JP5896034B2 - 可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 - Google Patents
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- 239000010419 fine particle Substances 0.000 title claims description 355
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims description 295
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title claims description 135
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims description 88
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 62
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 26
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 284
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 279
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 117
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 79
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 77
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 67
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 51
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 43
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims description 39
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 37
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 claims description 29
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 claims description 29
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 28
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 28
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 claims description 26
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 19
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 14
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 12
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 10
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 150000003377 silicon compounds Chemical group 0.000 claims description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- 230000004298 light response Effects 0.000 claims description 6
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 claims description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 58
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 56
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 54
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 54
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 50
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 41
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 39
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 37
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 35
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 31
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 30
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 28
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 23
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 22
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 20
- -1 promoters Substances 0.000 description 20
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 16
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 14
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 14
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 12
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 12
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 10
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 description 7
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 5
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 4
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- 229910017488 Cu K Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017541 Cu-K Inorganic materials 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004998 X ray absorption near edge structure spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 3
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 3
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 3
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L vanadyl sulfate Chemical compound [V+2]=O.[O-]S([O-])(=O)=O UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229940041260 vanadyl sulfate Drugs 0.000 description 3
- 229910000352 vanadyl sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002056 X-ray absorption spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 2
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 2
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101710141544 Allatotropin-related peptide Proteins 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 108010052285 Membrane Proteins Proteins 0.000 description 1
- 102000018697 Membrane Proteins Human genes 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010560 atom transfer radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006121 base glass Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000011982 enantioselective catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000007603 infrared drying Methods 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- YDZQQRWRVYGNER-UHFFFAOYSA-N iron;titanium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Ti].[Fe] YDZQQRWRVYGNER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- PDKHNCYLMVRIFV-UHFFFAOYSA-H molybdenum;hexachloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Mo] PDKHNCYLMVRIFV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005445 natural material Substances 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000003463 organelle Anatomy 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005502 peroxidation Methods 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000010532 solid phase synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000629 steam reforming Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J tin(4+);tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Sn+4] CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- BAKALPNAEUOCDL-UHFFFAOYSA-N titanium hydrochloride Chemical compound Cl.[Ti] BAKALPNAEUOCDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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Description
本発明は、各種触媒、助触媒、抗菌剤などに使用される銅含有酸化チタン微粒子を含む可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法及び該分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材に関し、更に詳細には、室内冷暗所に長期放置しても酸化チタン微粒子の水性分散媒中への分散安定性に優れ、また、可視光(400〜800nm)のみでも光触媒活性を発現し、透明性が高く、かつ熱や紫外線曝露に対して銅の配位状態が安定で変性し難く、耐久性が高い光触媒薄膜を簡便に作製することができる銅含有酸化チタン微粒子を含む可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び該分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材に関する。
Cu単体又はCuを含む金属酸化物は、工業的に多く利用されており、特に、助触媒、抗菌剤分野での活用例が多い。助触媒として使用される場合は、近年では、光触媒の可視光増感、有機合成の不斉化触媒、高分子化合物のATRP重合触媒、各種有機化合物の水蒸気改質触媒などに用いられている。また、Cu単体又はCuイオンには抗菌性があることも古くから知られており、標的細菌の酵素阻害、膜タンパク変性、細胞小器官の構成タンパク変性によって、静菌、殺菌に至る機序が近年でも研究されている。これらの効果を期待して製造されるCu含有触媒は、一般的に、金属Cuイオンを添加するか、あるいはCu酸化物を微粒子状に単体金属酸化物に積載した状態で製造される。しかしながら、これらのCu含有金属酸化物は、いずれも光や熱、水分などの周囲の環境によって、Cuの組成が変化するため、上述の触媒増感作用や抗菌作用は、いずれも初期には高い作用が期待できるが、早くて数週間程で劣化してその効果を失うため、長期に渡ってその効果を持続する必要がある用途では問題となる。
酸化チタンは、種々の用途、例えば、顔料、紫外線遮蔽剤、触媒、光触媒、触媒担体、吸着剤、イオン交換剤、充填剤、補強剤、セラミックス用原料、ペロブスカイト型複合酸化物等の複合酸化物の前駆体及び磁気テープの下塗り剤等に使用されている。
中でも光触媒性酸化チタン微粒子は、400nm以下の紫外光を含む光線の照射下で光触媒作用を有する物質である。光触媒作用とは、400nm以下の紫外光励起によって生成し表面に拡散してきた正孔と電子がその表面に吸着している分子と共に酸化還元反応を行う作用である。この酸化還元反応により、酸化チタン表面に吸着した有機物は分解される。この光触媒作用を持った酸化チタン微粒子を基材表面に塗布し、光触媒薄膜を形成すると、励起光を照射することで、吸着した有害有機物を分解させることができることから、基材表面の清浄化、脱臭、抗菌等の用途に多用されている。光触媒活性を高めるために、光触媒粒子と分解対象物質との接触面積を広くとることが、また、塗布対象基材の意匠性を維持するために、膜の透明性が要求されている。これらの要求を満たすためには、酸化チタン分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径が50nm以下であることが必要である。
更に、酸化チタンは、太陽光等に含まれる比較的波長の短い紫外領域の光(波長10〜400nm)の照射下では良好な光触媒作用を示すものの、蛍光灯のように可視領域の光(波長400〜800nm)が大部分を占める光源で照らされた室内空間では、十分な光触媒作用を発現しにくい場合がある。近年では、可視光応答型光触媒として、酸化タングステン光触媒体(特開2009−148700号公報:特許文献1)が注目されているが、タングステンは希少元素であるため、汎用元素であるチタンを利用した光触媒の可視光活性向上が望まれている。
酸化チタン微粒子の一般的な製造方法としては、工業的にはイルメナイト鉱、ルチル鉱を原料とした硫酸法、塩素法(酸化チタン、技報堂出版:非特許文献1)、その他、加水分解−焼成法、有機溶媒中での反応、固相法(光触媒標準研究法、東京図書:非特許文献2)などが挙げられる。この酸化チタン微粒子を基材表面に塗布し、かつ塗布対象基材の意匠性を維持するために塗布液中への超微分散処理が行われる。一般的な微分散処理方法としては、例えば、合成した酸化チタン微粉末を有機分散剤等の分散助剤を用い、湿式分散機により分散媒中に分散する方法(特開平01−003020号公報:特許文献2、特開平06−279725号公報:特許文献3、特開平07−247119号公報:特許文献4、特開2004−182558号公報:特許文献5)や、酸化チタンの表面処理により分散媒中に安定に分散する方法(特開2005−170687号公報:特許文献6、特開2009−179497号公報:特許文献7)などが挙げられる。しかし、これらの製法の問題点は、平均粒子径50nm以下の超微粒子が凝集を起こし易いため、一次粒子まで分散するためには多大な労力を必要とし、場合によっては一次粒子まで分散することが不可能な点と、分散安定性を増すために無機成分や有機成分による粒子表面の処理や界面活性剤などの分散助剤添加などが行われ、光触媒表面がこれらにより被覆されてしまうために、光触媒活性発現の阻害要因となる点である。
また、水酸化チタンを過酸化水素で溶解したペルオキソチタン酸溶液を水熱処理することで、長期安定なアナターゼ型酸化チタン分散液を製造する方法(特開平10−67516号公報:特許文献8)や、ルチル型酸化チタンゾルの製造法(特開平2−255532号公報:特許文献9)、及び酸化チタンゾルの製造方法(特開平10−182152号公報:特許文献10)が開示されている。これら酸化チタン微粒子分散液は、表面処理や分散助剤を使用せずとも平均粒子径50nm以下で分散しており、基材にコーティングすることで得られる光触媒性コーティング膜は優れた透明性や紫外光照射下での活性を示すが、十分な可視光活性は得ることができない。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、光触媒活性発現の阻害要因となる有機分散剤や界面活性剤の添加や、酸化チタン粒子の表面処理をせずとも、酸化チタン微粒子の水性分散媒中への長期分散安定性に優れ、また、可視光(400〜800nm)のみでも光触媒活性を発現し、透明性が高く、かつ熱や紫外線曝露に対して銅の配位状態が安定で変性し難く、耐久性が高い光触媒薄膜を簡便に作製することができる銅含有酸化チタン微粒子を含む可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び該分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題解決するために鋭意検討を行った結果、銅成分として銅化合物を含むペルオキソチタン酸水溶液を、高圧下、加熱して結晶化させた銅含有酸化チタン微粒子を使用した場合にのみ、酸化チタン微粒子の水性分散媒中への長期分散安定性に優れ、また、可視光(400〜800nm)のみでも光触媒活性を発現し、透明性が高く、かつ熱や紫外線曝露に対して銅の配位状態が安定で変性し難く、耐久性が高い光触媒薄膜を簡便に作製することができる銅含有酸化チタン微粒子を含む可視光応答型光触媒微粒子分散液が得られることを見出し、本発明をなすに至った。
即ち、本発明者らは、先に、原料チタン化合物、バナジウム化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒からバナジウム化合物及びスズ化合物を含有したペルオキソチタン酸溶液を製造し、これを高圧下に水熱反応させ、次いでこれに銅化合物を混合することで、ペルオキソチタン成分、バナジウム成分、スズ成分を含有した酸化チタン微粒子が分散されていると共に、銅成分が含有されている酸化チタン微粒子分散液を提案した(特開2013−126654号公報)。この酸化チタン微粒子分散液は、室内冷暗所に長期放置しても酸化チタン微粒子の分散安定性に優れ、また、可視光(400〜800nm)のみでも光触媒活性を発現する透明性の高い光触媒薄膜を簡便に作製することができるものである。
しかし、当該光触媒薄膜は、可視光照射下(400〜800nm)や微弱な紫外線しか含まない蛍光灯照射下では比較的長期に亘って可視光による光触媒作用が維持されるものの、400nm以下の光線を含むUVライトや太陽光に長期に亘って晒されると可視光照射による光触媒作用が大きく低下してしまうという課題が発見された。
また、当該光触媒薄膜は、蛍光灯のように可視光領域の光が大部分を占める室内空間での使用を意図して作製されており、そのような環境下であれば紫外線に長期に亘って晒されることはないため光触媒作用の低下はさほど大きくはないと予想されるが、室内でも窓際など太陽光に晒される場所もあるため、紫外線による光触媒作用の低下が抑制されていることが好ましい。
ここで、本発明と先の提案(特開2013−126654号公報)との相違点は、本発明が、分散液中に銅成分を含有させるに際し、予め作製されたペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子を使用した点であり、更に詳細には、例えば、後述する分散液の製造方法のように、i)ペルオキソチタン成分、スズ成分及び可視光応答性を高める遷移金属成分(バナジウム等)を含有する酸化チタン微粒子を分散させた分散液に、これとは別のii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有する酸化チタン微粒子を分散させた分散液を混合した点にある。
つまり、先の提案の分散液では、分散液に、単に銅化合物を混合しているので、銅成分は分散液中に分散及び/又は溶解しているに過ぎないが、本発明の分散液では、予めii)の酸化チタン微粒子が、銅化合物を含むペルオキソチタン酸水溶液を、高圧下、加熱して結晶化させる水熱反応によって作製され、これを分散液に混合しているので、銅成分は主として酸化チタン微粒子中に固溶された状態で存在している。
従って、本発明の分散液によって形成される光触媒薄膜は、可視光下での高い光触媒活性や高い透明性などの優れた特徴を更に高めると同時に、熱や紫外線曝露に対して銅の配位状態が安定で変性し難いことから、それらの耐久性も高めることができるものである。
つまり、先の提案の分散液では、分散液に、単に銅化合物を混合しているので、銅成分は分散液中に分散及び/又は溶解しているに過ぎないが、本発明の分散液では、予めii)の酸化チタン微粒子が、銅化合物を含むペルオキソチタン酸水溶液を、高圧下、加熱して結晶化させる水熱反応によって作製され、これを分散液に混合しているので、銅成分は主として酸化チタン微粒子中に固溶された状態で存在している。
従って、本発明の分散液によって形成される光触媒薄膜は、可視光下での高い光触媒活性や高い透明性などの優れた特徴を更に高めると同時に、熱や紫外線曝露に対して銅の配位状態が安定で変性し難いことから、それらの耐久性も高めることができるものである。
従って、本発明は、下記に示す可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、光触媒薄膜を形成する方法、及び光触媒薄膜を持つ部材を提供する。
〔1〕水性分散媒中に、i)ペルオキソチタン成分、スズ成分及び可視光応答性を高める遷移金属成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子との2種類の酸化チタン微粒子が分散されていることを特徴とする可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔2〕i)及びii)の酸化チタン微粒子の分散径が、それぞれレーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)で5〜30nmであることを特徴とする〔1〕に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔3〕ペルオキソチタン成分の含有量が、i)及びii)の酸化チタン微粒子の合計量に対して0.05〜2質量%であることを特徴とする〔1〕又は〔2〕に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔4〕i)の酸化チタン微粒子中のスズ成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Sn)で10〜1,000であり、遷移金属成分(遷移金属M)の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/M)で10〜10,000であることを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔5〕i)の酸化チタン微粒子中の可視光応答性を高める遷移金属成分の遷移金属が、バナジウム、鉄、モリブデン、クロムから選ばれるものであることを特徴とする〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔6〕ii)の酸化チタン微粒子中の銅成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Cu)で1〜1,000であることを特徴とする〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔7〕ii)の酸化チタン微粒子中に銅成分が固溶されていることを特徴とする〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔8〕更に、バインダーを含有することを特徴とする〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔9〕バインダーが、ケイ素化合物系バインダーであることを特徴とする〔8〕に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔10〕〔1〕〜〔9〕のいずれか1項に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液を用いて光触媒薄膜を形成する方法。
〔11〕i)ペルオキソチタン成分、スズ成分及び可視光応答性を高める遷移金属成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子との2種類の酸化チタン微粒子が分散された光触媒膜を持つ部材。
〔12〕(1)原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃で加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程、
(3)原料チタン化合物、遷移金属化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(4)上記(3)の工程で製造した遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃で加熱し、遷移金属及びスズ含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程、
(5)上記(2),(4)の工程で製造した2種類の酸化チタン微粒子分散液を混合する工程
を有することを特徴とする可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法。
〔13〕遷移金属化合物の遷移金属が、バナジウム、鉄、モリブデン、クロムから選ばれるものであることを特徴とする〔12〕に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法。
〔1〕水性分散媒中に、i)ペルオキソチタン成分、スズ成分及び可視光応答性を高める遷移金属成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子との2種類の酸化チタン微粒子が分散されていることを特徴とする可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔2〕i)及びii)の酸化チタン微粒子の分散径が、それぞれレーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)で5〜30nmであることを特徴とする〔1〕に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔3〕ペルオキソチタン成分の含有量が、i)及びii)の酸化チタン微粒子の合計量に対して0.05〜2質量%であることを特徴とする〔1〕又は〔2〕に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔4〕i)の酸化チタン微粒子中のスズ成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Sn)で10〜1,000であり、遷移金属成分(遷移金属M)の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/M)で10〜10,000であることを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔5〕i)の酸化チタン微粒子中の可視光応答性を高める遷移金属成分の遷移金属が、バナジウム、鉄、モリブデン、クロムから選ばれるものであることを特徴とする〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔6〕ii)の酸化チタン微粒子中の銅成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Cu)で1〜1,000であることを特徴とする〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔7〕ii)の酸化チタン微粒子中に銅成分が固溶されていることを特徴とする〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔8〕更に、バインダーを含有することを特徴とする〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔9〕バインダーが、ケイ素化合物系バインダーであることを特徴とする〔8〕に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
〔10〕〔1〕〜〔9〕のいずれか1項に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液を用いて光触媒薄膜を形成する方法。
〔11〕i)ペルオキソチタン成分、スズ成分及び可視光応答性を高める遷移金属成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子との2種類の酸化チタン微粒子が分散された光触媒膜を持つ部材。
〔12〕(1)原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃で加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程、
(3)原料チタン化合物、遷移金属化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(4)上記(3)の工程で製造した遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃で加熱し、遷移金属及びスズ含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程、
(5)上記(2),(4)の工程で製造した2種類の酸化チタン微粒子分散液を混合する工程
を有することを特徴とする可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法。
〔13〕遷移金属化合物の遷移金属が、バナジウム、鉄、モリブデン、クロムから選ばれるものであることを特徴とする〔12〕に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法。
本発明によれば、室内冷暗所に長期放置しても酸化チタン微粒子の水性分散媒中への分散安定性に優れ、また、可視光(400〜800nm)のみでも光触媒活性を発現し、透明性が高く、かつ熱や紫外線曝露に対して銅の配位状態が安定で変性し難く、耐久性が高い光触媒薄膜を簡便に作製することができる銅含有酸化チタン微粒子を含む可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び該分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材を提供することができる。
以下、本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び該分散液を用いて形成される光触媒薄膜を表面に有する部材について詳細に説明する。
〔可視光応答型光触媒微粒子分散液〕
本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液は、後述する水熱反応によって得られるものであり、(I)水性分散媒中に、ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子が分散された可視光応答型光触媒微粒子分散液、及び、(II)水性分散媒中に、i)ペルオキソチタン成分、スズ成分及び可視光応答性を高める遷移金属成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子との2種類の酸化チタン微粒子が分散された可視光応答型光触媒微粒子分散液、の2つがある。
〔可視光応答型光触媒微粒子分散液〕
本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液は、後述する水熱反応によって得られるものであり、(I)水性分散媒中に、ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子が分散された可視光応答型光触媒微粒子分散液、及び、(II)水性分散媒中に、i)ペルオキソチタン成分、スズ成分及び可視光応答性を高める遷移金属成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子との2種類の酸化チタン微粒子が分散された可視光応答型光触媒微粒子分散液、の2つがある。
ここで、酸化チタン微粒子には、通常、ルチル型、アナターゼ型、ブルッカイト型の3つが知られているが、(I)及び(II)のいずれの分散液においても、主として、アナターゼ型及びルチル型を利用することが好ましい。尚、ここでいう、「主として」とは、通常、酸化チタン微粒子結晶全体のうち、50質量%以上、好ましくは70質量%以上、更に好ましくは90質量%以上であり、100質量%であってもよい。
また、(I)及び(II)のいずれの分散液においても、酸化チタン微粒子が分散される水性分散媒としては、水性溶媒が使用される。水性溶媒としては、水、及び水と任意の割合で混合される親水性有機溶媒との混合溶媒が挙げられる。水としては、例えば、脱イオン水、蒸留水、純水等が好ましい。親水性有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコールが好ましい。この場合、親水性有機溶媒の混合割合は、水性分散媒中0〜50質量%、より好ましくは0〜20質量%、更に好ましくは0〜10質量%であることが好ましい。中でも、生産性、コスト等の点から純水が最も好ましい。
(I)及び(II)のii)の酸化チタン微粒子が分散された分散液において、酸化チタン微粒子に含有させる銅成分は、光触媒薄膜の可視光応答性を高めるためのもので、銅化合物から誘導されるものであればよく、例えば、銅の金属、酸化物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、錯化合物等が挙げられ、これらの1種又は2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
このような酸化チタン微粒子中の銅成分の含有量は、酸化チタンとのモル比(Ti/Cu)で1〜1,000、好ましくは10〜200、より好ましくは20〜100である。これは、モル比が1未満の場合、酸化チタン結晶の含有割合が低下し光触媒効果が十分発揮されないことがあり、1,000超過の場合、十分な可視光活性が得られず、可視光応答性が不十分となることがあるためである。
ここで、銅成分は、単に酸化チタン微粒子に混合、吸着又は担持等されるのではなく、可及的に酸化チタン微粒子から分離、脱離しないように含有させることが好ましく、特に酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれていることが好ましい。これは、銅成分を固溶することによって、熱や紫外線曝露に対して銅の配位状態が安定で変性し難く、耐久性が高い光触媒薄膜を形成することができるためである。このような銅成分の固溶形態は、後述する可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法により得ることができる。尚、一部の銅成分が、酸化チタン微粒子から分離、脱離し、分散液中に溶解及び/又は分散してもよい。
このような酸化チタン微粒子中の銅成分の含有量は、酸化チタンとのモル比(Ti/Cu)で1〜1,000、好ましくは10〜200、より好ましくは20〜100である。これは、モル比が1未満の場合、酸化チタン結晶の含有割合が低下し光触媒効果が十分発揮されないことがあり、1,000超過の場合、十分な可視光活性が得られず、可視光応答性が不十分となることがあるためである。
ここで、銅成分は、単に酸化チタン微粒子に混合、吸着又は担持等されるのではなく、可及的に酸化チタン微粒子から分離、脱離しないように含有させることが好ましく、特に酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれていることが好ましい。これは、銅成分を固溶することによって、熱や紫外線曝露に対して銅の配位状態が安定で変性し難く、耐久性が高い光触媒薄膜を形成することができるためである。このような銅成分の固溶形態は、後述する可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法により得ることができる。尚、一部の銅成分が、酸化チタン微粒子から分離、脱離し、分散液中に溶解及び/又は分散してもよい。
(II)の分散液において、i)の酸化チタン微粒子に含有させる遷移金属成分は、光触媒薄膜の可視光応答性を高めるためのもので、遷移金属化合物から誘導されるものであればよく、例えば、各種遷移金属、その酸化物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、錯化合物等が挙げられ、これらの1種又は2種類以上を組み合わせて使用したものでもよい。遷移金属成分の遷移金属としては、バナジウム、鉄、モリブデン、クロムが挙げられ、中でもバナジウム、モリブデン、鉄は好適である。
このような酸化チタン微粒子中の遷移金属成分(遷移金属M)の含有量は、酸化チタンとのモル比(Ti/M)で10〜10,000、好ましくは100〜10,000、より好ましくは100〜5,000である。これは、モル比が10未満の場合、酸化チタン結晶の含有割合が低下し、十分な可視光活性が得られず、光触媒効果が十分発揮されないことがあり、10,000超過の場合、可視光応答性が不十分となることがあるためである。
ここで、遷移金属成分も、単に酸化チタン微粒子に混合、吸着又は担持等されるのではなく、可及的に酸化チタン微粒子から分離、脱離しないように含有させることが好ましく、少なくともその一部は、酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれていることが好ましい。これは、酸化チタン微粒子の可視光吸収性能を高めるためである。このような遷移金属成分の固溶形態は、後述する可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法により得ることができる。尚、他の部分の遷移金属成分が、酸化チタン微粒子から分離、脱離し、分散液中に溶解及び/又は分散してもよい。
このような酸化チタン微粒子中の遷移金属成分(遷移金属M)の含有量は、酸化チタンとのモル比(Ti/M)で10〜10,000、好ましくは100〜10,000、より好ましくは100〜5,000である。これは、モル比が10未満の場合、酸化チタン結晶の含有割合が低下し、十分な可視光活性が得られず、光触媒効果が十分発揮されないことがあり、10,000超過の場合、可視光応答性が不十分となることがあるためである。
ここで、遷移金属成分も、単に酸化チタン微粒子に混合、吸着又は担持等されるのではなく、可及的に酸化チタン微粒子から分離、脱離しないように含有させることが好ましく、少なくともその一部は、酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれていることが好ましい。これは、酸化チタン微粒子の可視光吸収性能を高めるためである。このような遷移金属成分の固溶形態は、後述する可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法により得ることができる。尚、他の部分の遷移金属成分が、酸化チタン微粒子から分離、脱離し、分散液中に溶解及び/又は分散してもよい。
(II)の分散液において、i)の酸化チタン微粒子に含有させるスズ成分は、光触媒薄膜の可視光応答性を高めるためのもので、スズ化合物から誘導されるものであればよく、例えば、スズの金属、酸化物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、錯化合物等が挙げられ、これらの1種又は2種類以上を組み合わせて使用したものでもよい。
このような酸化チタン微粒子中のスズ成分の含有量は、酸化チタンとのモル比(Ti/Sn)で10〜1,000、好ましくは10〜500、より好ましくは20〜100である。これは、モル比が、10未満の場合、酸化チタンの含有割合が低下し光触媒効果が十分発揮されないことがあり、1,000超過の場合、十分な可視光活性が得られず、可視光応答性が不十分となることがあるためである。
ここで、スズ成分も、単に酸化チタン微粒子に混合、吸着又は担持等されるのではなく、可及的に酸化チタン微粒子から分離、脱離しないように含有させることが好ましく、少なくともその一部は、酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれていることが好ましい。これは、酸化チタン微粒子の可視光吸収性能を高めるためである。このようなスズ成分の固溶形態は、後述する可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法により得ることができる。尚、他の部分のスズ成分が、酸化チタン微粒子から分離、脱離し、分散液中に溶解及び/又は分散してもよい。
このような酸化チタン微粒子中のスズ成分の含有量は、酸化チタンとのモル比(Ti/Sn)で10〜1,000、好ましくは10〜500、より好ましくは20〜100である。これは、モル比が、10未満の場合、酸化チタンの含有割合が低下し光触媒効果が十分発揮されないことがあり、1,000超過の場合、十分な可視光活性が得られず、可視光応答性が不十分となることがあるためである。
ここで、スズ成分も、単に酸化チタン微粒子に混合、吸着又は担持等されるのではなく、可及的に酸化チタン微粒子から分離、脱離しないように含有させることが好ましく、少なくともその一部は、酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれていることが好ましい。これは、酸化チタン微粒子の可視光吸収性能を高めるためである。このようなスズ成分の固溶形態は、後述する可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法により得ることができる。尚、他の部分のスズ成分が、酸化チタン微粒子から分離、脱離し、分散液中に溶解及び/又は分散してもよい。
(I)及び(II)の分散液において、酸化チタン微粒子中に含有するペルオキソチタン成分は、酸化チタン微粒子を水性分散媒中に良好に分散させる作用を有するもので、ペルオキソチタン、つまりTi−O−O−Ti結合を含む酸化チタン系化合物(ペルオキソチタン錯体も包含する。)を意味するものである。このようなペルオキソチタン成分は、例えば、後述するペルオキソチタン酸溶液合成過程、即ち、原料チタン化合物、塩基性物質、過酸化水素等を反応させたとき生成するものである。
このようなペルオキソチタン成分は、(I)及び(II)の分散液中の酸化チタン微粒子のみならず、それぞれの分散液中にも含有させておく必要があり、該分散液中のペルオキソチタン成分の濃度は、(I)の分散液の場合、酸化チタン微粒子の全量に対して、また(II)の分散液の場合、i)及びii)の酸化チタン微粒子の合計量に対して、それぞれ0.05〜2質量%、好ましくは0.05〜1質量%である。これは、濃度が0.05質量%未満の場合、酸化チタン微粒子が凝集し易くなることがあり、酸化チタン分散液中の酸化チタン微粒子の分散状態が悪化し、分散液の安定性及び光触媒膜の透明性が確保できない。一方、2質量%超過の場合、該分散液から得られる光触媒薄膜の光触媒効果が不十分となることがあるためである。
(I)及び(II)の分散液において、酸化チタン微粒子は、いずれもレーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)(以下、「平均粒子径」ということがある。)が、5〜30nmであることが好ましく、より好ましくは5〜20nm、更に好ましくは5〜15nmである。これは、平均粒径が、5nm未満の場合、光触媒活性が不十分になることがあり、30nm超過の場合、分散液が不透明となることがあるためである。尚、平均粒子径を測定する装置としては、例えば、ナノトラックUPA−EX150(日機装(株)製)、LA−910(堀場製作所(株)製)等を使用することができる。
(I)及び(II)の分散液において、(I)の分散液の酸化チタン微粒子の濃度、(II)の分散液のi)及びii)の酸化チタン微粒子の合計の濃度は、いずれも所要の厚さの光触媒薄膜の作製し易さの点で、0.01〜20質量%が好ましく、特に0.5〜10質量%が好ましい。これは、このような濃度範囲とすることにより、水性分散媒中に、酸化チタン微粒子が分散された状態で化学的な安定性を保持し得ると共に、当該分散液をそのまま使用し、触媒薄膜を形成するのに都合がよいためである。
〔可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法〕
本発明の(I)の可視光応答型光触媒微粒子分散液は、水熱反応を含む工程によって、水性分散媒中に、ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子が分散された状態で得られるものである。
即ち、(I)の可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法は、以下の工程(1)〜(2)を有するものである。
(1)原料チタン化合物、銅化合物、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、及び
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃にて加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程。
本発明の(I)の可視光応答型光触媒微粒子分散液は、水熱反応を含む工程によって、水性分散媒中に、ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子が分散された状態で得られるものである。
即ち、(I)の可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法は、以下の工程(1)〜(2)を有するものである。
(1)原料チタン化合物、銅化合物、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、及び
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃にて加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程。
・工程(1):
工程(1)では、原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質及び過酸化水素を水性分散媒中で反応させることにより、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する。反応方法としては、水性分散媒中の原料チタン化合物に塩基性物質を添加して水酸化チタンとし、不純物イオンを除去し、過酸化水素を添加して溶解せしめた後に銅化合物を添加して、銅化合物を含有した前駆体水溶液とする方法でも、水性分散媒中の原料チタン化合物に銅化合物を添加した後に塩基性物質を添加して銅含有水酸化チタンとし、不純物イオンを除去したのち過酸化水素を添加して溶解し銅化合物を含有した前駆体水溶液とする方法でもよい。
工程(1)では、原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質及び過酸化水素を水性分散媒中で反応させることにより、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する。反応方法としては、水性分散媒中の原料チタン化合物に塩基性物質を添加して水酸化チタンとし、不純物イオンを除去し、過酸化水素を添加して溶解せしめた後に銅化合物を添加して、銅化合物を含有した前駆体水溶液とする方法でも、水性分散媒中の原料チタン化合物に銅化合物を添加した後に塩基性物質を添加して銅含有水酸化チタンとし、不純物イオンを除去したのち過酸化水素を添加して溶解し銅化合物を含有した前駆体水溶液とする方法でもよい。
ここで、原料チタン化合物としては、例えば、チタンの塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、蟻酸、クエン酸、蓚酸、乳酸、グリコール酸等の有機酸塩、これらの水溶液にアルカリを添加して加水分解することにより析出させた水酸化チタン等が挙げられ、これらの1種又は2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
銅化合物、水性分散媒としては、それぞれ前述のものが、前述の配合となるように使用される。尚、原料チタン化合物と水性分散媒とから形成される原料チタン化合物水溶液の濃度は、60質量%以下、特に30質量%以下であることが好ましい。濃度の下限は適宜選定されるが、通常、1質量%以上であることが好ましい。
塩基性物質は、原料チタン化合物を水酸化チタンにすると共に、前駆体成分を水性分散媒中で安定化させるためのもので、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、アンモニア、アルカノールアミン、アルキルアミン等のアミン化合物が挙げられ、原料チタン化合物水溶液のpHを7以上、特にpH7〜10になるような量で添加、使用される。尚、塩基性物質は、上記水性分散媒と共に適当な濃度の水溶液にして使用してもよい。
過酸化水素は、上記原料チタン化合物又は水酸化チタンを溶解するためのものであり、通常、過酸化水素水の形態で使用される。過酸化水素の添加量は、Ti、Cuの合計モル数の1.5〜10倍モルとすることが好ましい。また、この過酸化水素を添加して原料チタン化合物又は水酸化チタンを溶解する反応における反応温度は、5〜60℃とすることが好ましく、反応時間は、30分〜24時間とすることが好ましい。
こうして得られる銅化合物を含有した前駆体水溶液は、pH調整等のため、アルカリ性物質又は酸性物質を含んでいてもよい。ここでいう、アルカリ性物質としては、例えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等が挙げられ、酸性物質としては、例えば、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、リン酸、過酸化水素等の無機酸及び蟻酸、クエン酸、蓚酸、乳酸、グリコール酸等の有機酸が挙げられる。この場合、得られた銅化合物を含有した前駆体水溶液のpHは、1〜7、特に4〜7であることが取り扱いの安全性の点で好ましい。
・工程(2):
工程(2)では、上記(1)の工程で得られた銅化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃、好ましくは100〜250℃、より好ましくは120〜250℃の温度において水熱反応に供する。反応温度は、反応効率と反応の制御性の観点から80〜250℃が適切であり、その結果、銅含有酸化チタン微粒子として析出する。この場合、圧力は、0.12〜4.5MPa程度、好ましくは0.15〜4.5MPa程度、より好ましくは0.20〜4.5MPa程度の高圧であることが好ましく、反応時間は、1分〜24時間であることが好ましい。
工程(2)では、上記(1)の工程で得られた銅化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃、好ましくは100〜250℃、より好ましくは120〜250℃の温度において水熱反応に供する。反応温度は、反応効率と反応の制御性の観点から80〜250℃が適切であり、その結果、銅含有酸化チタン微粒子として析出する。この場合、圧力は、0.12〜4.5MPa程度、好ましくは0.15〜4.5MPa程度、より好ましくは0.20〜4.5MPa程度の高圧であることが好ましく、反応時間は、1分〜24時間であることが好ましい。
工程(2)により、水性分散媒中に、ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子が分散されている可視応答型光触媒微粒子分散液が得られる。尚、ここでいう、ペルオキソチタン成分も、上述した通り、Ti−O−O−Ti結合を含む酸化チタン化合物を意味し、ペルオキソチタン酸及びTi(VI)と過酸化水素との反応によって生成するペルオキソチタン錯体を包含するものである。また、銅成分とは、金属銅を含む銅系化合物を意味し、上述の銅化合物を包含するものである。
工程(2)で得られる可視応答型光触媒微粒子分散液中のペルオキソチタン成分の含有量、酸化チタン微粒子の平均粒子径、及び酸化チタン微粒子の濃度については、それぞれ前述の範囲のものが、前述の理由により好ましい。
こうして得られる可視光応答型光触媒微粒子分散液は、銅化合物を含有したペルオキソチタン酸水溶液を、高圧下、加熱して結晶化させる水熱反応を経て製造されているため、銅成分が酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれている。従って、特に、熱や紫外線暴露に対して銅の配位状態が安定で変性し難く、耐久性が高い光触媒薄膜を形成することができる。
可視光応答型光触媒微粒子分散液中の銅含有酸化チタン微粒子の熱や紫外線暴露に対する安定性は、例えば、当該分散液を100℃で加熱乾燥することにより、銅含有酸化チタン乾燥粉末を得て、当該乾燥粉末の熱や紫外線暴露前後のCu配位状態をXAFS(X線吸収端微細構造)スペクトルの解析によって知ることができる。
本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液中の銅含有酸化チタン微粒子は、当該微粒子に、3mW/cm2、ピーク波長365nmの紫外線を200時間照射するか、又は500℃下2時間加熱して劣化処理した後であっても、前記劣化処理前に対して、エネルギー9,000eV近傍のCu−K端XAFS(X線吸収端微細構造)スペクトルの測定において、
1)XANES(X線吸収端近傍構造)スペクトルの8,970〜9,000eVの範囲内に認められる吸収スペクトルの極大ピークについて、相対吸収量が0.1以上、好ましくは0.09以上変化せず、かつ吸収エネルギー値が5%以上、好ましくは4%以上、更に好ましくは3%以上変化せず、
2)同測定結果のk3χ(k)Cu−K端EXAFS(広域X線吸収微細構造)スペクトルを高速フーリエ変換して得られる動径構造関数において、Cuの第1〜第2配位圏と判断される2〜3Åの範囲内の極大ピーク位置が5%以上、好ましくは4%以上、更に好ましくは3%以上変化しないこと
の2つを同時に満たすものである。
このようなCu配位状態の安定性は、銅成分が、単に酸化チタン微粒子に混合、吸着又は担持等されているのではなく、酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれていることによってもたらされるものである。
1)XANES(X線吸収端近傍構造)スペクトルの8,970〜9,000eVの範囲内に認められる吸収スペクトルの極大ピークについて、相対吸収量が0.1以上、好ましくは0.09以上変化せず、かつ吸収エネルギー値が5%以上、好ましくは4%以上、更に好ましくは3%以上変化せず、
2)同測定結果のk3χ(k)Cu−K端EXAFS(広域X線吸収微細構造)スペクトルを高速フーリエ変換して得られる動径構造関数において、Cuの第1〜第2配位圏と判断される2〜3Åの範囲内の極大ピーク位置が5%以上、好ましくは4%以上、更に好ましくは3%以上変化しないこと
の2つを同時に満たすものである。
このようなCu配位状態の安定性は、銅成分が、単に酸化チタン微粒子に混合、吸着又は担持等されているのではなく、酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれていることによってもたらされるものである。
本発明の別の態様である(II)の可視光応答型光触媒微粒子分散液は、水熱反応を含む工程によって、水性分散媒中に、i)ペルオキソチタン成分、スズ成分及び可視光応答性を高める遷移金属成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子との2種類の酸化チタン微粒子が分散された状態で得られるものである。
即ち、(II)の可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法は、以下の工程(1)〜(5)を有するものである。
(1)原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃で加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液(TiO2:Cu)を得る工程、
(3)原料チタン化合物、遷移金属化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(4)上記(3)の工程で製造した遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃で加熱し、遷移金属(M)及びスズ含有酸化チタン微粒子分散液(TiO2:Sn,M)を得る工程、
(5)上記(2),(4)の工程で製造した2つの酸化チタン微粒子分散液を混合する工程。
尚、ここでいう遷移金属化合物の遷移金属(M)とは、バナジウム、鉄、モリブデン、クロムから選ばれるものであって、中でもバナジウム、モリブデン、鉄が好適である。
即ち、(II)の可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法は、以下の工程(1)〜(5)を有するものである。
(1)原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃で加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液(TiO2:Cu)を得る工程、
(3)原料チタン化合物、遷移金属化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(4)上記(3)の工程で製造した遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃で加熱し、遷移金属(M)及びスズ含有酸化チタン微粒子分散液(TiO2:Sn,M)を得る工程、
(5)上記(2),(4)の工程で製造した2つの酸化チタン微粒子分散液を混合する工程。
尚、ここでいう遷移金属化合物の遷移金属(M)とは、バナジウム、鉄、モリブデン、クロムから選ばれるものであって、中でもバナジウム、モリブデン、鉄が好適である。
・工程(1),(2):
工程(1),(2)は、前述の(I)の可視応答型光触媒微粒子分散液の製造方法における工程(1),(2)と全く同じである。
従って、これらの工程(1),(2)を経た時点で、銅成分が酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれており、当該酸化チタン微粒子の熱や紫外線暴露に対するCu配位状態のXAFSスペクトルの解析による安定性についても確保されている。
こうして、工程(1),(2)により、水性分散媒中に、ii)のペルオキソチタン成分及び銅成分を含有(固溶)した酸化チタン微粒子が分散されている分散液が得られる。
工程(1),(2)は、前述の(I)の可視応答型光触媒微粒子分散液の製造方法における工程(1),(2)と全く同じである。
従って、これらの工程(1),(2)を経た時点で、銅成分が酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれており、当該酸化チタン微粒子の熱や紫外線暴露に対するCu配位状態のXAFSスペクトルの解析による安定性についても確保されている。
こうして、工程(1),(2)により、水性分散媒中に、ii)のペルオキソチタン成分及び銅成分を含有(固溶)した酸化チタン微粒子が分散されている分散液が得られる。
工程(2)で得られる分散液中のペルオキソチタン成分の含有量は、酸化チタン微粒子に対して0.05〜2質量%であることが好ましい。これは、濃度が0.05質量%未満の場合、酸化チタン微粒子が凝集し易くなることがあり、2質量%超過の場合、これを用いた光触媒薄膜の光触媒効果が不十分になることがあるためである。
また、工程(2)で得られるii)の酸化チタン微粒子の分散液と、後述する工程(4)で得られるi)の酸化チタン微粒子の分散液とを、最終的な工程(5)において混合し、可視光応答型光触媒微粒子分散液を得る際、当該分散液中のペルオキソチタン成分の含有量もまた、酸化チタンに対して0.05〜2質量%、好ましくは0.05〜1質量%とするためには、予め同程度の含有量を設定しておいた方が、例えば分散液の保管、管理等、作業上も好都合となるからである。
また、工程(2)で得られるii)の酸化チタン微粒子の分散液と、後述する工程(4)で得られるi)の酸化チタン微粒子の分散液とを、最終的な工程(5)において混合し、可視光応答型光触媒微粒子分散液を得る際、当該分散液中のペルオキソチタン成分の含有量もまた、酸化チタンに対して0.05〜2質量%、好ましくは0.05〜1質量%とするためには、予め同程度の含有量を設定しておいた方が、例えば分散液の保管、管理等、作業上も好都合となるからである。
工程(2)で得られる可視応答型光触媒微粒子分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径については、それぞれ前述の範囲のものが、前述の理由により好ましい。
・工程(3):
工程(3)では、原料チタン化合物、遷移金属化合物、スズ化合物、塩基性物質及び過酸化水素を水性分散媒中で反応させることにより、遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を製造する。反応方法としては、水性分散媒中の原料チタン化合物に塩基性物質を添加して水酸化チタンとし、不純物イオンを除去し、過酸化水素を添加して溶解せしめた後に遷移金属化合物及びスズ化合物を添加して、遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液とする方法でも、水性分散媒中の原料チタン化合物に遷移金属化合物及びスズ化合物を添加した後に塩基性物質を添加して遷移金属、スズ含有水酸化チタンとし、不純物イオンを除去し、過酸化水素を添加して遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液とする方法でもよい。
工程(3)では、原料チタン化合物、遷移金属化合物、スズ化合物、塩基性物質及び過酸化水素を水性分散媒中で反応させることにより、遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を製造する。反応方法としては、水性分散媒中の原料チタン化合物に塩基性物質を添加して水酸化チタンとし、不純物イオンを除去し、過酸化水素を添加して溶解せしめた後に遷移金属化合物及びスズ化合物を添加して、遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液とする方法でも、水性分散媒中の原料チタン化合物に遷移金属化合物及びスズ化合物を添加した後に塩基性物質を添加して遷移金属、スズ含有水酸化チタンとし、不純物イオンを除去し、過酸化水素を添加して遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液とする方法でもよい。
ここで、原料チタン化合物、遷移金属化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素、及び水性分散媒としては、それぞれ前述のものが、前述の配合となるように使用される。尚、原料チタン化合物と水性分散媒とから形成される原料チタン化合物水溶液の濃度は、60質量%以下、特に30質量%以下であることが好ましい。濃度の下限は適宜選定されるが、通常1質量%以上であることが好ましい。
こうして得られる遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液は、pH調整等のため、アルカリ性物質又は酸性物質を含んでいてもよい。ここでいう、アルカリ性物質としては、例えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等が挙げられ、酸性物質としては、例えば、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、リン酸、過酸化水素等の無機酸及び蟻酸、クエン酸、蓚酸、乳酸、グリコール酸等の有機酸が挙げられる。この場合、得られた遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液のpHは、1〜7、特に4〜7であることが取り扱いの安全性の点で好ましい。
・工程(4):
工程(4)では、上記(3)の工程で得られた遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃、好ましくは100〜250℃より好ましくは120〜250℃の温度において水熱反応に供する。反応温度は、反応効率と反応の制御性の観点から80〜250℃が適切であり、その結果、遷移金属、スズ含有酸化チタン微粒子として析出する。この場合、圧力は、0.01〜4.5MPa程度、特に0.12〜4.5MPa程度、好ましくは0.15〜4.5MPa程度、より好ましくは0.20〜4.5MPa程度の高圧であることが好ましく、反応時間は、1分〜24時間であることが好ましい。
工程(4)では、上記(3)の工程で得られた遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃、好ましくは100〜250℃より好ましくは120〜250℃の温度において水熱反応に供する。反応温度は、反応効率と反応の制御性の観点から80〜250℃が適切であり、その結果、遷移金属、スズ含有酸化チタン微粒子として析出する。この場合、圧力は、0.01〜4.5MPa程度、特に0.12〜4.5MPa程度、好ましくは0.15〜4.5MPa程度、より好ましくは0.20〜4.5MPa程度の高圧であることが好ましく、反応時間は、1分〜24時間であることが好ましい。
工程(4)により、水性分散媒中に、i)のペルオキソチタン成分、スズ成分及び遷移金属成分を含有した酸化チタン微粒子が分散されている分散液が得られる。尚、ここでいう、ペルオキソチタン成分も、上述した通り、Ti−O−O−Ti結合を含む酸化チタン化合物を意味し、ペルオキソチタン酸及びTi(VI)と過酸化水素との反応によって生成するペルオキソチタン錯体を包含するものである。また、遷移金属成分とは、遷移金属を含む遷移金属系化合物を意味し、上述の遷移金属化合物を包含するものである。また、スズ成分とは、金属スズを含むスズ系化合物を意味し、上述のスズ化合物を包含するものである。
工程(4)で得られる分散液中のペルオキソチタン成分の含有量は、酸化チタンに対して0.05〜2質量%であり、好ましくは0.05〜1質量%である。これは、濃度が0.05質量%未満の場合、酸化チタン微粒子が凝集し易くなることがあり、2質量%超過の場合、これを用いた光触媒薄膜の光触媒効果が不十分になることがあるためである。
また、工程(4)で得られるi)の酸化チタン微粒子の分散液と、前述の工程(2)で得られるii)の酸化チタン微粒子の分散液とを、最終的な工程(5)において混合し、可視光応答型光触媒微粒子分散液を得る際、当該分散液中のペルオキソチタン成分の含有量もまた、酸化チタンに対して0.05〜2質量%、好ましくは0.05〜1質量%とするためには、予め同程度の含有量を設定しておいた方が、例えば分散液の保管、管理等、作業上も好都合となるからである。
また、工程(4)で得られるi)の酸化チタン微粒子の分散液と、前述の工程(2)で得られるii)の酸化チタン微粒子の分散液とを、最終的な工程(5)において混合し、可視光応答型光触媒微粒子分散液を得る際、当該分散液中のペルオキソチタン成分の含有量もまた、酸化チタンに対して0.05〜2質量%、好ましくは0.05〜1質量%とするためには、予め同程度の含有量を設定しておいた方が、例えば分散液の保管、管理等、作業上も好都合となるからである。
工程(4)で得られる可視応答型光触媒微粒子分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径については、それぞれ前述の範囲のものが、前述の理由により好ましい。
このような工程(3),(4)は、前述の工程(1),(2)と酸化チタン微粒子に含有させる成分が異なるだけで他は手順が同様であることから、遷移金属成分、スズ成分のそれぞれの少なくも一部は酸化チタン微粒子の結晶格子中に固溶されて取り込まれることになる。
・工程(5):
工程(5)では、上記(2),(4)の工程で得られたi),ii)の2種類の酸化チタン微粒子がそれぞれ分散された分散液を混合する。混合方法は特に限定されず、攪拌機で撹拌する方法でも、超音波分散機で分散させる方法でもよい。混合時の温度は20〜100℃、時間は1分〜3時間であることが好ましい。混合比率は、質量比で(TiO2:Sn,M)/(TiO2:Cu)で99〜0.01が好ましく、より好ましくは9〜0.1、更に好ましくは4〜0.25である。上記質量比が99超過若しくは0.01未満の場合、可視光活性が不十分となることがある。
工程(5)では、上記(2),(4)の工程で得られたi),ii)の2種類の酸化チタン微粒子がそれぞれ分散された分散液を混合する。混合方法は特に限定されず、攪拌機で撹拌する方法でも、超音波分散機で分散させる方法でもよい。混合時の温度は20〜100℃、時間は1分〜3時間であることが好ましい。混合比率は、質量比で(TiO2:Sn,M)/(TiO2:Cu)で99〜0.01が好ましく、より好ましくは9〜0.1、更に好ましくは4〜0.25である。上記質量比が99超過若しくは0.01未満の場合、可視光活性が不十分となることがある。
こうして得られる可視応答型光触媒微粒子分散液中のペルオキソチタン成分の含有量、酸化チタン微粒子の平均粒子径、及び酸化チタン微粒子の濃度については、それぞれ前述の範囲のものが、前述の理由により好ましい。
尚、この可視光応答型光触媒微粒子分散液中のペルオキソチタン成分の存在状態は、工程(2)で得られたii)の酸化チタン微粒子の分散液と、工程(4)で得られたi)の酸化チタン微粒子の分散液を混合したものであるから、少なくともその一部は酸化チタン微粒子内部若しくは酸化チタン微粒子表面に存在していることが好ましく、他の部分は分散液中に溶解及び/又は分散していることが好ましいことはいうまでもない。
こうして得られる(I)及び(II)の可視光応答型光触媒微粒子分散液は、室内冷暗所に、特に6ヶ月程度の長期放置しても、酸化チタン微粒子の平均粒子径が製造当初から3割超過で増加することを抑制し得るものであり、酸化チタン微粒子の分散安定性が極めて優れたものである。尚、ここでいう、冷暗所とは、10〜25℃程度の冷所であって、かつ直射日光や室内照明の直接光が当たらない暗所を指し、具体的には、薬品庫、地下収納庫等が挙げられる。
(I)及び(II)の可視光応答型光触媒微粒子分散液には、後述する各種部材表面に該分散液を塗布し易くすると共に該微粒子を接着し易いようにする目的で、バインダー、特にはケイ素化合物系バインダーを配合比(ケイ素化合物と酸化チタンの質量比)1:99〜99:1、より好ましくは10:90〜90:10、更に好ましくは30:70〜70:30の範囲で添加して使用してもよい。ここで、ケイ素化合物系バインダーとは、固体状又は液体状のケイ素化合物を水性分散媒中に含んでなるケイ素化合物の、コロイド分散液、溶液又はエマルジョンであって、具体的には、コロイダルシリカ;シリケート等のケイ酸塩類溶液;シラン、シロキサン加水分解物エマルジョン;シリコーン樹脂エマルジョン;シリコーン−アクリル樹脂共重合体、シリコーン−ウレタン樹脂共重合体等のシリコーン樹脂と他の樹脂との共重合体のエマルジョン等を挙げることができる。
〔光触媒薄膜を表面に有する部材〕
(I)及び(II)の可視光応答型光触媒微粒子分散液は、各種部材の表面に光触媒膜を形成させるために使用することができる。ここで、各種部材は、特に制限されないが、部材の材料としては、例えば、有機材料、無機材料が挙げられる。これらは、それぞれの目的、用途に応じた様々な形状を有することができる。
(I)及び(II)の可視光応答型光触媒微粒子分散液は、各種部材の表面に光触媒膜を形成させるために使用することができる。ここで、各種部材は、特に制限されないが、部材の材料としては、例えば、有機材料、無機材料が挙げられる。これらは、それぞれの目的、用途に応じた様々な形状を有することができる。
有機材料としては、例えば、塩化ビニル樹脂(PVC)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリカーボネート(PC)、アクリル樹脂、ポリアセタール、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリビニルブチラール(PVB)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリエーテルエーテルイミド(PEEI)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)樹脂等の合成樹脂材料、天然ゴム等の天然材料、又は上記合成樹脂材料と天然材料との半合成材料が挙げられる。これらは、フィルム、シート、繊維材料、繊維製品、その他の成型品、積層体等の所要の形状、構成に製品化されていてもよい。
無機材料としては、例えば、非金属無機材料、金属無機材料が包含される。
非金属無機材料としては、例えば、ガラス、セラミック、石材等が挙げられる。これらは、タイル、硝子、ミラー、壁、意匠材等の様々な形に製品化されていてもよい。
非金属無機材料としては、例えば、ガラス、セラミック、石材等が挙げられる。これらは、タイル、硝子、ミラー、壁、意匠材等の様々な形に製品化されていてもよい。
金属無機材料としては、例えば、鋳鉄、鋼材、鉄、鉄合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ニッケル合金、亜鉛ダイキャスト等が挙げられる。これらは、上記金属無機材料のメッキが施されていてもよいし、上記有機材料が塗布されていてもよいし、上記有機材料又は非金属無機材料の表面に施すメッキであってもよい。
本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液は、上記各種部材の中でも、特に、PET等の高分子フィルム上に透明な光触媒薄膜を作製するのに有用である。
各種部材表面への光触媒膜の形成方法としては、可視光応答型光触媒微粒子分散液を、例えば、上記部材表面に、スプレーコート、ディップコート等の公知の塗布方法により塗布した後、遠赤外線乾燥、IH乾燥、熱風乾燥等の公知の乾燥方法により乾燥させればよく、光触媒膜の厚さも種々選定され得るが、通常、50nm〜10μmの範囲が好ましい。
このようにして形成される光触媒膜は、透明であり、従来のように紫外領域の光(10〜400nm)において良好な光触媒作用を与えるばかりでなく、従来の光触媒では十分な光触媒作用を得ることができなかった可視領域の光(400〜800nm)のみでも優れた光触媒作用が得られるものであり、該光触媒膜が形成された各種部材は、酸化チタンの光触媒作用により表面に吸着した有機物を分解することから、該部材表面の清浄化、脱臭、抗菌等の効果を発揮することができるものである。
以下に、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。本発明における各種の測定は次のようにして行った。
(1)Cu含有酸化チタン微粒子の平均粒子径(D50)
分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径(D50)は、粒度分布測定装置(商品名“ナノトラック粒度分析計UPA−EX150”、日機装(株))を用いて測定した。
分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径(D50)は、粒度分布測定装置(商品名“ナノトラック粒度分析計UPA−EX150”、日機装(株))を用いて測定した。
(2)Cu含有酸化チタン微粒子分散液の安定性
酸化チタン微粒子の分散安定性は、上記粒度分布測定装置により、製造当日の平均粒子径と25℃に維持した室内冷暗所に6ヶ月間放置したあとの平均粒子径を次の基準で比較し、評価した。
良好(○と表示) ・・・ 差が+30%以下。
やや不良(△と表示)・・・ 差が+30%を超え、+50%以下。
不良(×と表示) ・・・ 差が+50%を超える、若しくは粒子が容器底部に沈澱。
酸化チタン微粒子の分散安定性は、上記粒度分布測定装置により、製造当日の平均粒子径と25℃に維持した室内冷暗所に6ヶ月間放置したあとの平均粒子径を次の基準で比較し、評価した。
良好(○と表示) ・・・ 差が+30%以下。
やや不良(△と表示)・・・ 差が+30%を超え、+50%以下。
不良(×と表示) ・・・ 差が+50%を超える、若しくは粒子が容器底部に沈澱。
(3)Cu含有酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在
酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在は、ペルオキソ基中のO−O結合の存在の有無によって確認した。具体的には、得られた酸化チタン微粒子分散液を 室温で自然乾燥することで得た酸化チタン微粒子の粉末を、赤外分光光度計(商品名“SYSTEM2000”、PerkinElmer社)で測定し、900cm-1付近のO−O結合のピークの有無を確認した。
酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在は、ペルオキソ基中のO−O結合の存在の有無によって確認した。具体的には、得られた酸化チタン微粒子分散液を 室温で自然乾燥することで得た酸化チタン微粒子の粉末を、赤外分光光度計(商品名“SYSTEM2000”、PerkinElmer社)で測定し、900cm-1付近のO−O結合のピークの有無を確認した。
(4)Cu含有酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度
酸化チタン微粒子分散液中のペルオキソチタン成分濃度は、過酸化水素吸光光度法によって測定した。具体的には、酸化チタン微粒子分散液を硫酸酸性としてペルオキソチタン成分と反応、呈色させた後、紫外可視赤外分光光度計(商品名“LAMBDA950”、Perkin Elmer社)を用いて410nmの波長の強度を測定し、Ti標準液との相対強度から算出した。
酸化チタン微粒子分散液中のペルオキソチタン成分濃度は、過酸化水素吸光光度法によって測定した。具体的には、酸化チタン微粒子分散液を硫酸酸性としてペルオキソチタン成分と反応、呈色させた後、紫外可視赤外分光光度計(商品名“LAMBDA950”、Perkin Elmer社)を用いて410nmの波長の強度を測定し、Ti標準液との相対強度から算出した。
(5)Cu含有酸化チタンの紫外線暴露
Cu含有酸化チタン乾燥粉末に対し、UV−LED(商品型番“HLDL−432×336UV365−FN”、シーシーエス(株))で、該サンプル表面での紫外線強度が3mW/cm2、ピーク波長365nmになるように調整した紫外光を200時間照射した。
Cu含有酸化チタン乾燥粉末に対し、UV−LED(商品型番“HLDL−432×336UV365−FN”、シーシーエス(株))で、該サンプル表面での紫外線強度が3mW/cm2、ピーク波長365nmになるように調整した紫外光を200時間照射した。
(6)Cu含有酸化チタンの熱暴露
Cu含有酸化チタン乾燥粉末を電気炉にて500℃下2時間熱暴露した。
Cu含有酸化チタン乾燥粉末を電気炉にて500℃下2時間熱暴露した。
(7)Cu含有酸化チタンのCu配位状態
Cu含有酸化チタンのCu配位状態の評価には、X線吸収分光法(XAS)を用いた。即ち、以下のa)〜c)の手順に従い、財団法人高輝度光科学センターの大型放射光施設SPring−8のビームラインBL14B2を用い、備え付けの透過法測定ユニットを使用してCu−K殻吸収端のXAFS(X線吸収端微細構造)スペクトル測定を行った。
a)試料調製:
各試料すべて乾燥粉末にし、厚さ0.5mmのペレットにした際に吸収係数μtが1となるように、所定量のBN(窒化ホウ素、関東化学製試薬グレード)と混合し、錠剤成型機にて厚さ0.5mmのペレットに成型した。
b)測定:
上記ペレットを透明PP袋に封入し、BL14B2のハッチ内オートサンプラーに全てセットし、8,800〜9,600eV近傍のX線吸収スペクトルを透過法にてすべて測定した。
c)解析:
得られたスペクトルデータは、IfeFFitのGUIフロントエンド“Athena”,“Artemis”を使用して解析した。XANES領域はスペクトル比較評価とし、特にスペクトルの8,970〜9,000eVの範囲内に認められる吸収スペクトルの極大ピークについて、劣化処理前と比較して相対吸収量が0.1以上変化せず、かつ吸収エネルギー値が元の5%以上変化しない場合に○、いずれかを満たさずにスペクトル変化が認められた場合には×と記載した。
EXAFS関数k3χ(k)については高速フーリエ変換によって動径構造関数を得、Cuの第二配位圏2から3Å内に認められるピークの位置をブランクと比較評価した。
Cu含有酸化チタンのCu配位状態の評価には、X線吸収分光法(XAS)を用いた。即ち、以下のa)〜c)の手順に従い、財団法人高輝度光科学センターの大型放射光施設SPring−8のビームラインBL14B2を用い、備え付けの透過法測定ユニットを使用してCu−K殻吸収端のXAFS(X線吸収端微細構造)スペクトル測定を行った。
a)試料調製:
各試料すべて乾燥粉末にし、厚さ0.5mmのペレットにした際に吸収係数μtが1となるように、所定量のBN(窒化ホウ素、関東化学製試薬グレード)と混合し、錠剤成型機にて厚さ0.5mmのペレットに成型した。
b)測定:
上記ペレットを透明PP袋に封入し、BL14B2のハッチ内オートサンプラーに全てセットし、8,800〜9,600eV近傍のX線吸収スペクトルを透過法にてすべて測定した。
c)解析:
得られたスペクトルデータは、IfeFFitのGUIフロントエンド“Athena”,“Artemis”を使用して解析した。XANES領域はスペクトル比較評価とし、特にスペクトルの8,970〜9,000eVの範囲内に認められる吸収スペクトルの極大ピークについて、劣化処理前と比較して相対吸収量が0.1以上変化せず、かつ吸収エネルギー値が元の5%以上変化しない場合に○、いずれかを満たさずにスペクトル変化が認められた場合には×と記載した。
EXAFS関数k3χ(k)については高速フーリエ変換によって動径構造関数を得、Cuの第二配位圏2から3Å内に認められるピークの位置をブランクと比較評価した。
(8)光触媒薄膜の透明性
基材であるガラス板のHAZE値(%)を測定する。次に、分散液を該ガラス上に塗布、乾燥することで光触媒薄膜を作製し、該薄膜を作製した状態のガラス板のHAZE値を測定する。その差から光触媒薄膜のHAZE値を求める。HAZE値の測定はHAZEメーター(商品名“デジタルヘイズメーターNDH−200”、日本電色工業(株))を用いた。光触媒薄膜の透明性を求められたHAZE値の差から次の基準で評価した。
良好(○と表示) ・・・ 差が+1%以下。
やや不良(△と表示)・・・ 差が+1%を超え、+3%以下。
不良(×と表示) ・・・ 差が+3%を超える。
基材であるガラス板のHAZE値(%)を測定する。次に、分散液を該ガラス上に塗布、乾燥することで光触媒薄膜を作製し、該薄膜を作製した状態のガラス板のHAZE値を測定する。その差から光触媒薄膜のHAZE値を求める。HAZE値の測定はHAZEメーター(商品名“デジタルヘイズメーターNDH−200”、日本電色工業(株))を用いた。光触媒薄膜の透明性を求められたHAZE値の差から次の基準で評価した。
良好(○と表示) ・・・ 差が+1%以下。
やや不良(△と表示)・・・ 差が+1%を超え、+3%以下。
不良(×と表示) ・・・ 差が+3%を超える。
(9)光触媒薄膜のアセトアルデヒドガス分解性能試験(LED照射下)
分散液を塗布、乾燥することで作製した光触媒薄膜の活性を、アセトアルデヒドガスの分解反応により評価した。評価はバッチ式ガス分解性能評価法により行った。
具体的には、容積5Lの石英ガラス窓付きステンレス製セル内にA4サイズのPETフィルム上に50mgの光触媒薄膜を形成した評価用サンプルを設置したのち、該セルを湿度50%に調湿した濃度5ppmのアセトアルデヒドガスで満たし、該セル上部に設置したLED(商品型番“TH−211×200SW”、シーシーエス(株)、分光分布:400〜800nm)で照度30,000LUXになるように光を照射した。薄膜上の光触媒によりアセトアルデヒドガスが分解すると、該セル中のアセトアルデヒドガス濃度が低下する。そこで、その濃度を測定することで、アセトアルデヒドガス分解量を求めることができる。アセトアルデヒドガス濃度は光音響マルチガスモニタ(商品名“INNOVA1412”、LumaSense社製)を用いて測定し、12時間照射後の残存アセトアルデヒドガス濃度を比較することで評価した。
分散液を塗布、乾燥することで作製した光触媒薄膜の活性を、アセトアルデヒドガスの分解反応により評価した。評価はバッチ式ガス分解性能評価法により行った。
具体的には、容積5Lの石英ガラス窓付きステンレス製セル内にA4サイズのPETフィルム上に50mgの光触媒薄膜を形成した評価用サンプルを設置したのち、該セルを湿度50%に調湿した濃度5ppmのアセトアルデヒドガスで満たし、該セル上部に設置したLED(商品型番“TH−211×200SW”、シーシーエス(株)、分光分布:400〜800nm)で照度30,000LUXになるように光を照射した。薄膜上の光触媒によりアセトアルデヒドガスが分解すると、該セル中のアセトアルデヒドガス濃度が低下する。そこで、その濃度を測定することで、アセトアルデヒドガス分解量を求めることができる。アセトアルデヒドガス濃度は光音響マルチガスモニタ(商品名“INNOVA1412”、LumaSense社製)を用いて測定し、12時間照射後の残存アセトアルデヒドガス濃度を比較することで評価した。
(10)光触媒薄膜の紫外線耐久性試験(UV−LED照射下)
上記(9)で作製した評価用サンプルをUV−LED(商品型番“HLDL−432×336UV365−FN”、シーシーエス(株))で、該サンプル表面での紫外線強度が3mW/cm2になるように調整した紫外光を200時間照射した。
200時間照射後のサンプルのLED照射下でのアセトアルデヒドガス分解性能試験を上記(9)と同様に実施し、UV曝露前と曝露後のサンプルの分解率を比較し、次の基準で評価した。
UV曝露前サンプルのアセトアルデヒドガス分解割合−UV曝露後サンプルのアセトアルデヒドガス分解割合
良好(○と表示) ・・・ 差が30%以下。
やや不良(△と表示)・・・ 差が30%を超え、50%以下。
不良(×と表示) ・・・ 差が50%を超える。
上記(9)で作製した評価用サンプルをUV−LED(商品型番“HLDL−432×336UV365−FN”、シーシーエス(株))で、該サンプル表面での紫外線強度が3mW/cm2になるように調整した紫外光を200時間照射した。
200時間照射後のサンプルのLED照射下でのアセトアルデヒドガス分解性能試験を上記(9)と同様に実施し、UV曝露前と曝露後のサンプルの分解率を比較し、次の基準で評価した。
UV曝露前サンプルのアセトアルデヒドガス分解割合−UV曝露後サンプルのアセトアルデヒドガス分解割合
良好(○と表示) ・・・ 差が30%以下。
やや不良(△と表示)・・・ 差が30%を超え、50%以下。
不良(×と表示) ・・・ 差が50%を超える。
〔参考例1〕
<銅成分を含有した酸化チタン微粒子分散液”CuA−1”の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより銅を含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の銅を含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(a)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(a)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(CuA−1)を得た。
こうして得られた酸化チタン微粒子分散液(CuA−1)から、酸化チタン微粒子の平均粒子径、酸化チタン微粒子分散液の安定性、酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在、及び酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度の測定を行った。また、酸化チタン微粒子分散液を100℃で加熱乾燥することにより、酸化チタン乾燥粉末を得ると共に、そのままのもの、上述の紫外線暴露したもの、及び上述の熱暴露したものについて、それぞれXAFSスペクトルの測定を行った。
<銅成分を含有した酸化チタン微粒子分散液”CuA−1”の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより銅を含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の銅を含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(a)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(a)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(CuA−1)を得た。
こうして得られた酸化チタン微粒子分散液(CuA−1)から、酸化チタン微粒子の平均粒子径、酸化チタン微粒子分散液の安定性、酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在、及び酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度の測定を行った。また、酸化チタン微粒子分散液を100℃で加熱乾燥することにより、酸化チタン乾燥粉末を得ると共に、そのままのもの、上述の紫外線暴露したもの、及び上述の熱暴露したものについて、それぞれXAFSスペクトルの測定を行った。
〔参考例2〕
<銅成分を含有した酸化チタン微粒子分散液”CuA−2”の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が1となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより銅を含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の銅を含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(b)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(b)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(CuA−2)を得た。
こうして得られた酸化チタン微粒子分散液(CuA−2)から、酸化チタン微粒子の平均粒子径、酸化チタン微粒子分散液の安定性、酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在、及び酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度の測定を行った。また、酸化チタン微粒子分散液を100℃で加熱乾燥することにより、酸化チタン乾燥粉末を得ると共に、そのままのもの、上述の紫外線暴露したもの、及び上述の熱暴露したものについて、それぞれXAFSスペクトルの測定を行った。
<銅成分を含有した酸化チタン微粒子分散液”CuA−2”の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が1となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより銅を含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の銅を含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(b)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(b)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(CuA−2)を得た。
こうして得られた酸化チタン微粒子分散液(CuA−2)から、酸化チタン微粒子の平均粒子径、酸化チタン微粒子分散液の安定性、酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在、及び酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度の測定を行った。また、酸化チタン微粒子分散液を100℃で加熱乾燥することにより、酸化チタン乾燥粉末を得ると共に、そのままのもの、上述の紫外線暴露したもの、及び上述の熱暴露したものについて、それぞれXAFSスペクトルの測定を行った。
〔参考例3〕
<銅成分を含有した酸化チタン微粒子分散液”CuA−3”の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が1,000となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより銅を含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の銅を含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(c)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(c)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(CuA−3)を得た。
こうして得られた酸化チタン微粒子分散液(CuA−3)から、酸化チタン微粒子の平均粒子径、酸化チタン微粒子分散液の安定性、酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在、及び酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度の測定を行った。また、酸化チタン微粒子分散液を100℃で加熱乾燥することにより、酸化チタン乾燥粉末を得ると共に、そのままのもの、上述の紫外線暴露したもの、及び上述の熱暴露したものについて、それぞれXAFSスペクトルの測定を行った。
<銅成分を含有した酸化チタン微粒子分散液”CuA−3”の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が1,000となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより銅を含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の銅を含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(c)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(c)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(CuA−3)を得た。
こうして得られた酸化チタン微粒子分散液(CuA−3)から、酸化チタン微粒子の平均粒子径、酸化チタン微粒子分散液の安定性、酸化チタン微粒子に含有されるペルオキソチタン成分の存在、及び酸化チタン微粒子分散液に含有されるペルオキソチタン成分濃度の測定を行った。また、酸化チタン微粒子分散液を100℃で加熱乾燥することにより、酸化チタン乾燥粉末を得ると共に、そのままのもの、上述の紫外線暴露したもの、及び上述の熱暴露したものについて、それぞれXAFSスペクトルの測定を行った。
参考例1〜3の製法にて調製した銅含有酸化チタン微粒子は、紫外線(UV)照射や500℃加熱環境に対しても大きなCu配位変化が見られず、安定であることが分かる。
〔実施例4〕
<バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に硫酸バナジル(IV)をTi/V(モル比)が2,000、塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することによりバナジウム、スズを含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後のバナジウム、スズを含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が2.5以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄色透明のバナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(a’)(固形分濃度1質量%)を得た。
<バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に硫酸バナジル(IV)をTi/V(モル比)が2,000、塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することによりバナジウム、スズを含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後のバナジウム、スズを含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が2.5以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄色透明のバナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(a’)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(a’)400mLを仕込み、これを150℃、0.5MPaの条件下、90分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(A)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(A)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(A)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、0.31%であった。
<銅成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより銅を含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の銅を含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(b’)(固形分濃度1質量%)を得た。
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより銅を含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の銅を含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が6.0以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(b’)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(b’)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(B)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(B)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(B)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、0.50%であった。
酸化チタン微粒子分散液(A)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(A):(B)=50:50となるように混合することにより、本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(α)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は11nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は12nmであった(良好:○)。
光触媒微粒子分散液(α)にシリカ系のバインダー(コロイダルシリカ、商品名:スノーテックス20、日産化学工業(株)製)をTiO2/SiO2質量比1.5で添加し、評価用コーティング液を作製した。
評価用コーティング液をガラス板上にディップコーターで塗布、乾燥させ、膜厚が150nmの光触媒薄膜を形成し、評価用サンプルを得た。HAZEメーターでHAZE値を測定したところ、基材のガラス板と光触媒コートガラス板のHAZE値の差は0.5%(良好:○)であった。
評価用コーティング液を#7のワイヤーバーコーターによってA4サイズのPETフィルムに50mgの光触媒薄膜を形成するよう塗工し、アセトアルデヒドガス分解性能評価用サンプルを得た。この光触媒薄膜のガス分解率をバッチ式ガス分解性能評価法により測定したところ、LED照射12時間後のガス分解率は98%であった。
上記のアセトアルデヒド分解性能測定後のサンプルに紫外線強度が3mW/cm2になるように調整したUV−LEDを200時間照射したあと、再度アセトアルデヒド分解性能測定を行なったところ、LED照射12時間後のガス分解率は98%であった(良好:○)。
〔実施例5〕
酸化チタン微粒子分散液(A)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(A):(B)=30:70となるように混合したこと以外は実施例4と同様にして本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(β)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は12nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は14nmであった(良好:○)。
酸化チタン微粒子分散液(A)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(A):(B)=30:70となるように混合したこと以外は実施例4と同様にして本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(β)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は12nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は14nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(β)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.6%(良好:○)、ガス分解率は82%、80%(良好:○)であった。
〔実施例6〕
酸化チタン微粒子分散液(A)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(A):(B)=70:30となるように混合したこと以外は実施例4と同様にして本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(γ)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は10nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は11nmであった(良好:○)。
酸化チタン微粒子分散液(A)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(A):(B)=70:30となるように混合したこと以外は実施例4と同様にして本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(γ)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は10nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は11nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(γ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.4%(良好:○)、ガス分解率は78%、75%(良好:○)であった。
〔実施例7〕
<バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に硫酸バナジル(IV)をTi/V(モル比)が200となるように添加した以外は実施例4のペルオキソチタン酸溶液(a’)と同様にして、黄色透明のバナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(c’)(固形分濃度1質量%)を得た。
<バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に硫酸バナジル(IV)をTi/V(モル比)が200となるように添加した以外は実施例4のペルオキソチタン酸溶液(a’)と同様にして、黄色透明のバナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(c’)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(c’)400mLを仕込み、これを180℃、1.1MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(C)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(C)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(C)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、0.12%であった。
酸化チタン微粒子分散液(C)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(C):(B)=50:50となるように混合することにより、本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(δ)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は10nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は10nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(δ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.4%(良好:○)、ガス分解率は75%、72%(良好:○)であった。
〔実施例8〕
<バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が500となるように添加した以外は実施例4のペルオキソチタン酸溶液(a’)と同様にして、黄色透明のバナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(d’)(固形分濃度1質量%)を得た。
<バナジウム成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が500となるように添加した以外は実施例4のペルオキソチタン酸溶液(a’)と同様にして、黄色透明のバナジウム、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(d’)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(d)400mLを仕込み、これを120℃、0.2MPaの条件下、240分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(D)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(D)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(D)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、0.35%であった。
酸化チタン微粒子分散液(D)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(D):(B)=50:50となるように混合することにより、本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(ε)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は15nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は16nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(ε)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.6%(良好:○)、ガス分解率は73%、70%(良好:○)であった。
〔実施例9〕
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(a’)400mLを仕込み、これを150℃、0.5MPaの条件下、60分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(E)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(a’)400mLを仕込み、これを150℃、0.5MPaの条件下、60分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(E)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(E)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(E)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、1.50%であった。
酸化チタン微粒子分散液(E)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(E):(B)=50:50となるように混合することにより、本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(ζ)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は9nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は9nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(ζ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.3%(良好:○)、ガス分解率は75%、72%(良好:○)であった。
〔実施例10〕
<銅成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が200となるように添加した以外は、実施例4のペルオキソチタン酸溶液(b’)と同様にして、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(f’)(固形分濃度1質量%)を得た。
<銅成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化銅(II)をTi/Cu(モル比)が200となるように添加した以外は、実施例4のペルオキソチタン酸溶液(b’)と同様にして、黄緑色透明の銅含有ペルオキソチタン酸溶液(f’)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(f’)400mLを仕込み、これを130℃、0.3MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(F)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(F)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(F)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、0.24%であった。
酸化チタン微粒子分散液(A)と酸化チタン微粒子分散液(F)を質量比で(A):(F)=50:50となるように混合することにより、本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(η)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は20nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は22nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(η)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.9%(良好:○)、ガス分解率は72%、51%(良好:○)であった。
〔実施例11〕
<鉄成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化鉄(III)をTi/Fe(モル比)が2,000、塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより鉄、スズを含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の鉄、スズを含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が2.5以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄色透明の鉄、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(g)(固形分濃度1質量%)を得た。
<鉄成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化鉄(III)をTi/Fe(モル比)が2,000、塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することにより鉄、スズを含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後の鉄、スズを含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が2.5以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄色透明の鉄、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(g)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(g)400mLを仕込み、これを150℃、0.5MPaの条件下、90分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(G)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(G)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(G)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、0.30%であった。
酸化チタン微粒子分散液(G)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(G):(B)=50:50となるように混合することにより、本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(θ)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は10nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は11nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(θ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.5%(良好:○)、ガス分解率は76%、62%(良好:○)であった。
〔実施例12〕
<モリブデン成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化モリブデン(V)をTi/Mo(モル比)が20、塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することによりモリブデン、スズを含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後のモリブデン、スズを含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が2.5以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄色透明のモリブデン、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(h)(固形分濃度1質量%)を得た。
<モリブデン成分及びスズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化モリブデン(V)をTi/Mo(モル比)が20、塩化スズ(IV)をTi/Sn(モル比)が20となるように添加し、これを純水で10倍に希釈した後、この水溶液に10質量%のアンモニア水を徐々に添加して中和、加水分解することによりモリブデン、スズを含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの溶液のpHは8であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、純水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後のモリブデン、スズを含有する水酸化チタン沈殿物に過酸化水素/水酸化チタン(モル比)が2.5以上となるように30質量%過酸化水素水を添加し、その後室温で一昼夜撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、黄色透明のモリブデン、スズ含有ペルオキソチタン酸溶液(h)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(h)400mLを仕込み、これを150℃、0.5MPaの条件下、90分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(H)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(H)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(H)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、0.33%であった。
酸化チタン微粒子分散液(H)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(H):(B)=50:50となるように混合することにより、本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液(ι)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は9nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は10nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(ι)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.8%(良好:○)、ガス分解率は98%、98%(良好:○)であった。
〔比較例1〕
酸化チタン微粒子分散液(B)の代わりに1%硫酸銅水溶液を酸化チタンに対して金属銅成分が0.10質量%となるように添加・混合したこと以外は実施例4と同様にして、光触媒微粒子分散液(κ)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は11nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は12nmであった(良好:○)。
酸化チタン微粒子分散液(B)の代わりに1%硫酸銅水溶液を酸化チタンに対して金属銅成分が0.10質量%となるように添加・混合したこと以外は実施例4と同様にして、光触媒微粒子分散液(κ)を得た。得られた分散液中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は11nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した酸化チタン微粒子分散液の平均粒子径は12nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(κ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.5%(良好:○)、ガス分解率は58%、0%(不良:×)であった。
〔比較例2〕
<スズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
硫酸バナジル(IV)を添加しなかったこと以外は実施例4のペルオキソチタン酸溶液(a’)と同様にして、黄色透明のスズ含有ペルオキソチタン酸溶液(i’)(固形分濃度1質量%)を得た。
<スズ成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
硫酸バナジル(IV)を添加しなかったこと以外は実施例4のペルオキソチタン酸溶液(a’)と同様にして、黄色透明のスズ含有ペルオキソチタン酸溶液(i’)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(i’)400mLを仕込み、これを150℃、0.5MPaの条件下、90分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(I)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(I)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(I)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、0.32%であった。
酸化チタン微粒子分散液(I)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(I):(B)=50:50となるように混合することにより、光触媒微粒子分散液(λ)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は11nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は11nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(λ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.5%(良好:○)、ガス分解率は10%、9%(良好:○)であった。
〔比較例3〕
<バナジウム成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化スズ(IV)を添加しなかったこと以外は実施例4と同様にして、黄色透明のバナジウム含有ペルオキソチタン酸溶液(j’)(固形分濃度1質量%)を得た。
<バナジウム成分を含有した酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に塩化スズ(IV)を添加しなかったこと以外は実施例4と同様にして、黄色透明のバナジウム含有ペルオキソチタン酸溶液(j’)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(j’)400mLを仕込み、これを120℃、0.2MPaの条件下、180分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(J)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(J)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(J)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、0.26%であった。
酸化チタン微粒子分散液(J)と酸化チタン微粒子分散液(B)を質量比で(J):(B)=50:50となるように混合することにより、光触媒微粒子分散液(μ)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は22nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は23nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(μ)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.7%(良好:○)、ガス分解率は18%、16%(やや不良:△)であった。
〔比較例4〕
<銅成分を含有しない酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に銅成分を添加しなかったこと以外は、実施例4のペルオキソチタン酸溶液(b’)と同様にして、黄色透明のペルオキソチタン酸溶液(k’)(固形分濃度1質量%)を得た。
<銅成分を含有しない酸化チタン微粒子分散液の調製>
36質量%の塩化チタン(IV)水溶液に銅成分を添加しなかったこと以外は、実施例4のペルオキソチタン酸溶液(b’)と同様にして、黄色透明のペルオキソチタン酸溶液(k’)(固形分濃度1質量%)を得た。
容積500mLのオートクレーブに、ペルオキソチタン酸溶液(k’)400mLを仕込み、これを120℃、0.2MPaの条件下、240分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、25℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、酸化チタン微粒子分散液(K)を得た。
酸化チタン微粒子分散液(K)を室温で乾燥して得た粉末を、赤外分光光度計で測定したところ、900cm-1付近にペルオキソ基中のO−O結合のピークが確認できた。
酸化チタン微粒子分散液(K)に硫酸を添加し、ペルオキソチタン成分をオレンジ色に呈色させ、この色の吸収を紫外可視赤外分光光度計によって測定し、別にTi標準溶液で作成しておいた検量線からペルオキソチタン成分の濃度を求めたところ、0.25%であった。
酸化チタン微粒子分散液(A)と酸化チタン微粒子分散液(K)を質量比で(A):(K)=50:50となるように混合することにより、光触媒微粒子分散液(ν)を得た。得られた分散液中の光触媒微粒子の平均粒子径は16nmであった。また、6ヶ月間室内冷暗所に放置した光触媒微粒子分散液の平均粒子径は16nmであった(良好:○)。
以下、実施例4と同様に、光触媒微粒子分散液(ν)から、評価用コーティング液を作製し、該評価用コーティング液を用いて、光触媒薄膜の透明性、光触媒薄膜のUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解性能(ガス分解率)を測定したところ、それぞれHAZE値の差は0.6%(良好:○)、ガス分解率は0%、0%(耐UV性評価不能)であった。
表3に、実施例4〜12、比較例1〜4の酸化チタン微粒子の原料比、水熱処理条件、常温乾燥粉体中のペルオキソチタン成分有無、分散液中のペルオキソチタン成分濃度をまとめて示す。
表4に、実施例4〜12、比較例1〜4の可視光応答型光触媒微粒子分散液の平均粒子径、分散安定性、薄膜透明性、及びUV曝露前後のアセトアルデヒドガス分解試験におけるLED照射12時間後のアセトアルデヒドガス分解率をまとめて示す。
比較例1の結果から分かるように、先の提案(特開2013−126654号公報)中に記載の銅成分を利用した場合、UVに曝露されると可視光活性が大幅に低下する。
比較例2の結果から分かるように、バナジウムを添加しないと十分な可視光活性が得られない。
比較例3の結果から分かるように、スズを添加しないと十分な可視光活性が得られない。
比較例4の結果から分かるように、銅を添加しないと十分な可視光活性が得られない。
実施例4〜12の結果から分かるように、i)ペルオキソチタン成分、スズ成分、及びバナジウム、鉄、モリブデン等から選ばれる遷移金属成分を所定量含有した酸化チタン微粒子分散液と、ii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を所定量含有した酸化チタン微粒子分散液とを所定量混合することにより、可視領域の光のみ発光するLED照射下でもアセトアルデヒドガスの分解(即ち、光触媒活性)が良好になり、UVに晒される環境下でもその活性を維持できることが分かる。
本発明の可視光応答型光触媒微粒子分散液は、ガラス、金属等の無機物質、及び高分子フィルム(PETフィルム等)等の有機物質からなる種々の基材に施与して光触媒薄膜を作製するのに有用であり、特に高分子フィルム上に透明な光触媒薄膜を作製するのに有用である。
Claims (13)
- 水性分散媒中に、i)ペルオキソチタン成分、スズ成分及び可視光応答性を高める遷移金属成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子との2種類の酸化チタン微粒子が分散されていることを特徴とする可視光応答型光触媒微粒子分散液。
- i)及びii)の酸化チタン微粒子の分散径が、それぞれレーザー光を用いた動的散乱法により測定される体積基準の50%累積分布径(D50)で5〜30nmであることを特徴とする請求項1に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
- ペルオキソチタン成分の含有量が、i)及びii)の酸化チタン微粒子の合計量に対して0.05〜2質量%であることを特徴とする請求項1又は2に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
- i)の酸化チタン微粒子中のスズ成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Sn)で10〜1,000であり、遷移金属成分(遷移金属M)の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/M)で10〜10,000であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
- i)の酸化チタン微粒子中の可視光応答性を高める遷移金属成分の遷移金属が、バナジウム、鉄、モリブデン、クロムから選ばれるものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
- ii)の酸化チタン微粒子中の銅成分の含有量が、酸化チタンとのモル比(Ti/Cu)で1〜1,000であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
- ii)の酸化チタン微粒子中に銅成分が固溶されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
- 更に、バインダーを含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
- バインダーが、ケイ素化合物系バインダーであることを特徴とする請求項8に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液を用いて光触媒薄膜を形成する方法。
- i)ペルオキソチタン成分、スズ成分及び可視光応答性を高める遷移金属成分を含有した酸化チタン微粒子と、ii)ペルオキソチタン成分及び銅成分を含有した酸化チタン微粒子との2種類の酸化チタン微粒子が分散された光触媒膜を持つ部材。
- (1)原料チタン化合物、銅化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、銅化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(2)上記(1)の工程で製造した銅化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃で加熱し、銅含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程、
(3)原料チタン化合物、遷移金属化合物、スズ化合物、塩基性物質、過酸化水素及び水性分散媒から、遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を製造する工程、
(4)上記(3)の工程で製造した遷移金属化合物とスズ化合物を含有した前駆体水溶液を、高圧下、80〜250℃で加熱し、遷移金属及びスズ含有酸化チタン微粒子分散液を得る工程、
(5)上記(2),(4)の工程で製造した2種類の酸化チタン微粒子分散液を混合する工程
を有することを特徴とする可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法。 - 遷移金属化合物の遷移金属が、バナジウム、鉄、モリブデン、クロムから選ばれるものであることを特徴とする請求項12に記載の可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014536734A JP5896034B2 (ja) | 2012-09-19 | 2013-09-03 | 可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012205422 | 2012-09-19 | ||
JP2012205422 | 2012-09-19 | ||
JP2013100253 | 2013-05-10 | ||
JP2013100253 | 2013-05-10 | ||
PCT/JP2013/073635 WO2014045861A1 (ja) | 2012-09-19 | 2013-09-03 | 可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
JP2014536734A JP5896034B2 (ja) | 2012-09-19 | 2013-09-03 | 可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016002591A Division JP2016041429A (ja) | 2012-09-19 | 2016-01-08 | 可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5896034B2 true JP5896034B2 (ja) | 2016-03-30 |
JPWO2014045861A1 JPWO2014045861A1 (ja) | 2016-08-18 |
Family
ID=50341179
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014536734A Active JP5896034B2 (ja) | 2012-09-19 | 2013-09-03 | 可視光応答型光触媒微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
JP2016002591A Pending JP2016041429A (ja) | 2012-09-19 | 2016-01-08 | 可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016002591A Pending JP2016041429A (ja) | 2012-09-19 | 2016-01-08 | 可視光応答型光触媒微粒子分散液の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9604198B2 (ja) |
JP (2) | JP5896034B2 (ja) |
KR (1) | KR101868674B1 (ja) |
CN (1) | CN104640630B (ja) |
WO (1) | WO2014045861A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190028387A (ko) * | 2016-07-14 | 2019-03-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 가시광 응답형 광촉매 활성을 갖는 표면층을 갖는 내장재 및 그 제조 방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6112739B2 (ja) * | 2015-02-19 | 2017-04-12 | 国立大学法人岐阜大学 | アンモニア製造方法およびアンモニア製造装置 |
WO2016152487A1 (ja) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | 信越化学工業株式会社 | 可視光応答型光触媒酸化チタン微粒子分散液、その製造方法、及び光触媒薄膜を表面に有する部材 |
EP3511075A4 (en) * | 2016-09-12 | 2020-05-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | MIXTURE OF PHOTOCATALYTIC TITANOXIDE FINE PARTICLE PARTICLES RESPECTING ON VISIBLE LIGHT, DISPERSION LIQUID THEREOF, METHOD FOR PRODUCING THE DISPERSION LIQUID, PHOTOCATALYSATOR OIL LIGHT OVERLAYER |
JP6442574B2 (ja) * | 2017-03-16 | 2018-12-19 | 太平洋セメント株式会社 | ナノ粒子集合体、ナノ粒子焼成物、及びこれらの製造方法 |
JP2018168008A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 富士ゼロックス株式会社 | 酸化チタン粒子、酸化チタン粒子の製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、及び構造体 |
JP7000753B2 (ja) | 2017-09-08 | 2022-01-19 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 酸化チタンエアロゲル粒子、酸化チタンエアロゲル粒子の製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、及び構造体 |
US10538434B2 (en) | 2017-09-08 | 2020-01-21 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Titanium oxide aerogel particle, photocatalyst forming composition, and photocatalyst |
JP7070474B2 (ja) | 2019-03-04 | 2022-05-18 | 信越化学工業株式会社 | 酸化チタン微粒子、その分散液、及び分散液の製造方法 |
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- 2013-09-03 JP JP2014536734A patent/JP5896034B2/ja active Active
- 2013-09-03 WO PCT/JP2013/073635 patent/WO2014045861A1/ja active Application Filing
- 2013-09-03 CN CN201380048729.XA patent/CN104640630B/zh active Active
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|
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