JP5996591B2 - 非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
本発明による着色剤はパール(pearl)顔料を含む。
アルカリ可溶性バインダ樹脂は、本発明の溶媒に溶解され得、前記着色剤に対する結着(バインダ)樹脂の機能を有し、且つアルカリ性現像液に溶解可能な樹脂であれば、特にその種類を制限することなく用いることができる。
光重合性化合物は、光及び後述の光重合開始剤の作用により重合することができる化合物であって、単官能性単量体、二官能性単量体、その他の多官能性単量体等を用いることができる。
前記光重合開始剤としては、当分野で知られた光重合開始剤を特に制限なく用いることができ、例えば、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、及びオキシム化合物からなる群から選択される少なくとも1種を用いることができる。
前記溶媒は特に制限されない。好ましくは、エーテル類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類又はアミド類等を用いることができる。
本発明の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、硬化剤、界面活性剤、顔料分散剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等の添加剤が更に含まれ得る。
組成物固形分の全重量100%を基準とし、平均粒径が7μmであるパール顔料(R−901F、CQV社製)0.2重量%と、メタクリル酸及びベンジルメタクリレートの共重合体(重量平均分子量(Mw):15,000)46.8重量%と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(TOAGOSEI(株)製)46.8重量%と、光重合開始剤としてI−819(BASF製)5.5重量%と、界面活性剤としてTF−1535(DIC製)0.1重量%と、分散剤としてBYK−180(BYK製)0.5重量%と、密着促進剤として3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン0.1重量%とを混合し、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを組成物の全重量に対して50重量%の量になるように混合した。その後、これら混合物を2時間撹拌することで、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物を調製した。
パール顔料を1重量%用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
パール顔料を2重量%用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
平均粒径が14μmであるパール顔料(R−901D、CQV社製)を用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
平均粒径が14μmであるパール顔料(R−901D、CQV社製)を1重量%用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
平均粒径が14μmであるパール顔料(R−901D、CQV社製)を2重量%用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
平均粒径が17μmであるパール顔料(R−901D、CQV社製)を1重量%用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
平均粒径が7μmであるパール顔料を0.1重量%用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
平均粒径が7μmであるパール顔料を5重量%用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
平均粒径が14μmであるパール顔料を0.1重量%用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
平均粒径が14μmであるパール顔料を5重量%用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
平均粒径が300nmである白色顔料TiO2を1重量%用いたこと以外は、実施形態1と同様の方法で組成物を調製した。
前記実施形態1〜7及び比較形態1〜5で調製した非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物を用いて遮光パターンを製造した。即ち、前記実施形態1〜7及び比較形態1〜5の感光性樹脂組成物をスピンコーティング法によってガラス基板上に塗布した後、加熱板上に置いて100℃の温度で3分間維持することで薄膜を形成させた。次いで、前記薄膜上に3〜100μmのラインパターンを有するフォトマスクを載せ、紫外線を照射した。この時、紫外線の光源は、g、h、i線を全て含有する1kWの高圧水銀灯を用いて、100mJ/cm2の照度で照射した。紫外線を照射した薄膜をpH10.5のKOH水溶液現像溶液に100秒間浸漬してから現像した。この薄膜がコーティングされたガラス板を蒸溜水によって洗浄した後、窒素ガスを用いて乾燥させ、230℃の加熱オーブンで20分間加熱して遮光パターン層を製造した。ここで製造した遮光パターン層の厚さは15.0μmであった。
(1)調製例1:着色剤分散組成物の調製
C.I.ピグメントホワイト6として平均粒度が200nmである着色剤35.0gと、バインダ樹脂(メタクリル酸及びベンジルメタクリレートの共重合体であって、メタクリル酸単位とベンジルメタクリレート単位との比がモル比で31:69、ポリスチレン換算の重量平均分子量が20,000)4.94gと、分散剤としてBYK−180(BYK社製)4.32gと、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.74gとをビーズミルを用いて2時間混合及び分散させることで、着色剤分散組成物を調製した。
前記調製例1で調製した着色剤分散組成物50.2gと、メタクリル酸及びベンジルメタクリレートの共重合体(メタクリル酸単位とベンジルメタクリレート単位との比がモル比で31:69、ポリスチレン換算の重量平均分子量が20,000)29.5gと、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD DPHA;日本化薬(株)製)11.1gと、2−メチル−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノ−1−プロパン−1−オン(Irgacure907−;BASF社製)2.2gと、2,4−ジエチルチオキサントン(Speedcure DETX;LAMBSON製)1.1gと、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−503;Shin−Etsu製)0.4gと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート5.5gとを混合して、ディスプレイ装置の全面遮光層形成用感光性樹脂組成物を調製した。
前記実験例1で使用したパターン形成用感光性樹脂組成物を用いて全面遮光層を形成した。即ち、前記実施形態1〜7及び比較形態1〜5で調製した感光性樹脂組成物を下部膜として用い、その上部にスピンコーティング法によって調製例2で調製した組成物を塗布した。その後、加熱板上に置いて100℃の温度で3分間維持することで薄膜を形成させた。次いで、前記薄膜上に3〜100μmのラインパターンを有するフォトマスクを載せ、紫外線を照射した。この時、紫外線の光源は、g、h、i線を全て含有する1kWの高圧水銀灯を用いて、100mJ/cm2の照度で照射した。紫外線を照射した薄膜をpH10.5のKOH水溶液現像溶液に100秒間浸漬してから現像した。膜がコーティングされた基板を蒸溜水を用いて洗浄した後、窒素ガスを用いて乾燥させ、230℃の加熱オーブンで20分間加熱して遮光パターン層を形成した。ここで製造した遮光パターン層の厚さは20.0μmであった。
実験例1で製造した遮光パターンを製造する過程における現像速度を測定するとともに、以下のとおりパターン性を確認した。その結果を下記表1に示す。
*パターン性:250μmの長さの正四角形状のパターンを基準とした。
◎:パターンの咬み込みがなく、正四角形状を有する。
○:パターンの一部に咬み込み現象が発生したか、ほぼ四角形状を有する。
△:パターンの境界面で咬み込み現象が多く発生し、四角形状を有しない。
×:パターンの多くが咬み込まれて形状が残っておらず、パターン形状を確認することができない。
実験例2で製造された遮光パターンの、ガラス面における各パターン間の視認性を確認した。その結果を下記表1に示す。
*視認性:250μmの長さの正四角形状のパターンを基準とした。
◎:パターンの境目が明確であり、パターン形状として確認される。
○:パターンの境目が明確ではないが、凡そパターン形状として確認される。
△:パターンの境目が明確ではなく、パターン形状を確認することができない。
×:パターンの境目が残っておらず、パターン形状を確認することができない。
実施形態及び比較形態の組成物をコーティングして塗膜を形成した。その後、ミノルタ社製のSPECTROPHOTOMETER CM−3700dを用い、230℃のオーブンで30分ベークした後に測定した分光値と、230℃のオーブンで2時間ベークした後に測定した分光値とのΔE*abで耐熱性を評価した。その結果を下記表1に示す。
Claims (7)
- 画像が表示される表示部と、当該表示部を取り囲む非表示部とを備える基板の前記非表示部に遮光パターンを形成するための非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物であって、
パール顔料を含む着色剤(A)と、アルカリ可溶性バインダ樹脂(B)と、光重合性化合物(C)と、光重合開始剤(D)と、溶媒(E)とを含み、
前記パール顔料が、固形分を基準とし、組成物の全重量に対して0.2〜2重量%の量で含まれる、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。 - 前記パール顔料が、反射層コア部及び前記コア部をコーティングする高屈折率層を備える、請求項1に記載の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。
- 前記反射層コア部が、マイカ、セリサイト、タルク、カオリン、スメクタイト系粘土鉱物、板状二酸化チタン、板状シリカ、板状酸化アルミニウム、窒化ホウ素、硫酸バリウム、及び板状チタニア・シリカ複合酸化物からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項2に記載の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。
- 前記高屈折率層が、TiO2、ZrO2、Sb2O3、ZnS、SnO2、及びZnOからなる群から選択される少なくとも1種を含む、請求項2または3に記載の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。
- 画像が表示される表示部と、当該表示部を取り囲む非表示部とを備える基板であって、
前記非表示部は、請求項1〜4のいずれか一項に記載の前記非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物で構成されている基板。 - 請求項5に記載の前記基板を備えたタッチスクリーンパネル。
- 請求項6に記載のタッチスクリーンパネルを備えた画像表示装置。
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