KR20120086693A - Colored photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display device - Google Patents

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토모히로 코다마
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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

현상시의 패터닝성이 좋고, 미세 패턴이 형성 가능한 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다. 착색 감광성 수지 조성물을 흑색재를 포함하는 착색제와, 알칼리 가용성 수지와, 중합성기를 3개 이상 갖는 중합성 화합물과, 중합 개시제 또는 중합 개시계와, 용제를 포함해서 구성하고, 투명 기판 상에 광학농도가 4.0인 착색 감광성 수지 조성물을 포함하는 감광성 수지층을 형성하고, 감광성 수지층의 투명 기판측과는 반대의 면측으로부터 마스크를 통해 감광성 수지층을 노광?현상 처리해서 형성되는 제 1 패턴의 선폭(W1)의 마스크의 선폭(W2)에 대한 비(W1/W2)가 0.7?1.5의 범위가 되는 노광?현상 조건으로 얻어지는 제 1 패턴의 막두께(d2)와, 감광성 수지층의 투명 기판측의 면측으로부터 마스크와 상기 투명 기판을 통해 상기 노광?현상 조건으로 감광성 수지층을 노광?현상 처리해서 얻어지는 제 2 패턴의 막두께(d1)의 비(d1/d2)를 0.3 이상으로 한다.The patterning property at the time of image development is good, and the coloring photosensitive resin composition which can form a micropattern is provided. The coloring photosensitive resin composition is comprised including the coloring agent containing a black material, alkali-soluble resin, the polymeric compound which has 3 or more of a polymeric group, a polymerization initiator or a polymerization initiator system, and a solvent, and is optical on a transparent substrate Line width of the 1st pattern formed by forming the photosensitive resin layer containing the coloring photosensitive resin composition whose density | concentration is 4.0, and exposing and developing a photosensitive resin layer through the mask from the surface side opposite to the transparent substrate side of the photosensitive resin layer. The film thickness d2 of the first pattern obtained under exposure and development conditions in which the ratio (W1 / W2) to the line width W2 of the mask of (W1) is in the range of 0.7 to 1.5, and the transparent substrate side of the photosensitive resin layer The ratio d1 / d2 of the film thickness d1 of the second pattern obtained by exposing and developing the photosensitive resin layer through the mask and the transparent substrate under the exposure and development conditions is set to 0.3 or more.

Description

착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터, 및 액정표시장치{COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}Colored photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display device {COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}

본 발명은 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터, 및 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a color filter, and a liquid crystal display device.

일반적으로 표시장치용 컬러필터는 유리 등의 기판 상에 적색, 녹색, 청색의 도트 형상 화상을 각각 매트릭스 형상으로 배치하고, 그 경계를 블랙 매트릭스 등의 농색 화소분리벽으로 구분한 구조이다. 이러한 컬러필터의 제조방법으로서는 종래, 지지체로서 유리 등의 기판을 사용하여, 1)염색법, 2)인쇄법, 3)착색된 감광성 수지액의 도포와 노광 및 현상의 반복에 의한 착색 감광성 수지액법(착색 레지스트법), 4)가지지체 상에 형성된 화상을 순차 최종 또는 가지지체 상에 전사하는 방법, 5)미리 착색된 감광성 수지액을 가지지체 상에 도포함으로써 착색층을 형성하고, 순차 직접 기판 상에 이 감광성 착색층을 전사하고, 노광해서 현상하는 것을 색의 수만큼 반복하는 방법 등에 의해 다색 화상을 형성하는 방법(전사 방식)이 알려져 있다. 또 잉크젯법을 사용하는 방법도 알려져 있다.In general, a color filter for a display device has a structure in which red, green, and blue dot-shaped images are arranged in a matrix on a substrate such as glass, and the boundary is divided by a deep pixel pixel wall such as a black matrix. As a method of manufacturing such a color filter, conventionally, using a substrate such as glass as a support, 1) dyeing method, 2) printing method, 3) coloring photosensitive resin solution method by coating and repeating exposure and development of colored photosensitive resin solution ( Colored resist method), 4) a method of transferring an image formed on a support to a final or branched body sequentially, 5) forming a colored layer by applying a pre-colored photosensitive resin liquid onto a branched body, and then directly on the substrate A method (transfer method) is known in which a multicolor image is formed by a method of transferring the photosensitive colored layer, exposing and developing the photosensitive colored layer to the number of colors. Moreover, the method of using the inkjet method is also known.

이들 방법 중 착색 레지스트법은 위치 정밀도 높게 컬러필터를 제작할 수 있지만, 감광성 수지액의 도포에 로스가 많아 비용적으로는 유리하다고는 할 수 없다. 한편 잉크젯법은 감광성 수지액의 로스가 적어 비용적으로는 유리하지만, 화소의 위치 정밀도가 나쁘다는 문제가 있다. 이들을 극복하기 위해 블랙 매트릭스를 착색 레지스트법으로 형성하고, RGB 화소를 잉크젯법으로 제작하는 컬러필터 제조법도 제안되어 있다.Among these methods, the colored resist method can produce a color filter with high positional accuracy, but it is not advantageous in terms of cost because it has a large loss in coating of the photosensitive resin liquid. On the other hand, although the inkjet method is advantageous in terms of cost due to the low loss of the photosensitive resin liquid, there is a problem that the positional accuracy of the pixel is poor. In order to overcome these problems, there has also been proposed a method of manufacturing a color filter in which a black matrix is formed by a colored resist method and an RGB pixel is produced by an inkjet method.

상기에 관련되어서 측쇄 (메타)아크릴로일기 함유 스티렌을 포함하는 감방사선성 조성물이 알려져 있다. 이것에 의하면, 저노광량으로도 패턴 에지의 결락 및 언더컷이 발생하지 않고, 또한 현상시에 미용해물이 잔존하거나 패턴 에지에 스컴이 생기지 않고, 미세 패턴의 형성이 가능하게 되어 있다(예를 들면, 일본 특허 공개 2008-181095호 공보 참조).In connection with the above, the radiation sensitive composition containing side chain (meth) acryloyl-group containing styrene is known. According to this, even if low exposure amount does not generate | occur | produce a pattern edge, and an undercut does not generate | occur | produce, and undissolved matter remains at the time of image development, or scum does not generate | occur | produce at the pattern edge, and a fine pattern can be formed (for example, See Japanese Patent Laid-Open No. 2008-181095).

또한, 아세토페논계 중합 개시제를 포함하는 착색 감광성 조성물이 알려져 있다. 이것에 의하면, 착색 물질을 사용하고 있음에도 불구하고, 광에 대해서 고감도이며, 또한 유리 기판에의 밀착성이 높은 블랙 매트릭스를 형성할 수 있다고 되어 있다(예를 들면, 일본 특허 공개 2006-276173호 공보 참조).Moreover, the coloring photosensitive composition containing the acetophenone type polymerization initiator is known. According to this, although the coloring substance is used, it is said that the black matrix which has high sensitivity with respect to light, and has high adhesiveness to a glass substrate can be formed (for example, refer Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-276173). ).

그러나, 일본 특허 공개 2008-181095호 공보 및 일본 특허 공개 2006-276173호 공보에 기재된 감광성 조성물에서는 블랙 매트릭스 형성시에 화소 결락이 생기지 않는 경우가 있었다. 그 때문에 RGB 화소 형성 후에 혼색이나 화소 결락의 결함 수정을 할 필요가 있어 생산 효율이 저하되는 경우가 있었다.However, in the photosensitive composition of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-181095 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-276173, pixel missing might not arise at the time of black matrix formation. Therefore, defects of mixed color and pixel missing need to be corrected after the formation of the RGB pixel, which sometimes lowers the production efficiency.

본 발명은 현상시의 패터닝성이 좋고, 미세 패턴의 형성이 가능한 착색 감광성 수지 조성물, 및 이것을 사용해서 형성되는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 구비하는 액정표시장치를 제공하는 것을 과제로 한다.An object of this invention is to provide the coloring photosensitive resin composition which the patterning property at the time of image development is good, and in which a fine pattern can be formed, the color filter formed using this, and the said color filter.

상기 과제를 해결하기 위한 구체적 수단은 이하와 같다.The specific means for solving the said subject is as follows.

<1> 흑색의 색재를 포함하는 착색제와, 알칼리 가용성 수지와, 중합성기를 3개 이상 갖는 중합성 화합물과, 중합 개시제 또는 중합 개시계와, 용제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물로서, 투명 기판 상에 광학농도가 4.0이 되도록 상기 착색 감광성 수지 조성물을 포함하는 감광성 수지층을 형성하고, 상기 감광성 수지층의 상기 투명 기판에 대향하는 면과는 반대의 면측으로부터 마스크를 통해 상기 감광성 수지층을 노광?현상 처리해서 형성되는 제 1 패턴의 선폭(W1)의 상기 마스크의 선폭(W2)에 대한 비(W1/W2)가 0.7?1.5의 범위가 되는 노광?현상 조건으로 얻어지는 상기 제 1 패턴의 막두께(d2)와, 상기 감광성 수지층의 상기 투명 기판에 대향하는 면측으로부터 마스크와 상기 투명 기판을 통해 상기 W1/W2가 0.7?1.5의 범위가 되는 노광?현상 조건으로 상기 감광성 수지층을 노광?현상 처리해서 얻어지는 제 2 패턴의 막두께(d1)의 비(d1/d2)가 0.3 이상인 착색 감광성 수지 조성물.<1> A colored photosensitive resin composition comprising a coloring agent containing a black color material, an alkali-soluble resin, a polymerizable compound having three or more polymerizable groups, a polymerization initiator or a polymerization initiator, and a solvent, on a transparent substrate. The photosensitive resin layer containing the said colored photosensitive resin composition is formed in optical density to 4.0, and it exposes the said photosensitive resin layer through the mask from the surface side opposite to the surface which opposes the said transparent substrate of the said photosensitive resin layer? The film thickness of the first pattern obtained under exposure and development conditions in which the ratio W1 / W2 to the line width W2 of the mask of the line width W1 of the first pattern formed by developing is in the range of 0.7 to 1.5. (d2) and said exposure under the exposure and developing conditions which the said W1 / W2 becomes the range of 0.7-1.5 through the mask and the said transparent substrate from the surface side which opposes the said transparent substrate of the said photosensitive resin layer. Gender exposing the resin layer? A development process to the obtained ratio (d1 / d2) is 0.3 or more colored photosensitive resin composition of the second pattern of film thickness (d1).

<2> <1>에 있어서, 상기 W1/W2가 0.8?1.2의 범위가 되는 노광?현상 조건에 있어서의 상기 d1/d2가 0.3?0.7의 범위인 착색 감광성 수지 조성물.<2> The coloring photosensitive resin composition as described in <1> whose said d1 / d2 in the exposure and developing conditions whose said W1 / W2 becomes the range of 0.8-1.2 is 0.3-0.7.

<3> <1> 또는 <2>에 있어서, 상기 착색제는 적어도 카본블랙을 함유하는 착색 감광성 수지 조성물.<3> The colored photosensitive resin composition according to <1> or <2>, wherein the colorant contains at least carbon black.

<4> <1>?<3> 중 어느 하나에 있어서, 상기 중합 개시제 또는 중합 개시계는 적어도 1종의 아실포스핀옥사이드계 개시제를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물.<4> The colored photosensitive resin composition in any one of <1>-<3> in which the said polymerization initiator or polymerization initiator contains at least 1 sort (s) of acylphosphine oxide type initiator.

<5> <1>?<4> 중 어느 하나에 있어서, 상기 중합성기를 3개 이상 갖는 중합성 화합물은 3관능의 아크릴 모노머 및 4관능의 아크릴 모노머의 적어도 1종인 착색 감광성 수지 조성물.<5> The colored photosensitive resin composition in any one of <1>? <4> whose polymeric compound which has 3 or more of said polymeric groups is at least 1 sort (s) of a trifunctional acrylic monomer and a tetrafunctional acrylic monomer.

<6> <1>?<5> 중 어느 하나에 기재된 착색 감광성 수지 조성물로 형성된 감광성 수지층이 가지지체 상에 형성된 감광성 전사 재료.<6> Photosensitive transfer material in which the photosensitive resin layer formed from the coloring photosensitive resin composition in any one of <1>-<5> was formed on a branch body.

<7>기판과, <1>?<5> 중 어느 하나에 기재된 착색 감광성 수지 조성물을 사용해서 형성됨과 아울러 상기 기판 상에 배치된 차광부를 구비하는 컬러필터.A color filter provided with a <7> board | substrate and the light shielding part arrange | positioned on the said board | substrate formed using the coloring photosensitive resin composition in any one of <1>? <5>.

<8> <7>에 있어서, 상기 차광부는 <6>에 기재된 감광성 전사 재료를 사용해서 형성된 컬러필터.<8> The color filter as described in <7>, wherein the light shielding portion is formed using the photosensitive transfer material according to <6>.

<9> <7> 또는 <8>에 있어서, 상기 차광부의 광학농도가 3.5 이상인 컬러필터.<9> The color filter as described in <7> or <8>, wherein an optical density of the light shielding portion is 3.5 or more.

<10> <7>?<9> 중 어느 하나에 있어서, 상기 차광부의 막두께가 1.5㎛ 이상인 컬러필터.<10> Color filter in any one of <7>-<9> whose film thickness of the said light shielding part is 1.5 micrometers or more.

<11> <7>?<10> 중 어느 하나에 기재된 컬러필터를 구비하는 액정표시장치.<11> A liquid crystal display device comprising the color filter according to any one of <7> to <10>.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명에 의하면, 현상시의 패터닝성이 좋고, 미세 패턴의 형성이 가능한 착색 감광성 수지 조성물, 및 이것을 사용해서 형성된 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 구비하는 액정표시장치를 제공할 수 있다.According to this invention, the patterning property at the time of image development, the coloring photosensitive resin composition which can form a fine pattern, the color filter formed using this, and the liquid crystal display device provided with the said color filter can be provided.

<착색 감광성 수지 조성물><Coloring Photosensitive Resin Composition>

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 흑색의 색재를 적어도 포함하는 착색제와, 알칼리 가용성 수지와, 중합성기를 3개 이상 갖는 중합성 화합물과, 중합 개시제 또는 중합 개시계와, 용제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물이다. 또한, 하기 소정의 노광?현상 조건으로 투명 기판 상에 배치된 상기 착색 감광성 수지 조성물을 포함하는 감광성 수지층을 상기 감광성 수지층의 상기 투명 기판에 대향하는 면과는 반대의 면측으로부터 마스크를 통해 상기 감광성 수지층을 노광?현상 처리해서 형성되는 제 1 패턴의 막두께(d2)와, 상기 감광성 수지층의 상기 투명 기판에 대향하는 면측으로부터 마스크와 상기 투명 기판을 통해 상기 감광성 수지층을 노광?현상 처리해서 얻어지는 제 2 패턴의 막두께(d1)의 비(d1/d2)가 0.3 이상이 되는 착색 감광성 수지 조성물이다.The colored photosensitive resin composition of this invention contains the coloring agent which contains the black color material at least, alkali-soluble resin, the polymeric compound which has three or more polymerizable groups, the polymerization initiator or polymerization initiator system, and the coloring photosensitive resin containing a solvent. Composition. Furthermore, the photosensitive resin layer containing the said colored photosensitive resin composition arrange | positioned on the transparent substrate by the following predetermined | prescribed exposure development conditions is carried out through a mask from the surface side opposite to the surface which opposes the said transparent substrate of the said photosensitive resin layer. The photosensitive resin layer is exposed and developed through a mask and the transparent substrate from a film thickness d2 of the first pattern formed by exposing and developing the photosensitive resin layer and a surface side facing the transparent substrate of the photosensitive resin layer. It is colored photosensitive resin composition which ratio (d1 / d2) of the film thickness (d1) of the 2nd pattern obtained by processing becomes 0.3 or more.

상기 비(d1/d2)가 0.3 미만에서는 현상시의 패터닝성이 불충분해지고, 미세 패턴을 형성할 수 없는 경우가 있다. 또한 예를 들면, 상기 착색 감광성 수지 조성물을 사용해서 블랙 매트릭스(화소분리벽)를 형성할 때에 화소 결락이 발생되는 경우가 있다.When the ratio d1 / d2 is less than 0.3, the patterning property at the time of development becomes insufficient, and a fine pattern may not be formed. For example, pixel formation may occur when forming a black matrix (pixel separation wall) using the said colored photosensitive resin composition.

상기 소정의 노광?현상 조건은 투명 기판 상에 광학농도가 4.0이 되도록 상기 착색 감광성 수지 조성물을 사용해서 감광성 수지층을 형성하고, 상기 감광성 수지층의 상기 투명 기판에 대향하는 면과는 반대의 면측으로부터 마스크를 통해 상기 감광성 수지층을 노광?현상 처리해서 형성되는 패턴의 선폭(W1)의 상기 마스크의 선폭(W2)에 대한 비(W1/W2)가 0.7?1.5의 범위가 되도록 설정된 노광?현상 조건이다.Said predetermined exposure and development conditions form the photosensitive resin layer using the said coloring photosensitive resin composition so that optical density may be 4.0 on a transparent substrate, and the surface side opposite to the surface which opposes the said transparent substrate of the said photosensitive resin layer. Exposure and development set such that the ratio W1 / W2 to the line width W2 of the mask of the pattern formed by exposing and developing the photosensitive resin layer through a mask from 0.7 to 1.5 is in a range of 0.7 to 1.5. Condition.

또한, 소정의 노광?현상 조건을 설정할 때에 사용하는 상기 투명 기판으로서는 350nm 이상의 광에 대한 투과율이 70% 이상인 유리, 합성 수지 필름 등을 사용할 수 있다.Moreover, as said transparent substrate used when setting predetermined exposure and developing conditions, the glass, synthetic resin film, etc. which have 70% or more of transmittance | permeability with respect to the light of 350 nm or more can be used.

본 발명에 있어서 상기 비(d1/d2)는 0.3 이상이지만, 0.3?0.7인 것이 바람직하고, 또한 상기 비(W1/W2)가 0.8?1.2가 되는 노광?현상 조건으로 비(d1/d2)가 0.3?0.7인 것이 보다 바람직하다. 상기 비(W1/W2) 및 비(d1/d2)가 이러한 범위인 것에 의해 현상시의 패터닝성이 보다 향상되어 미세 패턴의 형성이 가능하며, 패턴 형성시의 화소 결락의 발생이 보다 효과적으로 억제된다.In the present invention, the ratio (d1 / d2) is 0.3 or more, but is preferably 0.3 to 0.7, and the ratio (d1 / d2) is set under exposure and development conditions such that the ratio (W1 / W2) is 0.8 to 1.2. It is more preferable that it is 0.3-0.7. When the ratios W1 / W2 and d1 / d2 are within these ranges, the patterning property at the time of development is further improved to form a fine pattern, and the occurrence of pixel dropout at the time of pattern formation is more effectively suppressed. .

일반적으로, 투명 기판 상에 형성된 감광성 수지층을 투명 기판에 대향하는 면과는 반대의 면측으로부터 마스크를 통해 노광?현상해서 얻어지는 제 1 패턴의 막두께(d2)는 소정 노광량 이상에서는 거의 일정하게 되고, 감광성 수지층을 형성했을 때의 설정 막두께와 거의 같아진다. 한편, 투명 기판에 대향하는 면측으로부터 마스크와 투명 기판을 통해 투명 기판 상에 형성된 감광성 수지층을 노광?현상해서 얻어지는 제 2 패턴의 막두께(d1)는 노광량에 의한 변동이 크고, 노광량이 작을 경우는 d1이 작고, 노광량이 클 경우에는 d1이 커진다. 특히 광학농도가 4.0 이 되는 차폐성이 높은 재료로 감광성 수지층이 형성되어 있는 경우에는 노광 광원의 발광 파장역에서의 차폐능도 높기 때문에 동일한 노광?현상 조건으로 처리한 경우 d1은 d2에 비해서 작은 값이 된다.Generally, the film thickness d2 of the 1st pattern obtained by exposing and developing the photosensitive resin layer formed on the transparent substrate through the mask from the surface side opposite to the surface which opposes the transparent substrate becomes substantially constant in more than a predetermined exposure amount. It becomes almost the same as the set film thickness when the photosensitive resin layer is formed. On the other hand, when the film thickness d1 of the 2nd pattern obtained by exposing and developing the photosensitive resin layer formed on the transparent substrate through the mask and the transparent substrate from the surface side which opposes the transparent substrate is large, and fluctuation | variation by exposure amount is large and exposure amount is small, D1 is small and d1 becomes large when the exposure amount is large. Particularly, when the photosensitive resin layer is formed of a material having a high shielding degree of optical concentration of 4.0, the shielding ability in the light emission wavelength range of the exposure light source is also high, so that d1 is smaller than d2 when treated under the same exposure and development conditions. Becomes

한편, 패턴을 형성할 때의 노광량을 소정의 노광량보다 크게 함으로써 d2가 거의 일정한 값으로, 또한 d1은 노광량에 따라 커지므로 본 발명에서 규정하고 있는 d1/d2도 커진다. 이 경우, 두께 방향의 경화의 진행 뿐만 아니라, 폭 방향의 경화도 진행되므로 이러한 노광 조건에서는 패턴의 선폭(W1)이 커진다. 결과적으로 감광성 조성물의 투명 기판에 대향하는 면과는 반대의 면측으로부터 마스크를 통해 노광?현상해서 패턴을 형성한 후의 패턴의 선폭(W1)과 마스크 선폭(W2)의 비(W1/W2)가 1.5보다 커져 버려 소망의 패턴이 얻어지지 않는다.On the other hand, by making the exposure amount at the time of forming a pattern larger than the predetermined exposure amount, d2 becomes a substantially constant value, and d1 becomes large according to the exposure amount, so that d1 / d2 prescribed in the present invention also increases. In this case, not only the progress of hardening in the thickness direction but also the hardening in the width direction proceeds, so that the line width W1 of the pattern becomes large under such exposure conditions. As a result, the ratio (W1 / W2) of the line width (W1) to the mask line width (W2) of the pattern after exposure and development through a mask to form a pattern from the surface side opposite to the surface facing the transparent substrate of the photosensitive composition is 1.5. It becomes larger and a desired pattern is not obtained.

또 패턴의 선폭(W1)은 마스크 선폭(W2) 및 노광량 뿐만 아니라, 현상 조건의 영향도 받아 현상 조건을 완화함으로써 W1을 크고, 또 현상 조건을 강화함으로써 W1을 작게 할 수도 있다. 그러나, 조정의 폭이 작은데에 추가해서 패턴 주변의 잔사, 및 얻어지는 패턴의 결락, 형상에의 영향이 크다. 따라서 현상 조건만을 변화시켜 소망의 W1/W2 및 d1/d2를 달성하는 것은 곤란하다.In addition, the line width W1 of the pattern can be made larger by reducing the developing condition under the influence of the developing condition as well as the mask line width W2 and the exposure amount, and can also make W1 small by enhancing the developing condition. However, in addition to the small width of the adjustment, there is a great influence on the residue around the pattern, and the missing and shaped patterns. Therefore, it is difficult to achieve the desired W1 / W2 and d1 / d2 by changing only the developing conditions.

한편, 착색 감광성 수지 조성물 중의 소재 농도를 조정하는 것(구체적으로는 예를 들면, 개시제 농도를 높게 하는 등)에 의해 d1/d2를 크게 할 수 있다. 그러나, 상기와 마찬가지로 W1이 커지는 경향이 있는 것에 추가해서 패턴 형성 후의 베이킹시의 막감소가 크고, 기판 오염을 발생시키기 쉬워진다. 그 때문에, 착색 감광성 수지 조성물 중의 소재 농도를 조정하는 것만으로 소망의 W1/W2 및 d1/d2를 달성하는 것은 곤란하다.On the other hand, d1 / d2 can be enlarged by adjusting the raw material density | concentration in a coloring photosensitive resin composition (specifically, increasing an initiator concentration etc.). However, in addition to the tendency that W1 becomes large as mentioned above, the film | membrane reduction at the time of baking after pattern formation becomes large, and it becomes easy to generate | occur | produce board | substrate contamination. Therefore, it is difficult to achieve desired W1 / W2 and d1 / d2 only by adjusting the raw material concentration in a coloring photosensitive resin composition.

본 발명에 있어서는 패턴의 선폭(W1)과 마스크 선폭(W2)의 비(W1/W2)가 소정의 범위에 있을 때에 비(d1/d2)가 소정의 값보다 큰 것이 바람직하다. 그래서 비(W1/W2)가 0.7?1.5의 범위가 되는 노광?현상 조건을 규정하고, 그 때의 투명 기판측과는 반대의 면측으로부터 마스크를 통해 노광한 후에 현상해서 얻어지는 제 1 패턴의 막두께(d2)에 대한 투명 기판측으로부터 마스크를 통해 노광한 후에 현상해서 얻어지는 제 2 패턴의 막두께(d1)의 비(d1/d2)를 소정의 범위가 되도록 착색 감광성 수지 조성물의 성분을 조정함으로써 현상시의 패터닝성이 좋고, 미세 패턴의 형성이 가능한 착색 감광성 수지 조성물이 구성된다.In the present invention, the ratio d1 / d2 is preferably larger than the predetermined value when the ratio W1 / W2 of the line width W1 of the pattern to the mask line width W2 is in a predetermined range. Therefore, the film thickness of the first pattern obtained by developing after exposure and development conditions in which the ratio (W1 / W2) is in the range of 0.7 to 1.5 and exposing through a mask from the surface side opposite to the transparent substrate side at that time Developing by adjusting the component of a coloring photosensitive resin composition so that ratio (d1 / d2) of the film thickness d1 of the 2nd pattern obtained by developing after exposing through a mask from the transparent substrate side to (d2) may become a predetermined range. The patterning property at the time is good, and the coloring photosensitive resin composition which can form a fine pattern is comprised.

(착색제)(coloring agent)

본 발명의 착색 경화성 조성물은 착색제의 적어도 1종을 포함한다. 본 발명에 사용하는 착색제로서는 공지의 착색제(유기안료, 무기안료, 염료 등)를 바람직하게 사용할 수 있다. 구체적으로는 일본 특허 공개 2005-17716호 공보의 단락번호 [0038]?[0054]에 기재된 안료 및 염료, 일본 특허 공개 2004-361447호 공보의 단락번호 [0068]?[0072]에 기재된 안료, 일본 특허 공개 2005-17521호 공보의 단락번호 [0080]?[0088]에 기재된 착색제 등을 바람직하게 사용할 수 있다.The colored curable composition of this invention contains at least 1 sort (s) of a coloring agent. As a coloring agent used for this invention, a well-known coloring agent (organic pigment, inorganic pigment, dye, etc.) can be used preferably. Specifically, the pigments and dyes described in paragraphs [0038] to [0054] of Japanese Patent Laid-Open No. 2005-17716, the pigments described in paragraphs [0068] to [0072] of Japanese Patent Laid-Open No. 2004-361447, Japan The coloring agent etc. of Paragraph No. [0080]-[0088] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-17521 can be used preferably.

본 발명에 있어서는 광학농도의 관점에서 흑색 착색제를 포함하는 것이 바람직하다. 흑색 착색제로서는 예를 들면, 카본블랙, 티타늄카본, 산화 철, 산화 티타늄, 흑연 등을 들 수 있고, 그 중에서도 카본블랙이 바람직하다. In this invention, it is preferable to contain a black coloring agent from a viewpoint of an optical density. As a black coloring agent, carbon black, titanium carbon, iron oxide, titanium oxide, graphite, etc. are mentioned, for example, Carbon black is especially preferable.

또한, 본 발명에 있어서는 흑색 착색제 이외에 적색, 청색, 녹색 등의 안료의 혼합물 등을 사용할 수 있다.Moreover, in this invention, the mixture etc. of pigments, such as red, blue, green, etc. can be used other than a black coloring agent.

상기 착색제(바람직하게는 안료, 보다 바람직하게는 카본블랙)는 분산액으로서 사용하는 것이 바람직하다. 이 분산액은 상기 착색제와 안료 분산제를 미리 혼합해서 얻어지는 조성물을 후술하는 유기용매(또는 비히클)에 첨가해서 분산시킴으로써 조제할 수 있다. 상기 비히클이란 도료가 액체상태에 있을 때에 안료를 분산시키고 있는 매질의 부분을 말하고, 액상이며 상기 안료와 결합해서 도막을 형성하는 성분(바인더)과, 이것을 용해 희석하는 성분(유기용매)을 포함한다.It is preferable to use the said coloring agent (preferably pigment, more preferably carbon black) as a dispersion liquid. This dispersion liquid can be prepared by adding and disperse | distributing the composition obtained by mixing the said coloring agent and pigment dispersing agent to the organic solvent (or vehicle) mentioned later. The vehicle refers to a portion of a medium in which a pigment is dispersed when the paint is in a liquid state, and includes a component (binder) that is liquid and binds the pigment to form a coating film, and a component (organic solvent) that dissolves and dilutes it. .

상기 안료를 분산시킬 때에 사용하는 분산기로서는 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 아사쿠라 쿠니히로저, 「안료의 사전」, 제1판, 아사쿠라 서점, 2000년, 438항에 기재되어 있는 니더, 롤밀, 아토라이더, 수퍼밀, 디졸버, 호모믹서, 샌드밀 등의 공지의 분산기를 들 수 있다. 또한, 상기 문헌 310페이지에 기재된 기계적 마쇄에 의해 마찰력을 이용해서 미분쇄해도 좋다.There is no restriction | limiting in particular as a dispersing machine used when disperse | distributing the said pigment, For example, Asakura Kunihiroger, "The dictionary of pigments", a 1st edition, Asakura bookstore, 2000, Kinder, roll mill, which are described in 438, Known dispersers, such as an Ato rider, a super mill, a dissolver, a homomixer, and a sand mill, are mentioned. In addition, you may finely grind using frictional force by the mechanical grinding described on page 310 of the document.

본 발명에서 사용하는 착색제는 분산 안정성의 관점에서 수평균 입경 0.001?0.1㎛의 것이 바람직하고, 또한 0.01?0.08㎛의 것이 바람직하다. 또한, 여기에서 말하는 「입경」이란 입자의 전자 현미경 사진 화상을 동 면적의 원으로 했을 때의 지름을 말하고, 또 「수평균 입경」이란 다수의 입자에 대해서 상기 입경을 구하고, 그 100개 평균값을 말한다.The colorant used in the present invention preferably has a number average particle diameter of 0.001 to 0.1 µm from the viewpoint of dispersion stability, and is preferably 0.01 to 0.08 µm. In addition, the "particle size" here means the diameter when the electron micrograph image of particle | grains was made into the circle of the same area, and the "number average particle diameter" means the said particle diameter about many particle | grains, and the 100 average value Say.

본 발명에 있어서의 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분 중의 착색제의 함유율로서는 특별히 제한은 없지만, 충분히 현상 시간을 단축시키는 관점에서 15?70질량%인 것이 바람직하고, 20?60질량%인 것이 보다 바람직하고, 25?50질량%인 것이 더욱 바람직하다. Although there is no restriction | limiting in particular as content rate of the coloring agent in the total solid of the coloring photosensitive resin composition in this invention, It is preferable that it is 15-70 mass% from a viewpoint of fully shortening image development time, It is more preferable that it is 20-60 mass%, It is more preferable that it is 25-50 mass%.

또한, 본 명세서에서 말하는 전체 고형분이란 착색 감광성 수지 조성물로부터 용제를 제외한 불휘발성 성분의 총량을 의미한다.In addition, all solid content as used herein means the total amount of the nonvolatile components remove | excluding the solvent from the coloring photosensitive resin composition.

(알칼리 가용성 수지)(Alkali-soluble resin)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지의 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 이것에 의해 알칼리 현상성이 보다 양호해진다.It is preferable that the coloring photosensitive resin composition of this invention contains at least 1 sort (s) of alkali-soluble resin. Thereby, alkali developability becomes more favorable.

본 발명에 있어서의 알칼리 가용성 수지(이하, 단지 「바인더」라고 하는 경우가 있다)로서는 주쇄 또는 측쇄에 카르복실산기나 카르복실산염기 등의 극성기를 갖는 폴리머가 바람직하다. 그 예로서는 일본 특허 공개 소 59-44615호 공보, 일본 특허 공고 소 54-34327호 공보, 일본 특허 공고 소 58-12577호 공보, 일본 특허 공고 소 54-25957호 공보, 일본 특허 공개 소 59-53836호 공보 및 일본 특허 공개 소 59-71048호 공보에 기재되어 있는 메타크릴산 공중합체, 아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레산 공중합체, 부분 에스테르화 말레산 공중합체 등을 들 수 있다. 또 측쇄에 카르복실산기를 갖는 셀룰로오스 유도체도 들 수 있고, 또한 이 외에도 수산기를 갖는 폴리머에 환상 산무수물을 부가한 것도 바람직하게 사용할 수 있다.As alkali-soluble resin (henceforth only a "binder" in this invention) in this invention, the polymer which has polar groups, such as a carboxylic acid group and a carboxylate group, in a main chain or a side chain is preferable. Examples include Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-44615, Japanese Patent Publication No. 54-34327, Japanese Patent Publication No. 58-12577, Japanese Patent Publication No. 54-25957, Japanese Patent Publication No. 59-53836 Methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers and the like described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-71048 Can be. Moreover, the cellulose derivative which has a carboxylic acid group in a side chain can also be mentioned, In addition, what added the cyclic acid anhydride to the polymer which has a hydroxyl group can also be used preferably.

또한, 특히 바람직한 예로서 미국 특허 제4139391호 명세서에 기재된 벤질(메타)아크릴레이트와 (메타)아크릴산의 공중합체나, 벤질(메타)아크릴레이트와 (메타)아크릴산과 다른 모노머의 다원 공중합체를 들 수 있다. 이들 극성기를 갖는 바인더 폴리머는 단독으로 사용해도 좋고, 또는 통상의 막형성성의 폴리머와 병용하는 조성물의 상태로 사용해도 좋고, 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대한 함유량은 20?50질량%가 일반적이며, 25?45질량%가 바람직하다.Further preferred examples include copolymers of benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid described in US Pat. No. 4139391 and polyunsaturated copolymers of benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid and other monomers. Can be. These binder polymers having polar groups may be used alone or in a state of a composition used in combination with a conventional film-forming polymer, and the content of the colored photosensitive resin composition with respect to the total solids is generally 20 to 50% by mass. , 25 to 45 mass% is preferable.

(중합성 화합물)(Polymerizable compound)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 중합성기를 3개 이상 갖는 중합성 화합물(이하, 단지 「중합성 화합물」이라고 하는 경우가 있다)의 적어도 1종을 함유한다. The coloring photosensitive resin composition of this invention contains at least 1 sort (s) of the polymeric compound (Hereinafter, it may only be called a "polymerizable compound") which has 3 or more of polymeric groups.

상기 중합성 화합물은 중합성기를 3개 이상 갖는 화합물이면 특별히 제한없고 통상 사용되는 중합성 화합물을 사용할 수 있고, 중합성기를 3?6개 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 그 중에서도 에틸렌성 불포화 이중 결합을 3개 이상 갖고, 비점이 상압에서 100℃ 이상인 화합물이며, 광의 조사에 의해 부가 중합하는 모노머 또는 올리고머인 것이 바람직하다. The polymerizable compound is not particularly limited as long as it is a compound having three or more polymerizable groups, and a polymerizable compound which is usually used can be used, and it is preferable that it is a compound having 3 to 6 polymerizable groups. Especially, it is a compound which has three or more ethylenically unsaturated double bonds, a boiling point is 100 degreeC or more at normal pressure, and is a monomer or oligomer which add-polymerizes by irradiation of light.

그러한 모노머 및 올리고머로서는 트리메티롤에탄트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리스(아크릴로일옥시프로필)에테르, 트리스(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 트리스(아크릴로일옥시에틸)시아누레이트, 글리세린트리(메타)아크릴레이트; 트리메티롤프로판이나 글리세린 등의 다관능 알콜에 에틸렌옥시드 또는 프로필렌옥사이드를 부가한 후 (메타)아크릴레이트화한 것 등의 다관능 아크릴레이트나 다관능 메타크릴레이트를 들 수 있다. 또한, 일본 특허 공고 소 53-11314호 공보에 일반식(1) 및 (2)로서 기재되어 있는 다관능 알콜에 에틸렌옥사이드나 프로필렌옥사이드를 부가시킨 후 (메타)아크릴레이트화한 화합물도 바람직한 것으로서 들 수 있다. As such a monomer and an oligomer, a trimethol ethane triacrylate, a trimethol propane tri (meth) acrylate, a trimethol propane triacrylate, a pentaerythritol tetra (meth) acrylate, a pentaerythritol tri (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, trimetholpropane tris (acryloyloxypropyl) ether, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tris (acrylic) Loyloxyethyl) cyanurate, glycerin tri (meth) acrylate; And polyfunctional acrylates and polyfunctional methacrylates, such as those obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to polyfunctional alcohols such as trimetholpropane and glycerin and then (meth) acrylated. Moreover, the compound which (meth) acrylated after adding ethylene oxide or a propylene oxide to the polyfunctional alcohol described in Unexamined-Japanese-Patent No. 53-11314 as General Formula (1) and (2) is also mentioned as a preferable thing. Can be.

또한 일본 특허 공고 소 48-41708호 공보, 일본 특허 공고 소 50-6034호 공보에 기재되어 있는 중합성기를 3개 이상 갖는 우레탄 아크릴레이트류; 일본 특허 공고 소 53-24989호 공보, 및 일본 특허 공고 소 52-30490호 공보에 기재되어 있는 폴리에스테르아크릴레이트류; 에폭시 수지와 (메타)아크릴산의 반응 생성물인 에폭시아크릴레이트류 등의 다관능 아크릴레이트나 메타크릴레이트를 들 수 있다.Urethane acrylates having three or more polymerizable groups described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-41708 and Japanese Patent Publication No. 50-6034; Polyester acrylates described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-24989 and Japanese Patent Publication No. 52-30490; Polyfunctional acrylates and methacrylates, such as epoxy acrylates which are reaction products of an epoxy resin and (meth) acrylic acid, are mentioned.

이들 중에서 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 트리스(2-아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트가 바람직하다. 또한, 이 밖에 일본 특허 공개 평 11-133600호 공보에 기재된 「3관능 이상의 (메타)아크릴레이트」도 바람직한 것으로서 들 수 있다.Among these, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and tris (2-acryloyloxy Ethyl) isocyanurate is preferred. In addition, "trifunctional or more (meth) acrylate" described in Unexamined-Japanese-Patent No. 11-133600 is also mentioned as a preferable thing.

상기 모노머 또는 올리고머로서는 분자량 200?1000의 것이 바람직하다. 이들 바람직한 화합물 중에서도 3?6관능의 아크릴레이트 모노머의 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하고, 3관능 또는 4관능의 아크릴레이트 모노머의 적어도 1종을 포함하는 것이 보다 바람직하다. As said monomer or oligomer, the thing of molecular weight 200-1000 is preferable. It is preferable to include at least 1 sort (s) of a 3-6 functional acrylate monomer among these preferable compounds, and it is more preferable to contain at least 1 sort (s) of a trifunctional or tetrafunctional acrylate monomer.

구체적으로는 예를 들면, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 및 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하고, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 및 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 보다 바람직하다.Specifically, for example, it is preferable to include at least one selected from trimethol propane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, It is more preferable to include at least 1 sort (s) chosen from a trimethol propane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate.

이들 모노머 또는 올리고머는 1종 단독이라도, 2종류 이상을 혼합해서 사용해도 좋다. 또한, 중합성기를 1개 갖는 중합성 화합물 및 2개 갖는 중합성 화합물의 적어도 1종을 더 병용해도 좋다.You may use these monomers or oligomers individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, you may use together at least 1 sort (s) of the polymeric compound which has one polymeric group, and the polymeric compound which has two.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대한 중합성기를 3개 이상 갖는 중합성 화합물의 함유량은 5?80질량%가 일반적이며, 5?50질량%인 것이 바람직하고, 10?40질량%가 보다 바람직하다. 상기 바람직한 범위내이면 현상성의 제어가 보다 용이해진다. 또한 상기 함유량이 5질량% 이상이면 조성물의 노광부에 있어서의 알칼리 현상액에의 내성이 보다 양호해진다. 또한 80질량% 이하이면 착색 감광성 수지 조성물로 했을 때의 점성의 증가가 억제되어 취급성이 보다 양호해진다.As for content of the polymeric compound which has three or more polymeric groups with respect to the total solid of the coloring photosensitive resin composition of this invention, 5-80 mass% is common, It is preferable that it is 5-50 mass%, and 10-40 mass% More preferred. If it is in the said preferable range, developability control will become easier. Moreover, when the said content is 5 mass% or more, tolerance to the alkaline developing solution in the exposure part of a composition will become more favorable. Moreover, when it is 80 mass% or less, the increase in viscosity at the time of setting it as a coloring photosensitive resin composition is suppressed, and handling property will become more favorable.

(중합 개시제 또는 중합 개시계)(Polymerization initiator or polymerization initiator)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 중합 개시제 및 중합 개시계의 적어도 1종을 포함한다. 상기 본 발명에 사용하는 중합 개시제 및 중합 개시계로서는 열중합 개시제를 사용하는 열중합 개시계 및 광중합 개시제를 사용하는 광중합 개시계 중 어느 것이어도 좋지만, 본 발명에서는 경화 후의 패턴 형상의 관점에서 광중합 개시제를 사용하는 광중합 개시계를 사용하는 것이 바람직하다.The coloring photosensitive resin composition of this invention contains a polymerization initiator and at least 1 sort (s) of a polymerization initiator system. As the polymerization initiator and the polymerization initiator used in the present invention, any of a thermal polymerization initiator using a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator using a photopolymerization initiator may be used, but in the present invention, the photopolymerization initiator is in view of the pattern shape after curing. It is preferable to use a photoinitiator using

여기에서 사용하는 광중합 개시제는 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등의 방사선의 조사(노광이라고도 한다)에 의해 상술의 중합성기를 3개 이상 갖는 중합성 화합물의 중합을 개시하는 활성종을 발생할 수 있는 화합물이며, 공지의 광중합 개시제 또는 광중합 개시계 중에서 적당히 선택할 수 있다. 구체적으로는 예를 들면, 트리할로메틸기 함유 화합물, 아크리딘계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 디아조계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물, 티타노센계 화합물, 옥심에스테르계 화합물 등을 들 수 있다.The photopolymerization initiator used herein is an active species which initiates polymerization of a polymerizable compound having three or more polymerizable groups by irradiation (also referred to as exposure) of radiation such as visible light, ultraviolet ray, far ultraviolet ray, electron beam, or X-ray. It is a compound which can generate | occur | produce, and it can select suitably from a well-known photoinitiator or a photoinitiator. Specifically, for example, a trihalomethyl group-containing compound, an acridine compound, an acetophenone compound, a biimidazole compound, a benzoin compound, a benzophenone compound, an α-diketone compound, a multinuclear quinone compound, A xanthone type compound, a diazo type compound, an acyl phosphine oxide type compound, a titanocene type compound, an oxime ester type compound, etc. are mentioned.

상기 중 트리할로메틸기 함유 화합물, 아크리딘계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물, 및 옥심에스테르계 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하고, 트리할로메틸기 함유 화합물 및 아실포스핀옥사이드계 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 보다 바람직하고, 아실포스핀옥사이드계 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 더욱 바람직하다. 트리할로메틸기 함유 화합물 및 아실포스핀옥사이드계 화합물은 범용성이 있고 또한 저렴한 점에서도 유용하다.It is preferable to contain at least 1 sort (s) chosen from a trihalomethyl group containing compound, an acridine type compound, an acetophenone type compound, a biimidazole type compound, an acylphosphine oxide type compound, and an oxime ester type compound, It is more preferable to contain at least 1 sort (s) chosen from a trihalomethyl group containing compound and an acylphosphine oxide type compound, and it is still more preferable to contain at least 1 sort (s) chosen from an acylphosphine oxide type compound. Trihalomethyl group-containing compounds and acylphosphine oxide compounds are useful in terms of versatility and low cost.

트리할로메틸기 함유 화합물 및 아실포스핀옥사이드계 화합물로서 구체적으로는 일본 특허 공개 2001-117230공보에 기재된 트리할로메틸기가 치환된 트리할로메틸옥사졸 유도체 또는 s-트리아진 유도체, 미국 특허 제4239850호 명세서에 기재된 트리할로메틸-s-트리아진 화합물, 미국 특허 제4212976호 명세서에 기재된 트리할로메틸옥사디아졸 화합물 등의 트리할로메틸기 함유 화합물; 일본 특허 공개 소 55-13794호 공보, 일본 특허 공개 소 55-15471호 공보 등에 기재된 아실포스핀옥사이드 화합물을 들 수 있다. 특히 바람직한 화합물로서 트리할로메틸기 함유 화합물로서는 2-트리클로로메틸-5-(p-스티릴스티릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[4'-(N,N-비스(에톡시카르보닐메틸)아미노-3'-브로모페닐]-s-트리아진, 아실포스핀옥사이드계 화합물로서는 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. As the trihalomethyl group-containing compound and the acylphosphine oxide-based compound, specifically, the trihalomethyl oxazole derivative or s-triazine derivative substituted with the trihalomethyl group described in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-117230, US Patent Trihalomethyl group-containing compounds such as the trihalomethyl-s-triazine compound described in the specification 4239850 and the trihalomethyloxadiazole compound described in the specification of US Patent 4212976; The acyl phosphine oxide compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 55-13794, Unexamined-Japanese-Patent No. 55-15471, etc. are mentioned. As a particularly preferable compound, the trihalomethyl group-containing compound is 2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 -[4 '-(N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) amino-3'-bromophenyl] -s-triazine, acylphosphine oxide compound, 2,4,6-trimethylbenzoyl-di Phenyl phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, and the like.

상기 중합 개시제 또는 중합 개시계는 1종 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 상기 중합 개시제 또는 중합 개시계의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 총함유율로서는 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분(질량)의 0.1?20질량%가 바람직하고, 0.5?10질량%가 특히 바람직하다. 상기 총함유율이 0.1질량% 이상이면 조성물의 광경화의 효율이 높아져 노광 시간을 짧게 할 수 있다. 또 20질량% 이하로 하면 현상할 때에 형성된 화상 패턴의 결락이나, 패턴 표면의 거칠음의 발생을 억제할 수 있다.The said polymerization initiator or polymerization initiator system may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. As a total content rate in the coloring photosensitive resin composition of the said polymerization initiator or polymerization initiator, 0.1-20 mass% of the total solid (mass) of a coloring photosensitive resin composition is preferable, and 0.5-10 mass% is especially preferable. When the said total content rate is 0.1 mass% or more, the photocuring efficiency of a composition will become high and an exposure time can be shortened. Moreover, when it is 20 mass% or less, the fall of the image pattern formed at the time of image development, and generation | occurrence | production of the roughness of a pattern surface can be suppressed.

상기 중합 개시제는 수소 공여체를 병용해도 좋다. 상기 수소 공여체로서는 감도를 보다 양호화할 수 있는 점에서 이하에서 정의하는 메르캅탄계 화합물, 아민계 화합물 등이 바람직하다. 여기에서의 「수소 공여체」란 노광에 의해 상기 광중합 개시제로부터 발생한 라디칼에 대해서 수소원자를 공여할 수 있는 화합물을 말한다.The polymerization initiator may use a hydrogen donor together. As the hydrogen donor, mercaptan-based compounds, amine-based compounds, and the like, which are defined below, are preferable because the sensitivity can be improved. The term "hydrogen donor" herein refers to a compound capable of donating hydrogen atoms to radicals generated from the photopolymerization initiator by exposure.

상기 메르캅탄계 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 상기 모핵에 직접 결합한 메르캅토기를 1개 이상, 바람직하게는 1?3개, 더욱 바람직하게는 1?2개 갖는 화합물(이하, 「메르캅탄계 수소 공여체」라고 한다)이다. 또한, 상기 아민계 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 상기 모핵에 직접 결합한 아미노기를 1개 이상, 바람직하게는 1?3개, 더욱 바람직하게는 1?2개 갖는 화합물(이하, 「아민계 수소 공여체」라고 한다)이다. 또한, 이들 수소 공여체는 메르캅토기와 아미노기를 동시에 갖고 있어도 좋다. The mercaptan compound is a compound having a benzene ring or a heterocycle as a mother nucleus and having one or more mercapto groups directly bonded to the mother nucleus, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 (hereinafter, It is called "mercaptan-type hydrogen donor." In addition, the amine compound is a compound having a benzene ring or a heterocycle as a mother nucleus, and having one or more amino groups directly bonded to the mother nucleus, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 (hereinafter, " Amine-based hydrogen donor &quot;). In addition, these hydrogen donors may have a mercapto group and an amino group simultaneously.

상기 메르캅탄계 수소 공여체의 구체예로서는 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2,5-디메르캅토-1,3,4-티아디아졸 등을 들 수 있다. 이들 중 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸이 바람직하고, 특히 2-메르캅토벤조티아졸이 바람직하다.Specific examples of the mercaptan-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole. Etc. can be mentioned. Among these, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzoxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is especially preferable.

상기 아민계 수소 공여체의 구체예로서는 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 에틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조니트릴 등을 들 수 있다. 이들 중 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하고, 특히 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다.Specific examples of the amine-based hydrogen donor include 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone , Ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile, and the like. Of these, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone are preferred, and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferable.

상기 수소 공여체는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있다. 형성된 화상이 현상시에 영구 지지체 상으로부터 탈락되기 어렵고, 또한 강도 및 감도도 향상시킬 수 있는 점에서 1종 이상의 메르캅탄계 수소 공여체와 1종 이상의 아민계 수소 공여체를 조합해서 사용하는 것이 바람직하다.The said hydrogen donor can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. It is preferable to use a combination of one or more mercaptan-based hydrogen donors and one or more amine-based hydrogen donors in that the formed image is hardly eliminated from the permanent support on development, and the strength and sensitivity can also be improved.

상기 메르캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체의 조합의 구체예로서는 2-메르캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-메르캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-메르캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-메르캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다. 보다 바람직한 조합은 2-메르캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-메르캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이며, 특히 바람직한 조합은 2-메르캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이다.Specific examples of the combination of the mercaptan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'- Bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzo Phenone etc. are mentioned. More preferred combinations are 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, in particular Preferred combination is 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.

상기 메르캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체를 조합한 경우의 메르캅탄계 수소 공여체(M)와 아민계 수소 공여체(A)의 질량비(M:A)는 통상 1:1?1:4가 바람직하고, 1:1?1:3이 보다 바람직하다.When the mercaptan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor are combined, the mass ratio (M: A) of the mercaptan-based hydrogen donor (M) and the amine-based hydrogen donor (A) is usually preferably 1: 1 to 1: 4. And 1: 1 to 1: 3 are more preferable.

또 상기 수소 공여체의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 총량으로서는 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분(질량)의 0.1?20질량%가 바람직하고, 0.5?10질량%가 특히 바람직하다.Moreover, as a total amount in the coloring photosensitive resin composition of the said hydrogen donor, 0.1-20 mass% of the total solid (mass) of a coloring photosensitive resin composition is preferable, and 0.5-10 mass% is especially preferable.

(용제)(solvent)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 용제의 적어도 1종을 포함한다. 상기 용제로서는 통상 사용되는 용제를 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 구체적으로는 예를 들면, 에스테르류, 에테르류, 케톤류, 방향족 탄화수소류 등을 들 수 있다. The coloring photosensitive resin composition of this invention contains at least 1 sort (s) of a solvent. As said solvent, the solvent normally used can be used without a restriction | limiting in particular. Specific examples thereof include esters, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons, and the like.

또한, US2005/282073A1호 명세서의 단락번호 [0054] [0055]에 기재된 Solvent와 동일한 메틸에틸케톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 시클로헥사놀, 메틸이소부틸케톤, 락트산 에틸, 및 락트산 메틸 등도 본 발명에 있어서도 바람직하게 사용할 수 있다.In addition, the same methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, cyclohexanol, methyl isobutyl ketone as described in paragraph [0054] of paragraph [0054] of US2005 / 282073A1 specification , Ethyl lactate, methyl lactate, and the like can also be preferably used in the present invention.

이들 용제 중 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 아세트산 부틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵타논, 시클로헥사논, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(에틸카르비톨아세테이트), 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트(부틸카르비톨아세테이트), 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 및 메틸에틸케톤 등이 본 발명에 있어서의 용제로서 바람직하게 사용된다. 이들 용제는 1종 단독으로도 또는 2종 이상 조합해서 사용해도 좋다.Of these solvents, 3-ethoxypropionate methyl, 3-ethoxypropionate ethyl, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, butyl acetate, 3-methoxypropionate methyl, 2-heptanone, cyclohexanone, diethylene glycol monoethyl Ether acetate (ethyl carbitol acetate), diethylene glycol monobutyl ether acetate (butyl carbitol acetate), propylene glycol methyl ether acetate, methyl ethyl ketone and the like are preferably used as the solvent in the present invention. You may use these solvents individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

또 본 발명에 있어서는 필요에 따라 비점이 180℃?250℃인 유기용제를 사용할 수 있다. 이들 고비점 용제로서는 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 3,5,5-트리메틸-2-시클로헥센-1-온, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜-n-프로필에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 2-에틸헥실아세테이트, 3-메톡시-3-메틸부틸아세테이트, γ-부티로락톤, 트리프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트, 디프로필렌글리콜-n-부틸아세테이트, 프로필렌글리콜페닐에테르아세테이트, 1,3-부탄디올디아세테이트 등을 들 수 있다.Moreover, in this invention, the organic solvent whose boiling point is 180 degreeC-250 degreeC can be used as needed. As these high boiling point solvents, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether, 3,5,5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one and dipropylene glycol monomethyl ether Acetate, propylene glycol diacetate, propylene glycol-n-propyl ether acetate, diethylene glycol diethyl ether, 2-ethylhexyl acetate, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, γ-butyrolactone, tripropylene glycol methyl Ethyl acetate, dipropylene glycol-n-butyl acetate, propylene glycol phenyl ether acetate, 1,3-butanediol diacetate, and the like.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 용제의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물 전량에 대해서 10?95질량%가 바람직하고, 15?90질량%가 보다 바람직하고, 20?85질량%가 특히 바람직하다. 상기 용제의 함유량의 범위로 함으로써 감광성 조성물을 안정적으로 도포할 수 있는 점에서 바람직하다.10-95 mass% is preferable with respect to colored photosensitive resin composition whole quantity, as for content of the solvent in the coloring photosensitive resin composition of this invention, 15-90 mass% is more preferable, 20-85 mass% is especially preferable. It is preferable at the point which can apply the photosensitive composition stably by setting it as the range of content of the said solvent.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 상기한 착색제, 알칼리 가용성 수지, 중합성기를 3개 이상 갖는 중합성 화합물, 중합 개시제 또는 중합 개시계, 용제 이외에 필요에 따라서 공지의 첨가제, 예를 들면, 가소제, 충전제, 안정화제, 중합 금지제, 계면활성제, 밀착 촉진제 등을 더 함유할 수 있다.The coloring photosensitive resin composition of this invention is a polymerizable compound which has 3 or more of said coloring agents, alkali-soluble resin, and a polymeric group, a polymerization initiator, or a polymerization initiator, a solvent, well-known additives, for example, a plasticizer and a filler as needed. , Stabilizers, polymerization inhibitors, surfactants, adhesion promoters and the like may be further contained.

또 상기 착색 감광성 수지 조성물은 적어도 150℃ 이하의 온도에서 연화 또는 점착성이 되는 것이 바람직하고, 열가소성인 것이 보다 바람직하다. 이러한 관점에서는 상용성이 좋은 가소제를 더 함유하는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable to become soft or adhesive at the temperature of at least 150 degreeC or less, and, as for the said colored photosensitive resin composition, it is more preferable that it is thermoplastic. From this point of view, it is preferable to further contain a compatible plasticizer.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물로서는 착색제로서 카본블랙을 20?60질량%와, 중합성 화합물로서 (메타)아크릴레이트기를 3개 이상 포함하는 화합물을 10?40질량%와, 중합 개시제로서 트리할로메틸기 함유 화합물 또는 아실포스핀옥사이드계 화합물을 0.1?20질량% 포함하는 것이 바람직하고, 착색제로서 카본블랙을 25?50질량%와, 중합성 화합물로서 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 및 트리메티롤프로판트리아크릴레이트로부터 선택되는 적어도 1종을 10?40질량%와, 중합 개시제로서 트리할로메틸기 함유 화합물 또는 아실포스핀옥사이드계 화합물을 0.5?10질량% 포함하는 것이 보다 바람직하다.As a coloring photosensitive resin composition of this invention, 20-40 mass% of carbon black as a coloring agent, 10-40 mass% of compounds containing three or more (meth) acrylate groups as a polymeric compound, and trihalo as a polymerization initiator It is preferable to contain 0.1-20 mass% of methyl group containing compounds or an acyl phosphine oxide type compound, 25-50 mass% of carbon black as a coloring agent, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate as a polymeric compound And it is more preferable that 10-40 mass% of at least 1 sort (s) chosen from trimetholol propane triacrylate and 0.5-10 mass% of a trihalomethyl group containing compound or an acylphosphine oxide type compound as a polymerization initiator are more preferable. .

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 컬러필터를 구성하는 패턴을 형성하는 것에 바람직하게 사용된다. 그 중에서도 컬러필터를 구성하는 화소분리벽(차광부, 블랙 매트릭스)을 형성하는데에 바람직하다. The coloring photosensitive resin composition of this invention is used suitably for forming the pattern which comprises a color filter. Especially, it is preferable to form the pixel separation wall (light shielding part, black matrix) which comprises a color filter.

<컬러필터><Color filter>

본 발명의 컬러필터는 기판(이하, 「영구 지지체」라고 하는 경우가 있다)과, 상기 착색 감광성 수지 조성물을 사용해서 형성되어 상기 기판 상에 배치된 차광부를 구비한다. 본 발명에 있어서 상기 차광부는 그 광학농도가 3.5 이상인 것이 바람직하고, 4.0 이상인 것이 보다 바람직하다. 또 상기 차광부는 그 막두께가 1.5㎛ 이상인 것이 바람직하고, 1.7?2.5㎛인 것이 보다 바람직하다. 이러한 차광부를 구비함으로써 양호한 특성을 갖는 컬러필터를 구성할 수 있다.The color filter of this invention is equipped with the board | substrate (henceforth a "permanent support"), and the light shielding part formed using the said colored photosensitive resin composition and arrange | positioned on the said board | substrate. In the present invention, the light shielding portion preferably has an optical density of 3.5 or more, and more preferably 4.0 or more. Moreover, it is preferable that the film thickness is 1.5 micrometers or more, and, as for the said light shielding part, it is more preferable that it is 1.7-2.5 micrometers. By providing such a light shielding part, the color filter which has favorable characteristics can be comprised.

본 발명에 있어서 상기 차광부는 예를 들면 컬러필터의 화소분리벽을 구성한다.In the present invention, the light shielding portion constitutes, for example, a pixel separation wall of a color filter.

(화소분리벽)(Pixel separation wall)

RGB 화소를 잉크젯법으로 제작하는 컬러필터 제조에 있어서의 컬러필터 각 화소의 화소분리벽은 상기 착색 감광성 수지 조성물을 사용해서 형성되는 것이 바람직하다. 화소분리벽은 2개 이상의 화소군을 화소분리하는 것이며, 일반적으로는 흑색인 것이 많지만, 흑색에 한정되는 것은 아니다.It is preferable that the pixel separation wall of each pixel of the color filter in the color filter manufacture which manufactures RGB pixel by the inkjet method is formed using the said coloring photosensitive resin composition. The pixel separation wall is a pixel separation of two or more pixel groups, and generally black, but is not limited to black.

화소분리벽은 상기 착색 감광성 수지 조성물을 사용해서 형성된 감광성 수지층을 빈산소 분위기 하에서 노광하고, 그 후 현상함으로써 형성하는 것이 바람직하다.It is preferable to form a pixel separation wall by exposing the photosensitive resin layer formed using the said colored photosensitive resin composition under poor oxygen atmosphere, and developing after that.

감광성 수지층의 형성 방법에는 특별히 제한은 없고, 상기 착색 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포해서 형성해도 좋고, 또한, 후술하는 감광성 전사 재료를 사용해서 형성해도 좋다.There is no restriction | limiting in particular in the formation method of the photosensitive resin layer, You may apply | coat and form the said colored photosensitive resin composition on a board | substrate, and may form using the photosensitive transfer material mentioned later.

상기 착색 감광성 수지 조성물을 도포하는 방법으로서는 통상 사용되는 도포방법을 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 슬릿 노즐을 구비한 도포장치나 스핀코터를 사용해서 감광성 수지층을 형성할 수 있다. As a method of apply | coating the said coloring photosensitive resin composition, the coating method normally used can be used without a restriction | limiting in particular. For example, the photosensitive resin layer can be formed using an application device or a spin coater provided with a slit nozzle.

또 상기 착색 감광성 수지 조성물을 사용해서 형성된 감광성 수지층을 광경화시킬 때의 빈산소 분위기 하란 불활성 가스 하, 감압 하, 및 산소를 차단할 수 있는 보호층 하를 가리키고 있으며, 이들은 상세하게는 이하와 같다.In addition, the poor oxygen atmosphere at the time of photocuring the photosensitive resin layer formed using the said colored photosensitive resin composition points out under the inert gas, under reduced pressure, and under the protective layer which can block oxygen, These are as follows in detail. .

상기 불활성 가스란 N2, H2, CO2 등의 일반적인 기체나, He, Ne, Ar 등의 희가스류를 말한다. 이 중에서도 안전성이나 입수의 용이함, 비용의 문제로부터 N2가 바람직하게 이용된다.The inert gas refers to general gases such as N 2 , H 2 , and CO 2, and rare gases such as He, Ne, and Ar. Among these, N 2 is preferably used in view of safety, availability and cost.

상기 감압 하란 500hPa 이하, 바람직하게는 100hPa 이하의 상태를 가리킨다. The said reduced pressure refers to the state of 500 hPa or less, Preferably it is 100 hPa or less.

또한, 상기 산소를 차단할 수 있는 보호층이란 예를 들면, 일본 특허 공개 소 46-2121호나 일본 특허 공고 소 56-40824호의 각 공보에 기재된 폴리비닐에테르/무수 말레산 중합체, 카르복시알킬셀룰로오스의 수용성염, 수용성 셀룰로오스에테르류, 카르복시알킬 전분의 수용성염, 폴리비닐알콜, 폴리비닐피롤리돈, 각종 폴리 아크릴아미드류, 각종 수용성 폴리아미드, 폴리아크릴산의 수용성염, 젤라틴, 에틸렌옥사이드 중합체, 각종 전분 및 그 유사물로 이루어지는 군의 수용성염, 스티렌/말레산의 공중합체, 말레이네이트 수지, 및 이들의 2종 이상의 조합 등을 포함하는 수지층을 들 수 있다.In addition, the protective layer which can block the said oxygen is a water-soluble salt of the polyvinyl ether / maleic anhydride polymer described in each of Unexamined-Japanese-Patent No. 46-2121 and 56-40824, and carboxyalkyl cellulose, for example. , Water-soluble cellulose ethers, water-soluble salts of carboxyalkyl starch, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, various polyacrylamides, various water-soluble polyamides, water-soluble salts of polyacrylic acid, gelatin, ethylene oxide polymers, various starches and their And resin layers containing water-soluble salts of the group consisting of analogs, copolymers of styrene / maleic acid, maleate resins, combinations of two or more thereof, and the like.

이들 중에서도 특히 바람직한 것은 폴리비닐알콜과 폴리비닐피롤리돈의 조합이다. 또한 폴리비닐알콜은 비누화율이 80% 이상인 것이 바람직하고, 폴리비닐피롤리돈의 함유량은 수지층 고형분의 1?75질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1?50질량%, 더욱 바람직하게는 10?40질량%이다.Among these, especially preferable is a combination of polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone. Moreover, it is preferable that polyvinyl alcohol has a saponification rate of 80% or more, and, as for content of polyvinylpyrrolidone, 1-75 mass% of solid content of a resin layer is preferable, More preferably, it is 1-50 mass%, More preferably, 10-40 mass%.

또한, 산소를 차단할 수 있는 보호층으로서는 각종 필름을 사용할 수도 있다. 예를 들면, PET를 비롯한 폴리에스테르류, 나일론을 비롯한 폴리아미드류, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체(EVA류)도 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 필름은 필요에 따라 연신된 것이어도 좋고, 두께는 5?300㎛가 적당하며, 바람직하게는 20?150㎛이다.Moreover, various films can also be used as a protective layer which can block oxygen. For example, polyesters including PET, polyamides including nylon, and ethylene-vinyl acetate copolymers (EVAs) can also be preferably used. These films may be stretched as needed, and the thickness is suitably 5 to 300 µm, and preferably 20 to 150 µm.

또한, 화소분리벽을 하기 감광성 전사 재료를 사용해서 제작할 경우, 하기에 기재된 가지지체 상에 형성된 산소를 차단할 수 있는 층으로서 바람직하게 사용하는 것도 가능하다.In addition, when a pixel separation wall is produced using the following photosensitive transfer material, it is also possible to use suitably as a layer which can block the oxygen formed on the branch body described below.

이렇게 하여 제작된 산소를 차단할 수 있는 보호층의 산소 투과 계수는 2000㎤/(㎡?day?atm) 이하가 바람직하지만, 100㎤/(㎡?day?atm) 이하인 것이 보다 바람직하고, 가장 바람직하게는 50㎤/(㎡?day?atm) 이하이다. 산소 투과율이 2000㎤/(㎡?day?atm)보다 많은 경우는 효율적으로 산소를 차단할 수 없기 때문에 화소분리벽의 형상을 제어하는 것이 곤란하게 되는 경우가 있다.The oxygen permeation coefficient of the protective layer capable of blocking oxygen thus produced is preferably 2000 cm 3 / (m 2? Day? Atm) or less, more preferably 100 cm 3 / (m 2? Day? Atm) or less, most preferably Is 50 cm 3 / (m 2? Day? Atm) or less. When the oxygen transmittance is more than 2000 cm 3 / (m 2? Day? Atm), it is difficult to control the shape of the pixel separation wall because oxygen cannot be blocked efficiently.

(감광성 전사 재료)(Photosensitive transfer material)

이러한 화소분리벽을 용이하고 또한 저비용으로 실현하는 것으로서 가지지체 상에 적어도 산소 차단층과 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 층을 이 순서로 갖고 이루어지는 감광성 전사 재료를 영구 지지체 상에 전사하고, 영구 지지체, 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 층, 산소 차단층을 이 순서로 형성해서 사용한다는 방법이 있다. 이러한 재료를 사용한 경우, 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 층은 산소 차단층에 보호되므로 자동적으로 빈산소 분위기 하가 된다. 그 때문에 노광 공정을 불활성 가스 하나 감압 하에서 행할 필요가 없기 때문에 현상황의 공정을 그대로 이용할 수 있는 이점이 있다. 또한, 가지지체 상에 적어도 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 층을 갖는 감광성 전사 재료를 영구 지지체 상에 전사하고, 영구 지지체, 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 층, 가지지체를 이 순서대로 형성하고, 상기 가지지체를 「산소를 차단할 수 있는 보호층」으로서 사용해도 좋다. 이 경우는 상기 산소 차단층을 형성할 필요가 없고, 공정수를 삭감하는 것이 가능하다.In order to realize such a pixel separation wall easily and at low cost, the photosensitive transfer material which has at least the layer which consists of an oxygen blocking layer and a coloring photosensitive resin composition in this order on a support body is transferred to a permanent support body, and a permanent support body and coloring There exists a method of forming and using the layer which consists of photosensitive resin compositions, and an oxygen barrier layer in this order. When such a material is used, since the layer which consists of colored photosensitive resin composition is protected by an oxygen barrier layer, it will become under an oxygen free atmosphere automatically. Therefore, since the exposure process does not have to be performed under inert gas or reduced pressure, there exists an advantage that the process of the present condition can be used as it is. Moreover, the photosensitive transfer material which has a layer which consists of a coloring photosensitive resin composition at least on a support body is transferred on a permanent support body, the layer which consists of a permanent support body, a coloring photosensitive resin composition, and a support body is formed in this order, and the said support body is May be used as a “protective layer capable of blocking oxygen”. In this case, it is not necessary to form the oxygen barrier layer, and the number of steps can be reduced.

상기 감광성 전사 재료는 필요에 따라 열가소성 수지층을 갖고 있어도 좋다. 이러한 열가소성 수지층이란 알칼리 가용성이며, 적어도 수지 성분을 포함해서 구성된다. 상기 수지 성분은 실질적인 연화점이 80℃ 이하인 알칼리 가용성 열가소성 수지인 것이 바람직하다. 이러한 열가소성 수지층이 형성됨으로써 후술하는 화소분리벽 형성 방법에 있어서 영구 지지체와의 양호한 밀착성을 발휘할 수 있다.The said photosensitive transfer material may have a thermoplastic resin layer as needed. Such a thermoplastic resin layer is alkali-soluble and is comprised including at least a resin component. It is preferable that the said resin component is alkali-soluble thermoplastic resin whose substantial softening point is 80 degrees C or less. By forming such a thermoplastic resin layer, the adhesiveness with a permanent support body can be exhibited in the pixel-dividing wall formation method mentioned later.

연화점이 80℃ 이하인 알칼리 가용성 열가소성 수지로서는 에틸렌과 아크릴산 에스테르 공중합체의 비누화물, 스티렌과 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체의 비누화물, 비닐톨루엔과 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체의 비누화물, 폴리(메타)아크릴산 에스테르, (메타)아크릴산 부틸과 아세트산 비닐 등의 (메타)아크릴산 에스테르 공중합체 등의 비누화물 등을 들 수 있다.Examples of alkali-soluble thermoplastic resins having a softening point of 80 ° C. or lower include saponified products of ethylene and acrylic acid ester copolymers, saponified products of styrene and (meth) acrylic acid ester copolymers, saponified products of vinyltoluene and (meth) acrylic acid ester copolymers, and poly (meth). Saponified products, such as (meth) acrylic acid ester copolymers, such as an acrylic acid ester, butyl (meth) acrylate, and vinyl acetate, etc. are mentioned.

열가소성 수지층에는 상기 열가소성 수지의 적어도 1종을 적당히 선택해서 사용할 수 있고, 또한 「플라스틱 성능 편람」 (일본 플라스틱 공업 연맹, 전일본 플라스틱 성형 공업 연합회 편저, 고교 쵸사카이 발행, 1968년 10월 25일 발행)에 의한 연화점이 약 80℃ 이하인 유기 고분자 중 알칼리 수용액에 가용인 것을 사용할 수 있다.At least one of the above-mentioned thermoplastic resins can be appropriately selected and used for the thermoplastic resin layer, and the "Plastic Performance Handbook" (edition of the Japan Plastics Industry Federation, the All-Japan Plastic Molding Industry Association, published by High School Chosakakai, issued October 25, 1968) Soluble in an aqueous alkali solution among organic polymers having a softening point of about 80 ° C. or less can be used.

또한, 연화점이 80℃ 이상인 유기 고분자 물질에 대해서도 그 유기 고분자 물질 중에 상기 고분자 물질과 상용성이 있는 각종 가소제를 첨가함으로써 실질적인 연화점을 80℃ 이하로 낮춰서 사용할 수도 있다. 또한, 이들 유기 고분자 물질에는 가지지체와의 접착력을 조절할 목적으로 실질적인 연화점이 80℃를 초과하지 않는 범위에서 각종 폴리머나 과냉각 물질, 밀착 개량제 또는 계면활성제, 이형제 등을 첨가할 수도 있다.Moreover, also about the organic polymer material which has a softening point of 80 degreeC or more, a substantial softening point can also be used to 80 degreeC or less by adding various plasticizers compatible with the said polymer material in the organic polymer material. In addition, various polymers, supercooled substances, adhesion modifiers or surfactants, mold release agents, and the like may be added to these organic polymer materials in the range of substantially no softening point exceeding 80 ° C. for the purpose of adjusting the adhesive strength to the supporting member.

바람직한 가소제의 구체예로서는 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 디옥틸프탈레이트, 디헵틸프탈레이트, 디부틸프탈레이트, 트리크레실포스페이트, 크레실디페닐포스페이트, 비페닐디페닐포스페이트를 들 수 있다.Specific examples of the preferred plasticizer include polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate, diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, and biphenyl diphenyl phosphate.

상기 감광성 전사 재료에 있어서의 가지지체로서는 화학적 및 열적으로 안정적이며, 가요성의 물질로 구성되는 점에서 적당히 선택할 수 있다. 구체적으로는 테플론(등록상표), 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르 등 얇은 시트 또는 이들의 적층체가 바람직하다. 상기 가지지체의 두께로서는 5?300㎛가 적당하며, 바람직하게는 20?150㎛이다. 이 두께가 5㎛ 미만에서는 가지지체를 박리할 때에 파열되기 쉬워지는 경향이 있고, 또한, 가지지체를 통해 노광할 경우에는 300㎛를 초과하면 해상도가 저하되는 경향이 있다. 상기 구체예 중에서도 2축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 특히 바람직하다.The branch in the photosensitive transfer material can be appropriately selected from the viewpoint of being chemically and thermally stable and composed of a flexible material. Specifically, a thin sheet such as Teflon (registered trademark), polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polyester, or a laminate thereof is preferable. As thickness of the said support body, 5-300 micrometers is suitable, Preferably it is 20-150 micrometers. When the thickness is less than 5 µm, the tendency to break when peeling off the branch support tends to occur, and when exposing through the branch support, when the thickness exceeds 300 µm, the resolution tends to decrease. Among the above specific examples, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable.

(기판)(Board)

본 발명의 컬러필터를 구성하는 기판(영구 지지체)으로서는 금속성 지지체, 금속 접합 지지체, 유리, 세라믹, 합성 수지 필름 등을 사용할 수 있다. 특히 바람직하게는 투명성이며 치수 안정성이 양호한 유리나 합성 수지 필름을 들 수 있다.As a substrate (permanent support) which comprises the color filter of this invention, a metallic support, a metal bonding support, glass, a ceramic, a synthetic resin film, etc. can be used. Especially preferably, glass and a synthetic resin film with transparency and favorable dimensional stability are mentioned.

(화소분리벽 형성 방법)(Pixel separation wall formation method)

이하, 상기 감광성 전사 재료를 사용해서 기판 상에 화소분리벽을 형성하는 경우의 일례에 대해서 설명한다. Hereinafter, an example in the case of forming a pixel separation wall on a substrate using the photosensitive transfer material will be described.

가지지체 상에 산소 차단층, 착색 감광성 조성물층, 또한 상기 착색 감광성 조성물층 상에 커버 시트가 형성된 감광성 전사 재료를 준비한다. An oxygen barrier layer, a colored photosensitive composition layer on the branch body, and a photosensitive transfer material having a cover sheet formed on the colored photosensitive composition layer are prepared.

우선, 커버 시트를 박리 제거한 후, 노출된 착색 감광성 조성물층의 표면을 영구 지지체(기판) 상에 접합하고, 라미네이터 등을 통해 가열, 가압해서 적층한다(적층체). 라미네이터에는 종래 공지의 라미네이터, 진공 라미네이터 등 중에서 적당히 선택한 것을 사용할 수 있고, 보다 생산성을 높이기 위해서는 오토컷 라미네이터도 사용 가능하다.First, after peeling off and removing a cover sheet, the exposed surface of the colored photosensitive composition layer is bonded on a permanent support body (substrate), and it laminates by heating, pressurizing through a laminator etc. (laminated body). As a laminator, a suitably selected from a conventionally known laminator, a vacuum laminator, etc. can be used, and an auto cut laminator can also be used in order to raise productivity more.

이어서, 가지지체와 산소 차단층 사이에서 박리하여 가지지체를 제거한다. Then, the branch is removed between the branch and the oxygen barrier layer to remove the branch.

계속해서, 가지지체 제거 후의 제거면의 상방에 소망의 포토마스크(예를 들면, 석영 노광 마스크)를 수직으로 세운 상태에서 노광 마스크면과 상기 산소 차단층 사이의 거리를 적당히 (예를 들면, 200㎛) 설정하고, 노광한다. Subsequently, in a state where a desired photomask (for example, a quartz exposure mask) is placed vertically above the removal surface after removing the branch, the distance between the exposure mask surface and the oxygen barrier layer is appropriately set (for example, 200 M) set and exposed.

이어서, 노광 후 소정의 처리액을 사용해서 현상 처리하고, 패터닝 화상을 얻고, 계속해서 필요에 따라서 수세 처리하여 화소분리벽을 얻는다.Subsequently, it develops using a predetermined process liquid after exposure, obtains a patterned image, and then washes with water as needed to obtain a pixel separation wall.

또한, 가지지체를 산소를 차단할 수 있는 보호층으로서 사용하는 경우는 가지지체를 남긴 채(박리하지 않고), 상기 가지지체의 상방에 소망의 포토마스크(예를 들면, 석영 노광 마스크)를 수직으로 세운 상태에서 노광 마스크면과 상기 가지지체 사이의 거리를 적당히(예를 들면, 200㎛) 설정하고, 노광한다. In addition, when using the branch support as a protective layer capable of blocking oxygen, a desired photomask (for example, a quartz exposure mask) is placed vertically above the branch, leaving the branch retained (not peeled off). In the upright state, the distance between the exposure mask surface and the supporting member is set appropriately (for example, 200 µm) and exposed.

이어서, 가지지체를 제거하고, 소정의 처리액을 사용해서 현상 처리하고, 패터닝 화상을 얻고, 계속해서 필요에 따라서 수세 처리하여 화소분리벽을 얻는다.Subsequently, the branch is removed, the development is performed using a predetermined processing liquid, a patterned image is obtained, and then washed with water as necessary to obtain a pixel separation wall.

광조사(노광)에 사용하는 광원으로서는 중압?초고압 수은등, 크세논 램프, 메탈할라이드 램프 등을 들 수 있다. 구체적으로는 예를 들면, 초고압 수은등을 갖는 프록시미티형 노광기(예를 들면, 히타치 하이테크 덴시 엔지니어링 가부시키가이샤제) 등으로 행하고, 노광량으로서는 적당히(예를 들면, 300mJ/㎠) 선택할 수 있다.As a light source used for light irradiation (exposure), a medium pressure ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, etc. are mentioned. Specifically, for example, a proximity exposure machine (eg, manufactured by Hitachi Hi-Tech Denshi Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp and the like can be appropriately selected (for example, 300 mJ / cm 2).

본 발명에 있어서는 상기 착색 감광성 수지 조성물을 사용하고, 막두께 1.5?2.5㎛의 감광성 수지층을 형성하고, 초고압 수은등을 갖는 프록시미티형 노광기로 빈산소 분위기 하에서 40?300mJ/㎠로 노광 처리하는 것이 바람직하고, 막두께 1.7?2.5㎛의 감광성 수지층을 형성하고, 초고압 수은등을 갖는 프록시미티형 노광기로 빈산소 분위기 하에서 50?150mJ/㎠로 노광 처리하는 것이 보다 바람직하다.In this invention, using the said coloring photosensitive resin composition, forming the photosensitive resin layer of 1.5-2.5 micrometers in thickness, and exposing to 40-300mJ / cm <2> in a hypoxic atmosphere with the proximity type exposure machine which has an ultrahigh pressure mercury lamp. It is preferable to form a photosensitive resin layer with a film thickness of 1.7 to 2.5 µm, and to perform exposure treatment at 50 to 150 mJ / cm 2 under a poor oxygen atmosphere with a proximal type exposure machine having an ultrahigh pressure mercury lamp.

노광 후 소정의 처리액(현상액)을 사용해서 현상 처리한다. 현상 처리에 사용하는 현상액으로서는 알카리성 물질의 희박 수용액이 사용되지만, 물과 혼화성 유기용제를 소량 더 첨가한 것이어도 좋다. It develops using predetermined process liquid (developer) after exposure. As a developing solution used for the developing treatment, an lean aqueous solution of an alkaline substance is used, but a small amount of water and a miscible organic solvent may be further added.

또 상기 현상 전에는 순수를 샤워 노즐 등으로 분무해서 상기 착색 감광성 조성물층의 표면을 균일하게 적실 수 있는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the surface of the said colored photosensitive composition layer can be uniformly wetted by spraying pure water with a shower nozzle etc. before the said image development.

처리액에 포함되는 알카리성 물질로서는 알칼리 금속 수산화물류(예를 들면, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨), 알칼리 금속 탄산염류(예를 들면, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨), 알칼리 금속 중탄산염류(예를 들면, 탄산 수소나트륨, 탄산 수소칼륨), 알칼리 금속 규산염류(예를 들면, 규산 나트륨, 규산 칼륨), 알칼리 금속 메타규산염류(예를 들면, 메타규산 나트륨, 메타규산 칼륨), 트리에탄올아민, 디에탄올아민, 모노에탄올아민, 모르폴린, 테트라알킬암모늄히드록시드류(예를 들면, 테트라메틸암모늄히드록시드), 인산 3나트륨 등을 들 수 있다.As an alkaline substance contained in a process liquid, alkali metal hydroxides (for example, sodium hydroxide and potassium hydroxide), alkali metal carbonates (for example sodium carbonate and potassium carbonate), alkali metal bicarbonates (for example, carbonic acid) Sodium hydrogen, potassium hydrogen carbonate), alkali metal silicates (e.g. sodium silicate, potassium silicate), alkali metal metasilicates (e.g. sodium metasilicate, potassium metasilicate), triethanolamine, diethanolamine, Monoethanolamine, morpholine, tetraalkylammonium hydroxides (for example, tetramethylammonium hydroxide), trisodium phosphate, etc. are mentioned.

알카리성 물질의 농도는 0.01?30질량%가 바람직하고, pH는 8?14가 바람직하다.As for the density | concentration of an alkaline substance, 0.01-30 mass% is preferable, and pH is 8-14.

상기 「물과 혼화성의 유기용제」로서는 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 1-프로판올, 부탄올, 디아세톤알콜, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노n-부틸에테르, 벤질알콜, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, ε-카프로락톤, γ-부티로락톤, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 헥사메틸포스포르아미드, 락트산 에틸, 락트산 메틸, ε-카프로락탐, N-메틸피롤리돈 등을 바람직하게 들 수 있다.As said "an organic solvent miscible with water", for example, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monon- Butyl ether, benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-capro Lactam, N-methylpyrrolidone, etc. are mentioned preferably.

물과 혼화성의 유기용제의 처리액 중의 농도는 0.1?30질량%가 바람직하다.As for the density | concentration in the process liquid of the water and miscible organic solvent, 0.1-30 mass% is preferable.

또한 처리액에는 공지의 계면활성제를 첨가할 수도 있고, 상기 계면활성제의 농도로서는 0.01?10질량%가 바람직하다.Moreover, a well-known surfactant can also be added to a process liquid, As a density | concentration of the said surfactant, 0.01-10 mass% is preferable.

상기 현상액은 욕액으로서도, 또는 분무액으로서도 사용할 수 있다. The developer can be used as a bath solution or as a spray solution.

감광성 수지층의 미경화 부분을 제거할 경우, 현상액 중에서 회전 브러시나 습윤 스폰지로 문지르는 등의 방법을 조합시킬 수 있다. When the uncured portion of the photosensitive resin layer is removed, a method such as rubbing with a rotary brush or a wet sponge in the developer can be combined.

또 현상액의 액온도는 통상 실온 부근?40℃가 바람직하다.Moreover, as for the liquid temperature of a developing solution, near 40 degreeC is preferable normally.

현상 시간은 감광성 수지층의 조성, 현상액의 알카리성이나 온도, 유기용제를 첨가하는 경우에는 그 종류와 농도 등에 따르지만 통상 10초?2분 정도이다. 너무 짧으면 비노광부의 현상이 불충분해지는 경우가 있으며, 너무 길면 노광부도 에칭되는 경우가 있다. 어느 경우에나 화소분리벽 형상을 바람직한 것으로 하는 것이 곤란하게 된다.The developing time depends on the composition of the photosensitive resin layer, the alkalinity and temperature of the developing solution, and the type and concentration of the organic solvent, but is usually about 10 seconds to 2 minutes. If it is too short, the phenomenon of a non-exposed part may become inadequate, and if it is too long, an exposed part may also be etched. In either case, it is difficult to make the pixel partition wall shape desirable.

현상 처리 후에 수세 공정을 넣는 것도 가능하다.It is also possible to add a water washing step after the development treatment.

(후경화 공정)(Post curing process)

본 발명에 있어서는 상기한 바와 같이 해서 화소분리벽을 형성한 후, 화소분리벽의 형상을 더 고정화하는 후경화 처리를 행하는 것이 바람직하다. 화소분리벽의 형상을 고정화하는 수단으로서는 특별히 한정되지 않지만, 이하와 같은 것을 들 수 있다.In the present invention, after the pixel separation wall is formed as described above, it is preferable to perform a post-curing process for further fixing the shape of the pixel separation wall. The means for fixing the shape of the pixel separation wall is not particularly limited, but the following may be mentioned.

1)현상 처리 후 재노광(이하, 「포스트 노광」이라고 하는 경우가 있다)을 행한다.1) After exposure processing, re-exposure (hereinafter, may be referred to as "post exposure") is performed.

2)현상 후 비교적 낮은 온도에서 가열 처리(이하, 「포스트 베이킹」이라고 하는 경우가 있다)를 행한다.2) After development, heat treatment (hereinafter sometimes referred to as "post baking") is performed at a relatively low temperature.

본 발명에 있어서는 포스트 노광 및 포스트 베이킹 중 적어도 하나를 행하는 것이 바람직하고, 양쪽을 순차 행하는 것이 보다 바람직하다.In this invention, it is preferable to perform at least one of post exposure and post baking, and it is more preferable to carry out both sequentially.

여기에서, 상기 포스트 노광을 행할 경우, 그 노광량은 대기 하이면 500?8000mJ/㎠, 바람직하게는 1000?5000mJ/㎠이며, 빈산소 분위기 하인 경우에는 그것보다 낮은 노광량으로 노광하는 것도 가능하다. 또한, 상기 포스트 노광은 상기 감광성 수지층의 상기 투명 기판에 대향하는 면과는 반대의 면측으로부터 행해도 좋고, 상기 감광성 수지층의 상기 투명 기판에 대향하는 면측으로부터 행해도 좋고, 또한 양면으로부터 행해도 좋다.Here, when performing the said post exposure, the exposure amount is 500-8000mJ / cm <2> of an atmospheric high surface, Preferably it is 1000-5000mJ / cm <2>, and when it is under a poor oxygen atmosphere, it is also possible to expose by exposure amount lower than that. In addition, the said post exposure may be performed from the surface side opposite to the surface which opposes the said transparent substrate of the said photosensitive resin layer, may be performed from the surface side which opposes the said transparent substrate of the said photosensitive resin layer, and may be performed from both surfaces. good.

또 상기 가열 처리란 화소분리벽이 형성된 기판을 전기로, 건조기 등 중에서 가열하거나 또는 적외선 램프를 조사한다는 것을 가리킨다. 가열 온도는 120?250℃에서 10분?120분간 가열하는 것이 바람직하다.The heat treatment indicates that the substrate on which the pixel separation wall is formed is heated in an electric furnace, a dryer, or the like, or irradiated with an infrared lamp. It is preferable to heat heating temperature at 120-250 degreeC for 10 to 120 minutes.

온도를 120℃ 이상으로 함으로써 분리벽의 경화가 효과적으로 진행되어 충분한 내용제성, 내알카리성을 부여할 수 있다.By setting temperature to 120 degreeC or more, hardening of a partition wall advances effectively and can provide sufficient solvent resistance and alkali resistance.

(발수 처리)(Water repellent)

본 발명에 있어서는 상기한 바와 같이 해서 형성한 화소분리벽에 발수 처리를 실시함으로써 상기 화소분리벽의 적어도 일부가 발수성을 띤 상태로 하는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 그 후에 잉크젯 등의 방법으로 착색 액체 조성물의 액적을 상기 화소분리벽 사이에 부여했을 때에 잉크가 상기 화소분리벽을 넘어 인접하는 색과 혼색되는 등의 문제를 억제할 수 있다.In the present invention, it is preferable that at least a part of the pixel separation wall is in a water repellent state by performing a water repellent treatment on the pixel separation wall formed as described above. Thereby, when the droplet of a coloring liquid composition is applied between the said pixel division walls by the method of inkjet etc. after that, the problem that ink mixes with the color which adjoins over the said pixel division wall, etc. can be suppressed.

발수 처리로서는 화소분리벽 상면에 발수재료를 도포하는 방법이나, 발수층을 새롭게 형성하는 방법, 플라즈마 처리에 의해 발수성을 부여하는 방법, 발수성 물질을 화소분리벽에 혼련하는 방법, 광촉매에 의해 발수성을 부여하는 방법 등을 들 수 있다.As the water repellent treatment, a method of coating a water repellent material on the upper surface of the pixel separation wall, a method of newly forming a water repellent layer, a method of imparting water repellency by plasma treatment, a method of kneading a water repellent material into the pixel separation wall, and a water repellency by a photocatalyst The method of giving, etc. are mentioned.

상기 발수 처리 전 또는 후에 지지체 상의 블랙 매트릭스 개구부에서의 잉크의 젖어퍼짐성을 높이기 위해서 산소 애싱 등의 친잉크 처리를 실시해도 좋다. In order to improve the wettability of the ink in the black matrix opening on the support before or after the water repellent treatment, a lip ink treatment such as oxygen ashing may be performed.

또한, 발수 처리의 상세에 대해서는 일본 특허 공개 2006-154804호 공보 등에 기재된 사항을 본 발명에 있어서도 바람직하게 적용할 수 있다.In addition, about the detail of water repellent treatment, the matter described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-154804, etc. can also be applied suitably also in this invention.

(화소의 형성)(Formation of the pixel)

이어서, 상기 현상 공정에서 형성된 분리벽간의 오목부에 대해서 RGB 각 화소를 형성하기 위한 착색 액체 조성물을 부여한다. 착색 액체 조성물을 화소분리벽 공극에 부여하는 방법으로서는 잉크젯법이나 스트라이프 기서 도포법 등 공지의 것을 사용할 수 있고, 잉크젯법이 생산성의 점에서 바람직하다. 잉크젯법에 대해서는 후술한다.Subsequently, the colored liquid composition for forming each pixel of RGB is given to the recessed part between the partition walls formed in the said image development process. As a method for applying the colored liquid composition to the pixel separation wall voids, a known one such as an inkjet method or a stripe-based coating method can be used, and the inkjet method is preferable in terms of productivity. The inkjet method is mentioned later.

분리벽간의 오목부에 부여된 착색 액체 조성물은 착색층을 형성한다. 이 착색층은 컬러필터를 구성하는 황색(Y), 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 등의 색 화소가 되는 것이다.The colored liquid composition imparted to the recesses between the separating walls forms a colored layer. This colored layer becomes color pixels, such as yellow (Y), red (R), green (G), and blue (B) which comprise a color filter.

착색층의 형성은 상술한 바와 같이 해서 기판 상에 형성된 화소분리벽으로 둘러싸여진 오목부에 착색 화소(예를 들면 YRGB 4색의 화소 패턴)를 형성하기 위한 잉크젯 잉크를 부여하여 2색 이상의 복수의 화소로 구성되도록 형성할 수 있다.Formation of the colored layer is performed by applying inkjet ink for forming colored pixels (e.g., pixel patterns of four YRGB colors) to recesses surrounded by the pixel separation walls formed on the substrate as described above. It may be formed to consist of pixels.

컬러필터 패턴의 형상에 대해서는 특별히 한정은 없고, 블랙 매트릭스 형상으로서 일반적인 스트라이프 형상이어도, 격자 형상이어도 또한 델타배열 형상이어도 좋다.There is no restriction | limiting in particular about the shape of a color filter pattern, A black stripe shape may be a general stripe shape, lattice shape, or a delta array shape.

상기 착색 액체 조성물은 착색 액체 조성물을 열경화 또는 광경화시키는 방법, 미리 기판 상에 투명한 수상층을 형성해 두고나서 착색 액체 조성물을 부여하는 방법 등 공지의 방법에 의해 착색층으로 할 수 있다.The said colored liquid composition can be made into a colored layer by a well-known method, such as the method of thermosetting or photocuring a colored liquid composition, the method of providing a colored liquid composition after forming a transparent aqueous phase layer on a board | substrate beforehand.

본 발명에 있어서 바람직하게는 화소분리벽간의 오목부에 착색 액체 조성물을 부여해서 각 화소를 형성한 후, 가열 처리(소위 베이킹 처리)하는 가열 공정을 설치한다. 즉, 착색 액체 조성물이 부여된 기판을 전기로, 건조기 등 중에서 가열하거나 또는 적외선 램프로 적외선을 조사한다. In the present invention, preferably, a heating step of heating treatment (so-called baking treatment) is provided after the colored liquid composition is applied to the recesses between the pixel separation walls to form each pixel. That is, the board | substrate with which the coloring liquid composition was given is heated in an electric furnace, a dryer, etc., or infrared rays are irradiated with an infrared lamp.

가열의 온도 및 시간은 착색 액체 조성물의 조성이나 형성된 층의 두께에 의존하지만, 일반적으로 충분한 내용제성, 내알카리성, 및 자외선 흡광도를 획득하는 관점에서 약 120℃?약 250℃에서 약 10분?약 120분간 가열하는 것이 바람직하다.The temperature and time of heating depend on the composition of the colored liquid composition or the thickness of the formed layer, but generally in terms of obtaining sufficient solvent resistance, alkali resistance, and ultraviolet absorbance, at about 120 ° C. to about 250 ° C. for about 10 minutes to about It is preferable to heat for 120 minutes.

(잉크젯법)(Inkjet method)

본 발명에 사용하는 잉크젯법으로서는 대전된 잉크를 연속적으로 분사해서 전장에 의해 제어하는 방법, 압전소자를 사용해서 간헐적으로 잉크를 분사하는 방법, 잉크를 가열해서 그 발포를 이용해서 간헐적으로 분사하는 방법 등 각종 방법을 채용할 수 있다.As the inkjet method used in the present invention, a method of spraying charged ink continuously and controlling by electric field, a method of intermittently spraying ink using a piezoelectric element, a method of heating ink and intermittently spraying using the foaming thereof Various methods, such as these, can be employ | adopted.

사용하는 잉크는 유성, 수성이어도 사용할 수 있다.The ink to be used may be oil or water.

또한, 그 잉크에 포함되는 착색재는 염료, 안료 모두 사용할 수 있고, 내구성의 면에서는 안료의 사용이 보다 바람직하다.In addition, both the dye and the pigment can be used for the coloring material contained in the ink, and in terms of durability, the use of the pigment is more preferable.

또한, 공지의 컬러필터 제작에 사용하는 도포방식의 착색 잉크(착색 수지 조성물, 예를 들면, 일본 특허 공개 2005-3861호 공보 [0034]?[0063] 기재)나, 일본 특허 공개 평 10-195358호 공보 [0009]?[0026]에 기재된 잉크젯용 조성물을 사용할 수도 있다.Moreover, the coloring ink (coloring resin composition, for example, described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-3861-Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-3861), and Unexamined-Japanese-Patent No. 10-195358. The inkjet compositions described in Japanese Patent Application Laid-Open Publications [0009] and [0026] can also be used.

본 발명에 있어서의 잉크에는 착색 후의 공정을 고려해서 가열에 의해 경화하거나 또는 자외선 등의 에너지선에 의해 경화하는 성분을 첨가할 수도 있다. The ink in this invention can also add the component hardened | cured by heating or hardened | cured by energy rays, such as an ultraviolet-ray, considering the process after coloring.

가열에 의해 경화하는 성분으로서는 각종 열경화성 수지를 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서는 열경화성 수지에 추가해서 적어도 바인더, 및 2관능 또는 3관능의 에폭시기 함유 모노머를 함유하는 컬러필터용 열경화성 잉크도 바람직한 것으로서 사용할 수 있다.As the component cured by heating, various thermosetting resins can be used without particular limitation. In this invention, in addition to a thermosetting resin, the thermosetting ink for color filters containing a binder and a bifunctional or trifunctional epoxy group containing monomer can also be used as a preferable thing.

또 에너지선에 의해 경화하는 성분으로서는 예를 들면 아크릴레이트 유도체 또는 메타크릴레이트 유도체에 광반응 개시제를 첨가한 것을 예시할 수 있다. 특히 내열성을 고려해서 아크릴로일기, 메타크릴로일기를 분자내에 복수 갖는 것이 보다 바람직하다. 이들 아크릴레이트 유도체, 메타크릴레이트 유도체는 수용성의 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 물에 난용성인 것이어도 에멀젼화하거나 해서 사용할 수 있다. 이 경우, 상기 착색 감광성 수지 조성물 항에서 열거한 안료 등의 착색제를 함유시킨 착색 감광성 수지 조성물을 바람직한 것으로서 사용할 수 있다.Moreover, as a component hardened | cured by an energy beam, what added the photoreaction initiator to the acrylate derivative or the methacrylate derivative, for example can be illustrated. It is more preferable to have acryloyl group and a methacryloyl group in a molecule especially in consideration of heat resistance. These acrylate derivatives and methacrylate derivatives can preferably use water-soluble ones. Moreover, even if it is poorly soluble in water, it can be used after emulsifying. In this case, the coloring photosensitive resin composition containing the coloring agents, such as the pigment enumerated in the said coloring photosensitive resin composition, can be used as a preferable thing.

본 발명에 있어서의 컬러필터는 잉크젯 방식으로 화소 형성된 컬러필터인 것이 바람직하고, RGB 3색의 잉크를 부여해서 3색의 컬러필터를 형성하는 것이 바람직하다. It is preferable that the color filter in this invention is a color filter pixel-formed by the inkjet system, and it is preferable to provide three colors of color filters by giving ink of RGB three colors.

이 컬러필터는 액정표시소자, 전기영동 표시소자, 일렉트로크로믹 표시소자, PLZT 등과 조합해서 표시소자로서 사용된다.This color filter is used as a display element in combination with a liquid crystal display element, an electrophoretic display element, an electrochromic display element, a PLZT, or the like.

또 컬러 카메라나 그 밖의 컬러필터를 사용하는 용도로도 사용할 수 있다.It can also be used for the purpose of using a color camera or other color filters.

(오버코팅층)(Overcoating layer)

컬러필터의 제작 후 컬러필터 상의 전면에 내성 향상을 위해서 오버코팅층을 형성할 수도 있다. 오버코팅층은 각 화소(예를 들면, R, G, B)의 고화층을 보호함과 아울러 표면을 평탄하게 할 수 있지만, 공정수가 늘어난다고 하는 관점에서 형성하지 않는 것이 바람직하다.After fabrication of the color filter, an overcoat layer may be formed on the entire surface of the color filter to improve resistance. Although the overcoat layer can protect the solidified layer of each pixel (for example, R, G, B) and can make a surface flat, it is preferable not to form an overcoat layer from a viewpoint that the number of processes increases.

오버코팅층을 형성하는 수지(OC제)로서는 아크릴계 수지 조성물, 에폭시 수지 조성물, 폴리이미드 수지 조성물 등을 들 수 있다. Examples of the resin (former OC) forming the overcoating layer include an acrylic resin composition, an epoxy resin composition, a polyimide resin composition, and the like.

그 중에서도 가시광영역에서의 투명성이 우수하고, 또한, 컬러필터용 광경화성 조성물의 수지 성분이 통상 아크릴계 수지를 주성분으로 하고 있으며, 밀착성이 우수한 점에서 아크릴계 수지 조성물이 바람직하다.Among them, an acrylic resin composition is preferred because it is excellent in transparency in the visible light region, and the resin component of the photocurable composition for color filters usually contains acrylic resin as a main component, and is excellent in adhesiveness.

오버코팅층의 예로서 일본 특허 공개 2003-287618호 공보의 단락번호 0018?0028에 기재된 것이나, 오버코팅제의 시판품으로서 JSR사제 「옵토머 SS6699G」를 들 수 있다.As an example of an overcoat layer, Paragraph No. 0018-0008 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-287618 is mentioned, and "Optomer SS6699G" by JSR Corporation is mentioned as a commercial item of an overcoat agent.

[표시장치][Display device]

본 발명의 표시장치로서는 액정표시장치, 플라즈마 디스플레이 표시장치, EL 표시장치, CRT 표시장치 등의 표시장치 등을 말한다.The display device of the present invention refers to a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display display device, an EL display device, a CRT display device, and the like.

표시장치의 정의나 각 표시장치의 설명은 예를 들면 「전자 디스플레이 디바이스(사사키 테루오저, (주)고교 쵸사카이 1990년 발행)」, 「디스플레이 디바이스(이부키 수미아키저, 산업도서(주) 1989년 발행)」등에 기재되어 있다.For the definition of the display device and the description of each display device, for example, "Electronic display device (Sasaki Teruosser, High School Chosakai Co., Ltd. 1990)", "Display device (Ibuki Sumiakizer, Industrial Books Co., Ltd.) 1989." Issuance).

본 발명의 표시장치 중 액정표시장치는 특히 바람직하다. 액정표시장치에 대해서는 예를 들면 「차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 타츠오 편집, (주)고교 쵸사카이 1994년 발행)」에 기재되어 있다.Among the display devices of the present invention, liquid crystal display devices are particularly preferable. About a liquid crystal display device, it describes in the "next-generation liquid crystal display technology (Tatsuo Uchida editorial, 1994 issued by Kosyo Chosaka Co., Ltd.)."

본 발명을 적용할 수 있는 액정표시장치에 특별히 제한은 없고, 예를 들면 상기 「차세대 액정 디스플레이 기술」에 기재되어 있는 여러가지 방식의 액정표시장치에 적용할 수 있다. There is no restriction | limiting in particular in the liquid crystal display device which can apply this invention, For example, it can apply to the liquid crystal display device of various systems described in said "next-generation liquid crystal display technology."

본 발명은 이들 중에서 특히 컬러 TFT 방식의 액정표시장치에 대해서 유효하다. 컬러 TFT 방식의 액정표시장치에 대해서는 예를 들면 「컬러 TFT 액정 디스플레이(교리츠 슛판(주) 1996년 발행)」에 기재되어 있다.Among these, the present invention is particularly effective for a color TFT type liquid crystal display device. About the liquid crystal display device of a color | collar TFT system, it describes in a "color TFT liquid crystal display (Kyoritsu Shootpan Co., Ltd. 1996 issuance), for example."

또한 본 발명은 물론 IPS 등의 횡전계 구동 방식, MVA 등의 화소 분할 방식 등의 시야각이 확대된 액정표시장치에도 적용할 수 있다. 이들 방식에 대해서는 예를 들면 「EL, PDP, LCD 디스플레이-기술과 시장의 최신 동향-(도레이 리서치 센터 조사 연구 부문 2001년 발행)」의 43페이지에 기재되어 있다.In addition, the present invention can be applied to a liquid crystal display device having an enlarged viewing angle such as a transverse electric field driving method such as IPS and a pixel division method such as MVA. These methods are described, for example, on page 43 of EL, PDP, LCD Display Technology and the Latest Trends in the Market (Published by Toray Research Center Research and Research, 2001).

액정표시장치는 컬러필터 이외에 전극 기판, 편광 필름, 위상차 필름, 백라이트, 스페이서, 시야각 보장 필름 등 다양한 부재로 구성된다. 본 발명의 컬러필터는 이들 공지의 부재로 구성되는 액정표시장치에 적용할 수 있다. 이들 부재에 대해서는 예를 들면 「'94 액정 디스플레이 주변재료?케미컬즈의 시장(시마 켄타로(주)시엠시 1994년 발행)」, 「2003 액정 관련 시장의 현상황과 장래 전망(하권)(오모테 료키치(주) 후지 키메라 소켄 2003년 발행)」에 기재되어 있다.In addition to the color filter, the liquid crystal display is composed of various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, a viewing angle guarantee film, and the like. The color filter of the present invention can be applied to a liquid crystal display device composed of these known members. For these members, for example, the market for '94 liquid crystal display peripheral materials and chemicals (Kenta Shima Kenshiro Shimushi 1994), the present situation and prospects for the 2003 liquid crystal market (the lower volume) (Ryomoto Omote) Fuji Chimera Soken 2003).

[대상 용도][Target Use]

본 발명의 컬러필터는 텔레비젼, 퍼스널 컴퓨터, 액정 프로젝터, 게임기, 휴대전화 등의 휴대 단말, 디지털 카메라, 카 네비게이션 등의 용도에 특별히 제한없이 적용할 수 있다.The color filter of this invention can be applied without a restriction | limiting in particular to the use of portable terminals, such as a television, a personal computer, a liquid crystal projector, a game machine, a mobile phone, a digital camera, and a car navigation | car navigation.

일본 출원 2009-224959호의 개시는 그 전체를 본 명세서에 원용한다.As for the indication of the Japanese application 2009-224959, the whole is taken in into this specification.

본 명세서에 기재된 모든 문헌, 특허 출원, 및 기술 규격은 각각의 문헌, 특허 출원, 및 기술 규격이 참조에 의해 받아들여지는 것이 구체적이며 또한 각각에 기재된 경우와 같은 정도로 본 명세서에 참조에 의해 받아들여진다.All documents, patent applications, and technical specifications described in this specification are specifically incorporated by reference to the respective documents, patent applications, and technical specifications, and are hereby incorporated by reference to the same extent as in each case. .

실시예Example

이하에 실시예를 들어서 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 시약, 비율, 기기, 조작 등은 본 발명의 정신으로부터 일탈하지 않는 한 적당히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 한정되는 것은 아니다.An Example is given to the following and this invention is demonstrated to it further more concretely. Materials, reagents, ratios, instruments, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific example shown below.

또한, 이하의 실시예에 있어서 특별히 언급이 없는 한 「%」 및 「부」는 「질량%」 및 「질량부」를 나타내고, 분자량이란 중량 평균 분자량을 나타낸다.In addition, unless otherwise indicated in a following example, "%" and "part" show a "mass%" and a "mass part", and a molecular weight shows a weight average molecular weight.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

[착색 감광성 수지 조성물의 조제][Preparation of Colored Photosensitive Resin Composition]

(K 안료 분산물 1의 조제)(Preparation of K Pigment Dispersion 1)

하기 K 안료 분산물 1의 조성이 되도록 카본블랙, 분산제, 폴리머 및 용제를 혼합하고, 3개롤과 비즈 밀을 사용해서 K 안료 분산물 1을 얻었다. Carbon black, a dispersing agent, a polymer, and a solvent were mixed so that it might become the composition of the following K pigment dispersion 1, and K pigment dispersion 1 was obtained using three rolls and a bead mill.

흑색 조성물 K1(착색 감광성 수지 조성물)은 우선 표 1에 기재된 양의 K 안료 분산물 1, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(MMPGAc)를 칭량하고, 온도 24℃±2℃)에서 혼합해서 150RPM으로 10분간 교반하고, 이어서, 표 1에 기재된 양의 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 바인더 2, 페노티아진, 모노머액 1, 중합 개시제 1, 계면활성제 1을 칭량하고, 온도 25℃(±2℃)에서 이 순서대로 첨가하고, 온도 24℃(±2℃) 하에서 150RPM으로 30분간 교반함으로써 얻어졌다.The black composition K1 (colored photosensitive resin composition) first weighed K pigment dispersion 1, propylene glycol monomethyl ether acetate (MMPGAc) in the amounts shown in Table 1, mixed at a temperature of 24 ° C. ± 2 ° C., and mixed at 150 RPM for 10 minutes. After stirring, the methyl ethyl ketone, cyclohexanone, binder 2, phenothiazine, monomer liquid 1, polymerization initiator 1, and surfactant 1 in the amounts shown in Table 1 were weighed, and the temperature was 25 ° C (± 2 ° C). It added in this order and obtained by stirring for 30 minutes at 150 RPM under the temperature of 24 degreeC (+/- 2 degreeC).

또한, 표 1에 기재된 양은 질량 기준의 부수이다. 또 각 성분은 상세하게는 이하의 조성으로 되어 있다.In addition, the quantity shown in Table 1 is an accompanying quantity by mass. In addition, each component has the following composition in detail.

(K 안료 분산물 1)(K pigment dispersion 1)

?카본블랙(데굿사사제 Nipex35):13.1%Carbon black (Nipex35 made by Degut Corporation): 13.1%

?하기 분산제 1:0.65%? Dispersant 1: 0.65%

?폴리머:6.72%Polymer: 6.72%

(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=72/28 몰비의 랜덤 공중합물, 분자량 3.7만)(Benzyl methacrylate / methacrylic acid = random copolymer of 72/28 molar ratio, molecular weight 37 thousand)

?프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트:79.53%Propylene glycol monomethyl ether acetate: 79.53%

Figure pct00001
Figure pct00001

(바인더 2)(Binder 2)

?폴리머:27%? Polymer: 27%

(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=78/22 몰비의 랜덤 공중합물, 분자량 3.8만)(Benzyl methacrylate / methacrylic acid = 78/22 mole ratio random copolymer, molecular weight 3.8 million)

?프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트:73%Propylene glycol monomethyl ether acetate: 73%

(모노머액 1)(Monomer liquid 1)

?펜타에리스리톨테트라아크릴레이트:75%Pentaerythritol tetraacrylate: 75%

(NK 에스테르 A-TMMT, 신나카무라 카가쿠 고교제)(NK ester A-TMMT, Shinnakamura Kagaku high school)

?메틸에틸케톤:25%Methyl ethyl ketone: 25%

(중합 개시제 1)(Polymerization Initiator 1)

?2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[4'-(N,N-비스(에톡시카르보닐메틸)아미노-3'-브로모페닐]-s-트리아진:100%2,4-bis (trichloromethyl) -6- [4 '-(N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) amino-3'-bromophenyl] -s-triazine: 100%

(계면활성제 1)(Surfactant 1)

상품명:메가팩 F-780F(다이니폰 잉크제)A brand name: Megapack F-780F (product made in Dainippon ink)

?하기 구조물 1:30%Structure 1: 30%

?메틸에틸케톤:70%Methyl ethyl ketone: 70%

Figure pct00002
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무알칼리 유리 기판을 UV 세정 장치로 세정 후 세정제를 사용해서 브러시 세정하고, 또한 초순수로 초음파 세정했다. 기판을 120℃ 3분 열처리해서 표면상태를 안정화시켰다. 기판을 냉각해서 23℃로 온도조절한 후 슬릿상 노즐을 갖는 유리 기판용 코터(에프에이에스 재팬사제, 상품명:MH-1600)로 상기에서 얻어진 흑색 조성물 K1을 도포했다. 계속해서 VCD(진공 건조 장치, 도쿄 오카 고교사제)로 30초간 용매의 일부를 건조해서 도포층의 유동성을 없앤 후, EBR(에지 비드 리무버)로 기판 주위의 불필요한 도포액을 제거하고, 120℃ 3분간 프리베이킹해서 막두께 2.33㎛, 광학농도 4.0의 흑색 감광성 수지층(이하, 「흑색 감광층」이라고 하는 경우가 있다) K1을 얻었다. The alkali free glass substrate was brush-cleaned using the washing | cleaning agent after wash | cleaning with a UV cleaning apparatus, and also ultrasonic cleaning was carried out with ultrapure water. The substrate was heat-treated at 120 ° C. for 3 minutes to stabilize the surface state. After cooling a board | substrate and temperature-controlling at 23 degreeC, the black composition K1 obtained above was apply | coated with the coater for glass substrates (FH Japan company make, brand name: MH-1600) which has a slit-shaped nozzle. Subsequently, a part of the solvent was dried for 30 seconds with a VCD (vacuum drying device, manufactured by Tokyo Okagyo Kogyo Co., Ltd.) to remove fluidity of the coating layer, and then unnecessary coating liquid around the substrate was removed with EBR (edge bead remover), and 120 ° C 3 It prebaked for a minute and obtained the black photosensitive resin layer (henceforth a "black photosensitive layer") K1 of 2.33 micrometers in film thickness, and optical density 4.0.

초고압 수은등을 갖는 프록시미티형 노광기(히타치 하이테크 덴시 엔지니어링 가부시키가이샤제)로 기판과 마스크(화상 패턴을 갖는 석영 노광 마스크)를 수직으로 세운 상태에서 노광 마스크면과 흑색 감광층 K1 사이의 거리를 200㎛로 설정하고, 질소 분위기 하에서 흑색 감광층 K1측으로부터 노광량 300mJ/㎠로 패턴 노광했다.The distance between the exposure mask surface and the black photosensitive layer K1 in the state where the substrate and the mask (a quartz exposure mask having an image pattern) is vertically set by a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi Hi-Tech Denshi Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp is 200 It set to micrometer and pattern-exposed at the exposure amount 300mJ / cm <2> from the black photosensitive layer K1 side in nitrogen atmosphere.

이어서, 순수를 샤워 노즐로 분무해서 흑색 감광층 K1의 표면을 균일하게 적신 후 KOH계 현상액(KOH, 비이온 계면활성제 함유, 상품명:CDK-1, 후지 필름 일렉트로닉스 마테리알즈(주)제)을 100배 희석한 것으로 23℃ 80초, 플랫 노즐 압력 0.04MPa로 샤워 현상하고, 또한, 초고압 세정 노즐로 9.8MPa의 압력으로 초순수를 분사해서 잔사 제거를 행하고, 패터닝 화상을 얻었다. Subsequently, pure water was sprayed with a shower nozzle to uniformly wet the surface of the black photosensitive layer K1, and then a KOH-based developer (KOH, containing a nonionic surfactant, trade name: CDK-1, manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) was added. After 100-fold diluting, shower development was performed at 23 ° C. for 80 seconds at a flat nozzle pressure of 0.04 MPa, and ultrapure water was sprayed at a pressure of 9.8 MPa with an ultrahigh pressure cleaning nozzle to remove residue, thereby obtaining a patterned image.

마스크 선폭 12.0㎛(W2)에 대한 패턴 선폭(W1)은 미소 선폭 측정 장치(CP-30;소프트 웍스제)로 측정한 결과 13.7㎛였다. The pattern line width W1 with respect to the mask line width 12.0 µm (W2) was 13.7 µm as a result of measuring with a micro line width measuring apparatus (CP-30; manufactured by Soft Works).

또한, 촉침식 막후계(P-10;Tencor Instrument제)로 측정한 막두께(d2)는 2.33㎛였다.In addition, the film thickness (d2) measured by the stylus type film thickness meter (P-10; Tencor Instrument) was 2.33 micrometers.

계속해서, 대기 하에서 상기 흑색 감광층 K1의 기판에 대향하는 면과는 반대의 면측과, 상기 흑색 감광층 K1의 기판에 대향하는 면측의 양면으로부터 노광량 2500mJ/㎠로 포스트 노광을 행하고, 또한 240℃에서 50분간 포스트 베이킹 처리를 행하여 광학농도 3.9, 막두께(d2) 2.0㎛의 화소분리벽이 형성된 기판을 얻었다.Subsequently, a post exposure is performed at an exposure amount of 2500 mJ / cm 2 from both sides of the surface opposite to the surface of the black photosensitive layer K1 facing the substrate and the surface of the black photosensitive layer K1 facing the substrate. The post-baking process was performed for 50 minutes at, to obtain a substrate on which a pixel separation wall having an optical density of 3.9 and a film thickness (d2) of 2.0 μm was formed.

한편, 상기와 동일하게 해서 2.33㎛의 흑색 감광층 K1을 형성한 후 기판측으로부터 흑색 감광층 K1에 노광되도록 기판을 세팅한 것 외에는 상기와 동일하게 해서 노광, 현상한 후에 얻어진 패터닝 화상의 막두께(d1)를 측정한 결과 0.71㎛였다. On the other hand, after forming the black photosensitive layer K1 of 2.33 micrometers in the same manner to the above, the film thickness of the patterned image obtained after exposing and developing similarly to the above except having set the board | substrate so that it may expose to the black photosensitive layer K1 from the board | substrate side. It was 0.71 micrometer as a result of measuring (d1).

이상으로부터 W1/W2=1.14, d1/d2=0.305였다.From the above, it was W1 / W2 = 1.14 and d1 / d2 = 0.305.

[도포법에 의한 발수화 처리][Water repellent treatment by the coating method]

상기에서 얻어진 화소분리벽이 형성된 기판 상에 미리 불소계 계면활성제(스미토모 3M사제, 플루오라드 FC-430)가 0.5%(감광성 수지의 고형분에 대해서) 내첨되어 있는 알칼리 가용의 감광성 수지(헥스트 재팬사제, 포지티브형 포토레지스트 AZP4210)를 막두께 2㎛가 되도록 슬릿상 노즐을 사용해서 도포하고, 온풍 순환 건조기 중에서 90℃, 30분간의 열처리를 행했다. 이어서, 110mJ/㎠(38mW/㎠×2.9초)의 노광량으로 화소분리벽의 형성된 기판의 이면(화소분리벽이 형성되어 있지 않은 면)으로부터 기판과 분리벽을 통해 노광했다. 무기 알칼리 현상액(헥스트 재팬사제, AZ400K 디벨로퍼, 1:4) 중에 80초간 침지 요동한 후, 순수 중에서 30?60초간 린싱 처리를 행했다. 이어서 화소분리벽 상에 발수성 수지층을 형성했다. 이것에 의해 화소 내외(화소분리벽에 둘러싸여진 오목부와 분리벽)에 표면 에너지차를 형성했다.Alkali-soluble photosensitive resin (made by Hex Japan Co., Ltd.) in which the fluorine-type surfactant (made by Sumitomo 3M, Fluoride FC-430) 0.5% (relative to solid content of the photosensitive resin) was previously embedded on the board | substrate with which the pixel separation wall obtained above was formed. And positive type photoresist AZP4210 were applied using a slit nozzle so as to have a film thickness of 2 μm, and heat treatment was performed at 90 ° C. for 30 minutes in a warm air circulation dryer. Subsequently, it exposed through the board | substrate and the partition wall from the back surface (surface in which the pixel partition wall is not formed) of the board | substrate with which the pixel separation wall was formed at the exposure amount of 110mJ / cm <2> (38mW / cm <2> x2.9 second). After immersion rocking for 80 seconds in the inorganic alkaline developer (manufactured by Hex Japan, AZ400K developer, 1: 4), rinsing treatment was performed for 30 to 60 seconds in pure water. Subsequently, a water repellent resin layer was formed on the pixel separation wall. As a result, a surface energy difference was formed inside and outside the pixel (the recessed part surrounded by the pixel separation wall and the separation wall).

발수성 수지층 형성 후의 화소 내외의 표면 에너지는 화소외(수지층 상)가 10?15dyne/㎝, 화소내(유리 기판 상, 분리벽에 둘러싸여진 오목부)는 55dyne/㎝ 전후였다.The surface energy inside and outside the pixel after water-repellent resin layer formation was 10-15 dyne / cm outside the pixel (on the resin layer), and 55 dyne / cm around the inside (the recessed part enclosed by the partition wall on the glass substrate).

[화소용 착색 액체 조성물의 조제][Preparation of coloring liquid composition for pixels]

하기 성분 중 우선 하기 조성이 되도록 안료, 고분자 분산제 및 용제를 혼합하고, 3개롤과 비즈 밀을 사용해서 안료 분산액을 얻었다. 그 안료 분산액을 디졸버 등으로 충분히 교반하면서 그 밖의 재료를 소량씩 첨가하고, 적색(R) 화소용 착색 액체 조성물(이하, 「화소용 착색 잉크 조성물」이라고 하는 경우가 있다)을 조제했다.The pigment, the polymeric dispersing agent, and the solvent were mixed so that it may become the following composition first among the following components, and the pigment dispersion liquid was obtained using three rolls and a bead mill. Other materials were added little by little, stirring this pigment dispersion liquid sufficiently with a dissolver etc., and the coloring liquid composition for red (R) pixels (henceforth a "coloring ink composition for pixels") was prepared.

<적색 화소용 착색 액체 조성물의 조성><The composition of the coloring liquid composition for red pixels>

?안료(C.I.피그먼트레드 254):5부Pigments (C.I. Pigment Red 254): Part 5

?고분자 분산제(AVECIA사제 솔스퍼스 24000):1부Polymer Dispersant (Solfers 24000, manufactured by AVECIA): 1 part

?바인더(글리시딜메타크릴레이트-스티렌 공중합체):3부Binder (glycidyl methacrylate-styrene copolymer): 3 parts

?제1에폭시 수지:2부First epoxy resin: Part 2

(노볼락형 에폭시 수지, 유카셀사제 에피코트 154)(Novolak-type epoxy resin, Epicoat 154 made by Yuccacel company)

?제2에폭시 수지:5부Second epoxy resin: Part 5

(네오펜틸글리콜디글리시딜에테르)Neopentyl glycol diglycidyl ether

?경화제(트리멜리트산):4부Curing agent (trimellitic acid): 4 parts

?용제:3-에톡시프로피온산 에틸:80부Solvent: Ethyl 3-ethoxypropionate: 80 parts

또 상기 조성 중의 C.I.피그먼트레드 254 대신에 C.I.피그먼트그린 36을 동량 사용하는 것 이외에는 적색 화소용 착색 잉크 조성물의 경우와 동일하게 해서 녹색(G) 화소용 착색 잉크 조성물을 조제했다. A colored ink composition for green (G) pixels was prepared in the same manner as in the case of the colored ink composition for red pixels, except that the same amount of C.I. pigment green 36 was used instead of the C.I. pigment red 254 in the composition.

또한 상기 조성 중의 C.I.피그먼트레드 254 대신에 C.I.피그먼트블루 15:6을 동량 사용하는 것 이외에는 적색 화소용 착색 잉크 조성물의 경우와 동일하게 해서 청색(B) 화소용 착색 잉크 조성물을 조제했다.A colored ink composition for a blue (B) pixel was prepared in the same manner as in the case of the colored ink composition for a red pixel, except that the same amount of C.I. Pigment Blue 15: 6 was used instead of the C.I. Pigment Red 254 in the composition.

다음에 상기 R, G, B 화소용 착색 잉크 조성물을 사용하고, 상기에서 얻어진 컬러필터 기판의 화소분리벽으로 구분된 영역내(볼록부로 둘러싸여진 오목부)에 잉크젯 방식의 기록 장치를 사용해서 소망의 농도가 될 때까지 잉크 조성물의 토출을 행하여 R, G, B의 패턴으로 이루어지는 컬러필터를 제작했다. 화상 착색 후의 컬러필터를 240℃ 오븐 중에서 60분 베이킹함으로써 블랙 매트릭스, 각 화소 모두 완전히 경화시켰다.Next, the coloring ink composition for R, G, and B pixels is used, and an inkjet recording apparatus is used in a region (concave portion surrounded by convex portions) separated by the pixel separation wall of the color filter substrate obtained above. The ink composition was discharged until the density | concentration of was set, and the color filter which consists of patterns of R, G, and B was produced. The color matrix after image coloring was baked for 60 minutes in a 240 degreeC oven, and the black matrix and each pixel were fully hardened | cured.

얻어진 컬러필터에 있어서의 화소 결함을 이하와 같이 해서 평가했다. 컬러필터의 RGB 각 1화소씩의 총 3화소를 1회소(繪素)로 한 2500회소에 대해서 번짐, 스며나옴, 인접 화소와의 혼색 등의 결함의 유무를 광학 현미경에 의해 관찰해서 결함 회소수를 산출하고, 하기 평가 기준에 따라서 평가했다. 결과를 표 1에 나타냈다.The pixel defect in the obtained color filter was evaluated as follows. The optical filter shows the presence or absence of defects such as bleeding, bleeding, and blending with adjacent pixels in 2500 pixels including one pixel of each pixel, each of three RGB pixels. Was calculated and evaluated according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 1.

?평가 기준??Evaluation standard?

A:결함수 0?2개A: 0 or 2 defects

B:결함수 3?5개B: 3-5 defects

C:결함수 6?10개C: 6-10 defects

D:결함수 11?25개D: 11-25 defects

E:결함수 26개 이상E: 26 or more defects

상기로부터 얻은 컬러필터 기판의 R화소, G화소, 및 B화소 및 블랙 매트릭스 상에 또한 ITO(IndiumTinOxide)의 투명전극을 스퍼터링에 의해 형성했다. 별도로 대향 기판으로서 유리 기판을 준비하고, 컬러필터 기판의 투명 전극 상 및 대향 기판 상에 각각 PVA 모드용으로 패터닝을 실시했다. 이 컬러필터의 ITO 저항을 측정한(미츠비시 카가쿠(주)제 「로레스타」;4탐침법으로 시트 저항을 측정) 결과 12Ω/□라는 매우 낮은 값을 나타냈다.On the R pixel, G pixel, B pixel and black matrix of the color filter substrate obtained above, a transparent electrode of ITO (Indium Tin Oxide) was also formed by sputtering. A glass substrate was prepared separately as a counter substrate, and patterned for the PVA mode on the transparent electrode and the counter substrate of the color filter substrate, respectively. As a result of measuring the ITO resistance of this color filter ("Loresta" manufactured by Mitsubishi Kagaku Co., Ltd .; four probe method), a very low value of 12?

상기 ITO의 투명 전극 상의 화소분리벽의 상부에 상당하는 부분에 포토스페이서를 형성하고, 그 위에 폴리이미드로 이루어지는 배향막을 더 형성했다. 그 후, 컬러필터의 화소군을 둘러싸도록 주위에 형성된 블랙 매트릭스 외곽선에 상당하는 위치에 에폭시 수지의 밀봉제를 인쇄함과 아울러 PVA 모드용 액정을 적하해서 대향 기판과 접합한 후 접합된 기판을 열처리해서 밀봉제를 경화시켰다. 이렇게 하여 얻은 액정셀의 양면에 (주)산리츠제의 편광판 HLC2-2518을 접합했다. 이어서, 냉음극관의 백라이트를 구성하고, 상기 편광판이 설치된 액정셀의 배면이 되는 측에 배치하여 액정표시장치를 구성했다. 얻어진 액정표시장치는 밝기에도 문제 없고, 표시 특성이 우수한 것이었다.The photospacer was formed in the part corresponded to the upper part of the pixel separation wall on the transparent electrode of said ITO, and the alignment film which consists of polyimide was further formed on it. Thereafter, an epoxy resin sealant is printed at a position corresponding to a black matrix outline formed around the pixel group of the color filter, and a liquid crystal for PVA mode is dropped and bonded to the opposing substrate, followed by heat treatment of the bonded substrate. To harden the sealant. The polarizing plate HLC2-2518 made from Sanlitz Corporation was bonded to both surfaces of the liquid crystal cell obtained in this way. Subsequently, the backlight of the cold cathode tube was comprised, and it arrange | positioned at the side used as the back surface of the liquid crystal cell in which the said polarizing plate was provided, and comprised the liquid crystal display device. The obtained liquid crystal display device was also excellent in display characteristics with no problem also in brightness.

얻어진 액정표시장치에 대해서 색채 휘도계 BM-5A(탑콘사제)를 사용해서 그 휘도(Y)를 측정하고, 밝기를 하기 평가 기준에 따라서 평가했다.About the obtained liquid crystal display device, the luminance (Y) was measured using the color luminance meter BM-5A (made by Topcon Corporation), and the brightness was evaluated according to the following evaluation criteria.

?평가 기준??Evaluation standard?

A : 875cd/㎡ 이상A: 875cd / ㎡ or more

B : 850 이상 875cd/㎡ 미만B: 850 or more and less than 875 cd / ㎡

C : 825 이상 850cd/㎡ 미만C: 825 or more and less than 850 cd / ㎡

D : 800 이상 825cd/㎡ 미만D: 800 or more and less than 825cd / ㎡

E : 800cd/㎡ 미만E: less than 800cd / ㎡

<실시예 2><Example 2>

[흑색 감광성 전사 재료 K1의 조제][Preparation of Black Photosensitive Transfer Material K1]

두께 75㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 가지지체 상에 슬릿상 노즐을 사용하고, 하기 처방 H1로 이루어지는 열가소성 수지층용 도포액을 도포, 건조시켰다. 이어서, 하기 처방 P1로 이루어지는 중간층용 도포액을 도포, 건조시켰다. 또한, 상기 흑색 조성물 K1을 도포, 건조시켰다. 이렇게 하여 가지지체 상에 건조 막두께가 15.1㎛인 열가소성 수지층과, 건조 막두께가 1.6㎛인 중간층과, 광학농도가 4.0이 되도록 건조 막두께가 2.2㎛인 흑색 감광층을 형성하고, 마지막으로 보호 필름(두께 12㎛의 폴리프로필렌 필름)을 압착했다. 이렇게 해서 가지지체와 열가소성 수지층과 중간층(산소 차단막)과 블랙(K)의 흑색 감광층이 일체로 된 전사 재료를 제작하고, 샘플명을 흑색 감광성 전사 재료 K1로 했다.The coating liquid for thermoplastic resin layers which consists of following formula H1 was apply | coated and dried using the slit-shaped nozzle on the 75-micrometer-thick polyethylene terephthalate film support body. Next, the coating liquid for intermediate | middle layers which consists of following prescription P1 was apply | coated and dried. Furthermore, the said black composition K1 was apply | coated and dried. In this manner, a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 15.1 μm, an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm, and a black photosensitive layer having a dry film thickness of 2.2 μm were formed so as to have an optical concentration of 4.0. The protective film (polypropylene film of thickness 12 micrometers) was crimped | bonded. Thus, the transfer material which integrated the support body, the thermoplastic resin layer, the intermediate | middle layer (oxygen barrier film), and the black photosensitive layer of black (K) was produced, and the sample name was made black photosensitive transfer material K1.

(열가소성 수지층용 도포액:처방 H1)(Coating solution for thermoplastic resin layer: prescription H1)

?메탄올:11.1부Methanol: 11.1 parts

?프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트:6.36부Propylene glycol monomethyl ether acetate: 6.63 parts

?메틸에틸케톤:52.4부Methyl ethyl ketone: 52.4 parts

?메틸메타크릴레이트/2-에틸헥실아크릴레이트/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체(공중합 조성비(몰비)=55/11.7/4.5/28.8, 분자량=10만, Tg≒70℃):5.83부Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio) = 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, molecular weight = 100,000, Tg ≒ 70 ° C): 5.83 part

?스티렌/아크릴산 공중합체(공중합 조성비(몰비)=63/37, 평균 분자량=1만, Tg≒100℃):13.6부Styrene / acrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio) = 63/37, average molecular weight = 10,000, Tg ≒ 100 ° C): 13.6 parts

?2,2-비스[4-(메타크릴옥시폴리에톡시)페닐]프로판(신나카무라 카가쿠 고교(주)제):9.1부? 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane (manufactured by Shin-Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.): 9.1 parts

?불소계 폴리머:0.54부Fluorine-based polymer: 0.54 parts

(C6F13CH2CH2OCOCH=CH2 40부와 H(OCH(CH3)CH2)7OCOCH=CH2 55부와 H(OCH2CH2)7OCOCH=CH2 5부의 공중합체, 평균 분자량 3만, 메틸에틸케톤 30% 용액, 다이니폰 잉크 카가쿠 고교제, 상품명:메가팩 F780F)Copolymer of (C 6 F 13 CH 2 CH 2 OCOCH = CH 2 40 parts with H (OCH (CH 3 ) CH 2 ) 7 OCOCH = CH 2 55 parts and H (OCH 2 CH 2 ) 7 OCOCH = CH 2 5 parts , Average molecular weight 30,000, methyl ethyl ketone 30% solution, Dainippon ink Kagaku Kogyo, brand name: Megapack F780F)

(중간층용 도포액:처방 P1)(Coating solution for the intermediate layer: prescription P1)

?PVA205:32.2부PVA205: 32.2

(폴리비닐알콜, (주)쿠라레제, 비누화도=88%, 중합도 550)(Polyvinyl alcohol, Kuraray Co., Ltd., saponification degree = 88%, degree of polymerization 550)

?폴리비닐피롤리돈:14.9부Polyvinylpyrrolidone: 14.9 parts

(아이에스피 재팬사제, K-30)(IS-30 Japan company, K-30)

?증류수:524부? Distilled water: 524 copies

?메탄올:429부Methanol: 429 parts

무알칼리 유리 기판을 25℃로 조정한 유리 세정제액을 샤워에 의해 20초간 분사하면서 나일론모를 갖는 회전 브러시로 세정하고, 순수 샤워 세정 후 실란 커플링액(N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필트리메톡시실란 0.3% 수용액, 상품명:KBM603, 신에츠 카가쿠 고교(주)제)을 샤워에 의해 20초간 분사하여 순수 샤워 세정했다. 이 기판을 기판 예비 가열 장치로 100℃에서 2분 가열했다. 얻어진 실란 커플링 처리 유리 기판에 상기 제법으로 제작된 흑색 감광성 전사 재료 K1로부터 커버 필름을 제거하고, 제거 후에 노출된 흑색 감광층의 표면과 상기 실란 커플링 처리 유리 기판의 표면이 접하도록 겹쳐서 라미네이터(가부시키가이샤 히타치 인더스트리이즈제(LamicII형))를 사용하고, 상기 100℃에서 2분간 가열한 기판에 고무 롤러 온도 130℃, 선압 100N/㎝, 반송 속도 2.2m/분으로 라미네이트했다. 계속해서 폴리에틸렌테레프탈레이트의 가지지체를 열가소성 수지층과의 계면에서 박리하고, 가지지체를 제거했다. 가지지체를 박리한 후 초고압 수은등을 갖는 프록시미티형 노광기(히타치 하이테크 덴시 엔지니어링 가부시키가이샤제)로 기판과 마스크(화상 패턴을 갖는 석영 노광 마스크)를 수직으로 세운 상태에서 노광 마스크면과 상기 흑색 감광성 수지 조성물층 사이의 거리를 200㎛로 설정하고, 노광량 70mJ/㎠로 패턴 노광했다.The glass cleaner liquid which adjusted the alkali free glass substrate to 25 degreeC was wash | cleaned with the rotating brush which has nylon hair, spraying for 20 second with a shower, and after a pure water shower washing | cleaning, a silane coupling liquid (N-((aminoethyl) (gamma) -aminopropyl tree) A methoxysilane 0.3% aqueous solution, brand name: KBM603, and Shin-Etsu Kagaku Kogyo Co., Ltd. were sprayed for 20 seconds with a shower, and the pure water shower wash | cleaned. This board | substrate was heated at 100 degreeC for 2 minutes with the board | substrate preheater. The cover film was removed from the black photosensitive transfer material K1 produced by the above-mentioned manufacturing method on the obtained silane coupling treatment glass substrate, and the surface of the exposed black photosensitive layer and the surface of the silane coupling treatment glass substrate were laminated so as to be in contact with the laminator ( It was laminated at the rubber roller temperature of 130 degreeC, linear pressure 100N / cm, and conveyance speed 2.2m / min to the board | substrate heated at the said 100 degreeC for 2 minutes using Hitachi Industries Co., Ltd. product (LamicII type). Subsequently, the branched support of the polyethylene terephthalate was peeled off at the interface with the thermoplastic resin layer to remove the branched support. After exfoliating the supporting member, the exposure mask surface and the black photosensitive member were placed in a state in which a substrate and a mask (a quartz exposure mask having an image pattern) were placed vertically with a proximal exposure machine (manufactured by Hitachi Hi-Tech Denshi Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp. The distance between resin composition layers was set to 200 micrometers, and pattern exposure was carried out by exposure amount 70mJ / cm <2>.

이어서, 트리에탄올아민계 현상액(트리에탄올아민 30% 함유, 상품명:T-PD2(후지필름(주)제)을 순수로 12배(T-PD2 1부와 순수 11부의 비율로 혼합)로 희석한 액)을 30℃에서 20초간, 플랫 노즐 압력 0.1MPa로 샤워 현상하고, 열가소성 수지층과 중간층을 제거했다. 계속해서, 이 유리 기판의 표면에 에어를 분사해서 액제거한 후 순수를 샤워에 의해 10초간 분사해서 순수 샤워 세정하고, 에어를 분사해서 기판 상의 액고임을 줄였다.Subsequently, triethanolamine developer (containing 30% of triethanolamine, a brand name: T-PD2 (manufactured by FUJIFILM Co., Ltd.)) was diluted 12 times with pure water (mixed at a ratio of 1 part of T-PD2 and 11 parts of pure water). Was shower-developed at 30 degreeC for 20 second by the flat nozzle pressure of 0.1 Mpa, and the thermoplastic resin layer and the intermediate | middle layer were removed. Subsequently, after spraying air on the surface of the glass substrate to remove the liquid, pure water was sprayed for 10 seconds with a shower, followed by pure shower cleaning, and air was sprayed to reduce the liquid level on the substrate.

그 후, 탄산 나트륨/탄산 수소나트륨계 현상액(상품명:T-CD1(후지필름(주)제)을 순수로 5배(T-CD1 1부와 순수 4부의 비율로 혼합)로 희석한 액)을 사용해서 30℃에서 샤워압을 0.1MPa로 설정하고, 30초 현상하고, 순수로 세정했다. Thereafter, sodium carbonate / sodium carbonate developer (trade name: T-CD1 (manufactured by FUJIFILM Corporation) was diluted 5 times with pure water (mixed at a ratio of 1 part of T-CD1 and 4 parts of pure water)). It used, the shower pressure was set to 0.1 Mpa at 30 degreeC, it developed for 30 second, and it wash | cleaned with pure water.

계속해서, 계면활성제 함유 세정액(상품명:T-SD3(후지필름(주)제)을 순수로 10배로 희석한 액)을 사용해서 33℃에서 20초간, 콘형 노즐 압력 0.1MPa로 샤워로 분사하고, 또한 부드러운 나일론모를 갖는 회전 브러시에 의해 형성된 패턴상을 문질러서 잔사 제거를 행했다. 또한, 초고압 세정 노즐로 9.8MPa의 압력으로 초순수를 분사해서 잔사 제거를 행하고, 소망의 블랙 매트릭스를 얻었다. Subsequently, using a surfactant-containing cleaning liquid (trade name: T-SD3 (manufactured by FUJIFILM Co., Ltd.) 10 times with pure water) using a cone nozzle pressure of 0.1 MPa for 20 seconds at 33 ° C, Moreover, the residue removal was performed by rubbing the pattern image formed by the rotating brush which has a soft nylon hair. In addition, ultrapure water was sprayed at a pressure of 9.8 MPa with an ultrahigh pressure cleaning nozzle to remove residue, thereby obtaining a desired black matrix.

마스크 선폭 12.0㎛(W2)에 대한 패턴 선폭(W1)은 미소 선폭 측정 장치(CP-30;소프트 웍스제)로 측정한 결과 13.3㎛였다. The pattern line width W1 with respect to the mask line width 12.0 µm (W2) was 13.3 µm as a result of the measurement using a fine line width measuring apparatus (CP-30; manufactured by Soft Works).

또한, 촉침식 막후계(P-10;Tencor Instrument제)로 측정한 막두께(d2)는 2.33㎛였다.In addition, the film thickness (d2) measured by the stylus type film thickness meter (P-10; Tencor Instrument) was 2.33 micrometers.

이어서 대기 하에서 노광량 2000mJ/㎠로 포스트 노광을 행하고, 또한 240℃에서 50분간 포스트 베이킹 처리를 행하여 광학 농도 3.9, 막두께 2.0㎛의 화소분리벽이 형성된 기판을 얻었다.Subsequently, post exposure was performed at an exposure dose of 2000 mJ / cm 2 under air, and post-baking treatment was performed at 240 ° C. for 50 minutes to obtain a substrate on which a pixel separation wall having an optical density of 3.9 and a film thickness of 2.0 μm was formed.

한편, 상기와 동일하게 해서 2.33㎛의 흑색 감광층 K1을 형성한 후 기판측으로부터 흑색 감광층 K1에 노광되도록 기판을 세팅한 것 외는 상기와 동일하게 해서 노광, 현상한 후에 얻어진 패터닝 화상의 막두께(d1)를 측정한 결과 0.71㎛였다.On the other hand, the film thickness of the patterned image obtained after exposing and developing in the same manner to the above except having formed the black photosensitive layer K1 of 2.33 micrometers in the same manner to the above, and setting the board | substrate so that it may be exposed to the black photosensitive layer K1 from the board | substrate side. It was 0.71 micrometer as a result of measuring (d1).

[플라즈마 발수화 처리][Plasma water repellent treatment]

화소분리벽을 형성한 기판에 캐소드 커플링 방식 평행 평판형 플라즈마 처리 장치를 사용하고, 이하의 조건으로 플라즈마 발수화 처리를 행했다. Plasma water repellent treatment was performed on a substrate using the cathode-coupling parallel plate type plasma processing apparatus on the following conditions.

사용 가스:CF4 가스, 유량:80sc㎝, 압력:40Pa, RF파워:50W, 처리 시간:30secUse gas: CF 4 gas, flow rate: 80sccm, pressure: 40Pa, RF power: 50W, processing time: 30sec

이상과 같이 해서 얻어진 화소분리벽이 형성된 기판을 사용한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 R, G, B 화소를 잉크젯 방식으로 형성한 후 그 컬러필터를 240℃ 오븐 중에서 60분 베이킹함으로써 블랙 매트릭스, 각 화소 모두 완전히 경화시켰다.In the same manner as in Example 1, except that the substrate on which the pixel separation wall was obtained was formed was used, the R, G, and B pixels were formed by the inkjet method, and the color filters were baked in a 240 ° C. oven for 60 minutes to form a black matrix. All the pixels were fully cured.

이렇게 해서 얻어진 컬러필터를 현미경 관찰한 결과 각 화소를 구성하는 잉크는 화소분리벽 간극에 딱맞게 들어가서 번짐, 스며나옴, 인접 화소와의 혼색 및 화이트 보이드 등의 결함이 되는 불량은 발견되지 않고, 양호한 컬러필터가 얻어졌다. 또 실시예 1과 동일하게 해서 컬러필터의 화소 결함을 평가했다.As a result of microscopic observation of the color filter obtained in this manner, defects such as ink constituting each pixel fits into the gap between the pixel separation walls and smears, seeps out, mixed with adjacent pixels, and white voids are not found. A color filter was obtained. Moreover, the pixel defect of the color filter was evaluated similarly to Example 1.

또한 실시예 1과 동일하게 해서 R화소, G화소, 및 B화소 및 블랙 매트릭스 상에 ITO의 투명 전극을 형성하고 포토스페이서, 폴리이미드로 이루어지는 배향막을 형성했다. 그 후, 밀봉제를 인쇄하고, 액정을 적하하고, 대향 기판과 접합하여 열처리해서 액정셀을 제작하고, 양면에 편광판을 접합하여 백라이트를 구성하고, 액정표시장치를 구성했다. 얻어진 액정표시장치는 밝기도 문제 없고, 표시 특성이 우수한 것이었다.In the same manner as in Example 1, a transparent electrode of ITO was formed on the R pixels, the G pixels, the B pixels, and the black matrix to form an alignment film made of a photo spacer and a polyimide. Then, the sealing agent was printed, the liquid crystal was dripped, and it bonded together with the opposing board | substrate, and heat-processed, the liquid crystal cell was produced, the polarizing plate was bonded on both surfaces, the backlight was comprised, and the liquid crystal display device was comprised. The obtained liquid crystal display device also had no problem of brightness and was excellent in display characteristics.

또한, 얻어진 액정표시장치에 대해서 실시예 1과 동일하게 해서 밝기를 평가했다.Moreover, the brightness was evaluated like Example 1 about the obtained liquid crystal display device.

<실시예 3?6><Examples 3 to 6>

실시예 2에 있어서 흑색 조성물 K1 대신에 표 1의 실시예 3?6에 기재된 조성이 되도록 흑색 조성물 K3?K6을 각각 조제했다. 이것을 사용해서 실시예 2와 동일하게 해서 흑색 전사 재료 K3?K6을 각각 제작하고, 이것을 사용한 것 이외는 실시예 2와 동일하게 해서 기판 상에 화소분리벽을 형성함과 아울러 각각의 W1, d1, d2를 구했다.Instead of black composition K1 in Example 2, black compositions K3-K6 were prepared so that it might become the composition of Examples 3-6 of Table 1, respectively. Using this, black transfer materials K3 to K6 were produced in the same manner as in Example 2, and pixel separation walls were formed on the substrate in the same manner as in Example 2, except that W1, d1, d2 is obtained.

또한, 상기에서 얻어진 기판을 사용한 것 이외는 실시예 2와 동일하게 해서 컬러필터를 제작하고, 계속해서 액정표시장치를 제작했다.In addition, the color filter was produced like Example 2 except having used the board | substrate obtained above, and the liquid crystal display device was produced continuously.

실시예 1과 동일하게 해서 평가한 컬러필터의 화소 결함, 액정표시장치의 밝기의 평가 결과를 표 1 중에 아울러 나타냈다.The evaluation result of the pixel defect of the color filter evaluated similarly to Example 1, and the brightness | luminance of a liquid crystal display device was shown in Table 1 together.

<실시예 7, 8><Example 7, 8>

실시예 6에 있어서, 화소분리벽 제작시의 노광량 70mJ/㎠ 대신에 노광량을 40mJ/㎠, 150mJ/㎠로 한 이외는 실시예 6과 동일하게 해서 기판 상에 화소분리벽을 형성함과 아울러 각각의 W1, d1, d2를 구했다.In Example 6, the pixel separation walls were formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the exposure doses were 40 mJ / cm 2 and 150 mJ / cm 2 instead of 70 mJ / cm 2 when the pixel separation walls were manufactured. W1, d1 and d2 were obtained.

또한, 상기에서 얻어진 기판을 사용한 것 이외는 실시예 6과 동일하게 해서 컬러필터를 제작하고, 계속해서 액정표시장치를 제작했다. In addition, the color filter was produced like Example 6 except having used the board | substrate obtained above, and the liquid crystal display device was produced continuously.

실시예 1과 동일하게 해서 평가한 컬러필터의 화소 결함, 액정표시장치의 밝기의 평가 결과를 표 1 중에 아울러 나타냈다.The evaluation result of the pixel defect of the color filter evaluated similarly to Example 1, and the brightness | luminance of a liquid crystal display device was shown in Table 1 together.

<실시예 9?11><Examples 9-11>

실시예 2에 있어서 흑색 조성물 K1 대신에 표 1의 실시예 9?11에 기재된 조성이 되도록 흑색 조성물 K9?K11을 각각 조제했다. 이것을 사용해서 실시예 2와 동일하게 해서 흑색 전사 재료 K9?K11을 각각 제작하고, 이것을 사용한 것 이외는 실시예 2와 동일하게 해서 기판 상에 화소분리벽을 형성함과 아울러 각각의 W1, d1, d2를 구했다. In Example 2, black compositions K9 to K11 were prepared so that the compositions shown in Examples 9 to 11 in Table 1 were used instead of the black composition K1. Using this, the black transfer materials K9 to K11 were produced in the same manner as in Example 2, and the pixel separation walls were formed on the substrate in the same manner as in Example 2, except that W1, d1, d2 is obtained.

또한, 상기에서 얻어진 기판을 사용한 것 이외는 실시예 2와 동일하게 해서 컬러필터를 제작하고, 계속해서 액정표시장치를 제작했다. In addition, the color filter was produced like Example 2 except having used the board | substrate obtained above, and the liquid crystal display device was produced continuously.

실시예 1과 동일하게 해서 평가한 컬러필터의 화소 결함, 액정표시장치의 밝기의 평가 결과를 표 1 중에 아울러 나타냈다.The evaluation result of the pixel defect of the color filter evaluated similarly to Example 1, and the brightness | luminance of a liquid crystal display device was shown in Table 1 together.

또한, 표 1에 있어서의 R 안료 분산물 1은 하기 조성이 되도록 안료, 폴리머 및 용제를 혼합하고, 3개롤과 비즈 밀을 사용해서 R 안료 분산물 1을 얻었다. In addition, the R pigment dispersion 1 in Table 1 mixed the pigment, a polymer, and a solvent so that it may become the following composition, and obtained R pigment dispersion 1 using three rolls and a bead mill.

<R 안료 분산물 1의 조성><Composition of R Pigment Dispersion 1>

?안료(C.I.피그먼트레드 177):18%Pigment (C.I. pigment red 177): 18%

?폴리머:12%? Polymer: 12%

(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=72/28 몰비의 랜덤 공중합물, 분자량 3.7만)(Benzyl methacrylate / methacrylic acid = random copolymer of 72/28 molar ratio, molecular weight 37 thousand)

?프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트:70%Propylene glycol monomethyl ether acetate: 70%

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

실시예 2의 흑색 조성물 K1 대신에 표 1의 비교예 1에 기재된 조성이 되도록 흑색 조성물 K21을 조제했다. 이것을 사용해서 실시예 2와 동일하게 해서 흑색 전사 재료 K21을 제작했다.Black composition K21 was prepared so that it might become the composition of the comparative example 1 of Table 1 instead of the black composition K1 of Example 2. Using this, black transfer material K21 was produced in the same manner as in Example 2.

실시예 2의 화소분리벽 제작시의 노광량 70mJ/㎠ 대신에 노광량을 150mJ/㎠로 한 이외는 실시예 2와 동일하게 해서 기판 상에 화소분리벽을 형성함과 아울러 W1, d1, d2를 구했다.A pixel separation wall was formed on the substrate in the same manner as in Example 2 except that the exposure amount was set to 150 mJ / cm 2 instead of the exposure amount of 70 mJ / cm 2 at the time of preparing the pixel separation wall of Example 2, and W1, d1, and d2 were obtained. .

또한, 상기에서 얻어진 기판을 사용한 것 이외는 실시예 2와 동일하게 해서 컬러필터를 제작하고, 계속해서 액정표시장치를 제작했다.In addition, the color filter was produced like Example 2 except having used the board | substrate obtained above, and the liquid crystal display device was produced continuously.

실시예 1과 동일하게 해서 평가한 컬러필터의 화소 결함, 액정표시장치의 밝기의 평가 결과를 표 1 중에 아울러 나타냈다.The evaluation result of the pixel defect of the color filter evaluated similarly to Example 1, and the brightness | luminance of a liquid crystal display device was shown in Table 1 together.

<비교예 2>Comparative Example 2

비교예 1에 있어서의 흑색 조성물 K21을 사용하고, 비교예 1의 화소분리벽 제작시의 노광량 150mJ/㎠ 대신에 노광량을 400mJ/㎠로 한 이외는 비교예 1과 동일하게 해서 기판 상에 화소분리벽을 형성함과 아울러 W1, d1, d2를 구했다.Pixel separation was carried out on the substrate in the same manner as in Comparative Example 1, except that the black composition K21 in Comparative Example 1 was used, and the exposure amount was 400 mJ / cm 2 instead of the 150 mJ / cm 2 exposure amount at the time of preparing the pixel separation wall of Comparative Example 1. The walls were formed and W1, d1, and d2 were obtained.

또한, 상기에서 얻어진 기판을 사용한 것 이외는 실시예 2와 동일하게 해서 컬러필터를 제작하고, 계속해서 액정표시장치를 제작했다.In addition, the color filter was produced like Example 2 except having used the board | substrate obtained above, and the liquid crystal display device was produced continuously.

실시예 1과 동일하게 해서 평가한 컬러필터의 화소 결함, 액정표시장치의 밝기의 평가 결과를 표 1 중에 아울러 나타냈다.The evaluation result of the pixel defect of the color filter evaluated similarly to Example 1, and the brightness | luminance of a liquid crystal display device was shown in Table 1 together.

<비교예 3, 4><Comparative Examples 3 and 4>

비교예 1에 있어서 흑색 조성물 K21 대신에 표 1의 비교예 3, 4에 기재된 조성이 되도록 흑색 조성물 K23, K24를 각각 조제했다. 이것을 사용해서 비교예 1과 동일하게 해서 흑색 전사 재료 K23, K24를 제작하고, 비교예 1과 동일하게 해서 기판 상에 화소분리벽을 형성함과 아울러 W1, d1, d2를 구했다. Instead of black composition K21 in the comparative example 1, black compositions K23 and K24 were prepared so that it might become the composition of the comparative examples 3 and 4 of Table 1, respectively. Using this, black transfer materials K23 and K24 were produced in the same manner as in Comparative Example 1, pixel separation walls were formed on the substrate in the same manner as in Comparative Example 1, and W1, d1, and d2 were obtained.

또한, 상기에서 얻어진 기판을 사용한 것 이외는 실시예 2와 동일하게 해서 컬러필터를 제작하고, 계속해서 액정표시장치를 제작했다.In addition, the color filter was produced like Example 2 except having used the board | substrate obtained above, and the liquid crystal display device was produced continuously.

실시예 1과 동일하게 해서 평가한 컬러필터의 화소 결함, 액정표시장치의 밝기의 평가 결과를 표 1 중에 아울러 나타냈다.The evaluation result of the pixel defect of the color filter evaluated similarly to Example 1, and the brightness | luminance of a liquid crystal display device was shown in Table 1 together.

Figure pct00003
Figure pct00003

표 1 중 MMPGAc는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 나타낸다. In Table 1, MMPGAc represents propylene glycol monomethyl ether acetate.

모노머액 2는 DPHA(디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 니혼 카야쿠(주)제)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 용액(76%)이다.Monomer liquid 2 is a propylene glycol monomethyl ether acetate solution (76%) of DPHA (Dipentaerythritol hexaacrylate, the Nippon Kayaku Co., Ltd. product).

중합 개시제 2는 Irgacure819(치바 재팬사제)를, 중합 개시제 3은 Irgacure379(치바 재팬사제)를, 중합 개시제 4는 IrgacureOXE01(치바 재팬사제)을 각각 나타낸다.Polymerization initiator 2 represents Irgacure 819 (manufactured by Chiba Japan), polymerization initiator 3 represents Irgacure 379 (manufactured by Chiba Japan), and polymerization initiator 4 represents IrgacureOXE01 (manufactured by Chiba Japan).

또한, 첨가제 1은 NBCA(10-n-부틸-2-클로로아크리돈, 구로가네 카세이사제)를, 첨가제 2는 EAB-F(광중합 개시조제, 호도가야 카가쿠 고교(주)제))를 각각 의미한다.In addition, additive 1 is NBCA (10-n-butyl-2-chloroacridone, Kurogane Kasei Co., Ltd.), and additive 2 is EAB-F (photoinitiator, Hodogaya Kagaku Kogyo Co., Ltd.)) Means each.

이상과 같이 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용함으로써 위치 정밀도 좋고 혼색 등이 없는 화소를 형성하고, 또한 고효율로 컬러필터, 액정표시장치를 제조할 수 있었다.
As mentioned above, by using the coloring photosensitive resin composition of this invention, the pixel of good positional precision, no color mixing, etc. were formed, and the color filter and the liquid crystal display device were manufactured with high efficiency.

Claims (11)

흑색의 색재를 포함하는 착색제와, 알칼리 가용성 수지와, 중합성기를 3개 이상 갖는 중합성 화합물과, 중합 개시제 또는 중합 개시계와, 용제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물로서:
투명 기판 상에 광학농도가 4.0이 되도록 상기 착색 감광성 수지 조성물을 포함하는 감광성 수지층을 형성하고,
상기 감광성 수지층의 상기 투명 기판에 대향하는 면과는 반대의 면측으로부터 마스크를 통해 상기 감광성 수지층을 노광?현상 처리해서 형성되는 제 1 패턴의 선폭(W1)의 상기 마스크의 선폭(W2)에 대한 비(W1/W2)가 0.7?1.5의 범위가 되는 노광?현상 조건으로 얻어지는 상기 제 1 패턴의 막두께(d2)와,
상기 감광성 수지층의 상기 투명 기판에 대향하는 면측으로부터 상기 마스크와 상기 투명 기판을 통해 상기 W1/W2가 0.7?1.5의 범위가 되는 노광?현상 조건으로 상기 감광성 수지층을 노광?현상 처리해서 얻어지는 제 2 패턴의 막두께(d1)의 비(d1/d2)가 0.3 이상인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.As a coloring photosensitive resin composition containing the coloring agent containing a black color material, alkali-soluble resin, the polymeric compound which has three or more polymerizable groups, a polymerization initiator or a polymerization initiator, and a solvent:
Forming a photosensitive resin layer containing said coloring photosensitive resin composition on a transparent substrate so that an optical density might be 4.0,
On the line width W2 of the mask of the line width W1 of the first pattern formed by exposing and developing the photosensitive resin layer through a mask from a surface side opposite to the surface facing the transparent substrate of the photosensitive resin layer. The film thickness d2 of the first pattern obtained under exposure and development conditions in which the ratio (W1 / W2) is in the range of 0.7 to 1.5,
An agent obtained by exposing and developing the photosensitive resin layer under exposure and development conditions in which the W1 / W2 is in a range of 0.7 to 1.5 from the surface side of the photosensitive resin layer facing the transparent substrate through the mask and the transparent substrate. The ratio (d1 / d2) of the film thickness (d1) of 2 patterns is 0.3 or more, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,
상기 W1/W2가 0.8?1.2의 범위가 되는 노광?현상 조건에 있어서의 상기 d1/d2가 0.3?0.7의 범위인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The method of claim 1,
The said photosensitive resin composition of the said d1 / d2 in the range of 0.3-0.7 in exposure-development conditions whose said W1 / W2 becomes the range of 0.8-1.2. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 착색제는 적어도 카본블랙을 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1 or 2,
The said coloring agent contains at least carbon black, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 중합 개시제 또는 중합 개시계는 적어도 1종의 아실포스핀옥사이드계 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The method according to any one of claims 1 to 3,
The said polymerization initiator or polymerization initiator system contains at least 1 sort (s) of acylphosphine oxide type initiator, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 중합성기를 3개 이상 갖는 중합성 화합물은 3관능의 아크릴 모노머 및 4관능의 아크릴 모노머 중 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The method according to any one of claims 1 to 4,
The polymeric compound which has 3 or more of said polymeric groups is at least 1 sort (s) of a trifunctional acrylic monomer and a tetrafunctional acrylic monomer, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물로 형성된 감광성 수지층이 가지지체 상에 형성된 것을 특징으로 하는 감광성 전사 재료.The photosensitive resin layer formed from the coloring photosensitive resin composition in any one of Claims 1-5 was formed on the branch body, The photosensitive transfer material characterized by the above-mentioned. 기판과, 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물을 사용해서 형성됨과 아울러 상기 기판 상에 배치된 차광부를 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러필터.A color filter comprising a substrate and a light shielding portion formed on the substrate while being formed using the colored photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 5. 제 7 항에 있어서, 상기 차광부는 제 6 항에 기재된 감광성 전사 재료를 사용해서 형성된 것을 특징으로 하는 컬러필터.8. The color filter according to claim 7, wherein the light shielding portion is formed using the photosensitive transfer material according to claim 6. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
상기 차광부의 광학농도는 3.5 이상인 것을 특징으로 하는 컬러필터.9. The method according to claim 7 or 8,
The optical density of the light shielding portion is characterized in that the color filter 3.5 or more. 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 차광부의 막두께는 1.5㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 컬러필터.10. The method according to any one of claims 7 to 9,
The film thickness of the said light shielding part is 1.5 micrometers or more, The color filter characterized by the above-mentioned. 제 7 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 컬러필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
A liquid crystal display device comprising the color filter according to any one of claims 7 to 10.
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