JP5891782B2 - 薄膜製造装置、薄膜製造方法、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置 - Google Patents
薄膜製造装置、薄膜製造方法、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置 Download PDFInfo
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[薄膜]
まず、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置及び薄膜製造方法で製造される薄膜の一例として、電気機械変換素子を構成する電気機械変換膜について説明する。なお、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置及び薄膜製造方法で製造可能な薄膜が電気機械変換膜に限定されないことは言うまでもない。
次に、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置の構造について説明する。図3は、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置を例示する斜視図である。図3を参照するに、薄膜製造装置3において、架台60上にはY軸駆動手段61が設置されている。Y軸駆動手段61上には、基板5を搭載するステージ62が、Y軸方向に駆動可能なように設置されている。
次に、第1の実施の形態に係る薄膜製造方法について説明する。ここでは、薄膜として図1に示す電気機械変換膜43を製造する例を示す。
まず、図4に示すように、下部電極42の表面に所定パターンのSAM(Self Assembled Monolayer)膜50を形成する。具体的には、図4(a)に示す工程では、例えば、下部電極42となる基板を準備する。下部電極42としては、例えば、白金(Pt)を用いることができる。
次に、図7に示すように、下部電極42の表面に電気機械変換膜43を形成する。具体的には、図7(a)に示す工程では、薄膜製造装置3のステージ62上に、表面に所定パターンのSAM膜50が形成された下部電極42(図3の基板5に相当)を載置する。そして、周知のアライメント装置(CCDカメラやCMOSカメラ等)等を用いて、下部電極42の位置や傾き等をアライメントする。
第1の実施形態では、連続照射レーザ装置71とパルス照射レーザ装置72を別々の装置として使用した。第2の実施形態では、連続照射レーザ装置71とパルス照射レーザ装置72とを1台のレーザ装置とする例を示す。具体的には、例えば、半導体ファイバーカプリングレーザ装置又は半導体レーザスタック装置等のパルス照射レーザ装置を使用して、1台のレーザ装置にパルスレーザ装置と連続照射レーザ装置の両方の機能を持たせることができる。
通常、レーザ加熱によるレーザ照射エリアの形状は円形であり、ビームプロファイルはGaussianである。そのため、円形のレーザ照射エリアで機能性インクを照射する場合、円中央領域と円端部分では実照射時間が異なる。すなわち、円中央の方が長い時間照射され、円端の方は短い時間照射される。そこで、レーザ照射エリアを機能性インクのパターンと同じ形状にすると好適である。これにより、所定の形状にパターニングされた機能性インクを、均一に加熱することができる。
第4の実施の形態では、機能性インクを結晶化のためにレーザ加熱する前に、エキシマレーザを用いてレーザ照射を行う。金属成分を含む有機化合物は、含まれる金属成分によって金属有機化合物が異なる温度で分解されるため、材料によって結晶粒の形成方法が異なる。そのため、エキシマレーザを用いてレーザ照射することで、それぞれの金属有機化合物の化学結合を切断し、結晶粒の形成方法を統一させる。
第5の実施の形態では、薄膜製造装置3で製造した液体吐出ヘッド2(図2参照)を搭載したインクジェット記録装置の例を示す。図8は、インクジェット記録装置を例示する斜視図である。図9は、インクジェット記録装置の機構部を例示する側面図である。
次に、薄膜製造装置3を用いて薄膜を形成する例を説明する。この実施例では、シリコンウェハに熱酸化膜(膜厚1μm)を形成し、密着層としてチタン膜(膜厚50nm)をスパッタ成膜した。引続き下部電極として白金膜(膜厚200nm)をスパッタ成膜した。
3 薄膜製造装置
4 インクジェット記録装置
5 基板
10 ノズル板
11 ノズル
20 圧力室基板
21 圧力室
30 振動板
40 電気機械変換素子
41 密着層
42 下部電極
43 電気機械変換膜
43a、43b、43c 機能性インク
44 上部電極
50 SAM膜
51、53 フォトレジスト
51x、54x 開口部
54 フォトマスク
60 架台
61 Y軸駆動手段
62 ステージ
63 X軸駆動手段
64 X軸支持部材
65、69 Z軸駆動手段
66 ヘッドベース
67 インクジェットヘッド
68 インクタンク
70 レーザ支持部材
71 連続照射レーザ装置
71x、72x レーザ光
72 パルス照射レーザ装置
81 記録装置本体
82 印字機構部
83 用紙
84 給紙カセット(或いは給紙トレイ)
85 手差しトレイ
86 排紙トレイ
91 主ガイドロッド
92 従ガイドロッド
93 キャリッジ
94 インクジェット記録ヘッド
95 インクカートリッジ
97 主走査モータ
98 駆動プーリ
99 従動プーリ
100 タイミングベルト
101 給紙ローラ
102 フリクションパッド
103 ガイド部材
104 搬送ローラ
105 搬送コロ
106 先端コロ
107 副走査モータ
109 印写受け部材
111 搬送コロ
112 拍車
113 排紙ローラ
114 拍車
115、116 ガイド部材
117 回復装置
Claims (14)
- 成膜対象物の表面に撥液性領域と親液性領域を形成する工程と、
前記親液性領域に液体を吐出し、塗膜を形成する塗膜工程と、
前記塗膜にレーザ光を連続的に照射し、前記塗膜の溶媒を蒸発させる蒸発工程と、
溶媒を蒸発させた前記塗膜にレーザ光をパルス照射し、前記溶媒を蒸発させた前記塗膜を結晶化する結晶化工程と、を有し、
前記塗膜工程、前記蒸発工程、及び前記結晶化工程を繰り返して所望の膜厚の薄膜を作製し、
前記蒸発工程においては前記レーザ光を、前記撥液性領域が消失しない条件下にて照射し、
前記結晶化工程においては前記レーザ光を、前記溶媒を蒸発させた前記塗膜に照射し、前記撥液性領域には照射しないことを特徴とする薄膜製造方法。 - 前記蒸発工程で照射される前記レーザ光は第1のレーザ照射手段によって照射され、
前記結晶化工程で照射される前記レーザ光は第2のレーザ照射手段によって照射され、
前記第1のレーザ照射手段及び前記第2のレーザ照射手段のそれぞれが照射するレーザ光の波長が何れも400nm以上である請求項1記載の薄膜製造方法。 - 前記第1のレーザ照射手段及び前記第2のレーザ照射手段は、1台のレーザ装置により構成されている請求項2記載の薄膜製造方法。
- 前記第2のレーザ照射手段の前記成膜対象物上のレーザ光照射領域の形状は、前記溶媒を蒸発させた前記塗膜の形状と同一である請求項2又は3記載の薄膜製造方法。
- 前記塗膜の形状は長方形であり、前記第2のレーザ照射手段の前記成膜対象物上のレーザ光照射領域の形状は長方形である請求項4記載の薄膜製造方法。
- 前記第2のレーザ照射手段の照射するレーザ光の光強度分布がトップハット形状である請求項2乃至5の何れか一項記載の薄膜製造方法。
- 前記第1のレーザ照射手段の前記成膜対象物上のレーザ光照射領域の前記成膜対象物の移動方向と垂直な方向の長さは、前記塗膜の前記成膜対象物の移動方向と垂直な方向の長さと同一である請求項2乃至6の何れか一項記載の薄膜製造方法。
- 前記塗膜の形状は長方形であり、前記第1のレーザ照射手段の前記成膜対象物上のレーザ光照射領域の形状は長方形である請求項7記載の薄膜製造方法。
- 前記第1のレーザ照射手段の照射するレーザ光の光強度分布がトップハット形状である請求項2乃至8の何れか一項記載の薄膜製造方法。
- 溶媒を蒸発させた前記塗膜に紫外光を照射し、前記塗膜に含有された金属有機化合物の化学結合を切断する紫外光照射手段を更に有する請求項1乃至9の何れか一項記載の薄膜製造方法。
- 前記紫外光の波長は300nm以下である請求項10記載の薄膜製造方法。
- 前記紫外光照射手段は、前記紫外光を連続照射する請求項10又は11記載の薄膜製造方法。
- 請求項1乃至12の何れか一項記載の薄膜製造方法により製造された薄膜を用いて圧電素子を製造することを特徴とする圧電素子の製造方法。
- 請求項13記載の圧電素子の製造方法により製造された圧電素子を用いて液体吐出ヘッドを製造することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
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