JP5993099B2 - スペックルを減少するための方法 - Google Patents

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Description

本願発明は、スペックルを減少するための方法に関し、具体的には限定的ではないものの、ディスプレイスクリーンにおいて、複数の光線からの複数のビームスポットを重ね合わせることによって生成される複数の干渉縞を用いて、投射ピクセル（または複数のピクセル）内のスペックルを減少するための方法に関する。
スペックルパターンは、一連の波面の相互干渉によって生成される強度パターンである。複数のレーザを使用する複数のイメージ投射システムにおいて、複数のスペックルパターンは、複数の粗いディスプレイ表面上で生じる、複数のコヒーレント光干渉によって引き起こされる。スペックルは、投射イメージの品質を低下させる。というのは、投射イメージの各ピクセルは、不均一な強度を有することになり、投射イメージの各ピクセルについて、当該ピクセルの複数の特定領域は、当該ピクセルの他の複数の領域より明るく表示される。複数のスペックルパターンによって生じるピクセルの不均一な強度は、当該分野において、「複数のスペックル効果」と呼ばれる。
複数の投射システムにおいてスペックルの効果を減少すべく、各ピクセルに対し、複数のスペックルパターンを生成することが知られている。各ピクセルに対し、複数のスペックルパターンが互いに部分的に重なるように配置され、結果的にピクセルにわたる輝度変動が減少される。各ピクセルに対し生成されるスペックルパターンの数が増えると、ピクセルにわたる光度変動の減少がより多く実現され得る。
この解決手段に係る複数の難点の１つは、投射システムが次のピクセルを投影する前に、各ピクセルに対し、複数のスペックルパターンが生成されなければならないことである。つまり、複数のスペックルパターンが、非常に短時間で生成されなければならない。従って、各ピクセルに対し、複数のスペックルパターンを提供する投射システムは、大きな処理能力を必要とする。
更に、各ピクセルに対し生成され得るスペックルパターンの数は、投射システムの処理能力によって限定される。つまり、実現可能な、ピクセルにわたる輝度変動の減少には制限がある。
また、ピクセルにわたる光度変動の減少を実現すべく、複数のスペックルパターンは互いに完全に重なり合ってはいけない（複数のスペックルパターンは互いに部分的にそれぞれ重なり合う必要がある）。同時に一方で、複数のスペックルパターンの各々は、ピクセルの定義済み領域内で投影される必要があり、さもなければ、ピクセルは不鮮明に表示される。複数のピクセルパターンの各々が、ピクセルの定義済み領域内で投影されること、および互いに完全に重なり合わないことの両方を保証することは難しい。
複数の投射システム内のスペックル効果を減少する別の解決手段は、複数の干渉縞を使用することである。複数の干渉縞とは、光の干渉および回折によって生成される複数の明暗帯である。マイケルソン干渉計を使用して、光を２つのビームレットに分割すること、および当該ビームレットをディスプレイ表面において再合成することが知られている。複数のビームレットが再合成される場合、複数の干渉縞が当該複数のビームレット間の強め合う干渉および弱め合う干渉により、生成される。複数の独立したスペックルパターンが、観察者の解像度スポット内の各個別の縞によって生成されるので、複数の干渉縞はスペックルを減少する。観察者の解像度スポットは、特定の距離において、観察者によって、スクリーン上で識別され得る最小フィーチャーサイズである。解像度スポット内の複数のスペックルパターンは、重なり合わず、独立しており、つまり、それらは、観察者の目によって平均化されており、スペックルコントラストは減少される。
不都合なことには、この解決手段は、２つのミラーを必要とする。すなわち、複数のビームレットのうちの一方をディスプレイスクリーンに反射させるための第１のミラーおよび他方のビームレットをディスプレイスクリーンに屈折させるための第２のミラーである。
更に、２つのビームレットのみが再合成され得るので、結果的に、ごくわずかな干渉縞が観察者の解像度スポットにもたらされ、よって、スペックルの減少はわずかである。
また、ディスプレイ表面にわたり投射ビームをスキャンする振動ミラーを使用する複数の投射システムについては、振動ミラーは、マイケルソン干渉計からの光出力をスキャンするように常に配置される必要がある。マイケルソン干渉計に入力される光をスキャンするよう振動ミラーが配置されると、複数のビームレットはディスプレイ表面上で再合成されず、干渉縞は形成されない。不都合なことには、振動ミラーはマイケルソン干渉計からの光出力をスキャンするよう常に配置される必要があるので、振動ミラーは当該２つのビームレットを受光できるよう十分大型でなければならない。
上記した複数の不利益の少なくとも一部を除去または軽減することが本願発明の目的である。
本発明によると、ディスプレイ表面上で表示される投射イメージにおける複数のスペックル効果を減少するための方法であって、入力光線を第１の干渉計に対し伝送させる段階と、上記入力光線を使用し、上記第１の干渉計において、複数の一次伝送ビームを生成する段階と、ディスプレイ表面に複数の干渉縞を生成すべく、上記複数の一次伝送ビームを使用する段階と、を備える方法がもたらされる。
上記入力光線を使用し、上記第１の干渉計において、複数の一次伝送ビームを生成する段階は、入力光線を使用し、第１の干渉計において、２より多い一次伝送ビームを生成する段階を含んでよい。
複数の干渉縞を生成すべく、上記複数の一次伝送ビームを使用する段階は、上記複数の一次伝送ビームによって生成される複数のビームスポットが少なくとも部分的に重なり合うように、上記複数の一次伝送ビームをディスプレイ表面上の位置に伝送させる段階を含んでよい。
好ましくは、複数の干渉縞を生成すべく、上記複数の一次伝送ビームを使用する段階は、上記複数の一次伝送ビームによって生成される複数のビームスポットが互いに完全に重なり合うように、上記複数の一次伝送ビームをディスプレイ表面上の位置に伝送させる段階を含む。
好ましくは、上記方法は更に、イメージピクセルを画定すべく、ディスプレイスクリーン上の位置に伝送される複数の一次伝送ビームを使用する段階を備える。好ましくは、上記方法は、複数の一次伝送ビームによって生成される複数のビームスポットが、上記ポイントにおいて単一のイメージピクセルを画定するよう、複数の一次伝送ビームをディスプレイ表面上の単一のポイントに焦点を合わせる段階を備える。
複数の干渉縞を生成すべく、上記複数の一次伝送ビームを使用する段階は、複数の一次伝送ビームを第２の干渉計に対し伝送させる段階と、複数の一次伝送ビームの各々を使用し、上記第２の干渉計において、複数の二次伝送ビームを生成する段階と、上記複数の二次伝送ビームによって生成される複数のビームスポットが少なくとも部分的に重なり合うように、上記複数の二次伝送ビームを上記ディスプレイ表面上の位置に伝送させる段階と、を含んでよい。
好ましくは、上記方法は、上記複数の二次伝送ビームによって生成される複数のビームスポットが完全に重なり合うように、複数の二次伝送ビームをディスプレイ表面上の位置に伝送させる段階を含む。
好ましくは、上記方法は更に、イメージピクセルを画定すべく、ディスプレイスクリーン上の位置に伝送される複数の二次伝送ビームを使用する段階を備える。好ましくは、上記方法は、複数の二次伝送ビームによって生成される複数のビームスポットが、上記ポイントにおいて単一のイメージピクセルを画定するよう、複数の二次伝送ビームをディスプレイ表面上の単一のポイントに焦点を合わせる段階を備える。
好ましくは、複数の一次伝送ビームの各々は、第１の平面に沿って通過する。好ましくは、各一次伝送ビームから生成される複数の二次伝送ビームの各々は、第２の平面に沿って通過する。好ましくは、第１の平面および第２の平面は、互いに鉛直である。
入力光線を前記第１の干渉計に対し伝送させる段階は、入力光線をスキャンすべく、少なくとも１つの振動軸を中心に振動するＭＥＭＳミラーを使用して、光源からの光線を、第１の干渉計に対し方向付ける段階を含んでよい。
好ましくは、ＭＥＭＳミラーは、光源と第１の干渉計との間の光路に沿って位置される。有利には、干渉計の前にＭＥＭＳミラーを提供すると、ＭＥＭＳミラーは入力光線をスキャンするためにのみ必要とされるので、より小さなＭＥＭＳミラーが必要とされることを保証するようになる。これは、ＭＥＭＳミラーが干渉計の後に提供される場合と比較すると、ＭＥＭＳミラーは、複数の一次伝送ビームの各々を受光し、かつ、スキャンするのに十分なように、より大型であることを必要とする。
好ましくは、上記方法は更に、入力光線を提供する光源と、ディスプレイ表面上のポイントとの間の距離を測定する段階を含む。好ましくは、上記方法は更に、測定された距離における、ディスプレイ表面上の単一のポイントに対し、一次伝送ビームまたは二次伝送ビームが焦点を合わせられるように、ビームスプリッタ及び／又はミラーを移動すべく、アクチュエータを使用する段階と、を備える。測定された距離を使用し、複数の伝送ビームがディスプレイ表面上の単一のポイントに焦点を合わせられるよう、アクチュエータは、必要とされるビームスプリッタとミラーとの間の角度を判断できる。例えば、本願発明の方法が投射システムにおいて実行される場合、光源とディスプレイ表面上の上記ポイントとの間の当該距離を変更すべく、ユーザが投射システムを移動する場合、当該方法は、変更された距離に従って焦点を自動的に適合する段階を備えてよく、その結果、イメージは鮮明なままに維持される。換言すると、システムはオートフォーカスする。例えば、プロジェクタと投射面との距離が増加する場合、第１及び／又は第２のミラーと、第１及び／又は第２のビームスプリッタとの間の角度が小さくなってよい。本願発明の方法は、第１の干渉計及び／又は第２の干渉計のビームスプリッタと、ミラーとの間の角度を調整する段階を含んでよい。
好ましくは、上記方法は更に、入力光線を提供する光源と、ディスプレイ表面上の複数のポイントとの間の距離を測定する段階を含む。各ピクセルに対し、一次伝送ビームまたは二次伝送ビームの焦点が合う、ディスプレイ表面上のポイントを変更すべく、第１の干渉計及び／又は第２の干渉計に係る、ビームスプリッタとミラーとの間の角度を調整するアクチュエータを使用する。
第１の干渉計は、第１のミラーとの光通信において配置される第１のビームスプリッタを含んでよく、当該方法は更に、第１の干渉計の第１のミラーを移動する段階及び／又は第１の干渉計の第１のビームスプリッタを移動する段階を含んでよい。第１のミラー及び／又は第１のビームスプリッタは、回転軸を中心に振動してよい。
第２の干渉計は、第２のミラーとの光通信において配置される第２のビームスプリッタを含んでよく、当該方法は更に、第２の干渉計の第２のミラーを移動する段階及び／又は第２の干渉計の第２のビームスプリッタを移動する段階を含んでよい。第２のミラー及び／又は第２のビームスプリッタは、回転軸を中心に振動してよい。
第１の干渉計は、部分的な内部反射を用いて、複数の一次伝送ビームを提供するよう構成された第１のビームスプリッタを含んでよい。上記方法は更に、第１の干渉計の第１のビームスプリッタを移動する段階を含んでよい。第１のビームスプリッタは、回転軸を中心に振動してよい。
第２の干渉計は、複数の一次伝送ビームの部分的な内部反射を用いて、複数の二次伝送ビームを提供するよう構成された第２のビームスプリッタを含んでよい。上記方法は更に、第１の干渉計の第２のビームスプリッタを移動する段階を含んでよい。第２のビームスプリッタは、回転軸を中心に振動されてよい。
上記第１の干渉計は、第１のミラーとの光通信において配置される第１のビームスプリッタを含み、上記第１の干渉計において、複数の一次伝送ビームを生成する上記段階は、入力光線を第１のビームスプリッタに対し伝送させる段階と、第１の光線および第２の光線を形成すべく、上記第１のビームスプリッタを使用して、上記入力光線を分割する段階であって、上記第１の光線は、上記第１のビームスプリッタから反射されて、第１の一次伝送ビームを形成し、上記第２の光線は、上記第１のビームスプリッタを透過される、段階と、上記第２の光線を上記第１のミラーに通過させ、上記第２の光線を、上記第１のミラーを使用して、上記第１のビームスプリッタに反射する段階と、第３の光線および第４の光線を形成すべく、上記第１のビームスプリッタを使用して、上記第２の光線を分割する段階であって、上記第３の光線は、第２の一次伝送ビームを形成する、段階と、上記第４の光線を、上記第１のビームスプリッタを使用して、上記第１のミラーに反射する段階と、複数の一次伝送ビームを生成すべく、第４の光線を使用する段階と、を含んでおり、上記複数の一次伝送ビームの各々は、光線を分割することによって生成されており、上記光線は一次伝送ビームおよび反射ビームを形成すべく、上記第１のミラーから上記第１のビームスプリッタへと反射されており、上記反射ビームは上記第１のミラーへ反射されている。
上記第１の干渉計は、光通信において配置される第１のビームスプリッタおよび第１のミラーを含んでよく、上記第１のビームスプリッタは平坦な表面を有してよく、上記第１のミラーは平坦な反射面を有してよく、上記方法は更に、上記第１のミラーの上記平坦な反射面が、上記第１のビームスプリッタの上記平坦な表面に対し平行であることからずれるように、上記第１の干渉計の上記第１のミラー及び／又は上記第１のビームスプリッタを配置する段階を備えてよい。
好ましくは、上記方法は、第１のミラーの平坦な反射面が、第１のビームスプリッタの平坦な表面に対し、０．００１°〜９０°の間の角度で配向されるよう、第１の干渉計の第１のミラー及び／又は第１のビームスプリッタを配置する段階を含む。最も好ましくは、上記方法は、第１のミラーの平坦な反射面が、第１のビームスプリッタの平坦な表面に対し、０．０１°〜２°の間の角度で配向されるよう、第１の干渉計の第１のミラー及び／又は第１のビームスプリッタを配置する段階を含む。
上記第１の干渉計は、光通信において配置される第１のビームスプリッタおよび第１のミラーを含んでよく、上記第１のビームスプリッタは平坦な表面を有してよく、上記第１のミラーは平坦な反射面を有してよく、上記方法は更に、上記第１のミラーの上記平坦な反射面が、上記第１のビームスプリッタの上記平坦な表面に対し平行であるように、上記第１の干渉計の上記第１のミラー及び／又は上記第１のビームスプリッタを配置する段階を備えてよい。
上記第２の干渉計は、第２のミラーとの光通信において配置される第２のビームスプリッタを含んでよく、上記複数の一次伝送ビームを使用し、上記第２の干渉計において、複数の二次伝送ビームを生成する上記段階は、上記複数の一次伝送ビームの各々を、上記第１のビームスプリッタに対し平行であることからずれるように配置される第２のビームスプリッタに伝送させる段階と、上記複数の一次伝送ビームの各々に対し、第１の光線および第２の光線を形成すべく、上記第２のビームスプリッタを使用して、上記一次伝送ビームを分割する段階であって、上記第１の光線は、上記第２のビームスプリッタから反射されて、第１の二次伝送ビームを形成し、上記第２の光線は、上記第２のビームスプリッタを透過される、段階と、上記第２の光線を第２のミラーに通過させ、上記第２の光線を、上記第２のミラーを使用して、上記第２のビームスプリッタに反射する段階と、第３の光線および第４の光線を形成すべく、上記第２のビームスプリッタを使用して、上記第２の光線を分割する段階であって、上記第３の光線は、第２の二次伝送ビームを形成する、段階と、上記第４の光線を、上記第２のビームスプリッタを使用して、上記第２のミラーに反射する段階と、複数の二次伝送ビームを生成すべく、上記第４の光線を使用する段階と、を含んでおり、上記複数の二次伝送ビームの各々は、光線を分割することによって生成されており、上記光線は二次伝送ビームおよび反射ビームを形成すべく、上記第２のミラーから上記第２のビームスプリッタへと反射されており、上記反射ビームは上記第２のミラーへ反射されている。
上記第２の干渉計は、光通信において配置される第２のビームスプリッタおよび第２のミラーを含んでよく、上記第２のビームスプリッタは平坦な表面を有してよく、上記第２のミラーは平坦な反射面を有してよく、上記方法は更に、上記第２のミラーの上記平坦な反射面が、上記第２のビームスプリッタの上記平坦な表面に対し平行であることからずれるように、上記第２の干渉計の上記第２のミラー及び／又は上記第２のビームスプリッタを配置する段階を備えてよい。
好ましくは、上記方法は、第２のミラーの平坦な反射面が、第２のビームスプリッタの平坦な表面に対し、０．００１°〜９０°の間の角度で配向されるよう、第２の干渉計の第２のミラー及び／又は第２のビームスプリッタを配置する段階を含む。最も好ましくは、上記方法は、第２のミラーの平坦な反射面が、第２のビームスプリッタの平坦な表面に対し、０．０１°〜２°の間の角度で配向されるよう、第２の干渉計の第２のミラー及び／又は第２のビームスプリッタを配置する段階を含む。
上記第２の干渉計は、光通信において配置される第２のビームスプリッタおよび第２のミラーを含んでよく、上記第２のビームスプリッタは平坦な表面を有してよく、上記第２のミラーは平坦な反射面を有してよく、上記方法は更に、上記第２のミラーの上記平坦な反射面が、上記第２のビームスプリッタの上記平坦な表面に対し平行であるように、上記第２の干渉計の上記第２のミラー及び／又は上記第２のビームスプリッタを配置する段階を備えてよい。
第２のビームスプリッタは平坦な表面を有してよく、第２のミラーは平坦な反射面を有してよく、上記方法は更に、第２のミラーの平坦な反射面が、第２のビームスプリッタの平坦な表面に対し平行であるように、第２のミラーを配置する段階を備えてよい。
上記方法は更に、第１のビームスプリッタおよび第２のビームスプリッタが互いに平行であることからずれるように、それらを配置する段階を備えてよい。好ましくは、上記方法は更に、第１のビームスプリッタおよび第２のビームスプリッタが互いに４５°の角度で配向されるよう、それらを配置する段階を備える。
有利には、第１のビームスプリッタおよび第２のビームスプリッタが互いに平行であることからずれるように、それらを配置する段階は、複数の一次伝送ビームの各々が第１の平面に沿って通過し、かつ、一次伝送ビームから生成される複数の二次伝送ビームの各々が第２の平面に沿って通過することを保証する。有利には、第１のビームスプリッタおよび第２のビームスプリッタが互いに４５°の角度で配向されるように、それらを配置する段階は、複数の一次伝送ビームの各々が第１の平面に沿って通過し、かつ、一次伝送ビームから生成される複数の二次伝送ビームの各々が第２の平面に沿って通過することを保証し、第１の平面および第２の平面は互いに鉛直である。
好ましくは、第１のビームスプリッタおよび第２のビームスプリッタは、それぞれ平坦な形状を有する。
好ましくは、第１のミラーおよび第２のミラーは、それぞれ平坦な形状を有する。
本発明は、例示を目的として供され、複数の図面によって示される実施形態の記載の補助を受けて、より良く理解されるであろう。
本願発明の一実施形態に従った方法を実行する投射システムを示す。 複数の干渉縞が形成される方法を示す。 複数の干渉縞が形成される方法を示す。 第１の干渉計の斜視図を提供する。 第１の干渉計の側面図を提供し、第１の干渉計において、複数の一次伝送ビームが生成される方法を示す。 代替的な構成を有する第１の干渉計の側面図を提供する。 代替的な第１の干渉計の側面図を提供する。 本願発明の更なる実施形態に従った方法を実行する投射システムの斜視図を提供する。 図７に示される投射システムで使用される第１の干渉計および第２の干渉計の斜視図を提供する。 第２の干渉計の側面図を提供し、複数の二次伝送ビームが第２の干渉計において生成される方法を示す。 複数の一次伝送ビームおよび二次伝送ビームが互いに配向される方法を示す第１および第２の干渉計の斜視図を提供する。 第１および第２の干渉計のための代替的な配置の斜視図を提供する。
図１は、本願発明の一実施形態に従った方法を実行し、減少されたスペックルを持つピクセル３をディスプレイスクリーン２に投影するよう構成された投射システム１を示す。
入力光線１０は、レーザ光源５から第１の干渉計７へとＭＥＭＳミラー９を介して伝送される。１次元の入力光線１０をスキャンすべく、ＭＥＭＳミラー９は、振動軸８を中心に振動するよう構成される。２次元の入力光線１０をスキャンすべく、ＭＥＭＳマイクロミラー９は、２つの直交する振動軸を中心に振動するよう代替的に構成され得ることが理解されるであろう。必要に応じて、ＭＥＭＳミラー９は曲面形状を有してよい。
図において、ＭＥＭＳミラー９は、複数のデジタルマイクロミラー（ＤＭＤ）のアレイまたはＬｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｏｎ Ｓｉｌｉｃｏｎ（ＬＣＯＳ）セルのアレイまたは液晶表示（ＬＣＤ）セル等、任意のタイプの反射コンポーネントであってよいことが理解される。
複数の一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅが、入力光線１０を使用して、第１の干渉計７において生成される。図１は、５つの一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅが入力光線１０を使用して生成されることを示すが、２つよりも大きい任意の数の一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅが、第１の干渉計７において入力光線１０を使用して生成されてよいことが理解されるであろう。
その後、複数の一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅは、ディスプレイスクリーン２におけるピクセル３のスペックルを減少させる、複数の干渉縞を生成するために使用される。複数の干渉縞を生成すべく、複数の一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅの各々の複数のビームスポットが少なくとも部分的に重なり合うよう、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅがそれぞれディスプレイ表面の位置に投影される。図２Ａは、２つの一次伝送ビーム１１ａおよび１１ｂの各々のビームスポット１２ａ、ｂが少なくとも部分的に重なり合うように、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅのうち、１１ａおよび１１ｂの２つが、第１の干渉計７からディスプレイスクリーン２上の同一位置に投影される方法を示す。この例の場合、２つの一次伝送ビーム１１ａおよび１１ｂの各々のビームスポット１２ａ、ｂがディスプレイスクリーン２において完全に重なり合っており、従って、第１の干渉計７はまた、一次伝送ビーム１１ａおよび１１ｂの各々の焦点を、ディスプレイスクリーン２上の単一のポイントに合わせている。明確化の意図のため、図２Ａでは一次伝送ビーム１１ａおよび１１ｂの２つのみが示されているが、実際には、１１ａ〜１１ｅのすべての一次伝送ビームの複数のビームスポットが、ディスプレイスクリーン２において完全に重なり合う（または少なくとも部分的に重なり合う）ことが理解されるであろう。
図２Ｂは、複数の一次伝送ビーム１１のビームスポット１２ａ〜１２ｅと共に生成される、複数の干渉縞１５がディスプレイスクリーン２において重なり合うところを示す。一次伝送ビーム１１のビームスポット１２ａ〜１２ｅがディスプレイスクリーン２において重なり合う場合、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅ間の強め合う干渉および弱め合う干渉により、複数の干渉縞１５がディスプレイスクリーン２において生成される。一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅのビームスポット１２ａ〜１２ｅが、ディスプレイスクリーン２において部分的にのみ重なり合う場合、複数の干渉縞１５は、ビームスポット１２ａ〜１２ｅが重なり合う領域においてのみ生成されることが理解されるだろう。
一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅが、ディスプレイスクリーン２において、同位相の箇所において、複数の明るい縞１５ａが生成され、一次伝送ビーム１１ａから１１ｅが、ディスプレイスクリーン２において位相を異にするディスプレイスクリーン２において、複数の暗い縞１５ｂが生成される。一次伝送ビーム１１ａから１１ｄの各々の、重なるビームスポット１２ａから１２ｅは、ディスプレイスクリーン２上にピクセル３を画定する。
図３は、投射システム１において使用される第１の干渉計７の斜視図を提供する。第１の干渉計７は、第１のミラー３１との光通信において配置される第１のビームスプリッタ３０を含む。第１のビームスプリッタ３０は、平坦な表面３４を含む。第１のミラー３１は、平坦な反射面３５を含む。この例の場合、第１のビームスプリッタ３０および第１のミラー３１は、それぞれ平坦な形状を有する。
第１のミラー３１を移動させるべく、アクチュエータ３３が必要に応じて使用され得るよう、アクチュエータ３３が第１のミラー３１に動作可能に接続されている。第１のミラー３１を、回転軸（不図示）を中心に振動させるべく、アクチュエータ３３は必要に応じて動作されてよい。有利には、第１のミラー３１を移動させることによって、複数の干渉縞１５を移動させることになり、つまり、ディスプレイスクリーン２におけるスペックルの減少を更に促進することになる。代替的に、または追加的に、第１のミラー３１を移動させることに加え、あるいはその代替として、第１のビームスプリッタ３０を移動し得るように、アクチュエータ３３が第１のビームスプリッタ３０に動作可能に接続されてよい。
図２Ａに示されるように、一次伝送ビーム１１ａから１１ｅは、ディスプレイスクリーン２上の単一のポイントに焦点を合わせられており、その結果、一次伝送ビーム１１ａから１１ｅのビームスポット１２ａから１２ｅは、ディスプレイスクリーン２上で重なって、ピクセル３を画定する。一次伝送ビーム１１ａから１１ｅの焦点合わせを実現すべく、第１のミラー３１の平坦な反射面３５が、第１のビームスプリッタ３０の平坦な表面３４に対し平行であることからずれるように、第１のミラー３１および第１のビームスプリッタ３０が配向される。図４は、第１の干渉計７に係る第１のビームスプリッタ３０および第１のミラー３１の側面図を提供する。第１のミラー３１の平坦な反射面３５と、第１のビームスプリッタ３０の平坦な表面３４との間に、ゼロ以外の角度ａが存在するよう、第１のミラー３１および第１のビームスプリッタ３０は配向される。好ましくは、当該角度ａは０．０１°から２°の間である。
図４はまた、入力光線１０を使用して、第１の干渉計７において複数の一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅが生成される方法を示す。入力光線１０は、第１のビームスプリッタ３０に対し伝送される。第１の光線１１ａおよび第２の光線１３ａを形成すべく、第１の入力光線１０は、第１のビームスプリッタを使用して分割される。第１の光線１１ａは、第１のビームスプリッタ３０から反射されて第１の一次伝送ビーム１１ａを形成し、第２の光線１３ａは第１のビームスプリッタ３０を透過される。第２の光線１３ａは、第１のミラー３１に対し通過され、第１のミラー３１によって、第１のビームスプリッタ３０に対し反射される。第２の光線１３ａは、第１のビームスプリッタ３０によって分割され、第３の光線１１ｂを形成する。第３の光線１１ｂは、第２の一次伝送ビーム１１ｂ、および第４の光線１３ｂを形成する。第４の光線１３ｂは、第１のビームスプリッタ３０によって、上記第１のミラー３１に対し反射される。次に第４の光線１３ｂが使用され、複数の一次伝送ビーム１１ｃ〜１１ｅを生成する。複数の一次伝送ビーム１１ｃ〜１１ｅの各々は、光線１４ａ〜１４ｃを分割することによって生成される。光線１４ａ〜１４ｃは、第１のミラー３１から、第１のビームスプリッタ３０まで反射され、一次伝送ビーム１１ｃ〜１１ｅ、および反射ビーム１３ｃ〜１３ｅを形成する。反射ビーム１３ｃ〜１３ｅは、第１のミラー３１に対し反射される。
一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅを、ディスプレイスクリーン２上の単一のポイントに焦点を合わせる必要のない場合、第１のミラー３１および第１のビームスプリッタ３０は、第１のミラー３１の平坦な反射面３５および第１のビームスプリッタ３０の平坦な表面３４が図５に示される通り、平行となるよう配向されてよいことが理解されるであろう。この場合、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅは平行となる。
図６は、投射システム１において代替で使用され得る別の第１の干渉計１７の側面図を提供する。第１の干渉計１７は、第１のビームスプリッタ６０に沿って、入力光線１０の部分的な内部反射を用いて、複数の一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅを提供するよう構成される第１のビームスプリッタ６０を含む。部分的な内部反射の各時点における第１のビームスプリッタ６０から伝送される入力ビームの部分は、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅを画定する。一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅは、少なくとも部分的に、ディスプレイスクリーンにおいて重ね合わされ、投射ピクセル内のスペックルを減少する複数の干渉縞を形成する。複数の干渉縞を移動すべく、ビームスプリッタ６０が必要に応じて移動され得るよう、アクチュエータ３３がビームスプリッタに動作可能に接続され、これにより、スペックルの更なる減少をもたらす。
図７は、本願発明の更なる実施形態に従った方法を実施する投射システム１００を示す。投射システム１００は、図１に示される投射システム１と同一の特徴を多数有し、複数の類似する特徴は、複数の同一の参照番号が付与される。投射システム１００において、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｄは、ディスプレイスクリーン２に対し直接的ではなく、第１の干渉計７から第２の干渉計１０７へと伝送される。
第２の干渉計１０７は、上述の第１の干渉計７、１７の一部または全部の特徴を有してよい。この例の場合、第２の干渉計１０７は、図３および図４に示される第１の干渉計と同一の複数の特徴を有する。特に、第２の干渉計１０７は第２のビームスプリッタおよび第２のミラーを含む。
複数の二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄが、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅの各々から、第２の干渉計１０７において生成される。図７は、以下を示す。すなわち、第２の干渉計１０７は、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅの各々１つから、４つの二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄを生成する。二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄは、一次伝送ビーム１１ａから生成され、二次伝送ビーム１２１ａ〜１２１ｄは、一次伝送ビーム１１ｂから生成され、二次伝送ビーム１３１ａ〜１３１ｄは一次伝送ビーム１１ｃから生成され、二次伝送ビーム１４１ａ〜１４１ｄは一次伝送ビーム１１ｄから生成され、二次伝送ビーム１５１ａ〜１５１ｄは一次伝送ビーム１１ｅから生成される。しかしながら、２よりも大きい、任意の数の二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄが、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅの各々１つから、第２の干渉計１０７において生成されてよいことが理解されるであろう。
図８は、投射システム１００における第１の干渉計７および第２の干渉計１０７の斜視図を提供する。上述の通り、第２の干渉計１０７は、第１の干渉計７と同一の複数の特徴を有し、よって、第２の干渉計１０７は、第２のミラー３３１との光通信において配置される第２のビームスプリッタ３３０を含む。第２のビームスプリッタ３３０は、平坦な表面３３４を含む。第２のミラー３３１は、平坦な反射面３３５を含む。この例の場合、第２のビームスプリッタ３３０および第２のミラー３３１はそれぞれ平坦な形状を有する。第２のミラー３３１を移動させるべく、アクチュエータ３３３が必要に応じて使用され得るよう、アクチュエータ３３３が第２のミラー３３１に動作可能に接続されている。第２のミラー３１を、回転軸（不図示）を中心に振動させるべく、アクチュエータ３３３は必要に応じて動作されてよい。有利には、第２のミラー３３１を移動させることによって、複数の干渉縞１５を移動させることになり、つまり、ディスプレイスクリーン２におけるスペックルの減少を更にもたらすことになる。代替的に、または追加的に、第１のミラー３３１を移動させることに加え、あるいはその代替として、第２のビームスプリッタ３３０が移動され得るように、アクチュエータ３３３が第２のビームスプリッタ３３０に動作可能に接続されてよい。
第１の干渉計７および第２の干渉計１０７の第１のビームスプリッタ３０および第２のビームスプリッタ３３０は、各ビームスプリッタ３０、３３０の平坦な表面３４、３３４が互いに平行であることからずれるように配向される。特に、第１の干渉計７および第２の干渉計１０７の第１のビームスプリッタ３０および第２のビームスプリッタ３３０は、ビームスプリッタ３０、３３０の平坦な表面３４と３３４との間に４５°の角度が存在するよう配向される。
図９は、第１の干渉計７に係る第２のビームスプリッタ３３０および第２のミラー３３１の側面図を提供する。第２のミラー３３１の平坦な反射面３３５と、第２のビームスプリッタ３３０の平坦な表面３３４との間に、ゼロ以外の角度ａが存在するよう、第２のミラー３３１および第２のビームスプリッタ３３０は配向される。好ましくは、当該角度は０．０１°から２°の間である。
第１の干渉計７において、一次伝送ビーム１１ａから１１ｄが、入力光線１０から生成されるのと同一の態様で、複数の二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄの各々が、第２の干渉計１０７において生成される。明確化のため、図９は、二次伝送ビーム１１１ａから１１１ｄが一次伝送ビーム１１ａのみから生成される方法のみを示す。しかしながら、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅの各々が、すべての二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄを生成するには、同一のことが発生することが理解される。
図９を参照すると、一次伝送ビーム１１ａは、第１の干渉計７から、第２の干渉計１０７の第２のビームスプリッタ３３０に対し伝送される。第１の光線１１１ａを形成すべく、一次伝送ビーム１１ａは、第２のビームスプリッタ３３０によって分割される。第１の光線１１１ａは、第２のビームスプリッタ３３０から反射されて、第１の二次伝送ビーム１１１ａを形成する。第１の二次伝送ビーム１１１ａはディスプレイ表面２に対し伝送され、第２の光線１１３ａは第２のビームスプリッタ３３０を透過される。第２の光線１１３ａは、第２のミラー３３１に対し通過され、第２のミラー３３１によって、第２のビームスプリッタ３３０に対し反射される。第２の光線１１３ａはその後、第３の光線１１１ｂを形成すべく、第２のビームスプリッタ３３０によって分割される。第３の光線１１１ｂは、ディスプレイ表面２に対し伝送される第２の二次伝送ビーム１１１ｂ、および第４の光線１１３ｂを形成する。第４の光線１１３ｂは、第２のビームスプリッタ３３０によって、上記第２のミラー３３１に対し反射される。第４の光線１１３ｂが使用され、複数の二次伝送ビーム１１１ｃ、１１１ｄを生成する。複数の二次伝送ビーム１１１ｃ、１１１ｄの各々は、光線１１４ａ、１１４ｂを分割することによって生成される。光線１１４ａ、１１４ｂは、第２のミラー３３１から、第２のビームスプリッタ３３０まで反射されて、二次伝送ビーム１１１ｃ、１１１ｄおよび反射ビーム１１３ｃを形成する。反射ビーム１１３ｃは、第２のミラー３３１に対し反射される。
すべての二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄは、ディスプレイ表面２上の位置に対し投影され、すべての二次伝送ビーム１１１ａから１１１ｄの、ビームスポット１１２ａ〜１１２ｄ、１２２ａ〜１２２ｄ、１３２ａ〜１３２ｄ、１４２ａ〜１４２ｄが、ディスプレイ表面２上で少なくとも部分的に重なり合うようになり、ピクセル３のスペックルを減少させる複数の干渉縞１５を形成する（前の実施形態に対し前述したのと同様に）。この例の場合、二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄの各々のビームスポット１１２ａ〜１１２ｄ、１２２ａ〜１２２ｄ、１３２ａ〜１３２ｄ、１４２ａ〜１４２ｄは、ディスプレイスクリーン２において完全に重なり合い、従って、第１および第２の干渉計７、１０７はまた、二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄの各々の焦点を、ディスプレイスクリーン２上の単一のポイントに対し合わせる。好ましくは、第１の干渉計７は第１の軸に沿って、複数の光線の焦点を合わせ、第２の干渉計１０７は第２の軸に沿って、複数の光線の焦点を合わせる。第１および第２の軸は、直交する。結果的に、二次光線１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄは、ディスプレイスクリーン上の単一のポイントに対し、二次元に沿って、焦点を合わせられる。第１および第２の干渉計７、１０７はそれぞれ、各干渉計７、１０７のビームスプリッタ３０およびミラー３１を配置することによって、複数の光線の焦点を合わせるよう構成され得、その結果、ビームスプリッタ３０とミラー３１との間にゼロ以外の角度が存在するようになる（既に図４で示したように）。
一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｄおよび二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄの向きが、図１０に示される。本例において、第１の干渉計７において、入力光線１０から生成される一次伝送ビーム１１ａから１１ｅは、第１の平面９０に存在する。第２の干渉計１０７において、一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｅから生成される二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄの各々は、第２の平面９１ａ〜９１ｄに存在する（二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄは第２の平面９１ａに存在し、二次伝送ビーム１２１ａ〜１２１ｄは第２の平面９１ｂに存在し、二次伝送ビーム１３１ａ〜１３１ｄは第２の平面９１ｃに存在し、二次伝送ビーム１４１ａ〜１４１ｄは第２の平面９１ｄに存在し、二次伝送ビーム１５１ａ〜１５１ｄは第２の平面９１ｅに存在する）。一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｄおよび二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄが異なる複数の平面上に存在することを保証すべく、第１および第２の干渉計７、１０７の第１および第２のビームスプリッタ３０、３３０は、それらが互いに平行であることからずれるように配置されるべきである。図１０に示される例において、第２の平面９１ａ〜９１ｄの各々は、第１の面９０に対し鉛直であり、互いに平行である。一次伝送ビーム１１ａ〜１１ｄおよび二次伝送ビーム１１１ａ〜１１１ｄ、１２１ａ〜１２１ｄ、１３１ａ〜１３１ｄ、１４１ａ〜１４１ｄ、１５１ａ〜１５１ｄの所望の向きを実現すべく、第１および第２のビームスプリッタ３０、３３０は、それらが互いに４５°の角度になるよう、配向されるべきである。そのような配置は、複数の２次元の干渉縞を提供する。そのため、各ビームスポットは、複数の２次元の干渉縞を含むことになる。ビームスプリッタ３０と３３０との間の角度４５°は、複数の２次元の干渉縞が、互いに直交する複数の干渉縞を含むことを保証する。
有利には、イメージの複数のピクセルを画定すべく、複数の二次伝送ビームが使用されるとき、これによって、ユーザが投影デバイス１、１００の投射コーンに入る場合、眼障害のリスクを低減する。例えば、ユーザが投射デバイス１、１００の投射コーンに入る場合、ユーザの目はピクセル３を画定する複数の光線の一部のみにさらされることになり、よって、眼障害のリスクを減少する。
図１１は、第１および第２の干渉計７、１０７のための代替的配置の斜視図を提供する。第１および第２の干渉計７、１０７のそれぞれは、ビームスプリッタ３０、３３０を含み、単一のミラー２３１を共有する。それ以外は、第１および第２の干渉計７、１０７は上記と同様の態様において動作し、一次伝送ビームおよび二次伝送ビームを生成する。
上記の複数の方法および投射システムは、多くの異なる用途において使用可能であることを理解されたい。例えば、光コヒーレンストモグラフィー、複数のヘッドアップディスプレイ、複数のヘッドマウントディスプレイ、複数のマイクロレンズアレイ、複数の映画用レーザ投射システム、複数のリアプロジェクションディスプレイ、リソグラフィー、ＤＭＤ若しくはＬＣＯＳ若しくはＧＬＶ光学エンジン、レーザ照射（顕微鏡法、ホログラフィー）、およびＬＩＤＡＲなどである。
更なる選択肢として、バイナリフェーズコードが第１及び／又は第２の干渉計のいずれかのミラー３１、３３１に提供され得る。バイナリフェーズコードは、ミラー３１、３３１の反射面に提供される、単なる複数の投影である。複数の縞に対し鉛直である複数の線を導入すべく、バイナリフェーズコードが使用されてよく、その結果、複数の線の代わりに、複数のドットがスキャンされる。
本発明に係る記載された複数の実施形態に対する複数の修正および変更は、添付の特許請求の範囲において画される本発明の範囲から逸脱することなく、当業者にとって自明である。本発明は、複数の特定の好ましい実施形態に関連して記載されたが、特許請求された本発明は、そのような特定の実施形態に不当に限定されるべきではないことを理解されたい。

Claims (15)

  1. ディスプレイ表面上で表示される投射イメージにおける複数のスペックル効果を減少するための方法であって、
    入力光線を第１の干渉計に対し伝送させる段階と、
    前記入力光線を使用し、前記第１の干渉計において、複数の一次伝送ビームを生成する段階と、
    ディスプレイ表面に複数の干渉縞を生成すべく、前記複数の一次伝送ビームを使用する段階と、を備える方法。
  2. 複数の干渉縞を生成すべく、前記複数の一次伝送ビームを使用する前記段階は、前記複数の一次伝送ビームによって生成される複数のビームスポットが少なくとも部分的に重なり合うように、前記複数の一次伝送ビームを前記ディスプレイ表面上の位置に伝送させる段階を含む、請求項１に記載の方法。
  3. 複数の干渉縞を生成すべく、前記複数の一次伝送ビームを使用する前記段階は、
    前記複数の一次伝送ビームを第２の干渉計に対し伝送させる段階と、
    前記複数の一次伝送ビームの各々を使用し、前記第２の干渉計において、複数の二次伝送ビームを生成する段階と、
    前記複数の二次伝送ビームによって生成される複数のビームスポットが少なくとも部分的に重なり合うように、前記複数の二次伝送ビームを前記ディスプレイ表面上の位置に伝送させる段階と、を含む、請求項１に記載の方法。
  4. 入力光線を前記第１の干渉計に対し伝送させる前記段階は、前記入力光線をスキャンすべく、少なくとも１つの振動軸を中心に振動するＭＥＭＳミラーを使用して、光源からの光線を、前記第１の干渉計に対し方向付ける段階を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
  5. 入力光線を前記第１の干渉計に対し伝送させる前記段階は、複数のデジタルマイクロミラーのアレイを使用して、光源からの光線を、前記第１の干渉計に対し方向付ける段階を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
  6. 入力光線を前記第１の干渉計に対し伝送させる前記段階は、Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｏｎ Ｓｉｌｉｃｏｎ（ＬＣＯＳ）セルのアレイまたは液晶表示（ＬＣＤ）セルのアレイを使用して、光源からの光線を、前記第１の干渉計に対し方向付ける段階を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記第１の干渉計は、第１のミラーとの光通信において配置される第１のビームスプリッタを含み、
    前記方法は更に、
    前記第１の干渉計の前記第１のミラーを移動させる段階および前記第１の干渉計の前記第１のビームスプリッタを移動させる段階のうち少なくとも１つを備える、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記第２の干渉計は、第２のミラーとの光通信において配置される第２のビームスプリッタを含み、
    前記方法は更に、
    前記第２の干渉計の前記第２のミラーを移動させる段階および前記第２の干渉計の前記第２のビームスプリッタを移動させる段階のうち少なくとも１つを備える、請求項３から７のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記第１の干渉計は、第１のミラーとの光通信において配置される第１のビームスプリッタを含み、
    前記第１の干渉計において、複数の一次伝送ビームを生成する前記段階は、
    入力光線を第１のビームスプリッタに対し伝送させる段階と、
    第１の光線および第２の光線を形成すべく、前記第１のビームスプリッタを使用して、前記入力光線を分割する段階であって、前記第１の光線は、前記第１のビームスプリッタから反射されて、第１の一次伝送ビームを形成し、前記第２の光線は、前記第１のビームスプリッタを透過される、段階と、
    前記第２の光線を前記第１のミラーに通過させ、前記第２の光線を、前記第１のミラーを使用して、前記第１のビームスプリッタに反射する段階と、
    第３の光線および第４の光線を形成すべく、前記第１のビームスプリッタを使用して、前記第２の光線を分割する段階であって、前記第３の光線は、第２の一次伝送ビームを形成する、段階と、
    前記第４の光線を、前記第１のビームスプリッタを使用して、前記第１のミラーに反射する段階と、
    複数の一次伝送ビームを生成すべく、第４の光線を使用する段階と、を含んでおり、
    前記複数の一次伝送ビームの各々は、光線を分割することによって生成されており、前記光線は一次伝送ビームおよび反射ビームを形成すべく、前記第１のミラーから前記第１のビームスプリッタへと反射されており、前記反射ビームは前記第１のミラーへ反射されている、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記第１の干渉計は、光通信において配置される第１のビームスプリッタおよび第１のミラーを含み、
    前記第１のビームスプリッタは平坦な表面を有し、前記第１のミラーは平坦な反射面を有しており、
    前記方法は更に、前記第１のミラーの前記平坦な反射面が、前記第１のビームスプリッタの前記平坦な表面に対し平行であることからずれるように、前記第１の干渉計の前記第１のミラーおよび前記第１のビームスプリッタのうち少なくとも１つを配置する段階を備える、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
  11. 前記第２の干渉計は、第２のミラーとの光通信において配置される第２のビームスプリッタを含み、
    前記複数の一次伝送ビームの各々を使用し、前記第２の干渉計において、複数の二次伝送ビームを生成する前記段階は、
    前記複数の一次伝送ビームの各々を、第１のビームスプリッタに対し平行であることからずれるように配置される第２のビームスプリッタに対し伝送させる段階と、
    前記複数の一次伝送ビームの各々に対し、第１の光線および第２の光線を形成すべく、前記第２のビームスプリッタを使用して、前記一次伝送ビームを分割する段階であって、前記第１の光線は、前記第２のビームスプリッタから反射されて、第１の二次伝送ビームを形成し、前記第２の光線は、前記第２のビームスプリッタを透過される、段階と、
    前記第２の光線を第２のミラーに通過させ、前記第２の光線を、前記第２のミラーを使用して、前記第２のビームスプリッタに反射する段階と、
    第３の光線および第４の光線を形成すべく、前記第２のビームスプリッタを使用して、前記第２の光線を分割する段階であって、前記第３の光線は、第２の二次伝送ビームを形成する、段階と、
    前記第４の光線を、前記第２のビームスプリッタを使用して、前記第２のミラーに反射する段階と、
    複数の二次伝送ビームを生成すべく、前記第４の光線を使用する段階と、を含んでおり、
    前記複数の二次伝送ビームの各々は、光線を分割することによって生成されており、前記光線は二次伝送ビームおよび反射ビームを形成すべく、前記第２のミラーから前記第２のビームスプリッタへと反射されており、前記反射ビームは前記第２のミラーへ反射されている、請求項３から１０のいずれか一項に記載の方法。
  12. 前記第２の干渉計は、光通信において配置される第２のビームスプリッタおよび第２のミラーを含み、
    前記第２のビームスプリッタは平坦な表面を有し、前記第２のミラーは平坦な反射面を有しており、
    前記方法は更に、前記第２のミラーの前記平坦な反射面が、前記第２のビームスプリッタの前記平坦な表面に対し平行であることからずれるように、前記第２の干渉計の前記第２のミラーおよび前記第２のビームスプリッタのうち少なくとも１つを配置する段階を備える、請求項３から１１のいずれか一項に記載の方法。
  13. 前記第１の干渉計は第１のビームスプリッタを含み、かつ、前記第２の干渉計は第２のビームスプリッタを含んでおり、
    前記方法は更に、前記第１のビームスプリッタおよび前記第２のビームスプリッタが互いに平行であることからずれるように、それらを配置する段階を含む、請求項３から１２のいずれか一項に記載の方法。
  14. 更に、
    前記入力光線を提供する光源と、前記ディスプレイ表面上のポイントとの間の距離を測定する段階と、
    測定された距離における、前記ディスプレイ表面上の前記ポイントに対し、一次伝送ビームまたは二次伝送ビームが焦点を合わせられるように、ビームスプリッタおよびミラーのうち少なくとも１つを移動すべく、アクチュエータを使用する段階と、を備える、請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
  15. 更に、
    前記入力光線を提供する光源と、前記ディスプレイ表面上の複数のポイントとの間の距離を測定する段階と、
    複数のピクセルの各々に対し、一次伝送ビームまたは二次伝送ビームが前記ディスプレイ表面上で焦点を合わせられるポイントを変更するよう、ビームスプリッタとミラーとの間の角度を調整すべく、アクチュエータを使用する段階と、備える、請求項１４に記載の方法。
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