子線を走査することができる。リターディング電源40の動作については、前述の(試料室、並びにウェーハ搬送部)に記載。信号電子軌道制御電源38の動作については、後述の(信号電子の軌道制御方法)に記載。収差補正電源37の動作については、後述の(収差補正の制御方法)に記載。
信号処理部4は、コンソール6から送られる制御信号に基づき、試料26の走査像を形成する。信号処理部4は、画像メモリ42、画像処理部43、信号処理部44で構成される。コンソール6は、走査像を形成するため1次電子軌道制御電源39に走査信号を送り、信号処理部4は検出器a17、並びに検出器b20で検出した信号を走査信号に同期してサンプリングする。各々の検出器で検出された信号は、個別に設けられたレベル調整回路41で独立に増幅されデジタル信号に変換されてから、信号処理部4内のメモリ42に格納される。
次に信号電子の軌道制御について図2並びに図3を用いて説明する。図2、並びに図3は、SEM式半導体計測装置の概略構成図の中のSEM筺体1の一部を抜粋したものである。図2は、信号電子制限板19による信号電子の角度弁別の原理を示しており、試料26から放出された信号電子はSEM筺体1の中心軸100に沿って試料26から対物レンズ24の方へ進行する。信号電子制限板19は、電子ビーム通過開口を備えた開口部形成部材であり、大きな仰角で放出された信号電子111は、信号電子制限板19に衝突し、発生した3次電子120を検出器b20が捕捉する。一方、小さな仰角で放出された信号電子110は、信号電子制限板19を通過しExB形フィルタb18で曲げられ変換板16に衝突し、発生した3次電子を検出器a17が捕捉する。以上のように、信号電子の放出角度を弁別して検出する技術では、信号電子制限板19の開口の大きさで信号電子の取り込み仰角を制限することができる。小さな仰角で放出された信号電子110と大きな仰角で放出された信号電子111を独立に検出し、後段のレベル調整回路41が各々の信号量に適した増幅をすることで、試料の立体構造をより鮮明に可視化することができる。
1次電子線に対しExB形フィルタが及ぼす収差の影響は、電場と磁場の偏向作用の違いに起因した色収差であり、偏向方向にボケを生みだす。このボケの大きさは、ExB形フィルタの動作量と1次電子線のクロスオーバまでの距離で決まり、動作量が大きく、且つクロスオーバまでの距離が長いほどボケは大きくなる。この色収差を打ち消すためには、別のExB形フィルタで逆方向のボケを発生させる必要があり、ExB形フィルタの動作量とクロスオーバまでの距離の積が、各々のExB形フィルタで正負反転するよう調整することで色収差を打ち消すことができる。
本実施例では、多段のExB形フィルタが発生する収差を検出器の上に配置した1つのExB形フィルタで補正する。この構成を用いることで、信号電子を偏向するExB形フィルタに対し、1対で収差補正用のExB形フィルタを搭載する必要がなくなり、大幅なスペース削減を実現できる。また、検出器の上に補正用のExB形フィルタを配置することから、そのExB形フィルタを収差補正に特化して最適化することができる。前述の(収差補正の制御方法)では、ExB形フィルタが発生する色収差のみに着目して説明したが、非点収差に対しても積極的に補正をすることができる。非点収差は、静電偏向器や電磁偏向器の組み立て精度の不足や、1次電子線がExB形フィルタの中心から離軸して通過することが原因で発生する。
2 試料室
3 筐体制御部
4、44 信号処理部
5 ステージ制御部
6 コンソール
7 ストレージ媒体
8 ウェーハ搬送部
9 真空排気部
10 試料準備室
11 電子源
12 引出電極
13 アノード電極
14 コンデンサレンズ
15 ExB形フィルタa
16 変換板
17 検出器a
18 ExB形フィルタb
19 信号電子制限板
20 検出器b
21 ExB形フィルタc
22 ExB形フィルタd
23 偏向器
24 対物レンズ
25 高さセンサ
26 試料
27 ステージ
28 絶縁材
29 試料フォルダ
30 ミラー
31 ステージ駆動装置
32 レーザ測長装置
33 搬送制御部
34 搬送ロボット
35 バルブ
36 筺体制御電源
37 収差補正電源
38 信号電子軌道制御電源
39 1次電子軌道制御電源
40 リターディング電源
41 レベル調整回路
42 メモリ
43 画像処理部
45 静電偏向器
46 電磁偏向器
47 電流制御回路
48 電圧制御回路
49 真空隔壁
50 アライナコイル
51 非点補正コイル
52 非点補正用電流制御回路
100 中心軸
101 信号電子の中心軌道
102 クロスオーバ
105 非点収差のX方向補正成分
106 非点収差のY方向補正成分
110、111 信号電子
120 3次電子
Claims (17)
- 荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを偏向する偏向器と、前記荷電粒子ビームの走査によって得られる荷電粒子を検出する検出器を備えた荷電粒子線装置において、
試料から放出された荷電粒子を偏向する第1の直交電磁界発生器と、当該第1の直交電磁界発生器によって偏向された前記荷電粒子を更に偏向する第2の直交電磁界発生器と、前記荷電粒子ビームの通過開口を有する開口形成部材と、当該開口形成部材を通過した前記荷電粒子を偏向する第3の直交電磁界発生器と、前記偏向器の偏向信号に連動して、前記試料から放出された荷電粒子が、前記荷電粒子ビームの光軸に向かうように前記第1の直交電磁界発生器を制御すると共に、当該第1の直交電磁界発生器によって偏向された荷電粒子を、前記通過開口に向かうように前記第2の直交電磁界発生器を制御する制御装置を備え、前記検出器は、前記試料から放出され、前記通過開口を通過した荷電粒子、或いは当該荷電粒子が発生させる荷電粒子を検出することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記開口形成部材は、前記試料から放出される荷電粒子の衝突によって二次電子を発生させる変換板であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2において、
前記検出器は、前記変換板から放出される荷電粒子を検出することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記開口形成部材は、前記試料から放出される荷電粒子を検出する検出器であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記第3の直交電磁界発生器より前記荷電粒子源側に、収差補正器を配置したことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項5において、
前記収差補正器は、第4の直交電磁界発生器であって、前記第1の直交電磁界発生器、第2の直交電磁界発生器、及び第3の直交電磁界発生器が生じさせる収差を相殺するように制御されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記第1の直交電磁界発生器と前記第2の直交電磁界発生器は、前記偏向器による前記荷電粒子ビームの偏向状態に応じて、前記試料から放出される荷電粒子に対する偏向状態を変化させることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項7において、
前記第1の直交電磁界発生器と第2の直交電磁界発生器は、前記試料から放出される荷電粒子の軌道が、前記荷電粒子ビームの理想光軸と平行となるように、当該荷電粒子を偏向することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子源と、前記荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームの照射位置を偏向する偏向器と、前記荷電粒子ビームの試料への照射によって得られる二次信号を検出する第1の検出器を備えた荷電粒子線装置において、
前記第1の検出器と前記偏向器との間に配置される前記荷電粒子ビームの通過開口を有する開口形成部材と、前記試料から放出される荷電粒子を前記通過開口に向かって偏向する2以上の二次信号偏向器と、前記第1の検出器より前記荷電粒子源方向に配置され、前記2つ以上の二次信号偏向器によってもたらされる前記荷電粒子ビームの収差を補正する1つの収差補正器と、前記2以上の二次信号偏向器によってもたらされる複合収差を補正するように、前記1つの収差補正器を制御する制御装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記2つ以上の二次信号偏向器、並びに前記1つの収差補正器が静電場と静磁場を重畳させた偏向器であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記2つ以上の二次信号偏向器、並びに前記1つの収差補正器が静電場と静磁場を重畳させた偏向器であり、且つ静電場と静磁場が荷電粒子ビームを偏向せず、前記二次信号のみ偏向することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記荷電粒子ビームが形成するクロスオーバの距離と、前記二次信号偏向器の動作量に応じて、前記収差補正器の動作量を設定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記収差補正器が補正する収差が、前記2つ以上の二次信号偏向器の発生する色収差であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記収差補正器が補正する収差が、前記2つ以上の二次信号偏向器の発生する非点収差であり、且つ前記非点収差の補正で前記荷電粒子ビームが偏向されないよう、前記荷電粒子ビームの軌道を校正する機能を備えていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記開口形成部材と前記第1の検出器の間にエネルギーフィルタを備えていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記開口形成部材より前記試料側に第2の検出器を備えていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記第1の検出器と第2の検出器の信号を用いて前記試料の形状を計測することを特徴とする荷電粒子線装置。
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