JP5978071B2 - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5978071B2 JP5978071B2 JP2012191285A JP2012191285A JP5978071B2 JP 5978071 B2 JP5978071 B2 JP 5978071B2 JP 2012191285 A JP2012191285 A JP 2012191285A JP 2012191285 A JP2012191285 A JP 2012191285A JP 5978071 B2 JP5978071 B2 JP 5978071B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- chamber
- cup
- processing apparatus
- processing liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Weting (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
請求項4に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置であって、密閉された内部空間を形成するチャンバと、前記チャンバの上部を含むチャンバ蓋部を他の部位に対して相対的に昇降するチャンバ開閉機構と、前記チャンバ内に配置され、水平状態で基板を保持する基板保持部と、上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、前記基板上に処理液を供給する処理液供給部と、前記中心軸に垂直な板状であり、前記中心軸を中心として回転可能に前記チャンバ蓋部に取り付けられ、前記チャンバが密閉された前記内部空間を形成する状態で、前記中心軸を中心とする周方向において前記基板保持部と係合するトッププレートと、前記チャンバの周囲に位置するカップ部とを備え、前記チャンバ蓋部の前記他の部位に対する相対移動により前記基板の周囲に環状開口が形成された状態で、前記カップ部が、前記環状開口の径方向外側に位置し、回転する前記基板から飛散する処理液を受ける。
9 基板
12 チャンバ
14 基板保持部
15,15a 基板回転機構
18 処理液供給部
81 環状開口
120 内部空間
121 チャンバ本体
122 チャンバ蓋部
123 トッププレート
131 蓋部昇降機構
161 第1カップ部
163 第2カップ部
164 第2カップ昇降機構
181 上部ノズル
186 ガス供給部
J1 中心軸
Claims (9)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
密閉された内部空間を形成するチャンバと、
前記チャンバの上部を含むチャンバ蓋部を他の部位に対して相対的に昇降するチャンバ開閉機構と、
前記チャンバ内に配置され、水平状態で基板を保持する基板保持部と、
上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、
前記基板上に処理液を供給する処理液供給部と、
前記中心軸に垂直な板状であり、前記中心軸を中心として回転可能に前記チャンバ蓋部に取り付けられ、前記チャンバが密閉された前記内部空間を形成する状態で、前記中心軸を中心とする周方向において前記基板保持部と係合するトッププレートと、
を備え、
前記処理液供給部が、前記トッププレートと前記基板保持部とが係合する状態で、前記トッププレートの中央から処理液を吐出することにより、前記トッププレートと前記基板との間に処理液を供給するノズルを含むことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記トッププレートと前記基板保持部とが係合する状態で、前記トッププレートと前記基板との間にガスを供給するガス供給部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記チャンバの周囲に位置するカップ部をさらに備え、
前記チャンバ蓋部の前記他の部位に対する相対移動により前記基板の周囲に環状開口が形成された状態で、前記カップ部が、前記環状開口の径方向外側に位置し、回転する前記基板から飛散する処理液を受けることを特徴とする基板処理装置。 - 基板を処理する基板処理装置であって、
密閉された内部空間を形成するチャンバと、
前記チャンバの上部を含むチャンバ蓋部を他の部位に対して相対的に昇降するチャンバ開閉機構と、
前記チャンバ内に配置され、水平状態で基板を保持する基板保持部と、
上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、
前記基板上に処理液を供給する処理液供給部と、
前記中心軸に垂直な板状であり、前記中心軸を中心として回転可能に前記チャンバ蓋部に取り付けられ、前記チャンバが密閉された前記内部空間を形成する状態で、前記中心軸を中心とする周方向において前記基板保持部と係合するトッププレートと、
前記チャンバの周囲に位置するカップ部と、
を備え、
前記チャンバ蓋部の前記他の部位に対する相対移動により前記基板の周囲に環状開口が形成された状態で、前記カップ部が、前記環状開口の径方向外側に位置し、回転する前記基板から飛散する処理液を受けることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3または4に記載の基板処理装置であって、
前記トッププレートが、前記チャンバ蓋部との間の距離が変更可能な状態で前記チャンバ蓋部に取り付けられており、
前記チャンバ蓋部と前記チャンバの前記他の部位との間の距離が第1の距離の場合に、前記トッププレートが、前記周方向において前記基板保持部と係合し、
前記チャンバ蓋部と前記チャンバの前記他の部位との間の距離が前記第1の距離よりも大きい第2の距離の場合に、前記トッププレートと前記基板保持部とが離間することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3ないし5のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記カップ部を昇降することにより、前記カップ部を、前記環状開口の径方向外側の位置と、当該位置よりも下方の他の位置との間で移動するカップ昇降機構をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6に記載の基板処理装置であって、
前記チャンバの径方向外側に位置する他のカップ部をさらに備え、
前記カップ昇降機構により前記カップ部が昇降することにより、前記カップ部が前記基板からの処理液を受ける状態と、前記他のカップ部が前記基板からの処理液を受ける状態とが切り替わることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3ないし7のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記カップ部が前記基板から飛散する処理液を受ける状態において、前記カップ部の上部と前記チャンバの前記上部とが近接する、または、接することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3ないし8のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記処理液供給部が、前記基板に純水と薬液とを供給し、
前記チャンバ内が密閉された状態で、前記チャンバが、前記基板から飛散するIPAまたは水を受け、
前記環状開口が形成された状態で、前記カップ部が前記基板から飛散する薬液を受けることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (12)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012191285A JP5978071B2 (ja) | 2012-08-31 | 2012-08-31 | 基板処理装置 |
KR20130096401A KR101512560B1 (ko) | 2012-08-31 | 2013-08-14 | 기판처리장치 |
US13/969,995 US9555437B2 (en) | 2012-08-31 | 2013-08-19 | Substrate processing apparatus |
TW102130564A TWI522176B (zh) | 2012-08-31 | 2013-08-27 | 基板處理裝置 |
CN202010366691.2A CN111524839B (zh) | 2012-08-31 | 2013-08-30 | 基板处理装置 |
CN201611221241.4A CN106952844B (zh) | 2012-08-31 | 2013-08-30 | 基板处理装置 |
CN202010366665.XA CN111524838B (zh) | 2012-08-31 | 2013-08-30 | 基板处理装置 |
CN201310388692.7A CN103681237B (zh) | 2012-08-31 | 2013-08-30 | 基板处理装置 |
US15/383,718 US10026627B2 (en) | 2012-08-31 | 2016-12-19 | Substrate processing apparatus |
US16/012,170 US10707097B2 (en) | 2012-08-31 | 2018-06-19 | Substrate processing apparatus |
US16/012,073 US10707096B2 (en) | 2012-08-31 | 2018-06-19 | Substrate processing apparatus |
US16/012,337 US10734252B2 (en) | 2012-08-31 | 2018-06-19 | Substrate processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012191285A JP5978071B2 (ja) | 2012-08-31 | 2012-08-31 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014049606A JP2014049606A (ja) | 2014-03-17 |
JP5978071B2 true JP5978071B2 (ja) | 2016-08-24 |
Family
ID=50608972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012191285A Active JP5978071B2 (ja) | 2012-08-31 | 2012-08-31 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5978071B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6010398B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-10-19 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
KR101512560B1 (ko) | 2012-08-31 | 2015-04-15 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판처리장치 |
JP6292934B2 (ja) * | 2014-03-26 | 2018-03-14 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
US9947572B2 (en) | 2014-03-26 | 2018-04-17 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
JP6230941B2 (ja) * | 2014-03-26 | 2017-11-15 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP6294121B2 (ja) * | 2014-03-26 | 2018-03-14 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
TWI661479B (zh) | 2015-02-12 | 2019-06-01 | 日商思可林集團股份有限公司 | 基板處理裝置、基板處理系統以及基板處理方法 |
JP6491900B2 (ja) * | 2015-02-12 | 2019-03-27 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP7029251B2 (ja) * | 2017-08-28 | 2022-03-03 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP6948894B2 (ja) * | 2017-09-22 | 2021-10-13 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP6442018B2 (ja) * | 2017-10-04 | 2018-12-19 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法 |
JP6642597B2 (ja) * | 2018-02-02 | 2020-02-05 | 信越半導体株式会社 | ウェーハ洗浄処理装置及びウェーハ洗浄方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3388628B2 (ja) * | 1994-03-24 | 2003-03-24 | 東京応化工業株式会社 | 回転式薬液処理装置 |
JP2000277482A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | ウエハのエッチング方法およびウエハの回転式エッチング装置 |
JP2006278955A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP6010398B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-10-19 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
-
2012
- 2012-08-31 JP JP2012191285A patent/JP5978071B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014049606A (ja) | 2014-03-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5978071B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6010398B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR101512560B1 (ko) | 기판처리장치 | |
JP5973299B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5973300B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6017999B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR101756047B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP6163315B2 (ja) | 基板処理装置 | |
TWI660791B (zh) | 基板處理裝置 | |
JP2014157901A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6246602B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6057886B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6706564B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP5936505B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6216279B2 (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150619 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151119 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160704 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160725 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5978071 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |