JP2010152178A - 画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】画質を高く保った上で、スペックルを低減させることができる画像表示装置を提供する。
【解決手段】光を射出する光源10と、光源10から射出された光Lの光路上に配置され、光Lを第1ビームLa,第2ビームLbに分離するハーフミラー30と、第1ビームLa,第2ビームLbをスクリーン1000上で2次元方向に走査して画像を描画する走査光学系50と、光源10から走査光学系50までの光の光路に配置され、第2ビームLbに係る光路長を制御することで第2ビームLbの位相を時間的に変化させる位相変調手段40と、を備え、走査光学系50は、第1ビームLa,第2ビームLbの各々をスクリーン1000上の同じ描画点Xに互いに異なる入射角度θa、θbで照射することを特徴とする。
【選択図】図1
【解決手段】光を射出する光源10と、光源10から射出された光Lの光路上に配置され、光Lを第1ビームLa,第2ビームLbに分離するハーフミラー30と、第1ビームLa,第2ビームLbをスクリーン1000上で2次元方向に走査して画像を描画する走査光学系50と、光源10から走査光学系50までの光の光路に配置され、第2ビームLbに係る光路長を制御することで第2ビームLbの位相を時間的に変化させる位相変調手段40と、を備え、走査光学系50は、第1ビームLa,第2ビームLbの各々をスクリーン1000上の同じ描画点Xに互いに異なる入射角度θa、θbで照射することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、画像表示装置に関するものである。
近年、半導体レーザーの高出力化や青色半導体レーザーの登場に伴い、レーザー光源を用いたプロジェクター(画像表示装置)が開発されている。この種のプロジェクターは、レーザー光源の波長域が狭いために色再現範囲を十分に広くすることができ、小型化や構成部品の削減も可能である。このことから、次世代のプロジェクターとして大きな可能性を秘めている。
しかしながら、レーザー光源を用いたプロジェクターにおいて表示を行う際、スクリーン等の散乱体で光の干渉が生じることによって明点と暗点が縞模様あるいは斑模様に分布する、いわゆるスペックルと呼ばれる現象が発生する場合がある。
スペックルは、観察者に対してぎらつき感を与え、画像鑑賞時に不快感を与えるなどの悪影響を及ぼす原因となる。特にレーザー光は干渉性が高い(コヒーレントな)光であることから、スペックルが発生しやすい。また、レーザー光源に限らずLEDを光源に用いた場合でも同様にスペックルの課題が生じる他、ランプ光源の場合であっても、近年は短アーク化によって光の可干渉性が高くなっている。したがって、スペックルを除去する技術が重要になってきている。
スペックルを低減する手段としては、例えば、次の方法が知られている。1つは、互いに可干渉性の低い(インコヒーレントな)光を用いて、複数のパターンのスペックルを発生させ、複数のスペックル同士を同時に重畳させることによりスペックルのパターンを見にくくする方法である(方法1)。
例えば特許文献1では、互いに偏光方向が異なる偏光同士がインコヒーレントであることを利用して、光源から射出されたレーザー光を2つの偏光に分離し、一方の偏光に位相変調を与えた後に再合成した合成光を用いて画像形成を行っている。このようにすることで、2つの偏光に起因して生じるスペックル同士を重畳させ、平均化してスペックルを低減することを提案している。
もう1つは、画像形成に用いるレーザー光の可干渉性を低下させることでスペックルの発生自体を抑制する方法である(方法2)。例えば特許文献2では、屈折率の異なる複数の領域を有する複屈折率拡散板に、画像形成に用いるレーザー光を透過させることで、レーザー光の波面(同一位相となる点を結んでできる面)を乱している。このようにすることで、レーザー光内の空間的に異なる部分の波の干渉性(空間的コヒーレンス)を低下させて、レーザー光の干渉性を低下させ、スペックルの発生を抑制している。
特開2005−234156号公報
特表2005−62114号公報
しかしながら、上記方法には、以下のような問題がある。
上記の方法1では、重畳させるスペックルパターンの数に応じてスペックルコントラスト(スペックルパターンにおいて、最も暗い部分と最も明るい部分との輝度の差)が低減する割合が決まる。n個のスペックルパターンを重畳させた場合には、スペックルコントラストは1/√nとなることが理論および実験結果として知られている。従って、2つの偏光に起因するスペックルパターンを重畳させる特許文献1の方法では、スペックルコントラストは1/√2倍(約0.7倍)にしか低減せず、スペックル対策として満足いくものではない。
特許文献2では、空間的に位相変調を与えることによって射出するレーザー光の波面を乱し、スペックルを低減することとしているが、このような方法によるとレーザー光の品質が低下し、投射スクリーン上でのビームスポット径が大きくなる。走査型のプロジェクターでは、ビームスポット径が大きくなると画像解像度が低下するため、スペックルは低減するものの画質が大きく低下することになってしまう。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、画質を高く保った上で、スペックルを低減させることができる画像表示装置を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明の画像表示装置は、光を射出する光源と、前記光源から射出された光の光路上に配置され、前記光を複数の分離光に分離する分離手段と、複数の前記分離光を被投射面上で2次元方向に走査して画像を描画する走査手段と、前記光源から前記走査手段までの前記光の光路に配置され、複数の前記分離光に係る光路長を制御することで前記分離光の位相を時間的に変化させる位相変調手段と、を備え、前記走査手段は、前記分離光の各々を被照射面の同じ描画点に互いに異なる入射角度で照射することを特徴とする。
この構成によれば、まず、各分離光は異なる入射角度で照射された描画点において干渉し、干渉縞を形成する。ここで、走査に伴って分離光のそれぞれの入射角度が変化するため、各分離光の走査手段から描画点までの距離が変化する。そのため、生じる干渉縞のパターンは走査に伴い変化することとなる。
また、位相変調手段は、分離光の光路長を制御する機能を有している。「光路長」とは、屈折率が一定の媒質内で、光線が2点間のある経路に沿って進むときの、経路に沿っての幾何学的な長さと屈折率との積である。経路内において、光線が屈折率の異なる複数の媒質を透過する場合、全体としての光路長は各媒質について求めたそれぞれの光路長の和となる。
位相変調手段を透過する分離光は光路長が変化するため、位相変調手段を透過しない分離光と比べて、相対的に位相がずれることとなる。この位相のずれは、位相変調手段を制御することにより時間的に変化させることができる。すると、分離光の干渉により生じる干渉縞が時間的に変化し、分離光の照射により生じるスペックルパターンも変動する。
このように生じる分離光の入射角度の変化に伴う干渉縞の変化と、分離光の位相変調に起因するスペックルパターンの変化と、に起因する様々なスペックルパターンは、表示画像の観察者の網膜上で重畳することとなる。そのため、観察者に均一な光として認識させ、スペックルの低減を実現することが可能な画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記位相変調手段は、複数の前記分離光の光路のうち少なくとも1つの光路上に配置され、前記位相変調手段は、前記分離光の光路において前記分離光が透過する媒質の屈折率を変更することが望ましい。
この構成によれば、屈折率を変更することで分離光の光路長を変化させることができ、良好に分離光の位相を変調させることができる。そのため、良好に様々なスペックルパターンを生じさせ、スペックルを抑制することが可能な画像表示装置とすることができる。
この構成によれば、屈折率を変更することで分離光の光路長を変化させることができ、良好に分離光の位相を変調させることができる。そのため、良好に様々なスペックルパターンを生じさせ、スペックルを抑制することが可能な画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記位相変調手段は、自身への印加電圧によって自身を透過する光に対する屈折率が変化する電気光学材料と、前記電気光学材料に電圧を印加する電圧供給手段と、を有することが望ましい。
この構成によれば、電気的な制御により所望の位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
この構成によれば、電気的な制御により所望の位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記電気光学材料は、強誘電体結晶であることが望ましい。
この構成によれば、高速な位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
この構成によれば、高速な位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記電気光学材料は液晶材料であることが望ましい。
この構成によれば、液晶分子のような液晶材料の応答速度に応じた高速な位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
この構成によれば、液晶分子のような液晶材料の応答速度に応じた高速な位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記位相変調手段は、表面に凹凸を有し前記分離光が照射される凹凸板と、前記凹凸板を前記分離光の光軸と交わる方向に揺動させる、または前記分離光の光軸と平行な方向に設定された回転軸まわりに回転させる駆動手段と、を有することが望ましい。
この構成によれば、凹凸板を透過する位置における凹凸板の厚さに応じて、分離光が凹凸板を透過する際の光路長が変化するため、分離光は位相変調を受ける。そのため、単位時間あたりに変化する凹凸の総変化回数に応じた位相変調が可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。また、例えば、凹凸板を樹脂材料で形成すると、熱転写等の手法を用いることで安価に位相変調手段を量産することができるため、低い製造コストでスペックル抑制が可能な画像表示装置を提供することができる。
この構成によれば、凹凸板を透過する位置における凹凸板の厚さに応じて、分離光が凹凸板を透過する際の光路長が変化するため、分離光は位相変調を受ける。そのため、単位時間あたりに変化する凹凸の総変化回数に応じた位相変調が可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。また、例えば、凹凸板を樹脂材料で形成すると、熱転写等の手法を用いることで安価に位相変調手段を量産することができるため、低い製造コストでスペックル抑制が可能な画像表示装置を提供することができる。
本発明においては、前記位相変調手段は、のうち少なくとも1つの光路上に配置され、前記位相変調手段は、前記分離光の光路における幾何学的な距離を変更することが望ましい。
この構成によれば、比較的高価な光学部材を用いることなく、機械的な制御で分離光の光路における幾何学的な距離を変更することで、分離光の光路長を制御することができる。そのため、安価な構成で分離光の位相を変調させ、干渉縞の様態に変動をあたえてスペックルを抑制することができる。
この構成によれば、比較的高価な光学部材を用いることなく、機械的な制御で分離光の光路における幾何学的な距離を変更することで、分離光の光路長を制御することができる。そのため、安価な構成で分離光の位相を変調させ、干渉縞の様態に変動をあたえてスペックルを抑制することができる。
本発明においては、前記位相変調手段は、前記光源と前記分離手段との間の光路上に配置され、前記光源から射出される前記光における2つの偏光の偏光方向と同方向に屈折率異方性を有し、前記分離手段は、前記光を前記2つの偏光である前記分離光に分離し、前記分離手段から前記走査手段までの前記分離光の光路に、2つの前記分離光の偏光方向を、互いに同じ偏光方向とする位相差板を有することが望ましい。
この構成によれば、光源から射出された光に、予め特定方向の偏光成分への位相変調を与え、その後に分離することとしている。そのため、光を分離した後の構成を簡素化でき、装置を小型化することが可能となる。また、光の偏光方向によらずスペックル抑制が可能な画像表示装置とすることができる。
この構成によれば、光源から射出された光に、予め特定方向の偏光成分への位相変調を与え、その後に分離することとしている。そのため、光を分離した後の構成を簡素化でき、装置を小型化することが可能となる。また、光の偏光方向によらずスペックル抑制が可能な画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記位相変調手段は、自身への印加電圧によって前記2方向の相対的な屈折率が変わる電気光学材料と、前記電気光学材料に電圧を印加する電圧供給手段と、を有することが望ましい。
この構成によれば、印加する電圧を変化させることで所望の位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
この構成によれば、印加する電圧を変化させることで所望の位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記電気光学材料は、強誘電体結晶であることが望ましい。
この構成によれば、高速な位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
この構成によれば、高速な位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記電気光学材料は液晶材料であることが望ましい。
この構成によれば、液晶分子のような液晶材料の応答速度に応じた高速な位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
この構成によれば、液晶分子のような液晶材料の応答速度に応じた高速な位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記位相変調手段は、前記2方向に屈折率異方性を有するとともに表面に凹凸を有し前記分離光が照射される凹凸板と、前記凹凸板を前記分離光の光軸と交わる方向に揺動させる、または前記分離光の光軸と平行な方向に設定された回転軸まわりに回転させる駆動手段と、を有することが望ましい。
この構成によれば、凹凸板を透過する位置における凹凸板の厚さに応じて、分離光が凹凸板を透過する際の光路長が変化するため、分離光は位相変調を受ける。そのため、単位時間あたりに変化する凹凸の総変化回数に応じた位相変調が可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
この構成によれば、凹凸板を透過する位置における凹凸板の厚さに応じて、分離光が凹凸板を透過する際の光路長が変化するため、分離光は位相変調を受ける。そのため、単位時間あたりに変化する凹凸の総変化回数に応じた位相変調が可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記位相変調手段の変調速度が、複数の前記分離光が前記描画点を描画する描画速度よりも大きいことが望ましい。
「描画点」とは、表示画像を構成する最小単位である1画素に対応した被投射面上の照射領域のことである。この構成によれば、同一画素を描画中に複数のスペックルパターンが得られるため、これらのスペックルパターンを重ね合わせることで、よりスペックルを抑制することが可能な画像表示装置とすることができる。
「描画点」とは、表示画像を構成する最小単位である1画素に対応した被投射面上の照射領域のことである。この構成によれば、同一画素を描画中に複数のスペックルパターンが得られるため、これらのスペックルパターンを重ね合わせることで、よりスペックルを抑制することが可能な画像表示装置とすることができる。
本発明においては、前記走査手段は、前記分離光のそれぞれに対応して設けられることが望ましい。
この構成によれば、各々の分離光の入射角度を独立して制御することが容易となり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
この構成によれば、各々の分離光の入射角度を独立して制御することが容易となり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置とすることができる。
[第1実施形態]
以下、図1〜図6を参照しながら、本発明の第1実施形態に係る画像表示装置について説明する。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
以下、図1〜図6を参照しながら、本発明の第1実施形態に係る画像表示装置について説明する。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
図1は、本実施形態の画像表示装置1を示す概略斜視図である。図に示すように画像表示装置1は、レーザー光を射出するレーザー光源10、複数のレンズで構成されたリレー光学系20、スクリーン(被投射面)1000上にレーザー光線を走査し画像を描画する走査光学系(走査手段)50を有している。また、リレー光学系20の内の光路上には、ハーフミラー(分離手段)30、反射ミラー35、位相変調手段40が配置されている。
レーザー光源10は、その詳細な構造を図示しないが、赤色光を射出する半導体レーザー素子と、緑色光を射出する半導体レーザー素子と、青色光を射出する半導体レーザー素子とを含んでいる。3つの半導体レーザー素子から射出した光は、ダイクロイックプリズム等の色合成素子により合成され、レーザー光源10から合成された光Lが射出される。各レーザー素子から射出されるレーザー光は可干渉性の高いコヒーレンス光となっている。また、レーザー光は空間的コヒーレンスが高く、ほぼ完全な平面波として射出されている。
本実施形態のリレー光学系20は、光Lが入射する1つのコリメートレンズ22と、2つの集光レンズ24と、を含んでいる。レーザー光源10から射出された光Lは、コリメートレンズ22により平行化された後に、後述のように分岐され位相変調を受けた後に集光レンズ24により集光される。リレー光学系20に関しては、画像表示装置の構成に応じて、適宜変更することができる。例えば、光源から射出される光の平行度が極めて高い場合には、リレー光学系を簡略化、あるいは省略することもできる。また、コリメートレンズ22および集光レンズ24は、複数のレンズからなる光学系であっても良い。
リレー光学系20が有するコリメートレンズ22を透過した光Lは、光路上に配置されたビームスプリッターであるハーフミラー30に入射し、第1ビーム(分離光)Laおよび第2ビーム(分離光)Lbに分岐される。平面波である光Lを分離して形成される第1ビームLaおよび第2ビームLbは、いずれも平面波である。
第2ビームLbは、反射ミラー35を介し、位相変調手段40に入射する。位相変調手段40は、第2ビームLb内の高い空間的コヒーレンスを維持したまま(波面は平面のまま)、第2ビームLb全体の光路長を変化させることで、第2ビームLbの位相を時間的に変化させる。その結果、同位相であった第1ビームLaの位相に対して、第2ビームLbの位相が時間的に変化することとなる。
ここで、本実施形態の位相変調手段40は、第2ビームLbが透過する際に、第2ビームLbが透過する媒質の屈折率を変化させることで、第2ビームLbの光路長を変化させる構成となっている。本実施形態では、位相変調手段40として液晶素子を用いる。
図2は、本実施形態で用いる液晶素子100の概略断面図である。図に示すように、液晶素子100は、シール剤111を介して貼り合わされた一対のガラス基板112,113と、一対のガラス基板112,113の間に挟持された誘電率異方性が正の液晶分子を含む液晶層116と、一対のガラス基板112,113の内面に配置され、液晶層16に電圧を印加する一対の電極117,118と、各電極117,118上の配向膜119,120と、を備えている。配向膜119,120は、初期配向状態で液晶層116中の液晶分子をランダム配向とする配向処理がなされている。
図3は、液晶素子100の駆動の様子を示す説明図である。図3(a)に示すように、液晶素子100の電極117,118に無印加の場合は、屈折率異方性を有する液晶分子LCが面方向にランダムに配向する。そのため、液晶素子100を透過する第2ビームLbに対する液晶層116の屈折率は、液晶分子LCが有する2つの屈折率の平均値となる。
また、図3(b)に示すように、電極117,118に印加時には、液晶分子LCの長軸は、電極間に生じる電界方向に配向する。そのため、液晶素子100を透過する第2ビームLbに対する液晶層116の屈折率は、液晶分子LCの短軸方向の屈折率となる。
したがって、液晶素子100は、電極117,118への印加電圧に応じて、液晶層116を透過する光に対する屈折率が変化する。第2ビームLbがこのような液晶素子100を有する位相変調手段を透過することで、位相変調手段は第2ビームLb全体に同じ位相変化を与える。
第1ビームLa、および位相変調手段40により位相変調を受けた第2ビームLbは、それぞれの光路上に配置された集光レンズ24A,24Bに入射し、集光される。集光された各々の光には、それぞれ対応する走査光学系50A、50Bが設けられている。
走査光学系50は、第1ビームLaおよび第2ビームLbの各々の光軸を、スクリーン1000の表面において主走査方向に変化させる第1偏向ミラー50aと、同じく第1および第2ビームの光軸をスクリーン1000の表面において副走査方向に変化させる第2偏向ミラー50bとを含んでいる。例えば、主走査方向はスクリーン1000における水平方向であり、副走査方向はスクリーン1000において水平方向と直交する垂直方向である。
走査光学系50としては、第1偏向ミラー50aにはMEMS技術等により形成されるマイクロメカニカルミラーを用い、第2偏向ミラー50bにはガルバノミラー等を用いる構成を例示することができる。また、図では2つのミラーにより走査光学系50が構成されている様子を示したが、例えば、1つのミラーに対して2つの駆動軸が設定され、1個で2次元の走査が可能なMEMSミラーを用いることとしても構わない。
走査光学系50A,50Bは、第1ビームLa、第2ビームLbにスクリーン1000上の同じ描画点Xを照射させる。また、走査光学系50A,50Bの動作は互いに同期が取られており、ビームの照射箇所である描画点Xをそれぞれ主走査方向及び副走査方向に走査し、表示画像を形成する。このとき、光La,Lbは、互いに異なる走査光学系50で走査されるため、描画点Xに対して異なる方位角から入射することとなり、描画点Xに異なる入射角度θa、θbで入射する。また、互いに独立する走査光学系50で走査されるために、各々の光La,Lbの入射角度の制御を容易に行うことができる。
本実施形態の画像表示装置1は、以上のような構成となっている。
本実施形態の画像表示装置1は、以上のような構成となっている。
次に、課題となるスペックル発生の原理を説明した上で、本発明のスペックル低減の原理について図を用いて説明する。
スペックルは、主として、コヒーレントな光が凹凸のある被照射面に照射されるような場面で生じる。コヒーレントな光であるレーザー光をスクリーンに照射する場面を想定すると、スクリーンに到達したレーザー光は、スクリーン表面の凹凸で散乱して、観察者の網膜に達することとなる。この際、スクリーンの凹凸は、レーザー光の波長に対して十分に大きな振幅を有しており、レーザー光内に−πからπまでのランダムな位相変調を与えることとなる。これらの光が網膜上で結像するが、ランダムな位相変調を受けた各レーザー光同士が干渉し、非常に高いコントラストの干渉縞を生じる。この干渉縞が、スペックルと呼ばれて観察される不具合である。
本実施形態の画像表示装置1は、次のようにしてスペックルの低減を実現している。図4は、画像表示装置1の効果を示す概略図である。図では、レーザー光源10から射出される光L、および第1ビームLa、第2ビームLbの光路を一点鎖線で示し、各光路に直交する線分で各光の波面を示している。
画像表示装置1では、走査光学系50A、50Bを用いて、第1ビームLaと第2ビームLbとを、それぞれ異なる角度からスクリーン1000上の描画点Xに同時に照射させる。このとき、各ビームは互いに可干渉性を有する平面波であり、描画点Xにおいて交わって互いに干渉する。その結果、スクリーン上には干渉縞IFが生じる。
ここで、走査に伴って第1ビームLaおよび第2ビームLbのそれぞれの入射角度が変化するため、各分離光の走査手段から描画点Xまでの距離が変化する。そのため、生じる干渉縞IFのパターンは走査に伴い変化することとなる。
また、位相変調手段40に達するまでは、第1ビームLaと第2ビームLbとは空間的に同位相であるが、位相変調手段40を透過する第2ビームLbには、位相変調が与えられる。そのため、第2ビームLbの波面WFbは、例えば、実線で図示しているWF1と波線で図示しているWF2との間で変化する。
すると、第1ビームLaの波面WFaと第2ビームLbの波面WFbとの干渉により生じる干渉縞IFは、例えば、波面WFaと波面WF1とが干渉するときには実線で図示するIF1を生じ、波面WFaと波面WF2とが干渉するときには波線で図示するIF2を生じる、というように変化し揺らぐ。この干渉縞IFの変化(揺らぎ)によって、第1ビームLaと第2ビームLbとの照射により生じるスペックルパターンも変動する。
干渉縞IFの変化の速度は、主に位相変調手段40による位相変調速度に対応している。例として、画像表示装置1を用いてフレームレート30Hzで画像表示を行う場合、位相変調手段40が、フレームレート以上の変調速度で第2ビームLbの位相を変調させると、1秒間に表示する30枚の画像のそれぞれに発生するスペックルパターンが異なることとなる。そのため、画像毎に発生するスペックルパターンを重畳させ、スペックルパターンを認識させにくくすることができる。
本実施形態では、位相変調手段40として液晶素子100を用いている。液晶素子が有する液晶分子として、一般的なコレステリック液晶を用いた場合、1MHz程度の応答速度が得られるため、フレームレートと比べて遙かに早い変調が可能である。したがって、生じる干渉縞IFを高速に変化させることができ、観察者の網膜上で様々なスペックルパターンが重畳される。
以上のようにして、第1ビームLaと第2ビームLbとの入射角度の変化に伴う干渉縞の変化と、第2ビームLbの位相変調に起因するスペックルパターンの変化と、によって生じる様々なスペックルパターンが重畳することで、観察者に均一な光として認識させ、スペックルの低減を実現している。
以上のような構成の画像表示装置1によれば、スペックルの低減を実現し、高品質な画像表示が可能な画像表示装置とすることができる。
また、本実施形態では、位相変調手段40として液晶素子を用いることとしている。そのため、液晶素子が有する液晶分子の応答速度に応じた高速な位相変調速度を実現することが可能であり、良好にスペックルを抑制した画像表示装置1とすることができる。
なお、本実施形態においては、コヒーレント光を射出する光源としてレーザー光源を用いることとしたが、コヒーレント光を射出可能であれば、レーザー光源に限らずLEDを光源や、短アーク化されたランプ光源を用いることもできる。
また、本実施形態においては、位相変調手段40は第2ビームLbの光路上に配置することとしたが、もちろん第1ビームLaの光路上に配置することとしても良い。また、位相変調手段40は、第1ビームLaと第2ビームLbとの位相を相対的に変化させることを目的としているため、本実施形態では第2ビームLbの光路上にのみ配置しているが、目的を達するならば、両方の光路上に配置することとしても構わない。
また、本実施形態においては、同期が取られた2つの走査光学系50A,50Bを用いることとしたが、これに限らない。例えば、走査光学系50A,50Bに対応する2つの反射ミラーを備えた1つの走査光学系を用い、2つの反射ミラーを介した分離光が、各々スクリーン上の同じ描画点へ照射されるように操作することで、同期が取られた2つの走査光学系を用いた描画と同様の描画を行うこととしても良い。
また、本実施形態においては、フロント型の画像表示装置について説明したが、走査型プロジェクション方式を採用する画像表示装置であればリア投影型にも適応することができる。
また、本実施形態では、位相変調手段40として、液晶素子を用いることとしたが、これに限らない。
例えば、画像表示装置1を用いて、出画解像度をSVGA(800×600)、フレームレートを30Hzとして画像表示を行う場合、表示する画像において、1枚の画像の画素毎に異なるスペックルパターンを形成させると、更に滑らかな画像表示が可能となる。このような位相変調を実現するためには、約15MHz(30×800×600=14400000Hz)の位相変調速度が必要となる。
しかし上述のように、位相変調手段40として液晶素子100を用いる場合、1MHz程度の変調速度しか実現出来ないため、算出される変調速度は実現出来ない。このような高速の位相変調が必要となる場合には、位相変調手段として強誘電体結晶を用いることができる。
図5は、強誘電体結晶を用いた位相変調手段42の概略図である。位相変調手段42は、強誘電体結晶(電気光学材料)210と、強誘電体結晶210を挟持する透明電極217,218と、透明電極217,218に接続された電源(電圧供給手段)230と、を有している。強誘電体結晶としては、LiNbO3や、KTiOPO4(KTP)を用いることができる。
強誘電体結晶は、外から加える電場により分極反転構造が変化し、屈折率が変化すること(電気光学現象)が知られている。この現象を利用することにより、強誘電体結晶を用いた位相変調手段42では、数100MHz以上の位相変調速度が実現可能となる。
このような位相変調手段42は、加える電場に応じて、入射する光Lbが透過する領域の屈折率を時間的に変化させることができる。すると、屈折率の変化に応じて光Lbの光路長が変化し、光Laの位相に対する光Lbの位相が変化することとなる。
また、上記のような位相変調手段42を用いると、上述のような画像を表示する際には、同一画素を描画中に複数回の位相変調を行うことが可能となる。すると、更にスペックルが低減した高品質の画像を表示することが可能となる。なお、電圧を印加して屈折率が変わるならば、位相変調手段に用いる結晶は強誘電体でなくても良い。
また、位相変調手段は、次の図6に示す様な構成のものを用いても良い。図6は位相変調手段の他の例を示す概略図である。図6(a)は、光路長を制御するための凹凸板を示す断面図であり、図6(b)(c)は、凹凸板を用いた位相変調手段の装置構成を示す概略図である。
位相変調手段は、例えば図6(a)に示す様な断面構造を有する透明な凹凸板300を有する。凹凸板300は、屈折率nの形成材料を用い8段の段差を有して設けられている。各ステップ部300sの大きさWは、第2ビームLbのビーム径WLよりも大きく設定する。図では、階段状に段差が変化することとしているが、隣接するステップ部42s同士の段差の変化はランダムであっても良い。
また、最も厚く設けられたステップ部と最も薄く設けられたステップ部との、厚さ方向(高さ方向)の値Hは、H=λ/(n−n0)(λ:第2ビームの波長、n0:環境気体の屈折率、空気の場合≒1)とし、第2ビームLb内に0から2πまでの位相差を与えるものとする。
このような凹凸板300は、例えばアクリル樹脂(n≒1.5)を用いて形成することができる。透明樹脂を用いると、熱転写によって同じ形状の凹凸板を安価に量産することが可能となり、製造コストを下げることができる。
図6(b)は、上述の凹凸板を揺動させて位相変調を行う位相変調手段44の概略図である。位相変調手段44は、平面視略矩形の凹凸板300Aを備え、凹凸板300Aの一辺の両端部に、偏心板(駆動手段)310が付設されている。
偏心板310は、接続ピン312を介して凹凸板300と接続されているとともに、接続ピン312の配置位置とは異なる接続部314に、回転モータなどの駆動装置(駆動手段)320が接続されている。接続部314と重なって、偏心板310の回転中心軸が設定されている。
駆動装置320は、2つの偏心板310を同期して駆動させることができるならば、2つの偏心板310に対して共通して1つ設けられていても良く、2つの偏心板310にそれぞれ設けられていても良い。駆動装置320には電源330から電力が供給されている。
このような位相変調手段44は、駆動装置320を駆動させることで、接続部314と重なる回転中心軸周りを偏心板310が回転し、凹凸板300Aが揺動する。凹凸板300Aに照射される第2ビームLbのビームスポットSは、凹凸板の揺動に伴って位置が変化し、第2ビームLbは、ビームスポットSの照射位置における凹凸板300Aのステップ部の厚さに応じて位相変調を受ける。
このような位相変調手段44では、凹凸板300Aのステップ部の幅を1mm、接続ピン312の中心と接続部314の中心との距離を2mm、偏心板310の回転速度を100Hzとすると、約1kHz(2×2π×100≒1260Hz)の位相変調速度を実現することができる。
図6(c)は、上述の凹凸板を回転させて位相変調を行う位相変調手段46の概略図である。位相変調手段46は、平面視略円形の凹凸板300Bを備え、凹凸板300Aの中心部に、シャフト316が付設されている。シャフト316には、回転モータなどの駆動装置320および電源330が接続されている。
このような位相変調手段46は、駆動装置320を駆動させることで、シャフト316と重なって設定されている回転軸R周りに凹凸板300Bが回転する。凹凸板300Bに照射される第2ビームLbのビームスポットSは、凹凸板の回転に伴って位置が変化し、第2ビームLbは、ビームスポットSの照射位置における凹凸板300Bのステップ部の厚さに応じて位相変調を受ける。
このような位相変調手段46では、シャフト316の中心からビームスポットSの中心までの距離を3mm、凹凸板300Bの回転速度を200Hzとすると、ビームスポットSの中心では約3.8kHz(3×2π×200≒3770Hz)の位相変調速度を実現することができる。
位相変調手段44、46で可能な位相変調速度は、フレームレートの数十倍以上の速さであることから、表示画像間でスペックルパターンを重畳させ、スペックルが低減した画像を表示することができる。
[第2実施形態]
図7は、本発明の第2実施形態に係る画像表示装置の説明図である。本実施形態の画像表示装置は、第1実施形態の画像表示装置と一部共通している。異なるのは、位相変調手段が、第2ビームの光路の幾何学的な長さである行路長を変化させることである。したがって、本実施形態において第1実施形態と共通する構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
図7は、本発明の第2実施形態に係る画像表示装置の説明図である。本実施形態の画像表示装置は、第1実施形態の画像表示装置と一部共通している。異なるのは、位相変調手段が、第2ビームの光路の幾何学的な長さである行路長を変化させることである。したがって、本実施形態において第1実施形態と共通する構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
ここで、本実施形態の位相変調手段60は、第2ビームLbの経路(光路)の幾何学的な距離である行路長を変化させることで、第2ビームLbの光路長を変化させる構成となっている。
図に示すように、本実施形態の画像表示装置2が有する位相変調手段60は、駆動ステージ61上に設置された2枚のミラー62,63を有している。ハーフミラー30で分離される第2ビームLbは、ミラー62,63で反射されたのち、反射ミラー37を介してコンデンサレンズ24Bに入射する。図では、ミラー62,63は、各々90°の角度で第2ビームLbを反射しており、第2ビームLbが入射する方向へ反射する。
駆動ステージ61は、不図示の静電アクチュエーターで制御され、ミラー62に入射する第2ビームLbの光軸方向に往復振動する。この振動に伴い、第2ビームLbの行路は、振動の振幅AMの倍量の幅で連続的に変化する。これにより、第2ビームLbは光路長が変化し、位相が変調する。
スクリーン1000上では、対応する走査光学系50A,50Bに走査された平面波である第1ビームLaと、位相変調された平面波である第2ビームLbとが干渉することで干渉縞が生じ、第1実施形態と同様に、第2ビームLbの位相変調に伴って干渉縞が時間変動することにより、複数の干渉縞が観察者の網膜上で重畳される。
ここで、画像表示に用いるレーザー光は可視光領域の波長を有しており、長くても650nm程度である。そのため、振幅AMが650nmの数倍程度の値(例えば数μm)であったとしても、第2ビームLbの波長に対しては十分に大きい行路差を生じさせることとなる。
例えば、駆動ステージ61が、100μm/sの速度で往復運動をする構成であるならば、1秒間に約150周期分(100000÷650≒150)の波長に相当する行路差を生じさせることとなり、スクリーン上では1秒間に約150回干渉縞の明暗が変動し、異なるパターンの干渉縞が生じることとなる。これらの様々な干渉縞が重畳することで、観察者はスペックルが低減した画像として認識される。
以上のような構成の画像表示装置2によれば、機械的な制御で行路長を変更することで第2ビームLbの光路長を制御することができるため、安価な構成で第2ビームLbの位相を変調させ、干渉縞の様態に変動をあたえてスペックルを抑制することができる。
[第3実施形態]
図8は、本発明の第3実施形態に係る画像表示装置の説明図である。本実施形態の画像表示装置は、第1実施形態の画像表示装置と一部共通している。異なるのは、レーザー光源から射出した光を2つに分離するまえに位相変調を行うことである。したがって、本実施形態において第1実施形態と共通する構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
図8は、本発明の第3実施形態に係る画像表示装置の説明図である。本実施形態の画像表示装置は、第1実施形態の画像表示装置と一部共通している。異なるのは、レーザー光源から射出した光を2つに分離するまえに位相変調を行うことである。したがって、本実施形態において第1実施形態と共通する構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
図に示すように、本実施形態の画像表示装置3では、レーザー光源11から射出された直線偏光Lpがコリメートレンズ22を介して平行化され、コリメートレンズ22の下手側に配置されている位相変調手段70に入射する。
位相変調手段70は、直線偏光Lpの光路に直交し、且つ互いに直交する2方向に対して異なる屈折率を有しており、更に、異なる屈折率のうち一方の屈折率は変調可能な異方性位相変調素子となっている。本実施形態の位相変調手段70には液晶素子を用い、電極への印加電圧によって2方向の屈折率差を制御する構成となっている。直線偏光Lpは、上記直交する2方向に対して45°の方向となるように入射されることで、円偏光Lcに変調される。
その後、円偏光Lcは、偏光ビームスプリッター(分離手段)32によってp偏光成分である第1ビームLaと、s偏光成分である第2ビームLbに分離される。第2ビームLbは、反射ミラー25を介して光路上に配置されたλ/2板である位相差板72に入射され、偏光方向が90°回転してp偏光となる。位相差板72としては、例えば適切な厚さを備えた方解石を用いることができる。
スクリーン1000上では、対応する走査光学系50A,50Bに走査された平面波である第1ビームLaと、位相変調された平面波である第2ビームLbとが干渉することで干渉縞が生じ、第1実施形態と同様に、第2ビームLbの位相変調に伴って干渉縞が時間変動することにより、複数の干渉縞が観察者の網膜上で重畳される。
以上のような構成の画像表示装置3によれば、射出された直線偏光Lpに、予め特定方向の偏光成分への位相変調を与え、その後に分離することとしている。そのため、偏光ビームスプリッター32の後の構成を簡素化でき、装置を小型化することが可能となる。
なお、本実施形態においては、位相変調手段40として、液晶素子を用いることとしたが、これに限らない。他にも例えば、2軸の屈折率異方性を有する強誘電体結晶のような電気光学材料を用いることができる。
また、本実施形態においては、レーザー光源11は直線偏光を射出することとしたが、円偏光を射出する光源であっても同様に用いることができる。また、特定方向に振動方向を有する偏光でなく、全方位に振動を有する通常のレーザー光でもよい。
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
1,2,3…画像表示装置、10、11…レーザー光源(光源)、30…ハーフミラー(分離手段)、32…偏光ビームスプリッター(分離手段)40,42,44,46,60,70…位相変調手段、50,50A,50B…走査光学系(走査手段)、100…液晶素子、210…強誘電体結晶(電気光学材料)、300,300A,300B…凹凸板、320…駆動装置(駆動手段)、330…電源(電圧供給手段)、1000…スクリーン(被投射面)、L…光、La…第1ビーム(分離光)、Lb…第2ビーム(分離光)、Lp…直線偏光、LC…液晶分子(液晶材料、電気光学材料)、X…描画点、θa,θb…入射角度、
Claims (14)
- 光を射出する光源と、
前記光源から射出された光の光路上に配置され、前記光を複数の分離光に分離する分離手段と、
複数の前記分離光を被投射面上で2次元方向に走査して画像を描画する走査手段と、
前記光源から前記走査手段までの前記光の光路に配置され、複数の前記分離光に係る光路長を制御することで前記分離光の位相を時間的に変化させる位相変調手段と、を備え、
前記走査手段は、前記分離光の各々を被照射面の同じ描画点に互いに異なる入射角度で照射することを特徴とする画像表示装置。 - 前記位相変調手段は、複数の前記分離光の光路のうち少なくとも1つの光路上に配置され、
前記位相変調手段は、前記分離光の光路において前記分離光が透過する媒質の屈折率を変更することを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。 - 前記位相変調手段は、自身への印加電圧によって自身を透過する光に対する屈折率が変化する電気光学材料と、
前記電気光学材料に電圧を印加する電圧供給手段と、を有することを特徴とする請求項2に記載の画像表示装置。 - 前記電気光学材料は、強誘電体結晶であることを特徴とする請求項3に記載の画像表示装置。
- 前記電気光学材料は、液晶材料であることを特徴とする請求項3に記載の画像表示装置。
- 前記位相変調手段は、表面に凹凸を有し前記分離光が照射される凹凸板と、
前記凹凸板を前記分離光の光軸と交わる方向に揺動させる、または前記分離光の光軸と平行な方向に設定された回転軸まわりに回転させる駆動手段と、を有することを特徴とする請求項2に記載の画像表示装置。 - 前記位相変調手段は、複数の前記分離光の光路のうち少なくとも1つの光路上に配置され、
前記位相変調手段は、前記分離光の光路における幾何学的な距離を変更することを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。 - 前記位相変調手段は、前記光源と前記分離手段との間の光路上に配置され、前記光源から射出される前記光における2つの偏光の偏光方向と同方向に屈折率異方性を有し、
前記分離手段は、前記光を前記2つの偏光である前記分離光に分離し、
前記分離手段から前記走査手段までの前記分離光の光路に、2つの前記分離光の偏光方向を、互いに同じ偏光方向とする位相差板を有することを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。 - 前記位相変調手段は、自身への印加電圧によって前記2方向の相対的な屈折率が変わる電気光学材料と、
前記電気光学材料に電圧を印加する電圧供給手段と、を有することを特徴とする請求項8に記載の画像表示装置。 - 前記電気光学材料は、強誘電体結晶であることを特徴とする請求項9に記載の画像表示装置。
- 前記電気光学材料は、液晶材料であることを特徴とする請求項9に記載の画像表示装置。
- 前記位相変調手段は、前記2方向に屈折率異方性を有するとともに表面に凹凸を有し前記分離光が照射される凹凸板と、
前記凹凸板を前記分離光の光軸と交わる方向に揺動させる、または前記分離光の光軸と平行な方向に設定された回転軸まわりに回転させる駆動手段と、を有することを特徴とする請求項8に記載の画像表示装置。 - 前記位相変調手段の変調速度が、複数の前記分離光が前記描画点を描画する描画速度よりも大きいことを特徴とする請求項1から12のいずれか1項に記載の画像表示装置。
- 前記走査手段は、前記分離光のそれぞれに対応して設けられることを特徴とする請求項1から13のいずれか1項に記載の画像表示装置。
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011215172A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Hitachi Consumer Electronics Co Ltd | レーザープロジェクタ |
JP2012073368A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Funai Electric Co Ltd | 光走査装置 |
JP2012128214A (ja) * | 2010-12-16 | 2012-07-05 | Ushio Inc | レーザ光源装置 |
JP2012226270A (ja) * | 2011-04-22 | 2012-11-15 | Dainippon Printing Co Ltd | 照明装置及び投射型映像表示装置 |
KR20150003906A (ko) * | 2012-06-05 | 2015-01-09 | 가부시키가이샤 덴소 | 헤드업 디스플레이 장치 |
JP2015111269A (ja) * | 2014-12-22 | 2015-06-18 | 船井電機株式会社 | 表示装置 |
US20150355474A1 (en) * | 2013-01-21 | 2015-12-10 | Intel Corporation | A Method for Reducing Speckle |
US11409199B2 (en) * | 2017-10-25 | 2022-08-09 | Nikon Corporation | Pattern drawing device |
US11558590B2 (en) * | 2014-06-03 | 2023-01-17 | Mtt Innovation Incorporated | Efficient, dynamic, high contrast lensing with applications to imaging, illumination and projection |
-
2008
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Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9122145B2 (en) | 2010-03-31 | 2015-09-01 | Hitachi Maxwell, Ltd. | Laser projector with reduced speckle |
JP2011215172A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Hitachi Consumer Electronics Co Ltd | レーザープロジェクタ |
JP2012073368A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Funai Electric Co Ltd | 光走査装置 |
JP2012128214A (ja) * | 2010-12-16 | 2012-07-05 | Ushio Inc | レーザ光源装置 |
CN102566079A (zh) * | 2010-12-16 | 2012-07-11 | 优志旺电机株式会社 | 激光光源装置 |
US8851705B2 (en) | 2010-12-16 | 2014-10-07 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Laser light source apparatus |
CN102566079B (zh) * | 2010-12-16 | 2015-09-30 | 优志旺电机株式会社 | 激光光源装置 |
JP2012226270A (ja) * | 2011-04-22 | 2012-11-15 | Dainippon Printing Co Ltd | 照明装置及び投射型映像表示装置 |
KR20150003906A (ko) * | 2012-06-05 | 2015-01-09 | 가부시키가이샤 덴소 | 헤드업 디스플레이 장치 |
KR101643077B1 (ko) | 2012-06-05 | 2016-07-26 | 가부시키가이샤 덴소 | 헤드업 디스플레이 장치 |
US9477080B2 (en) | 2012-06-05 | 2016-10-25 | Denso Corporation | Head-up display device |
US20150355474A1 (en) * | 2013-01-21 | 2015-12-10 | Intel Corporation | A Method for Reducing Speckle |
CN105556371A (zh) * | 2013-01-21 | 2016-05-04 | 英特尔公司 | 减弱散斑的方法 |
US10073260B2 (en) * | 2013-01-21 | 2018-09-11 | Intel Corporation | Method for reducing speckle |
US11558590B2 (en) * | 2014-06-03 | 2023-01-17 | Mtt Innovation Incorporated | Efficient, dynamic, high contrast lensing with applications to imaging, illumination and projection |
US11877102B2 (en) | 2014-06-03 | 2024-01-16 | Mtt Innovation Incorporated | Efficient, dynamic, high contrast lensing with applications to imaging, illumination and projection |
JP2015111269A (ja) * | 2014-12-22 | 2015-06-18 | 船井電機株式会社 | 表示装置 |
US11409199B2 (en) * | 2017-10-25 | 2022-08-09 | Nikon Corporation | Pattern drawing device |
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