JP5996591B2 - Photosensitive resin composition for non-display part light shielding pattern formation - Google Patents

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Description

本発明は、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物に関し、より詳しくは、視認性、工程性、及び耐熱性に優れた非表示部遮光パターン形成用組成物に関する。   The present invention relates to a photosensitive resin composition for forming a non-display part light-shielding pattern, and more particularly to a composition for forming a non-display part light-shielding pattern that is excellent in visibility, processability, and heat resistance.

近年、急速に発展している半導体技術を中心に、小型化及び軽量化によってさらに性能が向上したディスプレイ装置の需要が急速的に増加している。   In recent years, there has been a rapid increase in demand for display devices whose performance has been further improved by downsizing and weight reduction, centering on rapidly developing semiconductor technology.

情報化の傾向から、情報を視覚的に伝達するための電子ディスプレイが様々な形態で登場しており、最近では、携帯通信の発達に伴い携帯性が求められるディスプレイの開発が強く求められている。   Due to the trend toward computerization, electronic displays for visually transmitting information have appeared in various forms. Recently, with the development of mobile communication, the development of displays that require portability is strongly demanded. .

このようなディスプレイ装置は、ブラウン管方式から液晶表示装置（ＬＣＤ；Liquid Crystal Display）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ；Plasma Display Panel）、有機発光表示装置（ＯＬＥＤ；Organic Light-Emitting Diode）等の方式へ変化した。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ；Liquid Crystal Display）は、既存のブラウン管方式と比較して消費電力が少なく、小型化及び軽量薄型化が可能であり、且つ有害電磁波を放出しないといった長所を有する。それ故に、次世代先端ディスプレイとして注目されており、現在ではディスプレイ装置を必要とする殆どすべての情報処理機器に搭載され用いられている。なお、最近では、スマートフォンの普及によって、このようなディスプレイ装置をタッチセンサと一体化させたタッチスクリーンパネルの使用が急激に増加しているのが実情である。   Such a display device is changed from a cathode ray tube system to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic light-emitting diode (OLED), or the like. did. In particular, a liquid crystal display (LCD) has advantages in that it consumes less power than an existing cathode ray tube system, can be reduced in size and weight, and does not emit harmful electromagnetic waves. Therefore, it attracts attention as a next-generation advanced display, and is currently mounted and used in almost all information processing devices that require a display device. In recent years, the use of touch screen panels in which such display devices are integrated with touch sensors is rapidly increasing due to the spread of smartphones.

図１に示すように、携帯電話を例として挙げると、最外面にカバーウィンドウ基板が配置され、カバーウィンドウ基板は、全面に画像が表示され、必要に応じてタッチ入力が行われる部分である表示部と、この映像センサの表示部を取り囲む非表示部とに区分される。   As shown in FIG. 1, when a mobile phone is taken as an example, a cover window substrate is arranged on the outermost surface, and the cover window substrate is a display where an image is displayed on the entire surface and touch input is performed as necessary. And a non-display portion surrounding the display portion of the video sensor.

非表示部には非表示部遮光パターンが形成され、不透明な導電性配線パターン及び各種回路を隠蔽する機能を有し、必要に応じて、携帯電話メーカーの商標やロゴ等が印刷される。従来、非表示部は、配線や回路の隠蔽が主な目的であったため、単純な色相層で形成されることが一般的である。韓国公開特許第２０１３−５６５９８号公報には、熱硬化性ブラックインク組成物を用いてベゼルパターンを形成する技術が開示されている。   A non-display portion light-shielding pattern is formed in the non-display portion, and has a function of concealing an opaque conductive wiring pattern and various circuits. If necessary, a trademark or a logo of a mobile phone manufacturer is printed. Conventionally, the non-display portion is mainly formed of a simple hue layer because the main purpose is to hide wiring and circuits. Korean Patent No. 2013-56598 discloses a technique for forming a bezel pattern using a thermosetting black ink composition.

その一方、最近では、消費者の様々な嗜好及びディスプレイの美感を考慮し、様々な色彩を有するコーティング組成物が用いられている。しかしながら、非表示部のコーティング素材として、光遮蔽率が低い白色、桃色等の明るい色彩のコーティング組成物が用いられる場合、非表示部を通じてディスプレイの内部が露出しやすいため、前記明るい色彩のコーティング組成物で形成されたコーティング層の下に、灰色や黒色のコーティング層をさらに設ける方式によって非表示部を形成している。   On the other hand, recently, coating compositions having various colors have been used in consideration of various consumer preferences and display aesthetics. However, when a light-colored coating composition having a low light shielding ratio, such as white or pink, is used as the non-display part coating material, the interior of the display is easily exposed through the non-display part. The non-display portion is formed by a method in which a gray or black coating layer is further provided below the coating layer formed of a material.

しかしながら、このように非表示部を多層のコーティング層で形成する場合、下の層の灰色や黒色のコーティング層によって光学密度（Optical Density）が高くなるので光遮蔽率は改善されるが、上の層の明るい色彩のコーティング層の透過率が高いため、下の層の灰色や黒色のコーティング層が視認できる問題が生じる。従って、このような問題を改善するための様々な方法が研究されている。また、ディスプレイの美感を考慮して、前記非表示部のコーティングに高い反射輝度を具現するための努力もなされている。   However, when the non-display part is formed of a multilayer coating layer in this way, the optical density is increased by the gray or black coating layer in the lower layer, so that the light shielding rate is improved. Since the transmittance of the light-colored coating layer of the layer is high, there arises a problem that the lower gray or black coating layer is visible. Therefore, various methods for improving such problems have been studied. In addition, in consideration of the aesthetics of the display, efforts have been made to realize high reflection luminance in the coating of the non-display portion.

さらに、最近では、タッチ方式で駆動されるディスプレイ装置の需要及び供給が大きく拡大している。タッチパネルは、駆動方式によって抵抗方式、静電方式、ＳＡＷ方式、赤外線方式等があるが、人体から発生する静電気を感知して駆動する方式である静電方式が主に用いられている。過去では、製品の全面部表面に該当する強化ガラスの他に、当該強化ガラスの内部に、ＩＴＯパターンを真空蒸着するための別途の内部ガラス板若しくは透明フィルムを１枚又は２枚挿入し、前記ＩＴＯパターンを前記内部ガラス板若しくは透明フィルムの両側面、或いはその間にそれぞれ形成させた後、アセンブリすることでタッチパネルが完成される。しかしながら、タッチパネルの厚さが厚くなるため、近年では、強化ガラスに前記ＩＴＯパターンを直接真空蒸着する工程を備えた、タッチパネルを製造する方式が広く採用されている。前記方式では、強化ガラス上に非表示部を形成して、直接ＩＴＯパターンも形成する。従って、強化ガラスに形成された非表示部は、ＩＴＯ電極のパターン形成のためのリソグラフィ等の工程において化学薬品に露出され、ＩＴＯ電極の熱処理を行う際の高温にも露出される。故に、タッチパネルの非表示部のコーティング素材は、耐化学性及び耐熱性が特に重要なものとして求められる。   Furthermore, recently, the demand and supply of display devices driven by a touch method have been greatly expanded. The touch panel includes a resistance method, an electrostatic method, a SAW method, an infrared method, and the like depending on a driving method, and an electrostatic method that is a method of sensing and driving static electricity generated from a human body is mainly used. In the past, in addition to the tempered glass corresponding to the entire surface of the product, one or two separate internal glass plates or transparent films for vacuum deposition of ITO patterns are inserted into the tempered glass, An ITO pattern is formed on both sides of the internal glass plate or the transparent film or between them, and then assembled to complete the touch panel. However, since the thickness of the touch panel is increased, in recent years, a method for manufacturing a touch panel including a step of directly vacuum-depositing the ITO pattern on tempered glass has been widely adopted. In the method, the non-display portion is formed on the tempered glass and the ITO pattern is also formed directly. Therefore, the non-display portion formed on the tempered glass is exposed to chemicals in a process such as lithography for forming an ITO electrode pattern, and is also exposed to a high temperature when the ITO electrode is heat-treated. Therefore, the coating material for the non-display portion of the touch panel is required to have particularly important chemical resistance and heat resistance.

特に、高温の後処理工程以後、非表示部のコーティングに黄変が生じて美感を損ない、それ故に製品の使用が制限されるため、このような問題を解決するための研究が活発になされている。   In particular, after the high temperature post-treatment process, yellowing occurs in the coating of the non-display part, which impairs the aesthetics, and therefore, the use of the product is limited. Therefore, research for solving such problems has been actively conducted. Yes.

韓国公開特許第２０１３−５６５９８号公報Korean Published Patent No. 2013-56598

本発明は、美感に優れ、且つ視認性に優れた非表示部遮光パターンの形成用組成物を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the composition for formation of the non-display part light-shielding pattern which was excellent in aesthetics, and excellent in visibility.

また、本発明は、高温で熱処理が行われても優れた耐熱性を示すため、信頼性に優れ、パターン形成性及び残膜率に優れた非表示部遮光パターン形成用組成物を提供することを他の目的とする。   The present invention also provides a composition for forming a light-shielding pattern for a non-display portion, which has excellent heat resistance even when heat treatment is performed at a high temperature, and thus has excellent reliability, pattern formation and remaining film ratio. For other purposes.

また、本発明は、感光性に優れ、硬化後の立体感及び質感表現に優れた非表示部遮光パターン形成用組成物を提供することを更なる目的とする。   Another object of the present invention is to provide a composition for forming a non-display-part light-shielding pattern that is excellent in photosensitivity and excellent in three-dimensional effect and texture after curing.

１．パール顔料を含む着色剤（Ａ）と、アルカリ可溶性バインダ樹脂（Ｂ）と、光重合性化合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、溶媒（Ｅ）とを含み、前記パール顔料が、固形分を基準とし、組成物の全重量に対して０．２〜２重量％の量で含まれる、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。   1. The pearl pigment comprises a colorant (A) containing a pearl pigment, an alkali-soluble binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent (E). The photosensitive resin composition for non-display part light-shielding pattern formation which is contained in the quantity of 0.2-2 weight% with respect to the total weight of a composition on the basis of solid content.

２．前記項目１において、前記パール顔料の平均粒径が５〜１５μｍである、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。   2. In the said item 1, the photosensitive resin composition for non-display part light-shielding pattern formation whose average particle diameter of the said pearl pigment is 5-15 micrometers.

３．前記項目１または２において、前記パール顔料が、反射層コア部及び前記コア部をコーティングする高屈折率層を備える、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。   3. In the item 1 or 2, the pearl pigment includes a reflective layer core part and a high refractive index layer that coats the core part.

４．前記項目３において、前記反射層コア部が、マイカ、セリサイト、タルク、カオリン、スメクタイト系粘土鉱物、板状二酸化チタン、板状シリカ、板状酸化アルミニウム、窒化ホウ素、硫酸バリウム、及び板状チタニア・シリカ複合酸化物からなる群から選択される少なくとも１種である、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。   4). In the item 3, the reflective layer core portion is formed of mica, sericite, talc, kaolin, smectite clay mineral, plate-like titanium dioxide, plate-like silica, plate-like aluminum oxide, boron nitride, barium sulfate, and plate-like titania. -The photosensitive resin composition for non-display part light-shielding pattern formation which is at least 1 sort (s) selected from the group which consists of a silica complex oxide.

５．前記項目３または４において、前記高屈折率層が、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｎＳ、ＳｎＯ２、及びＺｎＯからなる群から選択される少なくとも１種を含む、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。 5. In the item 3 or 4, the non-display portion light-shielding pattern, wherein the high refractive index layer includes at least one selected from the group consisting of TiO 2 , ZrO 2 , Sb 2 O 3 , ZnS, SnO 2 , and ZnO. A photosensitive resin composition for forming.

６．前記項目１〜５のいずれか一項目に記載の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物で形成された非表示部を備えたウィンドウ基板。   6). The window board | substrate provided with the non-display part formed with the photosensitive resin composition for non-display part light-shielding pattern formation as described in any one item of the said items 1-5.

７．前記項目６に記載のウィンドウ基板を備えたタッチスクリーンパネル。   7). 7. A touch screen panel comprising the window substrate according to item 6.

８．前記項目７に記載のタッチスクリーンパネルを備えた画像表示装置。   8). 8. An image display device comprising the touch screen panel according to item 7.

本発明の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物は、パール顔料を特定の含有量範囲で含むことにより、優れた視認性、立体感、及び質感を示し、高温で熱処理が行われても優れた耐熱性を示すため、優れた信頼性を示す。また、優れた工程性及びパターン形成性を示す。   The photosensitive resin composition for forming a non-display portion light-shielding pattern according to the present invention includes a pearl pigment in a specific content range, and thus exhibits excellent visibility, stereoscopic effect, and texture, and is heat-treated at a high temperature. Also exhibits excellent heat resistance and therefore exhibits excellent reliability. In addition, it exhibits excellent processability and pattern formability.

図１は、タッチスクリーンパネルが適用された携帯電話の概略的な斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view of a mobile phone to which a touch screen panel is applied.

本発明は、パール顔料を含む着色剤（Ａ）と、アルカリ可溶性バインダ樹脂（Ｂ）と、光重合性化合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、溶媒（Ｅ）とを含み、前記パール顔料が、固形分を基準とし、組成物の全重量に対して０．２〜２重量％の量で含まれることにより得られる、パターン性、視認性、工程性、及び耐熱性に優れた非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物に関する。   The present invention includes a colorant (A) containing a pearl pigment, an alkali-soluble binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent (E). Excellent in patternability, visibility, processability, and heat resistance, obtained when the pearl pigment is contained in an amount of 0.2 to 2% by weight based on the solid content, based on the solid content. The present invention also relates to a photosensitive resin composition for forming a non-display portion light-shielding pattern.

以下、本発明をより詳しく説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

着色剤（Ａ）
本発明による着色剤はパール（pearl）顔料を含む。 Colorant (A)
The colorant according to the invention comprises a pearl pigment.

本発明に係るパール顔料は、多重色相の真珠光沢顔料であり、真珠色、虹色、金属色等を示す顔料を統括して称するものである。本発明に用いられるパール顔料は、美感に優れるのみならず、反射率が高く、立体感及び質感の具現性能にも優れる。また、硬化する際に、照射された光を組成物内部へ均一に散乱させることにより、良好なパターンが形成される。   The pearl pigment according to the present invention is a multi-colored pearlescent pigment, and collectively refers to pigments exhibiting pearl, iridescent, metallic, and the like. The pearl pigment used in the present invention is not only excellent in aesthetics, but also has high reflectivity, and is excellent in three-dimensional effect and texture realization performance. Moreover, when it hardens | cures, a favorable pattern is formed by scattering the irradiated light uniformly in the inside of a composition.

本発明に用いられるパール顔料は、反射層コア部及び前記コア部をコーティングする高屈折率層を備えてもよい。前記反射層コア部及び高屈折率層の具体的な素材は、目的の色相、反射率等によって多様に選択することができる。   The pearl pigment used in the present invention may include a reflective layer core and a high refractive index layer that coats the core. Specific materials for the reflective layer core and the high refractive index layer can be variously selected depending on the target hue, reflectance, and the like.

反射層コア部としては、例えば、マイカ、セリサイト、タルク、カオリン、スメクタイト系粘土鉱物、板状二酸化チタン、板状シリカ、板状酸化アルミニウム、窒化ホウ素、硫酸バリウム、板状チタニア・シリカ複合酸化物等が挙げられる。これらは、それぞれ単独で又は２種以上混合して用いることができる。   Examples of the reflective layer core include mica, sericite, talc, kaolin, smectite clay mineral, plate-like titanium dioxide, plate-like silica, plate-like aluminum oxide, boron nitride, barium sulfate, plate-like titania / silica composite oxide. Thing etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

高屈折率層は、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｎＳ、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等を含んでもよい。これらは、それぞれ単独で又は２種以上混合して用いることができる。 The high refractive index layer may include TiO 2 , ZrO 2 , Sb 2 O 3 , ZnS, SnO 2 , ZnO and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

パール顔料として市販されるものでは、例えば、ＣＱＶ社製のＲ−９００Ｄ、Ｒ−９００Ｆ、Ｒ−９０１Ｄ、Ｒ−９０１Ｆ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of commercially available pearl pigments include, but are not limited to, R-900D, R-900F, R-901D, and R-901F manufactured by CQV.

高屈折率層の屈折率は、２．４〜３．０であることが好ましい。前記数値範囲であれば、パール顔料の優れた反射率、立体感、及び質感を示すことができる。   The refractive index of the high refractive index layer is preferably 2.4 to 3.0. If it is the said numerical range, the outstanding reflectance of a pearl pigment, a three-dimensional effect, and a texture can be shown.

本発明に用いられるパール顔料の平均粒径は、５〜１５μｍであることが好ましい。前記数値範囲の平均粒径を有するパール顔料を用いることにより、組成物は優れた保存安定性を有する。   The average particle diameter of the pearl pigment used in the present invention is preferably 5 to 15 μm. By using a pearl pigment having an average particle size in the above numerical range, the composition has excellent storage stability.

平均粒径が５μｍ未満であれば、視認性が低下され得、１５μｍを超えると、組成物の塗布時にノズルが塞がられるか、或いは塗布面の均一性が低下してパターンを容易に形成することができないことがある。   If the average particle size is less than 5 μm, the visibility can be lowered, and if it exceeds 15 μm, the nozzle is blocked during application of the composition, or the uniformity of the coated surface is lowered to easily form a pattern. There are times when you can't.

本発明に係るパール顔料は、固形分を基準とし、組成物の全重量に対して０．２〜２重量％の量で含まれる。含有量が０．２重量％未満であれば、視認性が低下され得て、２重量％を超えると、工程性が低下され得る。   The pearl pigment according to the present invention is contained in an amount of 0.2 to 2% by weight based on the solid content, based on the total weight of the composition. If the content is less than 0.2% by weight, the visibility can be lowered, and if it exceeds 2% by weight, the processability can be lowered.

本発明に係る着色剤は、前述のパール顔料の他に、本発明の範囲内において当分野で知られた着色剤、例えば、染料及び顔料をさらに含むことができる。   The colorant according to the present invention may further include colorants known in the art within the scope of the present invention, such as dyes and pigments, in addition to the pearl pigment described above.

アルカリ可溶性バインダ樹脂（Ｂ）
アルカリ可溶性バインダ樹脂は、本発明の溶媒に溶解され得、前記着色剤に対する結着（バインダ）樹脂の機能を有し、且つアルカリ性現像液に溶解可能な樹脂であれば、特にその種類を制限することなく用いることができる。 Alkali-soluble binder resin (B)
The alkali-soluble binder resin is particularly limited as long as it is a resin that can be dissolved in the solvent of the present invention, has a function of a binder resin for the colorant, and can be dissolved in an alkaline developer. Can be used without any problem.

前記バインダ樹脂は、例えば、カルボキシル基含有単量体、及びこの単量体と共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。   Examples of the binder resin include a carboxyl group-containing monomer and a copolymer with another monomer copolymerizable with this monomer.

前記カルボキシル基含有単量体としては、例えば、不飽和モノカルボン酸や、不飽和ジカルボン酸、不飽和トリカルボン酸等の、分子中に１個以上のカルボキシル基を有する不飽和多価カルボン酸等の不飽和カルボン酸等が挙げられる。   Examples of the carboxyl group-containing monomer include unsaturated polycarboxylic acids having one or more carboxyl groups in the molecule, such as unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids, and unsaturated tricarboxylic acids. Unsaturated carboxylic acid etc. are mentioned.

前記不飽和モノカルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロロアクリル酸、ケイ皮酸等が挙げられる。   Examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid.

前記不飽和ジカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸等が挙げられる。   Examples of the unsaturated dicarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid.

前記不飽和多価カルボン酸は、酸無水物であってよく、具体的には、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物等が挙げられる。また、前記不飽和多価カルボン酸は、そのモノ（２−メタクリロイロキシアルキル）エステル類であってよく、例えば、コハク酸モノ（２−アクリルロイロキシエチル）、コハク酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−アクリルロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）等が挙げられる。前記不飽和多価カルボン酸は、その両末端ジカルボキシポリマーのモノ（メタ）アクリレート類であってよく、例えば、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレート等が挙げられる。   The unsaturated polyvalent carboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples include maleic acid anhydride, itaconic acid anhydride, citraconic acid anhydride, and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may be mono (2-methacryloyloxyalkyl) esters such as succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl), succinic acid mono (2-methacryloyl). Roxyethyl), mono (2-acryloyloxyethyl) phthalate, mono (2-methacryloyloxyethyl) phthalate and the like. The unsaturated polyvalent carboxylic acid may be mono (meth) acrylates of dicarboxy polymers at both ends, and examples thereof include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate.

前記カルボキシル基含有単量体は、それぞれ単独で又は２種以上混合して用いることができる。   The said carboxyl group-containing monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

前記カルボキシル基含有単量体と共重合可能な他の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−クロロスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｏ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｍ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、インデン等の芳香族ビニル化合物；メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、ｉ−プロピルアクリレート、ｉ−プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｉ−ブチルアクリレート、ｉ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキシブチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、２−フェノキシエチルメタクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、メトキシプロピレングリコールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンタジエニルアクリレート、ジシクロペンタジエチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート、グリセロールモノアクリレート、グリセロールモノメタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類；２−アミノエチルアクリレート、２−アミノエチルメタクリレート、２−ジメチルアミノエチルアクリレート、２−ジメチルアミノエチルメタクリレート、２−アミノプロピルアクリレート、２−アミノプロピルメタクリレート、２−ジメチルアミノプロピルアクリレート、２−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、３−アミノプロピルアクリレート、３−アミノプロピルメタクリレート、３−ジメチルアミノプロピルアクリレート、３−ジメチルアミノプロピルメタクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニルリデン等のシアン化ビニル化合物；アクリルアミド、メタクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチルメタクリルアミド等の不飽和アミド類；マレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類；１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類；及びポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリ−ｎ−ブチルアクリレート、ポリ−ｎ−ブチルメタクリレート、ポリシロキサンの重合体分子鎖の末端にモノアクリロイル又はモノメタクリロイル基を有するマクロモノマー類等が挙げられる。これら単量体は、それぞれ単独で又は２種以上混合して用いることができる。   Examples of other monomers copolymerizable with the carboxyl group-containing monomer include styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o -Methoxy styrene, m-methoxy styrene, p-methoxy styrene, o-vinyl benzyl methyl ether, m-vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p -Aromatic vinyl compounds such as vinylbenzyl glycidyl ether and indene; methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-pro Methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2 -Hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxy Butyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate Rate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxydiethylene glycol acrylate , Methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, methoxypropylene glycol acrylate, methoxypropylene glycol methacrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate Isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopentadienyl acrylate, dicyclopentadiethyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate Unsaturated amino acid esters such as 2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethyl Aminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as tacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate and 3-dimethylaminopropyl methacrylate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; vinyl acetate, vinyl propionate and vinyl butyrate Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl benzoate; unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether; vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, vinyl cyanide cyanide Acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylamide, N-2-hydroxyethyl methacrylamide, etc. Saturated amides; unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide; aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, chloroprene; and polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, Examples thereof include macromonomers having a monoacryloyl or monomethacryloyl group at the end of a polymer molecular chain of poly-n-butyl acrylate, poly-n-butyl methacrylate, or polysiloxane. These monomers can be used alone or in admixture of two or more.

前記バインダ樹脂が、カルボキシル基含有単量体及び当該単量体と共重合可能な他の単量体との共重合体である場合、前記カルボキシル基含有単量体から誘導される構成単位の含有量割合は、前記共重合体を構成する構成単位の全含有量に対して、重量分率で１０〜５０重量％であり、好ましくは１５〜４０重量％であり、より好ましくは２５〜４０重量％である。前記カルボキシル基含有単量体から誘導される構成単位の含有量割合が前記基準で１０〜５０重量％であれば、現像液への溶解性が良好であり、現像の際にパターンが正確に形成されるため好ましい。   In the case where the binder resin is a copolymer of a carboxyl group-containing monomer and another monomer copolymerizable with the monomer, the inclusion of structural units derived from the carboxyl group-containing monomer The amount ratio is 10 to 50% by weight, preferably 15 to 40% by weight, and more preferably 25 to 40% by weight based on the total content of the structural units constituting the copolymer. %. If the content ratio of the structural unit derived from the carboxyl group-containing monomer is 10 to 50% by weight based on the above criteria, the solubility in the developer is good and the pattern is accurately formed during development. Therefore, it is preferable.

前記バインダ樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／コハク酸モノ（２−アクリロイロキシ）／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／コハク酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）／スチレン／アリル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／グリセロールモノ（メタ）アクリレート共重合体等が挙げられる。   Examples of the binder resin include (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) ) Acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer Copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic Acid / 2-hydroxyethyl ( ) Acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer copolymer, (Meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / succinic acid mono (2-acryloyloxy) / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer Copolymer, (Meth) acrylic acid / succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) / styrene / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / N- Phenylmaleimide / St On / glycerol mono (meth) acrylate copolymer, and the like.

これらの中で、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート／スチレン共重合体が好ましく用いられる。   Among these, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer A coalescent, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / styrene copolymer is preferably used.

前記バインダ樹脂は、特に制限されないが、そのポリスチレン換算の重量平均分子量が３，０００〜１００，０００の数値範囲にあることが好ましく、３，０００〜５０，０００、特に５，０００〜５０，０００の数値範囲にあることがより好ましい。バインダ樹脂の重量平均分子量が３，０００〜１００，０００の数値範囲にあれば、着色剤分散が容易で、粘度が低く、且つ保存安定性に優れるため好ましい。   The binder resin is not particularly limited, but its polystyrene-equivalent weight average molecular weight is preferably in a numerical range of 3,000 to 100,000, preferably 3,000 to 50,000, particularly 5,000 to 50,000. It is more preferable that it is in the numerical range. A binder resin having a weight average molecular weight in the numerical range of 3,000 to 100,000 is preferable because colorant dispersion is easy, viscosity is low, and storage stability is excellent.

前記バインダ樹脂は、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物中の固形分の全重量に対して、３〜８０重量％、好ましくは５〜７０重量％の量で含まれ得る。前記バインダ樹脂の含有量が前記基準で３〜８０重量％であれば、着色剤の分散が容易であり、且つ保存安定性に優れるため好ましい。   The binder resin may be contained in an amount of 3 to 80% by weight, preferably 5 to 70% by weight, based on the total weight of the solid content in the photosensitive resin composition for forming a non-display portion light-shielding pattern. If the content of the binder resin is 3 to 80% by weight based on the above criteria, it is preferable because dispersion of the colorant is easy and storage stability is excellent.

光重合性化合物（Ｃ）
光重合性化合物は、光及び後述の光重合開始剤の作用により重合することができる化合物であって、単官能性単量体、二官能性単量体、その他の多官能性単量体等を用いることができる。 Photopolymerizable compound (C)
The photopolymerizable compound is a compound that can be polymerized by the action of light and a photopolymerization initiator described later, and includes a monofunctional monomer, a bifunctional monomer, other polyfunctional monomers, etc. Can be used.

単官能性単量体の具体的な例としては、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。   Specific examples of the monofunctional monomer include nonylphenyl carbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, N-vinyl pyrrolidone and the like. It is done.

二官能性単量体の具体的な例としては、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and triethylene glycol di (meth). Examples thereof include acrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, and 3-methylpentanediol di (meth) acrylate.

三官能以上の多官能光重合性化合物の具体的な例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エトキシル化ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、プロポキシル化ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the trifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipenta Examples include erythritol hexa (meth) acrylate.

前記例として挙げた光重合性化合物の中でも、二官能以上の多官能性単量体が好ましく用いられ、三官能以上の（メタ）アクリル酸エステル類、及びウレタン（メタ）アクリレートが重合性に優れて強度を向上させ得る点から特に好ましい。前記例として挙げた光重合性化合物は、それぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。   Among the photopolymerizable compounds mentioned as examples, bifunctional or higher polyfunctional monomers are preferably used, and trifunctional or higher (meth) acrylic acid esters and urethane (meth) acrylates are excellent in polymerizability. It is particularly preferable from the viewpoint that the strength can be improved. The photopolymerizable compounds mentioned as examples can be used alone or in combination of two or more.

前記光重合性化合物は、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物中の固形分の全重量に対して、１〜６０重量％、好ましくは５〜５０重量％の量で含まれ得る。光重合性化合物が前記数値範囲で含まれれば、画素部の強度や平滑性が良好になり得る。   The photopolymerizable compound may be contained in an amount of 1 to 60% by weight, preferably 5 to 50% by weight, based on the total weight of the solid content in the photosensitive resin composition for forming a non-display portion light-shielding pattern. If the photopolymerizable compound is included in the numerical range, the strength and smoothness of the pixel portion can be improved.

光重合開始剤（Ｄ）
前記光重合開始剤としては、当分野で知られた光重合開始剤を特に制限なく用いることができ、例えば、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、及びオキシム化合物からなる群から選択される少なくとも１種を用いることができる。 Photopolymerization initiator (D)
As the photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator known in the art can be used without particular limitation, and for example, selected from the group consisting of triazine compounds, acetophenone compounds, biimidazole compounds, and oxime compounds. At least one of these can be used.

前記トリアジン系化合物としては、具体的に、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−フラン−２−イル）エテニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。   Specific examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- ( 4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2-furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4- Diethylamino-2-methylphenol Nyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like. .

前記アセトフェノン系化合物としては、具体的に、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン−１−オン、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン等が挙げられる。   Specific examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxyethoxy). ) Phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one, 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and the like.

前記ビイミダゾール化合物としては、具体的に、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２−ビス（２，６−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、又は４，４’，５，５’位のフェニル基がカルボアルコキシ基で置換されたイミダゾール化合物等が挙げられる。これらの中で、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２−ビス（２，６−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましく用いられる。   Specific examples of the biimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl). ) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole, 2,2 '-Bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5' -Tetraphenyl-1,2'-biimidazole, or an imidazole compound in which the phenyl group at the 4,4 ', 5,5' position is substituted with a carboalkoxy group. Among these, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ′ , 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole are preferably used.

前記オキシム化合物は、具体的に、ｏ−エトキシカルボニル−α−オキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられ、市販品としては、ＢＡＳＦ社のＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２が主に挙げられる。   Specific examples of the oxime compound include o-ethoxycarbonyl-α-oxyimino-1-phenylpropan-1-one, and commercially available products mainly include OXE01 and OXE02 manufactured by BASF.

また、本発明の効果を損なわない程度であれば、この分野において通常用いられるその他の光重合開始剤等をさらに併用することもできる。なお、前記光重合開始剤は、この分野において一般的に用いられる光重合開始助剤を組み合わせて用いることもできる。   Moreover, as long as the effect of the present invention is not impaired, other photopolymerization initiators or the like usually used in this field can be used in combination. In addition, the said photoinitiator can also be used in combination with the photoinitiator adjuvant generally used in this field | area.

具体的には、例として、アミン化合物、カルボン酸化合物が挙げられる。前記アミン化合物の具体的な例としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン等の脂肪族アミン化合物；４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称：ミヒラーケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の芳香族アミン化合物が挙げられる。好ましくは、前記アミン化合物は、芳香族アミン化合物であってよい。   Specific examples include amine compounds and carboxylic acid compounds. Specific examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine; methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid. Isoamyl, 4-dimethylaminobenzoic acid-2-ethylhexyl, benzoic acid (2-dimethylamino) ethyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone (common name: Michler's ketone), 4, Aromatic amine compounds such as 4′-bis (diethylamino) benzophenone are exemplified. Preferably, the amine compound may be an aromatic amine compound.

前記カルボン酸化合物の具体的な例としては、フェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等の芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。   Specific examples of the carboxylic acid compound include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, Examples include aromatic heteroacetic acids such as dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.

前記光重合開始剤は、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物中の固形分の全重量に対して、１〜４０重量％、好ましくは３〜２０重量％の量で含まれることが好ましい。光重合開始剤が前記含有量範囲で含まれることで、感度の上昇による露出時間の短縮、及び生産性の向上を図ることができる。   The photopolymerization initiator may be included in an amount of 1 to 40% by weight, preferably 3 to 20% by weight, based on the total weight of the solid content in the photosensitive resin composition for forming a non-display portion light-shielding pattern. preferable. By including the photopolymerization initiator in the content range, it is possible to shorten the exposure time due to an increase in sensitivity and improve productivity.

溶媒（Ｅ）
前記溶媒は特に制限されない。好ましくは、エーテル類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類又はアミド類等を用いることができる。 Solvent (E)
The solvent is not particularly limited. Preferably, ethers, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, esters or amides can be used.

前記溶媒は、具体的に、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリン等のアルコール類；３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート、アミルアセテート、メチルラクテート、エチルラクテート、ブチルラクテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ−１−ブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、又はγ−ブチロラクトン等のエステル類等が挙げられる。前記例として挙げた溶媒のうち、塗布性及び乾燥性面を考慮すると、好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、エチルラクテート、ブタルラクテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル等が挙げられる。前記例として挙げた溶媒は、それぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the solvent include ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene; ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin, etc. Alcohols; ethyl 3-ethoxypropionate, 3- Methyl toxipropionate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxy-1-butyl acetate, Methoxypentyl acetate, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol diacetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol diacetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monoacetate, propylene glycol diacetate, Propylene glycol Monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene carbonate, propylene carbonate, or γ- butyrolactone esters such like. Of the solvents mentioned as examples, in view of coating properties and drying properties, preferably propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl lactate, butalactate, ethyl 3-ethoxypropionate And methyl 3-methoxypropionate. The solvents mentioned as the examples can be used alone or in combination of two or more.

前記溶媒は、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物の全重量に対して３０〜９０重量％、好ましくは５０〜８０重量％の量で含まれ得る。   The solvent may be included in an amount of 30 to 90% by weight, preferably 50 to 80% by weight, based on the total weight of the photosensitive resin composition for forming a non-display portion light-shielding pattern.

溶媒が前記数値範囲で含まれれば、組成物を塗布する際の塗布性が良好になるため好ましい。   It is preferable if the solvent is contained within the above numerical range because the coating property when the composition is applied becomes good.

添加剤（Ｆ）
本発明の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、硬化剤、界面活性剤、顔料分散剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等の添加剤が更に含まれ得る。 Additive (F)
In the photosensitive resin composition for forming a non-display part light-shielding pattern according to the present invention, a filler, other polymer compound, a curing agent, a surfactant, a pigment dispersant, an adhesion promoter, and an antioxidant, as necessary. In addition, additives such as ultraviolet absorbers and anti-aggregation agents may be further included.

前記充填剤の具体的な例としては、ガラス、シリカ、アルミナ等が挙げられる。   Specific examples of the filler include glass, silica, alumina and the like.

他の高分子化合物としては、具体的に、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂等の硬化性樹脂；ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂等が挙げられる。   Specific examples of other polymer compounds include curable resins such as epoxy resins and maleimide resins; thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, and polyurethane. Is mentioned.

前記硬化剤は、深部硬化性及び機械的強度を高めるために用いられ、エポキシ化合物、多官能イソシアネート化合物、メラミン化合物、オキセタン化合物等を用いてもよい。   The said hardening | curing agent is used in order to improve deep part sclerosis | hardenability and mechanical strength, and an epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a melamine compound, an oxetane compound etc. may be used.

前記エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂、水素化ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ系エポキシ樹脂、水素化ビスフェノールＦ系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、その他の芳香族系エポキシ樹脂、脂環族系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系樹脂、グリシジルアミン系樹脂、又はこのようなエポキシ樹脂のブロム誘導体、エポキシ樹脂及びそのブロム誘導体以外の脂肪族、脂環族又は芳香族エポキシ化合物、ブタジエン（共）重合体エポキシ化合物、イソプレン（共）重合体エポキシ化合物、グリシジル（メタ）アクリレート（共）重合体、トリグリシジルイソシアヌレート等が挙げられる。   Examples of the epoxy compound include bisphenol A-based epoxy resins, hydrogenated bisphenol A-based epoxy resins, bisphenol F-based epoxy resins, hydrogenated bisphenol F-based epoxy resins, novolac-type epoxy resins, other aromatic epoxy resins, and fats. Cyclic epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidyl amine resins, or bromo derivatives of such epoxy resins, epoxy resins and aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than bromo derivatives, butadiene (co) Examples thereof include a polymer epoxy compound, an isoprene (co) polymer epoxy compound, a glycidyl (meth) acrylate (co) polymer, and triglycidyl isocyanurate.

前記オキセタン化合物としては、例えば、カーボネートビスオキセタン、キシレンビスオキセタン、アジペートビスオキセタン、テレフタレートビスオキセタン、シクロヘキサンジカルボン酸ビスオキセタン等が挙げられる。   Examples of the oxetane compound include carbonate bisoxetane, xylene bisoxetane, adipate bisoxetane, terephthalate bisoxetane, and bisoxetane cyclohexanedicarboxylate.

前記硬化剤には、当該硬化剤と共に、エポキシ化合物のエポキシ基、オキセタン化合物のオキセタン骨格を開環重合させることができる硬化補助化合物が含まれ得る。硬化補助化合物としては、例えば、多価カルボン酸類、多価カルボン酸無水物類、酸発生剤等が挙げられる。   The curing agent may include a curing auxiliary compound capable of ring-opening polymerization of the epoxy group of the epoxy compound and the oxetane skeleton of the oxetane compound together with the curing agent. Examples of the curing auxiliary compound include polyvalent carboxylic acids, polyvalent carboxylic acid anhydrides, acid generators, and the like.

前記カルボン酸無水物類としては、エポキシ樹脂硬化剤として市販されるものを利用することができる。前記エポキシ樹脂硬化剤としては、例えば、商品名アデカハードナーＥＨ−７００（アデカ工業（株）製）、商品名リカシッドＨＨ（新日本理化（株）製）、商品名ＭＨ−７００（新日本理化（株）製）等が挙げられる。前記硬化剤は、単独で又は２種以上を混合して用いることができる。   As said carboxylic acid anhydride, what is marketed as an epoxy resin hardening | curing agent can be utilized. Examples of the epoxy resin curing agent include trade name ADEKA HARDNER EH-700 (manufactured by ADEKA INDUSTRY CO., LTD.), Trade name RIKACID HH (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), trade name MH-700 (new Japan Rika ( Etc.). The said hardening | curing agent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

前記界面活性剤は、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤等が好ましく用いられる。前記シリコーン系界面活性剤は、例えば、市販品として東レ・ダウコーニングシリコーン社製のＤＣ３ＰＡ、ＤＣ７ＰＡ、ＳＨ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ８４００等があり、ＧＥ東芝シリコーン社製のＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２等がある。前記フッ素系界面活性剤は、例えば、市販品として大日本インキ化学工業社製のメガピースＦ−４７０、Ｆ−４７１、Ｆ−４７５、Ｆ−４８２、Ｆ−４８９等があり、ＤＩＣ社製のＴＦ−１５３５等がある。   As the surfactant, a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant is preferably used. Examples of the silicone-based surfactant include DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400 manufactured by Toray Dow Corning Silicone as commercially available products, and TSF-4440, TSF-4300, TSF- manufactured by GE Toshiba Silicone. 4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4442, and the like. Examples of the fluorosurfactant include Megapiece F-470, F-471, F-475, F-482, and F-489 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. as commercially available products, and TF manufactured by DIC. -1535 etc.

前記例挙した界面活性剤は、それぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これら界面活性剤は、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物中の固形分の全重量に対して、通常０．０１〜１０重量％、好ましくは０．０５〜２重量％の量で含まれ得る。   The surfactants listed above can be used alone or in combination of two or more. These surfactants are generally in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 2% by weight, based on the total weight of the solid content in the photosensitive resin composition for forming a non-display portion light-shielding pattern. May be included.

前記顔料分散剤は、着色剤である顔料の脱凝集及び安定性維持のために添加されるものである。前記分散剤は、好ましくは、ＢＭＡ（ブチルメタクリレート）又はＤＭＡＥＭＡ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート）を含むアクリレート系分散剤を含有してもよい。この時、前記アクリル系分散剤は、韓国公開特許第２００４−００１４３１１号公報に記載のようなリビング制御方法によって製造されたものを適用することが好ましく、前記リビング制御方法によって製造されたアクリル系分散剤の市販品としては、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−２０００、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−２００１、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−２０７０、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−２１５０等が挙げられる。また、前記分散剤は、公知の樹脂タイプ顔料分散剤、特に、ポリウレタン、ポリアクリレートで代表されるポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸（部分的）アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアミドリン酸塩、ヒドロキシル基−含ポリカルボン酸エステル及びこれらの変性生成物、又は、遊離カルボキシル基含有ポリエステルとポリ（低級アルキレンイミン）との反応によって生成されたアミド又はこれらの塩のような油質の分散剤；（メタ）アクリル酸−スチレンコポリマー、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリレートエステルコポリマー、スチレン−マレイン酸コポリマー、ポリビニルアルコール又はポリビニルピロリドンのような水溶性樹脂又は水溶性ポリマー化合物；ポリエステル；変性ポリアクリレート；エチレンオキシド／プロピレンオキシドの付加生成物、及びリン酸エステルを含んでもよい。   The pigment dispersant is added to deagglomerate and maintain stability of the pigment as a colorant. The dispersing agent may preferably contain an acrylate-based dispersing agent including BMA (butyl methacrylate) or DMAEMA (N, N-dimethylaminoethyl methacrylate). At this time, it is preferable to apply the acrylic dispersant manufactured by the living control method as described in Korean Patent Publication No. 2004-0014311 and the acrylic dispersant manufactured by the living control method. Examples of commercially available agents include DISPER BYK-2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070, DISPER BYK-2150, and the like. The dispersant is a known resin type pigment dispersant, in particular, polyurethane, polycarboxylic acid ester represented by polyacrylate, unsaturated polyamide, polycarboxylic acid, polycarboxylic acid (partial) amine salt, polycarboxylic acid. Acid ammonium salt, polycarboxylic acid alkylamine salt, polysiloxane, long chain polyaminoamide phosphate, hydroxyl group-containing polycarboxylic acid ester and modified products thereof, or free carboxyl group-containing polyester and poly (lower alkylene imine) Oily dispersants such as amides or their salts produced by reaction with (A)); (meth) acrylic acid-styrene copolymers, (meth) acrylic acid- (meth) acrylate ester copolymers, styrene-maleic acid copolymers, Polyvinyl alcohol or polyvinyl pipe Water-soluble resin or a water-soluble polymer compound such as pyrrolidone, polyesters, modified polyacrylates; addition products of ethylene oxide / propylene oxide, and may include phosphate ester.

前記樹脂タイプ顔料分散剤の市販品として、カチオン系樹脂分散剤としては、例えば、ＢＹＫ（ビック）ケミー社の商品名：ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−１６０、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−１６１、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−１６２、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−１６３、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−１６４、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−１６６、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−１７１、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−１８０、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−１８２、ＤＩＳＰＥＲ ＢＹＫ−１８４；ＢＡＳＦ社の商品名：ＥＦＫＡ−４４、ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４８，ＥＦＫＡ−４０１０、ＥＦＫＡ−４０５０、ＥＦＫＡ−４０５５、ＥＦＫＡ−４０２０、ＥＦＫＡ−４０１５、ＥＦＫＡ−４０６０、ＥＦＫＡ−４３００、ＥＦＫＡ−４３３０、ＥＦＫＡ−４４００、ＥＦＫＡ−４４０６、ＥＦＫＡ−４５１０、ＥＦＫＡ−４８００；Ｌｕｂｉｒｚｏｌ社の商品名：ＳＯＬＳＰＥＲＳ−２４０００、ＳＯＬＳＰＥＲＳ−３２５５０、ＮＢＺ−４２０４／１０；川研ファインケミカル社の商品名：ヒノアクト（ＨＩＮＯＡＣＴ）Ｔ−６０００、ヒノアクトＴ−７０００、ヒノアクトＴ−８０００；味の素社の商品名：アジスパー（ＡＪＩＳＰＵＲ）ＰＢ−８２１、アジスパーＰＢ−８２２、アジスパーＰＢ−８２３；共栄社化学社の商品名：フローレン（ＦＬＯＲＥＮＥ）ＤＯＰＡ−１７ＨＦ、フローレンＤＯＰＡ−１５ＢＨＦ、フローレンＤＯＰＡ−３３、フローレンＤＯＰＡ−４４等が挙げられる。   As a commercially available product of the resin type pigment dispersant, as a cationic resin dispersant, for example, trade names of BYK (BIC) Chemie: DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162, DISPER BYK-163 , DISPER BYK-164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-180, DISPER BYK-182, DISPER BYK-184; BASF Corporation trade names: EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA -48, EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA-4330, EFKA-440 , EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800; trade names of Lubilzol: SOLPERS-24000, SOLPERS-32550, NBZ-4204 / 10; trade names of Kawaken Fine Chemicals: HINOACT T-6000, Hinoact T-7000, Hinoact T-8000; Ajinomoto brand names: AJISPUR PB-821, Ajisper PB-822, Azisper PB-823; Kyoeisha Chemical brand names: FLORENE DOPA-17HF, FLOREN DOPA -15BHF, florene DOPA-33, florene DOPA-44 and the like.

前記分散剤は、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物中の固形分の全重量に対して、０．０１〜１０重量％の量で含まれることが好ましく、特に、０．０５〜２重量％の量で含まれることがより好ましい。前記分散剤が前記の含有量で含まれる場合、着色剤である顔料の分散性が特に優れるため好ましい。   The dispersant is preferably contained in an amount of 0.01 to 10% by weight with respect to the total weight of the solid content in the photosensitive resin composition for forming a non-display part light-shielding pattern. More preferably, it is contained in an amount of 2% by weight. It is preferable that the dispersant is contained in the above content because the dispersibility of the pigment as the colorant is particularly excellent.

前記密着促進剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2- Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) Ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane 3- isocyanatopropyltriethoxysilane and the like.

これら密着促進剤は、それぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができ、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物中の固形分の全重量に対して、通常０．０１〜１０重量％、好ましくは０．０５〜２重量％の量で含まれ得る。   These adhesion promoters can be used alone or in combination of two or more, and usually 0.01 to 10 with respect to the total weight of the solid content in the non-display portion light-shielding pattern forming photosensitive resin composition. It may be included in an amount of% by weight, preferably 0.05-2% by weight.

前記酸化防止剤としては、具体的に、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール等が挙げられる。   Specific examples of the antioxidant include 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol.

前記紫外線吸収剤としては、具体的に、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等が挙げられる。   Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone.

前記凝集防止剤としては、ポリアクリル酸ナトリウム等が挙げられる。   Examples of the aggregation inhibitor include sodium polyacrylate.

本発明の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物は、ウィンドウ基板上の非表示部領域上に塗工塗布され、非表示部の遮光パターンを形成する。遮光パターンは、スクリーン印刷、フォトリソグラフィ、オフセット印刷等、当分野で公知の方法によって形成され得る。   The photosensitive resin composition for forming a non-display part light-shielding pattern of the present invention is applied and applied onto a non-display part region on a window substrate to form a non-display part light-shielding pattern. The light shielding pattern can be formed by a method known in the art, such as screen printing, photolithography, offset printing, and the like.

本発明に係る遮光パターンが形成されたウィンドウ基板は、タッチスクリーンパネルのウィンドウ基板として用いてもよい。このようなタッチスクリーンパネルは、液晶ディスプレイ、ＯＬＥＤ、フレキシブルディスプレイ等の画像表示装置と結合されて有用に活用することができる。   The window substrate on which the light shielding pattern according to the present invention is formed may be used as a window substrate of a touch screen panel. Such a touch screen panel can be usefully combined with an image display device such as a liquid crystal display, an OLED, or a flexible display.

以下、本発明の理解を容易にするために好適な実施形態を示すが、これら実施形態は本発明を例示するに過ぎず、添付された特許請求の範囲を制限するわけではなく、本発明の範疇及び技術思想の範囲内において実施形態に対し変更が多様であること且つ修正が可能であることは、当業者にとって明らかなものであり、このような変更及び修正が添付された特許請求の範囲に属するのも当然のことである。   In the following, preferred embodiments are shown to facilitate understanding of the present invention, but these embodiments are merely illustrative of the present invention and do not limit the scope of the appended claims. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made to the embodiments within the scope of the scope and the technical idea, and such changes and modifications are claimed in the appended claims. Of course it belongs to.

実施形態１
組成物固形分の全重量１００％を基準とし、平均粒径が７μｍであるパール顔料（Ｒ−９０１Ｆ、ＣＱＶ社製）０．２重量％と、メタクリル酸及びベンジルメタクリレートの共重合体（重量平均分子量（Ｍｗ）：１５，０００）４６．８重量％と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＴＯＡＧＯＳＥＩ（株）製）４６．８重量％と、光重合開始剤としてＩ−８１９（ＢＡＳＦ製）５．５重量％と、界面活性剤としてＴＦ−１５３５（ＤＩＣ製）０．１重量％と、分散剤としてＢＹＫ−１８０（ＢＹＫ製）０．５重量％と、密着促進剤として３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン０．１重量％とを混合し、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを組成物の全重量に対して５０重量％の量になるように混合した。その後、これら混合物を２時間撹拌することで、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物を調製した。 Embodiment 1
0.2% by weight of pearl pigment (R-901F, manufactured by CQV) having an average particle diameter of 7 μm based on 100% of the total weight of the solid content of the composition, and a copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate (weight average) Molecular weight (Mw): 16.8) 46.8% by weight, dipentaerythritol hexaacrylate (TOAGOSEI Co., Ltd.) 46.8% by weight, I-819 (manufactured by BASF) 5.5 as a photopolymerization initiator % By weight, TF-1535 (manufactured by DIC) 0.1% by weight as a surfactant, 0.5% by weight BYK-180 (manufactured by BYK) as a dispersant, and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane as an adhesion promoter 0.1% by weight is mixed with propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent in an amount of 50% by weight based on the total weight of the composition It was mixed. Then, the photosensitive resin composition for non-display part light-shielding pattern formation was prepared by agitating these mixtures for 2 hours.

実施形態２
パール顔料を１重量％用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Embodiment 2
A composition was prepared in the same manner as in Embodiment 1 except that 1% by weight of pearl pigment was used.

実施形態３
パール顔料を２重量％用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Embodiment 3
A composition was prepared in the same manner as in Embodiment 1 except that 2% by weight of pearl pigment was used.

実施形態４
平均粒径が１４μｍであるパール顔料（Ｒ−９０１Ｄ、ＣＱＶ社製）を用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Embodiment 4
A composition was prepared in the same manner as in Embodiment 1 except that a pearl pigment (R-901D, manufactured by CQV) having an average particle size of 14 μm was used.

実施形態５
平均粒径が１４μｍであるパール顔料（Ｒ−９０１Ｄ、ＣＱＶ社製）を１重量％用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Embodiment 5
A composition was prepared in the same manner as in Embodiment 1, except that 1% by weight of a pearl pigment (R-901D, manufactured by CQV) having an average particle diameter of 14 μm was used.

実施形態６
平均粒径が１４μｍであるパール顔料（Ｒ−９０１Ｄ、ＣＱＶ社製）を２重量％用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Embodiment 6
A composition was prepared in the same manner as in Embodiment 1 except that 2% by weight of a pearl pigment (R-901D, manufactured by CQV) having an average particle diameter of 14 μm was used.

実施形態７
平均粒径が１７μｍであるパール顔料（Ｒ−９０１Ｄ、ＣＱＶ社製）を１重量％用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Embodiment 7
A composition was prepared in the same manner as in Embodiment 1 except that 1% by weight of a pearl pigment (R-901D, manufactured by CQV) having an average particle diameter of 17 μm was used.

比較形態１
平均粒径が７μｍであるパール顔料を０．１重量％用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Comparative form 1
A composition was prepared in the same manner as in Embodiment 1 except that 0.1% by weight of a pearl pigment having an average particle diameter of 7 μm was used.

比較形態２
平均粒径が７μｍであるパール顔料を５重量％用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Comparative form 2
A composition was prepared in the same manner as in Embodiment 1 except that 5% by weight of a pearl pigment having an average particle diameter of 7 μm was used.

比較形態３
平均粒径が１４μｍであるパール顔料を０．１重量％用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Comparative form 3
A composition was prepared in the same manner as in Embodiment 1 except that 0.1% by weight of a pearl pigment having an average particle size of 14 μm was used.

比較形態４
平均粒径が１４μｍであるパール顔料を５重量％用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Comparative form 4
A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 5% by weight of a pearl pigment having an average particle diameter of 14 μm was used.

比較形態５
平均粒径が３００ｎｍである白色顔料ＴｉＯ２を１重量％用いたこと以外は、実施形態１と同様の方法で組成物を調製した。 Comparative form 5
A composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1% by weight of white pigment TiO 2 having an average particle diameter of 300 nm was used.

実験例１
前記実施形態１〜７及び比較形態１〜５で調製した非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物を用いて遮光パターンを製造した。即ち、前記実施形態１〜７及び比較形態１〜５の感光性樹脂組成物をスピンコーティング法によってガラス基板上に塗布した後、加熱板上に置いて１００℃の温度で３分間維持することで薄膜を形成させた。次いで、前記薄膜上に３〜１００μｍのラインパターンを有するフォトマスクを載せ、紫外線を照射した。この時、紫外線の光源は、ｇ、ｈ、ｉ線を全て含有する１ｋＷの高圧水銀灯を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の照度で照射した。紫外線を照射した薄膜をｐＨ１０．５のＫＯＨ水溶液現像溶液に１００秒間浸漬してから現像した。この薄膜がコーティングされたガラス板を蒸溜水によって洗浄した後、窒素ガスを用いて乾燥させ、２３０℃の加熱オーブンで２０分間加熱して遮光パターン層を製造した。ここで製造した遮光パターン層の厚さは１５．０μｍであった。 Experimental example 1
The light-shielding pattern was manufactured using the photosensitive resin composition for non-display part light-shielding pattern formation prepared in the said Embodiments 1-7 and Comparative Examples 1-5. That is, after applying the photosensitive resin compositions of Embodiments 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5 on a glass substrate by a spin coating method, it is placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C. for 3 minutes. A thin film was formed. Next, a photomask having a line pattern of 3 to 100 μm was placed on the thin film and irradiated with ultraviolet rays. At this time, the ultraviolet light source was irradiated at an illuminance of 100 mJ / cm 2 using a 1 kW high-pressure mercury lamp containing all g, h, and i rays. The thin film irradiated with ultraviolet rays was immersed in a KOH aqueous solution developing solution having a pH of 10.5 for 100 seconds and then developed. The glass plate coated with this thin film was washed with distilled water, dried using nitrogen gas, and heated in a heating oven at 230 ° C. for 20 minutes to produce a light shielding pattern layer. The thickness of the light shielding pattern layer produced here was 15.0 μm.

実験例２
（１）調製例１：着色剤分散組成物の調製
Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト６として平均粒度が２００ｎｍである着色剤３５．０ｇと、バインダ樹脂（メタクリル酸及びベンジルメタクリレートの共重合体であって、メタクリル酸単位とベンジルメタクリレート単位との比がモル比で３１：６９、ポリスチレン換算の重量平均分子量が２０，０００）４．９４ｇと、分散剤としてＢＹＫ−１８０（ＢＹＫ社製）４．３２ｇと、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５５．７４ｇとをビーズミルを用いて２時間混合及び分散させることで、着色剤分散組成物を調製した。 Experimental example 2
(1) Preparation Example 1: Preparation of Colorant Dispersion Composition C.I. I. As pigment white 6, 35.0 g of a colorant having an average particle size of 200 nm and a binder resin (a copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate, the ratio of methacrylic acid units to benzyl methacrylate units being 31:69 in molar ratio) , Polystyrene equivalent weight average molecular weight of 20,000) 4.94 g, BYK-180 (manufactured by BYK) as a dispersing agent 4.32 g, propylene glycol monomethyl ether acetate 55.74 g as a solvent using a bead mill. A colorant dispersion composition was prepared by mixing and dispersing for a period of time.

（２）調製例２：遮光層形成用感光性樹脂組成物
前記調製例１で調製した着色剤分散組成物５０．２ｇと、メタクリル酸及びベンジルメタクリレートの共重合体（メタクリル酸単位とベンジルメタクリレート単位との比がモル比で３１：６９、ポリスチレン換算の重量平均分子量が２０，０００）２９．５ｇと、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）１１．１ｇと、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−１−プロパン−１−オン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７−；ＢＡＳＦ社製）２．２ｇと、２，４−ジエチルチオキサントン（Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ ＤＥＴＸ；ＬＡＭＢＳＯＮ製）１．１ｇと、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５０３；Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ製）０．４ｇと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５．５ｇとを混合して、ディスプレイ装置の全面遮光層形成用感光性樹脂組成物を調製した。 (2) Preparation Example 2: Photosensitive resin composition for forming a light-shielding layer 50.2 g of the colorant dispersion composition prepared in Preparation Example 1 and a copolymer of methacrylic acid and benzyl methacrylate (methacrylic acid unit and benzyl methacrylate unit) 29.5 g in terms of a molar ratio of 31:69 and polystyrene equivalent weight average molecular weight of 20,000), 11.1 g of dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 2 -Methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propan-1-one (Irgacure 907-; manufactured by BASF) 2.2 g and 2,4-diethylthioxanthone (Speedcure DETX; manufactured by LAMBSON) 1.1 g And 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503; S And in-Etsu, Ltd.) 0.4 g, was mixed with propylene glycol monomethyl ether acetate 5.5 g, was prepared entirely shielding layer forming photosensitive resin composition for a display device.

（３）遮光パターンの形成
前記実験例１で使用したパターン形成用感光性樹脂組成物を用いて全面遮光層を形成した。即ち、前記実施形態１〜７及び比較形態１〜５で調製した感光性樹脂組成物を下部膜として用い、その上部にスピンコーティング法によって調製例２で調製した組成物を塗布した。その後、加熱板上に置いて１００℃の温度で３分間維持することで薄膜を形成させた。次いで、前記薄膜上に３〜１００μｍのラインパターンを有するフォトマスクを載せ、紫外線を照射した。この時、紫外線の光源は、ｇ、ｈ、ｉ線を全て含有する１ｋＷの高圧水銀灯を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の照度で照射した。紫外線を照射した薄膜をｐＨ１０．５のＫＯＨ水溶液現像溶液に１００秒間浸漬してから現像した。膜がコーティングされた基板を蒸溜水を用いて洗浄した後、窒素ガスを用いて乾燥させ、２３０℃の加熱オーブンで２０分間加熱して遮光パターン層を形成した。ここで製造した遮光パターン層の厚さは２０．０μｍであった。 (3) Formation of light-shielding pattern A light-shielding layer was formed on the entire surface using the pattern-forming photosensitive resin composition used in Experimental Example 1. That is, the photosensitive resin composition prepared in Embodiments 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5 was used as the lower film, and the composition prepared in Preparation Example 2 was applied to the upper part by spin coating. Then, the thin film was formed by placing on a heating plate and maintaining at a temperature of 100 ° C. for 3 minutes. Next, a photomask having a line pattern of 3 to 100 μm was placed on the thin film and irradiated with ultraviolet rays. At this time, the ultraviolet light source was irradiated at an illuminance of 100 mJ / cm 2 using a 1 kW high-pressure mercury lamp containing all g, h, and i rays. The thin film irradiated with ultraviolet rays was immersed in a KOH aqueous solution developing solution having a pH of 10.5 for 100 seconds and then developed. The substrate coated with the film was washed with distilled water, dried using nitrogen gas, and heated in a heating oven at 230 ° C. for 20 minutes to form a light shielding pattern layer. The thickness of the light shielding pattern layer produced here was 20.0 μm.

１．遮光パターンのパターン性の確認
実験例１で製造した遮光パターンを製造する過程における現像速度を測定するとともに、以下のとおりパターン性を確認した。その結果を下記表１に示す。
＊パターン性：２５０μｍの長さの正四角形状のパターンを基準とした。
◎：パターンの咬み込みがなく、正四角形状を有する。
○：パターンの一部に咬み込み現象が発生したか、ほぼ四角形状を有する。
△：パターンの境界面で咬み込み現象が多く発生し、四角形状を有しない。
×：パターンの多くが咬み込まれて形状が残っておらず、パターン形状を確認することができない。 1. Confirmation of pattern properties of light shielding pattern The development rate in the process of producing the light shielding pattern produced in Experimental Example 1 was measured, and the pattern properties were confirmed as follows. The results are shown in Table 1 below.
* Pattern: A regular square pattern having a length of 250 μm was used as a reference.
(Double-circle): There is no biting of a pattern and it has a regular square shape.
○: A biting phenomenon occurs in a part of the pattern, or it has a substantially square shape.
(Triangle | delta): Many biting phenomena generate | occur | produce in the boundary surface of a pattern, and it does not have a square shape.
X: Most of the patterns are bitten and no shape remains, and the pattern shape cannot be confirmed.

２．遮光パターンの視認性の確認
実験例２で製造された遮光パターンの、ガラス面における各パターン間の視認性を確認した。その結果を下記表１に示す。
＊視認性：２５０μｍの長さの正四角形状のパターンを基準とした。
◎：パターンの境目が明確であり、パターン形状として確認される。
○：パターンの境目が明確ではないが、凡そパターン形状として確認される。
△：パターンの境目が明確ではなく、パターン形状を確認することができない。
×：パターンの境目が残っておらず、パターン形状を確認することができない。 2. Confirmation of Visibility of Light Shielding Pattern The visibility of each light shielding pattern on the glass surface of the light shielding pattern produced in Experimental Example 2 was confirmed. The results are shown in Table 1 below.
* Visibility: A regular square pattern having a length of 250 μm was used as a reference.
(Double-circle): The boundary of a pattern is clear and is confirmed as a pattern shape.
○: The boundary of the pattern is not clear, but it is confirmed as the pattern shape.
Δ: The boundary of the pattern is not clear and the pattern shape cannot be confirmed.
X: No pattern boundary remains and the pattern shape cannot be confirmed.

３．耐熱性の評価
実施形態及び比較形態の組成物をコーティングして塗膜を形成した。その後、ミノルタ社製のＳＰＥＣＴＲＯＰＨＯＴＯＭＥＴＥＲ ＣＭ−３７００ｄを用い、２３０℃のオーブンで３０分ベークした後に測定した分光値と、２３０℃のオーブンで２時間ベークした後に測定した分光値とのΔＥ＊ａｂで耐熱性を評価した。その結果を下記表１に示す。 3. Evaluation of heat resistance A coating film was formed by coating the composition of the embodiment and the comparative embodiment. Then, using SPECTROTOPOMETER CM-3700d manufactured by Minolta, heat resistance was obtained with ΔE * ab of the spectral value measured after baking for 30 minutes in an oven at 230 ° C. and the spectral value measured after baking for 2 hours in an oven at 230 ° C. Sex was evaluated. The results are shown in Table 1 below.

Figure 0005996591
Figure 0005996591

表１を参照すると、実施形態の遮光パターンは、比較形態と類似の耐熱性を示しつつも、比較形態と比較してパターン性及び視認性が全般的に優れることが確認された。   Referring to Table 1, it was confirmed that the light shielding pattern of the embodiment was generally excellent in patternability and visibility as compared with the comparative form, while exhibiting heat resistance similar to that of the comparative form.

しかしながら、比較形態の場合、実施形態より視認性が顕著に低下することが確認された。特に、白色顔料を用いた比較形態５の場合、視認性に最も劣っていた。   However, in the case of the comparative form, it has been confirmed that the visibility is remarkably lowered as compared with the embodiment. In particular, in the case of the comparative form 5 using a white pigment, the visibility was inferior.

Claims (7)

画像が表示される表示部と、当該表示部を取り囲む非表示部とを備える基板の前記非表示部に遮光パターンを形成するための非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物であって、
パール顔料を含む着色剤（Ａ）と、アルカリ可溶性バインダ樹脂（Ｂ）と、光重合性化合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、溶媒（Ｅ）とを含み、
前記パール顔料が、固形分を基準とし、組成物の全重量に対して０．２〜２重量％の量で含まれる、非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。 A non-display part light-shielding pattern forming photosensitive resin composition for forming a light-shielding pattern on the non-display part of a substrate comprising a display part on which an image is displayed and a non-display part surrounding the display part,
A colorant (A) containing a pearl pigment, an alkali-soluble binder resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent (E);
The photosensitive resin composition for non-display part light-shielding pattern formation in which the said pearl pigment is contained in the quantity of 0.2-2 weight% with respect to the total weight of a composition on the basis of solid content. 前記パール顔料が、反射層コア部及び前記コア部をコーティングする高屈折率層を備える、請求項１に記載の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。 The photosensitive resin composition for non-display part light-shielding pattern formation of Claim 1 with which the said pearl pigment is provided with the high refractive index layer which coats a reflective layer core part and the said core part. 前記反射層コア部が、マイカ、セリサイト、タルク、カオリン、スメクタイト系粘土鉱物、板状二酸化チタン、板状シリカ、板状酸化アルミニウム、窒化ホウ素、硫酸バリウム、及び板状チタニア・シリカ複合酸化物からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項２に記載の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。 The reflective layer core portion is mica, sericite, talc, kaolin, smectite clay mineral, plate-like titanium dioxide, plate-like silica, plate-like aluminum oxide, boron nitride, barium sulfate, and plate-like titania / silica composite oxide. The photosensitive resin composition for non-display part light-shielding pattern formation of Claim 2 which is at least 1 sort (s) selected from the group which consists of. 前記高屈折率層が、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｎＳ、ＳｎＯ２、及びＺｎＯからなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項２または３に記載の非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物。 The high refractive index layer, TiO 2, ZrO 2, Sb 2 O 3, ZnS, comprises at least one member selected from the group consisting of SnO 2, and ZnO, the non-display portion shielding according to claim 2 or 3 Photosensitive resin composition for pattern formation. 画像が表示される表示部と、当該表示部を取り囲む非表示部とを備える基板であって、
前記非表示部は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の前記非表示部遮光パターン形成用感光性樹脂組成物で構成されている基板。 A substrate including a display unit on which an image is displayed and a non-display unit surrounding the display unit,
The said non-display part is a board | substrate comprised with the said photosensitive resin composition for non-display part light-shielding pattern formation as described in any one of Claims 1-4 . 請求項５に記載の前記基板を備えたタッチスクリーンパネル。 A touch screen panel comprising the substrate according to claim 5 . 請求項６に記載のタッチスクリーンパネルを備えた画像表示装置。 An image display device comprising the touch screen panel according to claim 6 .
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101391225B1 (en) * 2013-09-05 2014-05-07 동우 화인켐 주식회사 Photo-sensitive resin composition for forming non-diplay part light-shielding pattern
KR102067857B1 (en) * 2016-04-08 2020-01-17 주식회사 엘지화학 A method for forming a bezel pattern using inkjet printing
KR102548202B1 (en) * 2016-09-29 2023-06-26 동우 화인켐 주식회사 Composition for forming patterns of non-display part and Cover window substrate using the same
CN109003542A (en) * 2018-07-19 2018-12-14 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Display panel and display device
KR20220108667A (en) * 2021-01-27 2022-08-03 삼성에스디아이 주식회사 Optical laminate and optical display apparatus comprising the same

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001174989A (en) * 1999-12-17 2001-06-29 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive transfer sheet
JP2008037719A (en) * 2006-08-09 2008-02-21 Sumitomo Chemical Co Ltd Photosensitive paste
EP2069866A2 (en) * 2006-10-03 2009-06-17 Ciba Holding Inc. Photocurable compositions
JP2008115261A (en) * 2006-11-02 2008-05-22 Fujifilm Corp Coating composition
DE102009010952A1 (en) * 2009-02-27 2010-09-09 Schott Ag Coating for the display area of glass or glass-ceramic panes, method for producing such a coating and its use
KR20120086693A (en) * 2009-09-29 2012-08-03 후지필름 가부시키가이샤 Colored photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display device
TWI520039B (en) 2009-12-24 2016-02-01 Nissha Printing Electrostatic capacitive touch sensor, electronic machine and transparent conductive film laminated body manufacturing method
JP5585147B2 (en) 2010-03-23 2014-09-10 凸版印刷株式会社 Bezel decoration
JP5516089B2 (en) * 2010-06-01 2014-06-11 王子ホールディングス株式会社 Conductive sheet, conductive laminate for touch panel, and touch panel
JP2012043120A (en) * 2010-08-18 2012-03-01 Shin Etsu Polymer Co Ltd Touch pad for electronic apparatus
JP5793908B2 (en) * 2011-03-25 2015-10-14 凸版印刷株式会社 Decorative films and decorative molded products
US8851649B2 (en) * 2011-05-13 2014-10-07 Eckart Gmbh UV ink jet printing ink composition
JP2012242928A (en) * 2011-05-17 2012-12-10 Toppan Printing Co Ltd Touch panel integrating decorated transparent protective substrate
KR101474802B1 (en) * 2011-12-30 2014-12-22 제일모직 주식회사 Thermoplastic resin composition
JP6016051B2 (en) * 2012-01-25 2016-10-26 大日本印刷株式会社 Front protective plate for display device and display device
KR101452314B1 (en) * 2013-08-26 2014-10-22 동우 화인켐 주식회사 Window plate and touch screen panel comprising the same
KR101391225B1 (en) * 2013-09-05 2014-05-07 동우 화인켐 주식회사 Photo-sensitive resin composition for forming non-diplay part light-shielding pattern

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