JP5874199B2 - Coil component and manufacturing method thereof - Google Patents

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本発明はコイル部品及びその製造方法に関し、特に、電解めっきによりプリント基板上に形成した平面スパイラル導体を有するコイル部品及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a coil component and a manufacturing method thereof, and more particularly to a coil component having a planar spiral conductor formed on a printed circuit board by electrolytic plating and a manufacturing method thereof.

民生用又は産業用の電子機器分野では、電源用のインダクタとして表面実装型のコイル部品を用いることが多くなっている。表面実装型のコイル部品は、小型・薄型で電気的絶縁性に優れ、しかも低コストで製造できるためである。   In the field of consumer or industrial electronic devices, surface mount type coil components are often used as inductors for power supplies. This is because the surface mount type coil component is small and thin, has excellent electrical insulation, and can be manufactured at low cost.

表面実装型のコイル部品の具体的構造のひとつに、プリント回路基板技術を応用した平面コイル構造がある。製造工程の観点からこの構造を簡単に説明すると、まずプリント回路基板上に平面スパイラル導体形状のシードレイヤ(下地膜)を形成する。そして、めっき液中に浸してシードレイヤに直流電流(以下、「めっき電流」という)を流すことにより、めっき液中の金属イオンをシードレイヤ上に電着させる。これにより平面スパイラル導体が形成され、その後、形成した平面スパイラル導体を覆う絶縁樹脂層と、保護層及び磁路としての金属磁性粉含有樹脂層とを順次形成し、コイル部品が完成する。この構造によれば、寸法及び位置の精度を非常に高い値に維持でき、また、小型化及び薄型化が可能になる。特許文献1には、このような平面コイル構造を有する平面コイル素子が開示されている。   One of the specific structures of surface mount type coil components is a planar coil structure that applies printed circuit board technology. To briefly explain this structure from the viewpoint of the manufacturing process, first, a seed layer (underlayer film) having a planar spiral conductor shape is formed on a printed circuit board. Then, the metal ions in the plating solution are electrodeposited on the seed layer by dipping in the plating solution and flowing a direct current (hereinafter referred to as “plating current”) through the seed layer. As a result, a planar spiral conductor is formed, and then an insulating resin layer covering the formed planar spiral conductor, a protective layer, and a metal magnetic powder-containing resin layer as a magnetic path are sequentially formed to complete a coil component. According to this structure, the accuracy of dimensions and positions can be maintained at a very high value, and the size and thickness can be reduced. Patent Document 1 discloses a planar coil element having such a planar coil structure.

特開2006−310716号公報JP 2006-310716 A

ところで、電源用のインダクタとして用いられるコイル部品では、できるだけ直流抵抗を下げることが求められる。そこで、両面に平面スパイラル導体を形成した基板(以下、「基本コイル部品」と称する)を複数個重ね、これらを並列接続することが検討されている。   Incidentally, a coil component used as an inductor for a power supply is required to reduce the direct current resistance as much as possible. Therefore, it has been studied to stack a plurality of substrates (hereinafter referred to as “basic coil components”) having planar spiral conductors formed on both surfaces and to connect them in parallel.

複数個の基本コイル部品をただ重ねると、向かい合う2つの平面スパイラル導体が互いに接触することになる。この接触がすべて同一ターン同士での接触になるのであれば、平面スパイラル導体の膜厚が大きくなったことと等価であるので、特性上何ら問題は発生しない。しかし、実際には2つの基本コイル部品の位置を完全にコントロールすることはできず、多少なりとも目ズレが生ずるため、同一ターン同士以外での接触が生じてしまう可能性がある。   If a plurality of basic coil components are simply stacked, the two planar spiral conductors facing each other come into contact with each other. If all of these contacts are contacts of the same turn, it is equivalent to an increase in the thickness of the planar spiral conductor, and no problem occurs in terms of characteristics. However, in actuality, the positions of the two basic coil components cannot be completely controlled, and a slight misalignment may occur, which may cause a contact other than the same turn.

したがって、本発明の目的の一つは、複数個の基本コイル部品を重ねて配置する場合に、同一ターン同士での接触でない限り、向かい合う2つの平面スパイラル導体が互いに接触しないようにすることができるコイル部品及びその製造方法を提供することにある。   Accordingly, one of the objects of the present invention is to prevent the two planar spiral conductors facing each other from contacting each other unless they are in contact with each other when a plurality of basic coil components are arranged in an overlapping manner. It is providing a coil component and its manufacturing method.

上記目的を達成するための本発明によるコイル部品は、第1の基板と、うら面が前記第1の基板のおもて面と対向するよう配置された第2の基板と、それぞれ前記第1の基板のおもて面及びうら面に電解めっきによって形成され、それぞれの内周端が前記第1の基板を貫通する第1のスパイラル導体を介して互いに接続された第1及び第2の平面スパイラル導体と、それぞれ前記第2の基板のおもて面及びうら面に電解めっきによって形成され、それぞれの内周端が前記第2の基板を貫通する第2のスパイラル導体を介して互いに接続された第3及び第4の平面スパイラル導体と、前記第2の平面スパイラル導体と前記第3の平面スパイラル導体との間に設けられた絶縁層と、前記第1の平面スパイラル導体の外周端及び前記第4の平面スパイラル導体の外周端と接続する第1の外部電極と、前記第2の平面スパイラル導体の外周端及び前記第3の平面スパイラル導体の外周端と接続する第2の外部電極とを備えることを特徴とする。   In order to achieve the above object, a coil component according to the present invention includes a first substrate, a second substrate having a back surface facing the front surface of the first substrate, and the first substrate. The first and second planes are formed by electrolytic plating on the front and back surfaces of the substrate, and the inner peripheral ends thereof are connected to each other via a first spiral conductor penetrating the first substrate. Spiral conductors are formed on the front and back surfaces of the second substrate by electrolytic plating, and the inner peripheral ends of the spiral conductors are connected to each other via second spiral conductors that penetrate the second substrate. Third and fourth planar spiral conductors, an insulating layer provided between the second planar spiral conductor and the third planar spiral conductor, an outer peripheral end of the first planar spiral conductor, and the Fourth flat spa And a second external electrode connected to the outer peripheral end of the second planar spiral conductor and the outer peripheral end of the third planar spiral conductor. And

本発明によれば、絶縁層を設けたので、向かい合う第2及び第3の平面スパイラル導体が互いに接触しないようにすることが可能になる。   According to the present invention, since the insulating layer is provided, the second and third planar spiral conductors facing each other can be prevented from contacting each other.

上記コイル部品において、前記第2及び第3の平面スパイラル導体それぞれの最内周及び最外周の膜厚は、それぞれのその他の周の膜厚に比べて厚く、前記第2の平面スパイラル導体の最内周の頂面及び前記第3の平面スパイラル導体の最内周の頂面は、前記絶縁層を貫通して互いに接触し、前記第2の平面スパイラル導体の最外周の頂面及び前記第3の平面スパイラル導体の最外周の頂面は、前記絶縁層を貫通して互いに接触し、前記第2の平面スパイラル導体の最内周及び最外周以外の周の頂面及び前記第3の平面スパイラル導体の最内周及び最外周以外の周の頂面は、前記絶縁層によって互いに絶縁されることとしてもよい。これによれば、第2の平面スパイラル導体と第3の平面スパイラル導体の間で目ズレが発生したとしても、同一ターン同士以外での接触が発生することは避けられる。また、最内周と最外周が接触する程度まで2つの平面スパイラル導体を近づけることができるので、高インダクタンス及び低背化が実現される。なお、第2及び第3の平面スパイラル導体それぞれの最内周及び最外周の膜厚がそれぞれのその他の周の膜厚に比べて厚くなるのは、電解めっきの特徴である。   In the coil component, the innermost and outermost film thickness of each of the second and third planar spiral conductors is thicker than the film thickness of each of the other circumferences, and the outermost film thickness of the second planar spiral conductor. The top surface of the inner periphery and the top surface of the innermost periphery of the third planar spiral conductor pass through the insulating layer and contact each other, and the top surface of the outermost periphery of the second planar spiral conductor and the third surface of the third planar spiral conductor The top surface of the outermost periphery of the planar spiral conductor is in contact with each other through the insulating layer, the top surface of the second planar spiral conductor other than the innermost periphery and the outermost periphery, and the third planar spiral. The top surfaces of the circumference other than the innermost circumference and the outermost circumference of the conductor may be insulated from each other by the insulating layer. According to this, even if misalignment occurs between the second planar spiral conductor and the third planar spiral conductor, it is possible to avoid contact other than in the same turn. In addition, since the two planar spiral conductors can be brought close to the extent that the innermost circumference and the outermost circumference are in contact with each other, a high inductance and a low profile are realized. It is a feature of electrolytic plating that the innermost and outermost film thicknesses of the second and third planar spiral conductors are larger than the film thicknesses of the other circumferences.

上記コイル部品において、前記第2の平面スパイラル導体の各周の膜厚は均一であり、前記第3の平面スパイラル導体の各周の膜厚は均一であることとしてもよい。電解めっきで形成された第2及び第3の平面スパイラル導体の各周の膜厚が均一であるということは、電解めっき処理後に、最内周及び最外周の膜厚を下げたことを意味する。したがって、上記コイル部品によれば、それぞれ電解めっきによって形成された第2の平面スパイラル導体と第3の平面スパイラル導体との間の距離(頂面間距離)を最小化できるので、高インダクタンス及び低背化が実現される。   In the coil component, the film thickness of each circumference of the second planar spiral conductor may be uniform, and the film thickness of each circumference of the third planar spiral conductor may be uniform. The fact that the thickness of each circumference of the second and third planar spiral conductors formed by electrolytic plating is uniform means that the thickness of the innermost circumference and the outermost circumference has been reduced after the electrolytic plating treatment. . Therefore, according to the coil component, the distance (distance between the top surfaces) between the second planar spiral conductor and the third planar spiral conductor formed by electrolytic plating can be minimized. A turn is realized.

上記コイル部品においてさらに、前記第1の平面スパイラル導体の各周の膜厚は均一であり、前記第4の平面スパイラル導体の各周の膜厚は均一であることとしてもよい。これによれば、さらなる低背化が実現される。   In the coil component, the film thickness of each circumference of the first planar spiral conductor may be uniform, and the film thickness of each circumference of the fourth planar spiral conductor may be uniform. According to this, further reduction in height is realized.

上記各コイル部品において、前記第1及び第4の平面スパイラル導体を覆う絶縁樹脂層と、前記絶縁樹脂層の上から前記第1及び第4の表面を覆う金属磁性粉含有樹脂層とをさらに備えることとしてもよい。これによれば、直流重畳特性に優れた電源用チョークコイルを得ることが可能になる。   Each of the coil components further includes an insulating resin layer that covers the first and fourth planar spiral conductors, and a metal magnetic powder-containing resin layer that covers the first and fourth surfaces from above the insulating resin layer. It is good as well. According to this, it is possible to obtain a power choke coil having excellent direct current superposition characteristics.

また、本発明によるコイル部品の製造方法は、第1の基板のおもて面及びうら面にそれぞれ第1及び第2の平面スパイラル導体を電解めっきによって形成するとともに、前記第1の基板を貫通して前記第1の平面スパイラル導体の内周端と前記第2の平面スパイラル導体の内周端とを接続する第1のスルーホール導体を形成し、さらに、第2の基板のおもて面及びうら面にそれぞれ第3及び第4の平面スパイラル導体を電解めっきによって形成するとともに、前記第2の基板を貫通して前記第3の平面スパイラル導体の内周端と前記第4の平面スパイラル導体の内周端とを接続する第2のスルーホール導体を形成する導体形成工程と、前記第2の平面スパイラル導体の各周のうち少なくとも最外周及び最内周以外の周の頂面を覆う第1の絶縁樹脂層を形成するとともに、前記第3の平面スパイラル導体の各周のうち少なくとも最外周及び最内周以外の周の頂面を覆う第2の絶縁樹脂層を形成する絶縁樹脂層形成工程と、前記第1の基板のうら面と前記第2の基板のおもて面とが向き合うよう、前記第1及び第2の基板を重ねる積層工程と、前記第1の平面スパイラル導体の外周端及び前記第4の平面スパイラル導体の外周端と接続する第1の外部電極と、前記第2の平面スパイラル導体の外周端及び前記第3の平面スパイラル導体の外周端と接続する第2の外部電極とを形成する外部電極形成工程とを備えることを特徴とする。   In the coil component manufacturing method according to the present invention, the first and second planar spiral conductors are formed on the front surface and the back surface of the first substrate by electrolytic plating, respectively, and penetrate the first substrate. Forming a first through-hole conductor connecting the inner peripheral end of the first planar spiral conductor and the inner peripheral end of the second planar spiral conductor; and further, the front surface of the second substrate And third and fourth planar spiral conductors are formed on the back surface by electrolytic plating, respectively, and penetrates the second substrate to form an inner peripheral end of the third planar spiral conductor and the fourth planar spiral conductor. A conductor forming step for forming a second through-hole conductor for connecting the inner peripheral end of the second planar spiral conductor, and a first covering the top surface of the circumference other than the outermost circumference and the innermost circumference among the circumferences of the second planar spiral conductor. 1 insulation Forming an oil layer, and forming an insulating resin layer forming step of forming a second insulating resin layer covering at least the outermost circumference and the top surface of the circumference other than the innermost circumference among the circumferences of the third planar spiral conductor; A stacking step of stacking the first and second substrates such that the back surface of the first substrate and the front surface of the second substrate face each other, an outer peripheral end of the first planar spiral conductor, and the A first external electrode connected to the outer peripheral end of the fourth planar spiral conductor; and an outer peripheral end of the second planar spiral conductor and a second external electrode connected to the outer peripheral end of the third planar spiral conductor. And an external electrode forming step to be formed.

本発明によれば、第1及び第2の絶縁樹脂層を設けたので、少なくとも最外周及び最内周での同一ターン同士の接触を除き、向かい合う第2及び第3の平面スパイラル導体が互いに物理的に接触しないようにすることが可能になる。   According to the present invention, since the first and second insulating resin layers are provided, the second and third planar spiral conductors facing each other are physically connected to each other except at least the contact between the same turns at the outermost and innermost circumferences. It is possible to avoid contact with the other.

上記コイル部品の製造方法において、前記第1の絶縁樹脂層は、前記第2の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面も覆い、前記第2の絶縁樹脂層は、前記第3の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面も覆い、前記絶縁樹脂層形成工程は、前記第1の絶縁樹脂層の表面を研磨することにより、前記第2の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面を前記第1の絶縁樹脂層の表面から露出させ、かつ、前記第2の絶縁樹脂層の表面を研磨することにより、前記第3の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面を前記第2の絶縁樹脂層の表面から露出させる研磨工程を含み、前記積層工程は、前記第2の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面が前記第1の絶縁樹脂層の表面から露出し、かつ前記第3の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面が前記第2の絶縁樹脂層の表面から露出した状態で、前記第1及び第2の基板を重ねることとしてもよい。これによれば、第2の平面スパイラル導体と第3の平面スパイラル導体の間で目ズレが発生したとしても、同一ターン同士以外での接触が発生することは避けられる。また、最内周と最外周が接触する程度まで2つの平面スパイラル導体を近づけることができるので、高インダクタンス及び低背化が実現される。   In the method for manufacturing a coil component, the first insulating resin layer also covers the outermost and innermost top surfaces of the second planar spiral conductor, and the second insulating resin layer includes the third insulating resin layer. The top surface of the outermost periphery and innermost periphery of the planar spiral conductor is also covered, and the insulating resin layer forming step comprises polishing the surface of the first insulating resin layer so that the outermost periphery of the second planar spiral conductor and By exposing the top surface of the innermost periphery from the surface of the first insulating resin layer and polishing the surface of the second insulating resin layer, the outermost and innermost surfaces of the third planar spiral conductor A polishing step of exposing a circumferential top surface from the surface of the second insulating resin layer, wherein the laminating step includes the outermost and innermost top surfaces of the second planar spiral conductor as the first insulating surface. Exposed from the surface of the resin layer, and the third planar spy In a state where the outermost and innermost top surface of Le conductor is exposed from a surface of said second insulating resin layer, it is also possible to overlap the first and second substrates. According to this, even if misalignment occurs between the second planar spiral conductor and the third planar spiral conductor, it is possible to avoid contact other than in the same turn. In addition, since the two planar spiral conductors can be brought close to the extent that the innermost circumference and the outermost circumference are in contact with each other, a high inductance and a low profile are realized.

上記コイル部品の製造方法において、前記絶縁樹脂層形成工程は、前記第1の絶縁樹脂層の表面を研磨することにより、前記第2の平面スパイラル導体の各周の頂面を前記第1の絶縁樹脂層の表面から露出させ、かつ、前記第2の絶縁樹脂層の表面を研磨することにより、前記第3の平面スパイラル導体の各周の頂面を前記第2の絶縁樹脂層の表面から露出させる研磨工程と、前記第1の絶縁樹脂層の表面又は前記第2の絶縁樹脂層の表面のいずれか少なくとも一方を覆う第3の絶縁樹脂層を形成する工程とを含み、前記第2の平面スパイラル導体の各周の頂面と、前記第3の平面スパイラル導体の各周の頂面とは、前記第3の絶縁樹脂層によって絶縁されることとしてもよい。これによれば、それぞれ電解めっきによって形成された第2の平面スパイラル導体と第3の平面スパイラル導体との間の距離(頂面間距離)を最小化できるので、高インダクタンス及び低背化が実現される。   In the method for manufacturing a coil component, the insulating resin layer forming step includes polishing the surface of the first insulating resin layer so that the top surface of each circumference of the second planar spiral conductor is the first insulating layer. The top surface of each circumference of the third planar spiral conductor is exposed from the surface of the second insulating resin layer by exposing the surface of the resin layer and polishing the surface of the second insulating resin layer. A polishing step for forming, and a step of forming a third insulating resin layer covering at least one of the surface of the first insulating resin layer and the surface of the second insulating resin layer, and the second plane The top surface of each circumference of the spiral conductor and the top surface of each circumference of the third planar spiral conductor may be insulated by the third insulating resin layer. According to this, since the distance (distance between top surfaces) between the second planar spiral conductor and the third planar spiral conductor formed by electrolytic plating can be minimized, a high inductance and a low profile are realized. Is done.

上記コイル部品の製造方法において、前記積層工程の後、前記第1及び第4の平面スパイラル導体を覆う第4の絶縁樹脂層を形成し、さらに、該第4の絶縁樹脂層の上から前記第1及び第4の表面を覆う金属磁性粉含有樹脂層を形成する工程と、前記金属磁性粉含有樹脂層の表面に絶縁層を形成する工程とをさらに備え、前記外部電極形成工程は、前記絶縁層の形成後、前記第1及び第2の外部電極を形成することとしてもよい。これによれば、直流重畳特性に優れた電源用チョークコイルを得ることが可能になる。   In the method of manufacturing a coil component, after the stacking step, a fourth insulating resin layer that covers the first and fourth planar spiral conductors is formed, and further, the fourth insulating resin layer is formed on the fourth insulating resin layer. A step of forming a metal magnetic powder-containing resin layer covering the first and fourth surfaces, and a step of forming an insulating layer on the surface of the metal magnetic powder-containing resin layer, wherein the external electrode forming step includes the insulating The first and second external electrodes may be formed after the formation of the layer. According to this, it is possible to obtain a power choke coil having excellent direct current superposition characteristics.

本発明によれば、絶縁層を設けたので、向かい合う第2及び第3の平面スパイラル導体が互いに接触しないようにすることが可能になる。   According to the present invention, since the insulating layer is provided, the second and third planar spiral conductors facing each other can be prevented from contacting each other.

本発明の第1の実施の形態によるコイル部品の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the coil components by the 1st Embodiment of this invention. 図1のA−A線に対応するコイル部品の断面図である。It is sectional drawing of the coil components corresponding to the AA line of FIG. 本発明の第1の実施の形態によるコイル部品の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of the coil component by the 1st Embodiment of this invention. 2度目の電解めっき工程を行った後の平面スパイラル導体の断面電子顕微鏡写真のトレースである。It is a trace of the cross-sectional electron micrograph of the planar spiral conductor after performing the electrolytic plating process of the 2nd time. (a)は、理想的であると考えられる基本コイル部品の積層状態を示す図である。(b)は、基本コイル部品の間に目ズレが発生した状態を示す図である。(A) is a figure which shows the lamination | stacking state of the basic coil components considered to be ideal. (B) is a figure which shows the state which the misalignment generate | occur | produced between basic coil components. 本実施の形態による基本コイル部品の積層状態を示す図である。It is a figure which shows the lamination | stacking state of the basic coil components by this Embodiment. 量産工程の途中における、本発明の第1の実施の形態による基本コイル部品を示す図である。(a)は、切断前の基板をおもて面側から見た平面図であり、(b)は、(a)のB−B線断面図である。It is a figure which shows the basic coil components by the 1st Embodiment of this invention in the middle of a mass production process. (A) is the top view which looked at the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, (b) is the BB sectional drawing of (a). 量産工程の途中における、本発明の第1の実施の形態による基本コイル部品を示す図である。(a)は、切断前の基板をおもて面側から見た平面図であり、(b)は、(a)のB−B線断面図である。It is a figure which shows the basic coil components by the 1st Embodiment of this invention in the middle of a mass production process. (A) is the top view which looked at the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, (b) is the BB sectional drawing of (a). 量産工程の途中における、本発明の第1の実施の形態による基本コイル部品を示す図である。(a)は、切断前の基板をおもて面側から見た平面図であり、(b)は、(a)のB−B線断面図である。It is a figure which shows the basic coil components by the 1st Embodiment of this invention in the middle of a mass production process. (A) is the top view which looked at the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, (b) is the BB sectional drawing of (a). 量産工程の途中における、本発明の第1の実施の形態による基本コイル部品を示す図である。(a)は、切断前の基板をおもて面側から見た平面図であり、(b)は、(a)のB−B線断面図である。It is a figure which shows the basic coil components by the 1st Embodiment of this invention in the middle of a mass production process. (A) is the top view which looked at the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, (b) is the BB sectional drawing of (a). 量産工程の途中における、本発明の第1の実施の形態による基本コイル部品を示す図である。(a)は、切断前の基板をおもて面側から見た平面図であり、(b)は、(a)のB−B線断面図である。It is a figure which shows the basic coil components by the 1st Embodiment of this invention in the middle of a mass production process. (A) is the top view which looked at the board | substrate before a cutting | disconnection from the front surface side, (b) is the BB sectional drawing of (a). 本発明の第1の実施の形態による基本コイル部品を積層する工程を示す図である。It is a figure which shows the process of laminating | stacking the basic coil components by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態によるコイル部品の断面図である。It is sectional drawing of the coil components by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第1及び第2の実施の形態の変形例によるコイル部品の断面図である。It is sectional drawing of the coil components by the modification of the 1st and 2nd embodiment of this invention.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の第1の実施の形態によるコイル部品1の分解斜視図である。同図に示すように、コイル部品1は、2つの基本コイル部品1a,1bを重ねた構造を有している。また、図2は、図1のA−A線に対応するコイル部品1の断面図であり、図3は、コイル部品1の等価回路図である。   FIG. 1 is an exploded perspective view of a coil component 1 according to a first embodiment of the present invention. As shown in the figure, the coil component 1 has a structure in which two basic coil components 1a and 1b are overlapped. FIG. 2 is a cross-sectional view of the coil component 1 corresponding to the line AA in FIG. 1, and FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the coil component 1.

基本コイル部品1a,1bはそれぞれ、図1に示すように、略矩形の基板2a,2b(第1及び第2の基板)を有している。「略矩形」とは、完全な矩形の他、一部の角が欠けている矩形を含む意である。本明細書では矩形の「角部」という用語を用いるが、一部の角が欠けている矩形についての「角部」とは、欠けがないとした場合に得られる完全な矩形の角部を意味する。基本コイル部品1a,1bは、基板2aのうら面2abと、基板2bのおもて面2btとが向き合うように重ねられる。   As shown in FIG. 1, each of the basic coil components 1a and 1b has substantially rectangular substrates 2a and 2b (first and second substrates). The “substantially rectangular” is intended to include a complete rectangle and a rectangle lacking some corners. In this specification, the term “corner” of a rectangle is used. However, the “corner” for a rectangle lacking some corners means the corner of a complete rectangle obtained when there is no lack. means. The basic coil components 1a and 1b are stacked such that the back surface 2ab of the substrate 2a and the front surface 2bt of the substrate 2b face each other.

基板2a,2bの材料には、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させた一般的なプリント基板を用いることが好ましい。また、例えばBTレジン基材、FR4基材、FR5基材を用いてもよい。   As a material for the substrates 2a and 2b, it is preferable to use a general printed circuit board in which a glass cloth is impregnated with an epoxy resin. Further, for example, a BT resin base material, an FR4 base material, or an FR5 base material may be used.

基板2aのおもて面2atの中央部には、平面スパイラル導体10a(第1の平面スパイラル導体)が形成される。同様に、うら面2abの中央部には、平面スパイラル導体10b(第2の平面スパイラル導体)が形成される。また、基板2aには導体埋込用のスルーホール12s(第1のスルーホール)が設けられ、その内部にスルーホール導体12a(第1のスルーホール導体)が埋め込まれている。平面スパイラル導体10aの内周端と平面スパイラル導体10bの内周端とは、スルーホール導体12aによって互いに接続される。   A planar spiral conductor 10a (first planar spiral conductor) is formed at the center of the front surface 2at of the substrate 2a. Similarly, a planar spiral conductor 10b (second planar spiral conductor) is formed at the center of the back surface 2ab. Further, a through hole 12s (first through hole) for burying a conductor is provided in the substrate 2a, and a through hole conductor 12a (first through hole conductor) is embedded therein. The inner peripheral end of the planar spiral conductor 10a and the inner peripheral end of the planar spiral conductor 10b are connected to each other by a through-hole conductor 12a.

一方、基板2bのおもて面2btの中央部には、平面スパイラル導体10c(第3の平面スパイラル導体)が形成される。同様に、うら面2bbの中央部には、平面スパイラル導体10d(第4の平面スパイラル導体)が形成される。また、基板2bにも導体埋込用のスルーホール12t(第2のスルーホール)が設けられ、その内部にスルーホール導体12b(第2のスルーホール導体)が埋め込まれている。平面スパイラル導体10cの内周端と平面スパイラル導体10dの内周端とは、スルーホール導体12bによって互いに接続される。   On the other hand, a planar spiral conductor 10c (third planar spiral conductor) is formed at the center of the front surface 2bt of the substrate 2b. Similarly, a planar spiral conductor 10d (fourth planar spiral conductor) is formed at the center of the back surface 2bb. The substrate 2b is also provided with a through hole 12t (second through hole) for embedding a conductor, and a through hole conductor 12b (second through hole conductor) is embedded therein. The inner peripheral end of the planar spiral conductor 10c and the inner peripheral end of the planar spiral conductor 10d are connected to each other by a through-hole conductor 12b.

平面スパイラル導体10aと平面スパイラル導体10bとは、互いに反対向きに巻回されている。つまり、おもて面2atの側から見た平面スパイラル導体10aが、内周端から外周端に向かって反時計回りに巻回されているのに対し、同様におもて面2atの側から見た平面スパイラル導体10bは、内周端から外周端に向かって時計回りに巻回されている。このような券回方法を採用したことにより、基本コイル部品1aでは、平面スパイラル導体10aの外周端と平面スパイラル導体10bの外周端との間に電流を流した場合に、両平面スパイラル導体が互いに同一方向の磁場を発生して強め合う。したがって、基本コイル部品1aは、1つのインダクタとして機能する。   The planar spiral conductor 10a and the planar spiral conductor 10b are wound in opposite directions. That is, the planar spiral conductor 10a viewed from the front surface 2at side is wound counterclockwise from the inner peripheral end to the outer peripheral end, but similarly from the front surface 2at side. The planar spiral conductor 10b as viewed is wound clockwise from the inner peripheral end toward the outer peripheral end. By adopting such a bill winding method, in the basic coil component 1a, when a current is passed between the outer peripheral end of the planar spiral conductor 10a and the outer peripheral end of the planar spiral conductor 10b, the two planar spiral conductors are mutually connected. Generate magnetic fields in the same direction and strengthen each other. Therefore, the basic coil component 1a functions as one inductor.

平面スパイラル導体10cと平面スパイラル導体10dについても同様であるが、平面スパイラル導体10cは、おもて面2atの側から見て平面スパイラル導体10bと同一の平面形状を有し、平面スパイラル導体10dは、おもて面2atの側から見て平面スパイラル導体10aと同一の平面形状を有している。つまり、基本コイル部品1aと基本コイル部品1bとは、互いに上下逆の構造を有している。   The same applies to the planar spiral conductor 10c and the planar spiral conductor 10d, but the planar spiral conductor 10c has the same planar shape as the planar spiral conductor 10b when viewed from the front surface 2at side. As seen from the front surface 2at side, it has the same planar shape as the planar spiral conductor 10a. That is, the basic coil component 1a and the basic coil component 1b have structures that are upside down.

基板2aのおもて面2atとうら面2abには、それぞれ引出導体11a,11bが形成される。引出導体11a(第1の引出導体)は、基板2aの側面2axに沿って形成される。一方、引出導体11b(第2の引出導体)は、側面2axと対向する側面2ayに沿って形成される。引出導体11aは平面スパイラル導体10aの外周端と接続され、引出導体11bは平面スパイラル導体10bの外周端と接続される。   Lead conductors 11a and 11b are respectively formed on the front surface 2at and the back surface 2ab of the substrate 2a. The lead conductor 11a (first lead conductor) is formed along the side surface 2ax of the substrate 2a. On the other hand, the lead conductor 11b (second lead conductor) is formed along the side surface 2ay facing the side surface 2ax. The lead conductor 11a is connected to the outer peripheral end of the flat spiral conductor 10a, and the lead conductor 11b is connected to the outer peripheral end of the flat spiral conductor 10b.

同様に、基板2bのおもて面2btとうら面2bbには、それぞれ引出導体11c,11dが形成される。引出導体11c(第3の引出導体)は、基板2bの側面2byに沿って形成される。側面2byは、基板2aの側面2ayと同じ側の側面である。一方、引出導体11d(第4の引出導体)は、側面2byと対向する側面2bxに沿って形成される。側面2bxは、基板2aの側面2axと同じ側の側面である。引出導体11cは平面スパイラル導体10cの外周端と接続され、引出導体11dは平面スパイラル導体10dの外周端と接続される。   Similarly, lead conductors 11c and 11d are formed on the front surface 2bt and the back surface 2bb of the substrate 2b, respectively. The lead conductor 11c (third lead conductor) is formed along the side surface 2by of the substrate 2b. The side surface 2by is the same side surface as the side surface 2ay of the substrate 2a. On the other hand, the lead conductor 11d (fourth lead conductor) is formed along the side surface 2bx facing the side surface 2by. The side surface 2bx is a side surface on the same side as the side surface 2ax of the substrate 2a. The lead conductor 11c is connected to the outer peripheral end of the flat spiral conductor 10c, and the lead conductor 11d is connected to the outer peripheral end of the flat spiral conductor 10d.

平面スパイラル導体10a〜10d及び引出導体11a〜11dはいずれも、無電解めっき工程によって下地層を形成した後、2度の電解めっき工程を経て形成される。下地層の材料及び2度の電解めっき工程で形成されるめっき層の材料は、いずれもCuとすることが好適である。1度目の電解めっき工程で形成されためっき層は、2度目の電解めっき工程におけるシードレイヤとなる。詳しくは後述する。   Each of the planar spiral conductors 10a to 10d and the lead conductors 11a to 11d is formed through two electroplating processes after the underlayer is formed by an electroless plating process. It is preferable that the material of the underlayer and the material of the plating layer formed in the two electrolytic plating processes are both Cu. The plating layer formed in the first electrolytic plating process becomes a seed layer in the second electrolytic plating process. Details will be described later.

平面スパイラル導体10a〜10d及び引出導体11a〜11dは、図1及び図2に示すように、絶縁樹脂層21によって覆われている。この絶縁樹脂層21は、各導体と後述する金属磁性粉含有樹脂層22とが導通してしまうことを防止するために設けられるものであるが、本実施の形態では、平面スパイラル導体10b及び引出導体11bと平面スパイラル導体10c及び引出導体11cとを絶縁分離する絶縁層としても機能する。つまり、絶縁樹脂層21は、平面スパイラル導体10b及び引出導体11bと平面スパイラル導体10c及び引出導体11cとの間にも設けられており、これらを絶縁分離している。ただし、本実施の形態において絶縁分離されるのは一部の周のみであって、全周が絶縁分離されるわけではない。具体的には、図2にも示すように、平面スパイラル導体10bの最内周10b−1の頂面と平面スパイラル導体10cの最内周10c−1の頂面との間、平面スパイラル導体10bの最外周10b−2の頂面と平面スパイラル導体10cの最外周10−2の頂面との間、引出導体11bの頂面と引出導体11cの頂面との間、には絶縁樹脂層21は設けられておらず、これらは互いに接触し、導通している。この点については、後ほど再度より詳しく説明する。


The planar spiral conductors 10a to 10d and the lead conductors 11a to 11d are covered with an insulating resin layer 21, as shown in FIGS. The insulating resin layer 21 is provided to prevent conduction between each conductor and the metal magnetic powder-containing resin layer 22 described later. In the present embodiment, the planar spiral conductor 10b and the lead are provided. It also functions as an insulating layer that insulates and separates the conductor 11b from the planar spiral conductor 10c and the lead conductor 11c. That is, the insulating resin layer 21 is also provided between the flat spiral conductor 10b and the lead conductor 11b and the flat spiral conductor 10c and the lead conductor 11c, and these are insulated and separated. However, in this embodiment, only a part of the circumference is isolated and the entire circumference is not insulated and separated. Specifically, as shown in FIG. 2, the planar spiral conductor 10b is located between the top surface of the innermost circumference 10b-1 of the planar spiral conductor 10b and the top surface of the innermost circumference 10c-1 of the planar spiral conductor 10c. insulating resin layer between, in between, the top surface and the top surface of the lead conductor 11c of the lead conductor 11b of the top surface of the outermost 10 c -2 of the outermost periphery 10b-2 of the top surface and the planar spiral conductor 10c of 21 is not provided, these are in contact with each other and are conductive. This point will be described in more detail later.


基板2aのおもて面2at及び基板2bのうら面2bbは、絶縁樹脂層21の上からさらに、金属磁性粉含有樹脂層22によって覆われている。金属磁性粉含有樹脂層22は、樹脂に金属磁性粉を混入して作られる磁性材料(金属磁性粉含有樹脂)によって構成される。金属磁性粉としては、パーマロイ系材料を用いることが好適である。具体的には、平均粒径が20〜50μmであるPb−Ni−Co合金と、平均粒径が3〜10μmであるカルボニル鉄とを所定の比率、例えば70:30〜80:20の重量比、好ましくは75:25の重量比で含む金属磁性粉を用いることが好ましい。金属磁性粉含有樹脂層22における金属磁性粉の含有率は90〜96重量%であることが好ましい。一方、樹脂としては、液状又は粉体のエポキシ樹脂を用いることが好ましい。また、金属磁性粉含有樹脂層22における樹脂の含有率は4〜10重量%であることが好ましい。樹脂は絶縁結着材として機能する。以上の構成を有する金属磁性粉含有樹脂層22は、樹脂に対して金属磁性粉の量が少ないほど飽和磁束密度が小さくなり、逆に金属磁性粉の量が多いほど飽和磁束密度が大きくなるという性質を有している。   The front surface 2at of the substrate 2a and the back surface 2bb of the substrate 2b are further covered with a metal magnetic powder-containing resin layer 22 from above the insulating resin layer 21. The metal magnetic powder-containing resin layer 22 is made of a magnetic material (metal magnetic powder-containing resin) made by mixing metal magnetic powder into a resin. As the metal magnetic powder, it is preferable to use a permalloy material. Specifically, a weight ratio of Pb—Ni—Co alloy having an average particle diameter of 20 to 50 μm and carbonyl iron having an average particle diameter of 3 to 10 μm, for example, 70:30 to 80:20. It is preferable to use a metal magnetic powder containing a weight ratio of 75:25. The metal magnetic powder content in the metal magnetic powder-containing resin layer 22 is preferably 90 to 96% by weight. On the other hand, it is preferable to use a liquid or powder epoxy resin as the resin. Moreover, it is preferable that the resin content rate in the metal magnetic powder containing resin layer 22 is 4 to 10 weight%. The resin functions as an insulating binder. The metal magnetic powder-containing resin layer 22 having the above configuration is such that the smaller the amount of metal magnetic powder relative to the resin, the smaller the saturation magnetic flux density, and conversely, the larger the amount of metal magnetic powder, the larger the saturation magnetic flux density. It has properties.

また、基板2a,2bにはそれぞれ、図1及び図2に示すように、各平面スパイラル導体の中央部に対応する部分を貫通するスルーホール14a,14b(磁路形成用スルーホール)が形成される。金属磁性粉含有樹脂層22はこのスルーホール14a,14b内にも埋め込まれており、埋め込まれた金属磁性粉含有樹脂層22は、スルーホール磁性体22aを構成している。   Further, as shown in FIGS. 1 and 2, through-holes 14a and 14b (magnetic path forming through-holes) are formed in the substrates 2a and 2b so as to penetrate through portions corresponding to the central portions of the respective planar spiral conductors. The The metal magnetic powder-containing resin layer 22 is also embedded in the through holes 14a and 14b, and the embedded metal magnetic powder-containing resin layer 22 constitutes a through-hole magnetic body 22a.

さらに、図2に示すように、金属磁性粉含有樹脂層22の表面には薄い絶縁層23が形成される。なお、図1では、この絶縁層23の描画を省略している。絶縁層23は、金属磁性粉含有樹脂層22の表面をリン酸塩で処理することによって形成される。絶縁層23を設けたことにより、後述する外部電極25,26と金属磁性粉含有樹脂層22との導通が防止される。   Further, as shown in FIG. 2, a thin insulating layer 23 is formed on the surface of the metal magnetic powder-containing resin layer 22. In FIG. 1, drawing of the insulating layer 23 is omitted. The insulating layer 23 is formed by treating the surface of the metal magnetic powder-containing resin layer 22 with phosphate. By providing the insulating layer 23, conduction between external electrodes 25 and 26, which will be described later, and the metal magnetic powder-containing resin layer 22 is prevented.

コイル部品1の側面には、図1に示すように、外部電極25,26(第1及び第2の外部電極)が形成される。外部電極25は、側面に露出した引出導体11a,11dと接触して、これらと導通している。また、外部電極26は、側面に露出した引出導体11b,11cと接触し、これらと導通している。なお、外部電極25,26の形状は、図1に示すように、引出導体11a,11bの露出面をすべて覆い、さらにコイル部品1の上面と下面にも延びた形状とすることが好適である。外部電極25,26は、図示しない実装基板上に形成された配線と、はんだ等によって接着される。   As shown in FIG. 1, external electrodes 25 and 26 (first and second external electrodes) are formed on the side surface of the coil component 1. The external electrode 25 is in contact with the lead conductors 11a and 11d exposed on the side surfaces and is in conduction therewith. The external electrode 26 is in contact with the lead conductors 11b and 11c exposed on the side surfaces, and is in conduction therewith. As shown in FIG. 1, it is preferable that the external electrodes 25 and 26 have a shape that covers all exposed surfaces of the lead conductors 11a and 11b and extends to the upper and lower surfaces of the coil component 1 as well. . The external electrodes 25 and 26 are bonded to a wiring formed on a mounting substrate (not shown) by solder or the like.

図3は、以上の構造を有するコイル部品1によって実現される回路の等価回路図である。同図に示すように、本実施の形態によるコイル部品1によれば、外部電極25と外部電極26の間に、平面スパイラル導体10aによって構成されるインダクタL1と、平面スパイラル導体10dによって構成されるインダクタL2と、平面スパイラル導体10b,10cそれぞれの最内周によって構成されるインダクタL3と、平面スパイラル導体10bの最内周及び最外周以外の周によって構成されるインダクタL4と、平面スパイラル導体10cの最内周及び最外周以外の周によって構成されるインダクタL5と、平面スパイラル導体10b,10cそれぞれの最外周によって構成されるインダクタL6とが挿入される。インダクタL1〜L6はすべて、互いに磁気結合している。平面スパイラル導体10b,10cそれぞれの最内周、平面スパイラル導体10b,10cそれぞれの最外周をそれぞれ単一のインダクタとしているのは、これらが互いに接触しているからである。図3から明らかなように、コイル部品1によれば、単一の基本コイル部品を用いる場合に比べ、外部電極25と外部電極26の間の直流抵抗が減少している。   FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of a circuit realized by the coil component 1 having the above structure. As shown in the figure, according to the coil component 1 of the present embodiment, between the external electrode 25 and the external electrode 26, the inductor L1 configured by the planar spiral conductor 10a and the planar spiral conductor 10d are configured. An inductor L2, an inductor L3 constituted by the innermost circumference of each of the planar spiral conductors 10b and 10c, an inductor L4 constituted by a circumference other than the innermost circumference and the outermost circumference of the planar spiral conductor 10b, and the planar spiral conductor 10c An inductor L5 constituted by a circumference other than the innermost circumference and the outermost circumference and an inductor L6 constituted by the outermost circumferences of the planar spiral conductors 10b and 10c are inserted. Inductors L1 to L6 are all magnetically coupled to each other. The reason why the innermost circumference of each of the planar spiral conductors 10b and 10c and the outermost circumference of each of the planar spiral conductors 10b and 10c are a single inductor is that they are in contact with each other. As apparent from FIG. 3, according to the coil component 1, the DC resistance between the external electrode 25 and the external electrode 26 is reduced as compared with the case where a single basic coil component is used.

以下、コイル部品1の作用効果について、詳しく説明する。   Hereinafter, the effect of the coil component 1 will be described in detail.

図4は、2度目の電解めっき工程を行った後の平面スパイラル導体10a,10bの断面電子顕微鏡写真のトレースである。図示していないが、平面スパイラル導体10c,10dについても同様である。同図に示すめっき層20は、2度目の電解めっき工程で形成されたものである。同図に示すように、2度の電解めっき工程を経た後の平面スパイラル導体10a,10bそれぞれの各周の線幅及び膜厚は、最内周及び最外周以外の各周については概ね一定である。一方、最内周及び最外周では、線幅及び膜厚ともに、その他の周に比べて大きくなる。これは、隣接するシードレイヤがないところでは、めっき層20が横方向及び膜厚方向に大きく成長するためである。   FIG. 4 is a cross-sectional electron micrograph trace of the planar spiral conductors 10a and 10b after the second electrolytic plating process. Although not shown, the same applies to the planar spiral conductors 10c and 10d. The plating layer 20 shown in the figure is formed in the second electrolytic plating process. As shown in the figure, the line width and film thickness of each circumference of the planar spiral conductors 10a and 10b after two electrolytic plating steps are substantially constant for each circumference other than the innermost circumference and the outermost circumference. is there. On the other hand, in the innermost circumference and the outermost circumference, both the line width and the film thickness are larger than those in other circumferences. This is because where there is no adjacent seed layer, the plating layer 20 grows greatly in the lateral direction and the film thickness direction.

直流抵抗低減のために2つの基本コイル部品1a,1bを重ねるにあたっては、平面スパイラル導体間の磁気結合を大きくして高いインダクタンスを得ること、及び低背化のため、できるだけ2つの部品間の距離が短いことが好ましい。図5(a)は、このような観点から理想的であると考えられる基本コイル部品1a,1bの積層状態を示したものである。この例では、平面スパイラル導体10b,10cの頂面を研磨して膜厚を均一にしたうえで、基本コイル部品1a,1bを重ねている。これが実現できれば、直流抵抗を低減しながら、基本コイル部品1a,1b間の距離の極小化を実現できる。   When stacking the two basic coil parts 1a and 1b to reduce the DC resistance, the distance between the two parts is as much as possible in order to obtain a high inductance by increasing the magnetic coupling between the planar spiral conductors and to reduce the height. Is preferably short. FIG. 5A shows the laminated state of the basic coil components 1a and 1b that are considered to be ideal from such a viewpoint. In this example, the top surfaces of the planar spiral conductors 10b and 10c are polished to make the film thickness uniform, and then the basic coil components 1a and 1b are stacked. If this can be realized, the distance between the basic coil components 1a and 1b can be minimized while reducing the DC resistance.

しかしながら、実際には2つの基本コイル部品1a,1bを重ねる際に目ズレの発生が避けられず、図5(a)に示すような状態を実際に実現することは困難である。図5(b)は、基本コイル部品1a,1bの間に目ズレが発生した状態を示している。同図に示すように、目ズレが発生すると、平面スパイラル導体10b,10cの間で、同一ターン同士以外での接触が発生する。こうなるとコイル部品1の電気的及び磁気的特性が大きく劣化してしまうので、このような接触は避ける必要がある。   However, in reality, occurrence of misalignment is unavoidable when the two basic coil components 1a and 1b are overlapped, and it is difficult to actually realize the state shown in FIG. FIG. 5B shows a state in which a misalignment has occurred between the basic coil components 1a and 1b. As shown in the figure, when misalignment occurs, contact occurs between the planar spiral conductors 10b and 10c except for the same turn. In this case, the electrical and magnetic characteristics of the coil component 1 are greatly deteriorated. Therefore, it is necessary to avoid such contact.

そこで本実施の形態では、図6に示すように、相対的に膜厚の大きい部分(平面スパイラル導体10b,10cそれぞれの最内周及び最外周、並びに引出導体11b,11c)について、頂面を若干研磨して平坦にしたうえで、互いに接触させる。一方、相対的に膜厚の小さい部分(平面スパイラル導体10bの最内周及び最外周以外の周、並びに平面スパイラル導体10cの最内周及び最外周以外の周)については、絶縁樹脂層21(絶縁層)によって絶縁分離する。この構成は、図2にも示したものである。こうすることで、図6に示すように、目ズレが発生しても、同一ターン同士以外での接触が発生することがなくなる。したがって、本実施の形態によるコイル部品1によれば、電気的及び磁気的特性の劣化を招かずに、基本コイル部品1a,1b間の距離を、現実的な範囲でできるだけ小さくすることが可能になっている。   Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 6, the top surfaces of the relatively thick portions (the innermost and outermost circumferences of the planar spiral conductors 10b and 10c, and the lead conductors 11b and 11c) are formed. After slightly polishing and flattening, contact each other. On the other hand, with respect to the relatively thin portions (peripherals other than the innermost periphery and outermost periphery of the planar spiral conductor 10b and the periphery other than the innermost periphery and outermost periphery of the planar spiral conductor 10c), the insulating resin layer 21 ( Insulating and separating by an insulating layer). This configuration is also shown in FIG. By doing so, as shown in FIG. 6, even if the misalignment occurs, contact other than the same turn does not occur. Therefore, according to the coil component 1 according to the present embodiment, the distance between the basic coil components 1a and 1b can be made as small as possible within a practical range without deteriorating the electrical and magnetic characteristics. It has become.

次に、コイル部品1の量産工程を説明する。以下ではまず基本コイル部品1aに着目して説明するが、基本コイル部品1bについても同様である。   Next, the mass production process of the coil component 1 will be described. In the following description, the basic coil component 1a will be first described, but the same applies to the basic coil component 1b.

図7〜図11は、コイル部品1の量産工程の途中における基本コイル部品1aを示す図である。また、図12は、基本コイル部品1a,1bを積層する工程を示す図である。図7〜図11の(a)は、切断前の基板2aをおもて面2at側から見た平面図であり、(b)は(a)のB−B線断面図である。なお、これらの各図の(a)に示す破線は、ダイシング工程における切断線を示している。この切断線で囲まれた1つ1つの矩形領域(以下、単に「矩形領域」という)が、個々の基本コイル部品1aとなる。   7 to 11 are views showing the basic coil component 1 a in the middle of the mass production process of the coil component 1. Moreover, FIG. 12 is a figure which shows the process of laminating | stacking basic coil components 1a and 1b. 7A to 11A are plan views of the substrate 2a before cutting as viewed from the front surface 2at side, and FIG. 7B is a sectional view taken along line BB in FIG. In addition, the broken line shown to (a) of these each figure has shown the cutting line in a dicing process. Each rectangular area (hereinafter, simply referred to as “rectangular area”) surrounded by the cutting line is an individual basic coil component 1a.

なお、以下の説明では、図7(a)に示すように、基板2a(切断後の基板2a)の4つの角部それぞれにもスルーホール14aが設けられた基本コイル部品1aの量産工程を取り上げる。このような構成はコイル部品1に完全な閉磁路を形成するためのものであり、これらのスルーホール14a内にも金属磁性粉含有樹脂層22が埋め込まれる。基板2aの角部にスルーホール14aを設けたために引出導体11a,11bの側面方向の長さが図1の例と比べて短くなっているが、引出導体11a,11bの役割に違いはない。   In the following description, as shown in FIG. 7A, the mass production process of the basic coil component 1a in which through holes 14a are also provided in each of the four corners of the substrate 2a (the substrate 2a after cutting) will be taken up. . Such a configuration is for forming a complete closed magnetic circuit in the coil component 1, and the metal magnetic powder-containing resin layer 22 is also embedded in these through holes 14 a. Since the through holes 14a are provided at the corners of the substrate 2a, the lengths of the lead conductors 11a and 11b in the side surfaces are shorter than those in the example of FIG. 1, but there is no difference in the roles of the lead conductors 11a and 11b.

さて、初めに、図7に示すように、基板2aに導体埋込用のスルーホール12sと磁路形成用のスルーホール14aとを設ける。スルーホール12sは、矩形領域ごとに1つずつ設けられる。スルーホール14aについては、上述したように各矩形領域の角部に1つずつ設けられる他、平面スパイラル導体10a,10bの中央部にも設けられる。   First, as shown in FIG. 7, the substrate 2a is provided with a through hole 12s for burying a conductor and a through hole 14a for forming a magnetic path. One through hole 12s is provided for each rectangular region. As described above, one through hole 14a is provided at the corner of each rectangular region, and is also provided at the center of the planar spiral conductors 10a and 10b.

次に、図8に示すように、基板2aのおもて面2atに関して、矩形領域ごとに、内周端がスルーホール12sを覆う平面スパイラル導体10aを形成する。また、矩形領域の一辺に沿って、平面スパイラル導体10aの外周端に接続する引出導体11aを形成する。引出導体11aは隣接する他の矩形領域と共通であり、それぞれに形成される平面スパイラル導体10aの各外周端と接続するように形成される。   Next, as shown in FIG. 8, a planar spiral conductor 10a whose inner peripheral end covers the through hole 12s is formed for each rectangular region with respect to the front surface 2at of the substrate 2a. In addition, the lead conductor 11a connected to the outer peripheral end of the planar spiral conductor 10a is formed along one side of the rectangular region. The lead conductor 11a is common to other adjacent rectangular regions, and is formed so as to be connected to each outer peripheral end of the planar spiral conductor 10a formed in each.

基板2aのうら面2abに関しても同様に、矩形領域ごとに、内周端がスルーホール12sを覆う平面スパイラル導体10bを形成する。また、矩形領域の4辺のうち引出導体11aとは反対側に位置する一辺に沿って、平面スパイラル導体10bの外周端に接続する引出導体11bを形成する。引出導体11bも隣接する他の矩形領域と共通であり、それぞれに形成される平面スパイラル導体10bの各外周端と接続するように形成される。   Similarly, for the back surface 2ab of the substrate 2a, a planar spiral conductor 10b whose inner peripheral end covers the through hole 12s is formed for each rectangular region. Further, the lead conductor 11b connected to the outer peripheral end of the planar spiral conductor 10b is formed along one side of the four sides of the rectangular region located on the side opposite to the lead conductor 11a. The lead conductor 11b is also common to other adjacent rectangular regions, and is formed so as to be connected to each outer peripheral end of the planar spiral conductor 10b formed on each of them.

その他、基板2aのおもて面2at及びうら面2abの両方に関して、隣接する2つの平面スパイラル導体をx方向に接続する平面導体13を形成する。平面導体13は、後述する2度目の電解めっき工程で、x方向とy方向の両方にめっき電流を流すために設けられるものである。   In addition, with respect to both the front surface 2at and the back surface 2ab of the substrate 2a, the planar conductor 13 that connects two adjacent planar spiral conductors in the x direction is formed. The planar conductor 13 is provided to allow a plating current to flow in both the x direction and the y direction in the second electrolytic plating process described later.

図8の段階における平面スパイラル導体10a,10b等の具体的な形成方法は、次のとおりである。すなわち、まず基板2aの両面に無電解めっきによってCuの下地層を形成し、この下地層の表面にフォトレジスト層を電着成膜する。なお、この下地層はスルーホール12s内にも形成され、スルーホール導体12aを構成する。続いて、このフォトレジスト層に、片面ずつのフォトリソグラフィ法によって、平面スパイラル導体10a,10b、引出導体11a,11b、及び平面導体13の形状の開口パターン(ネガパターン)を設ける。そして、電解めっきによって開口パターン内にめっき層を形成し、フォトレジスト層を除去した後、めっき層が形成された部分以外の下地層をエッチングにより除去する。ここでの電解めっき工程は、上述した1度目の電解めっき工程に相当する。ここでは、下地層はパターニングされていない板状の導体であるので、めっき電流の流れる方向に関する問題は生じない。以上の工程により、それぞれ下地層とめっき層からなる平面スパイラル導体10a,10b、引出導体11a,11b、及び平面導体13が形成される。   A specific method for forming the planar spiral conductors 10a and 10b and the like at the stage of FIG. 8 is as follows. That is, first, a Cu underlayer is formed on both surfaces of the substrate 2a by electroless plating, and a photoresist layer is electrodeposited on the surface of the underlayer. This underlayer is also formed in the through hole 12s and constitutes the through hole conductor 12a. Subsequently, an opening pattern (negative pattern) in the shape of the planar spiral conductors 10a and 10b, the lead conductors 11a and 11b, and the planar conductor 13 is provided in this photoresist layer by photolithography on each side. Then, after forming a plating layer in the opening pattern by electrolytic plating and removing the photoresist layer, the underlying layer other than the portion where the plating layer is formed is removed by etching. The electrolytic plating step here corresponds to the first electrolytic plating step described above. Here, since the base layer is an unpatterned plate-like conductor, there is no problem regarding the direction in which the plating current flows. Through the above steps, the planar spiral conductors 10a and 10b, the lead conductors 11a and 11b, and the planar conductor 13 each formed of an underlayer and a plating layer are formed.

ここまでの工程で基板2aのおもて面2at及びうら面2bbに形成した各導体は、2度目の電解めっき工程におけるシードレイヤとなる。このシードレイヤは、引出導体11a,11b、スルーホール導体12a、及び平面導体13を通じてx方向とy方向の両方につながっているため、2度目の電解めっき工程では、x方向とy方向の両方にめっき電流を流すことが可能になる。   The conductors formed on the front surface 2at and the back surface 2bb of the substrate 2a in the steps so far serve as seed layers in the second electrolytic plating step. Since the seed layer is connected to both the x direction and the y direction through the lead conductors 11a and 11b, the through-hole conductor 12a, and the planar conductor 13, in the second electrolytic plating process, both the x direction and the y direction are used. It becomes possible to flow a plating current.

続いて、図9に示すように、2度目の電解めっき処理を行う。具体的には、切断前の基板2aの端部からシードレイヤとしての上記各導体にめっき電流を流しながら、基板2aをめっき液に浸す。この際、上述したようにシードレイヤがx方向とy方向の両方につながっていることから、めっき電流はx方向とy方向の両方に流れる。これにより、平面スパイラル導体10a,10b等に金属イオンが電着し、めっき層20が形成される。   Subsequently, as shown in FIG. 9, a second electrolytic plating process is performed. Specifically, the substrate 2a is immersed in the plating solution while a plating current is supplied from the end portion of the substrate 2a before cutting to each conductor as a seed layer. At this time, as described above, since the seed layer is connected in both the x direction and the y direction, the plating current flows in both the x direction and the y direction. Thereby, metal ions are electrodeposited on the planar spiral conductors 10a, 10b, etc., and the plating layer 20 is formed.

続いて、図10に示すように、基板2aの両面に絶縁樹脂を成膜し、各導体及びめっき層20を絶縁樹脂層21(第1の絶縁樹脂層)で覆う。このとき、スルーホール14aの側壁も絶縁樹脂層21に覆われるが、スルーホール14aの全域が絶縁樹脂層21によって埋め尽くされることのないようにする必要がある。その後、図11に示すように、基板2aの両面を研磨する。この研磨は、平面スパイラル導体10a,10bの最外周及び最内周、並びに引出導体11bなどの相対的に膜厚が大きい部分の頂面が露出し、その他の相対的に膜厚が小さい部分の頂面が露出しない程度まで行う。   Subsequently, as shown in FIG. 10, an insulating resin is formed on both surfaces of the substrate 2a, and each conductor and the plating layer 20 are covered with an insulating resin layer 21 (first insulating resin layer). At this time, the side wall of the through hole 14 a is also covered with the insulating resin layer 21, but it is necessary to prevent the entire area of the through hole 14 a from being completely filled with the insulating resin layer 21. Thereafter, as shown in FIG. 11, both surfaces of the substrate 2a are polished. In this polishing, the outermost and innermost peripheries of the planar spiral conductors 10a and 10b, and the top surfaces of the relatively thick portions such as the lead conductor 11b are exposed, and the other relatively thin portions of the thickness are exposed. Repeat until the top surface is not exposed.

次に、図12に示すように、基板2aのおもて面2at側に再度絶縁樹脂を成膜し、露出した平面スパイラル導体10aの頂面等を、再度絶縁樹脂層21で覆う。   Next, as shown in FIG. 12, an insulating resin film is formed again on the front surface 2at side of the substrate 2a, and the exposed top surface of the planar spiral conductor 10a is covered with the insulating resin layer 21 again.

ここまでの工程は、基本コイル部品1bについても同様である。すなわち、基板2bに平面スパイラル導体10c,10d、引出導体11c,11d、及びスルーホール導体12bを形成し、絶縁樹脂層21(第2の絶縁樹脂層)で両面を覆った後、基板2bの両面を基本コイル部品1aと同程度まで研磨する。その後、基板2bのうら面2bb側に再度絶縁樹脂を成膜し、露出した平面スパイラル導体10dの頂面等を、再度絶縁樹脂層21で覆う。   The steps so far are the same for the basic coil component 1b. That is, the planar spiral conductors 10c and 10d, the lead conductors 11c and 11d, and the through-hole conductor 12b are formed on the substrate 2b, and both surfaces of the substrate 2b are covered with the insulating resin layer 21 (second insulating resin layer). Is polished to the same extent as the basic coil component 1a. Thereafter, an insulating resin film is formed again on the back surface 2bb side of the substrate 2b, and the exposed top surface of the planar spiral conductor 10d is covered with the insulating resin layer 21 again.

以上のようにして基本コイル部品1a,1bをそれぞれ形成したら、次に図12に示すように、基板2aのうら面2abと基板2bのおもて面2btとが向き合うように、2つの基本コイル部品1a,1bを積層する。   When the basic coil components 1a and 1b are formed as described above, as shown in FIG. 12, the two basic coils are arranged so that the back surface 2ab of the substrate 2a and the front surface 2bt of the substrate 2b face each other. The components 1a and 1b are stacked.

積層した後には、基板2aのおもて面2atと基板2bのうら面2bbとを、金属磁性粉含有樹脂層22で覆う。具体的な形成方法について説明すると、まず基板2a,2bの反りを抑制するためのUVテープ(不図示)を基板2bのうら面2bbに貼り、基板2aのおもて面2atに金属磁性粉含有樹脂ペーストをスクリーン印刷する。UVテープの代わりに熱剥離テープを用いてもよい。金属磁性粉含有樹脂ペーストからなるスクリーンシートとしては、約0.27mm厚のものを用いることが好適である。また、スクリーン印刷の後には、脱泡と、80℃での30分間の加熱とを経て、ペーストを仮硬化させる。続いて、UVテープを剥がし、基板2bのうら面2bbに金属磁性粉含有樹脂ペーストをスクリーン印刷する。ここでも、金属磁性粉含有樹脂ペーストからなるスクリーンシートとしては、約0.27mm厚のものを用いることが好適である。また、スクリーン印刷の後には、160℃で1時間加熱することにより、ペーストを本硬化させる。以上の処理により、金属磁性粉含有樹脂層22が完成する。   After the lamination, the front surface 2at of the substrate 2a and the back surface 2bb of the substrate 2b are covered with the metal magnetic powder-containing resin layer 22. A specific forming method will be described. First, a UV tape (not shown) for suppressing warpage of the substrates 2a and 2b is attached to the back surface 2bb of the substrate 2b, and the front surface 2at of the substrate 2a contains metal magnetic powder. Resin paste is screen printed. A heat release tape may be used instead of the UV tape. It is preferable to use a screen sheet made of a metal magnetic powder-containing resin paste having a thickness of about 0.27 mm. Further, after the screen printing, the paste is temporarily cured through defoaming and heating at 80 ° C. for 30 minutes. Subsequently, the UV tape is peeled off, and a metal magnetic powder-containing resin paste is screen-printed on the back surface 2bb of the substrate 2b. Again, it is preferable to use a screen sheet made of a metal magnetic powder-containing resin paste having a thickness of about 0.27 mm. Further, after screen printing, the paste is fully cured by heating at 160 ° C. for 1 hour. The metal magnetic powder containing resin layer 22 is completed by the above process.

以上の工程において、金属磁性粉含有樹脂層22はスルーホール14a,14bにも埋め込まれる。これにより、スルーホール14a,14b内に、図1及び図2に示したスルーホール磁性体22aを含むスルーホール磁性体が形成される。   In the above process, the metal magnetic powder-containing resin layer 22 is also embedded in the through holes 14a and 14b. As a result, through-hole magnetic bodies including the through-hole magnetic bodies 22a shown in FIGS. 1 and 2 are formed in the through holes 14a and 14b.

最後に、ダイサーを用い、切断線に沿って基板2a,2bを切断する。これにより矩形領域ごとに個々のコイル部品1が得られるので、次に、図2に示したように、金属磁性粉含有樹脂層22の表面に絶縁層23を形成する。その後は、スパッタ等によって図1に示した外部電極25,26を形成し、コイル部品1が最終的に完成する。   Finally, using a dicer, the substrates 2a and 2b are cut along the cutting line. As a result, the individual coil components 1 are obtained for each rectangular region. Next, as shown in FIG. 2, an insulating layer 23 is formed on the surface of the metal magnetic powder-containing resin layer 22. Thereafter, the external electrodes 25 and 26 shown in FIG. 1 are formed by sputtering or the like, and the coil component 1 is finally completed.

以上説明したように、本実施の形態によるコイル部品1の製造方法によれば、平面スパイラル導体10b,10cそれぞれの最内周及び最外周、並びに引出導体11b,11cについて、頂面が互いに接触して導通する一方、平面スパイラル導体10bの最内周及び最外周以外の周の頂面と、平面スパイラル導体10cの最内周及び最外周以外の周の頂面とは、絶縁樹脂層21によって互いに絶縁したコイル部品1を製造することが可能になる。したがって、低い直流抵抗、高いインダクタンス、及び低背化をバランスよく実現するコイル部品を得ることが可能になる。   As described above, according to the manufacturing method of the coil component 1 according to the present embodiment, the top surfaces of the innermost and outermost periphery of the planar spiral conductors 10b and 10c and the lead conductors 11b and 11c are in contact with each other. On the other hand, the top surface of the circumference other than the innermost circumference and the outermost circumference of the planar spiral conductor 10b and the top face of the circumference other than the innermost circumference and the outermost circumference of the planar spiral conductor 10c are mutually connected by the insulating resin layer 21. It becomes possible to manufacture the insulated coil component 1. Therefore, it is possible to obtain a coil component that realizes a low DC resistance, a high inductance, and a low profile in a balanced manner.

また、平面スパイラル導体10a,10dについても研磨しているので、研磨した分だけコイル部品1のさらなる低背化が実現される。   Further, since the planar spiral conductors 10a and 10d are also polished, the coil component 1 can be further reduced in height by the amount polished.

また、基板2a,2b(切断後の基板2a,2b)の各角部と、平面スパイラル導体10a,10bの中央部に対応する部分とにスルーホール磁性体を形成するので、これらを形成しない場合に比べ、コイル部品のインダクタンスを向上できる。   In addition, since through-hole magnetic bodies are formed at the corners of the substrates 2a and 2b (the substrates 2a and 2b after cutting) and the portions corresponding to the central portions of the planar spiral conductors 10a and 10b, they are not formed. As compared with the above, the inductance of the coil component can be improved.

また、磁路形成用のスルーホール14aを、平面スパイラル導体10a,10b及び引出導体11a,11bを形成する前に形成するので、図2にも示すように、スルーホール14内に張り出して平面スパイラル導体10a,10bを形成することが可能になる。したがって、平面スパイラル導体10a,10bの形成領域を実質的に広く取ることが可能になる。これは、平面スパイラル導体10c,10dについても同様である。   Further, since the through hole 14a for forming the magnetic path is formed before forming the planar spiral conductors 10a and 10b and the lead conductors 11a and 11b, as shown in FIG. The conductors 10a and 10b can be formed. Therefore, it becomes possible to make the formation area of the planar spiral conductors 10a and 10b substantially wide. The same applies to the planar spiral conductors 10c and 10d.

また、磁性基板ではなく金属磁性粉含有樹脂層22によって磁路を形成することから、直流重畳特性に優れた電源用チョークコイルを得ることが可能になる。   In addition, since the magnetic path is formed not by the magnetic substrate but by the metal magnetic powder-containing resin layer 22, it is possible to obtain a power choke coil having excellent direct current superposition characteristics.

図13は、本発明の第2の実施の形態によるコイル部品1の断面図である。同図は、図2の断面図に対応している。   FIG. 13 is a cross-sectional view of the coil component 1 according to the second embodiment of the present invention. This figure corresponds to the cross-sectional view of FIG.

図13に示すように、本実施の形態によるコイル部品1は、平面スパイラル導体10bの各周(引出導体11bを含む)の膜厚及び平面スパイラル導体10cの各周(引出導体11cを含む)の膜厚がそれぞれ均一となっている点で、第1の実施の形態によるコイル部品1と相違している。また、本実施の形態によるコイル部品1では、平面スパイラル導体10aの各周(引出導体11aを含む)の膜厚及び平面スパイラル導体10dの各周の膜厚(引出導体11dを含む)の膜厚についても、それぞれ均一としている。これらの均一化は、上述した研磨工程において、各平面スパイラル導体の最外周及び最内周以外の周などの相対的に膜厚の小さい部分の頂面が露出する程度まで研磨を行うことによって実現する。   As shown in FIG. 13, the coil component 1 according to the present embodiment has a film thickness on each circumference (including the lead conductor 11b) of the planar spiral conductor 10b and each circumference (including the lead conductor 11c) of the plane spiral conductor 10c. It differs from the coil component 1 according to the first embodiment in that the film thickness is uniform. Further, in the coil component 1 according to the present embodiment, the film thickness of each circumference (including the lead conductor 11a) of the planar spiral conductor 10a and the film thickness of each circumference (including the lead conductor 11d) of the plane spiral conductor 10d. Each is also uniform. These equalizations are realized by polishing to the extent that the top surfaces of the relatively thin portions such as the outermost circumference and the circumference other than the innermost circumference of each planar spiral conductor are exposed in the above-described polishing step. To do.

本実施の形態によるコイル部品1の製造工程では、研磨後の絶縁樹脂の成膜を、基板2aのうら面2abと基板2bのおもて面2btのいずれか少なくとも一方についても行う(第3の絶縁樹脂層の形成)。こうすることで、図13に示すように、平面スパイラル導体10bの各周の頂面と、平面スパイラル導体10cの各周の頂面とが、絶縁樹脂層21によって絶縁されることとなる。したがって、目ズレが発生しても同一ターン同士以外での接触が発生することはなくなり、しかも第1の実施の形態と同程度に基本コイル部品1a,1b間の距離を縮めることができる。つまり、本実施の形態によるコイル部品1によっても、電気的及び磁気的特性の劣化を招かずに、基本コイル部品1a,1b間の距離を、現実的な範囲でできるだけ小さくすることが可能になっている。   In the manufacturing process of the coil component 1 according to the present embodiment, the insulating resin film after the polishing is formed on at least one of the back surface 2ab of the substrate 2a and the front surface 2bt of the substrate 2b (third Formation of insulating resin layer). By doing so, as shown in FIG. 13, the top surface of each circumference of the planar spiral conductor 10 b and the top surface of each circumference of the planar spiral conductor 10 c are insulated by the insulating resin layer 21. Therefore, even if the misalignment occurs, contact other than the same turn does not occur, and the distance between the basic coil components 1a and 1b can be reduced to the same extent as in the first embodiment. That is, even with the coil component 1 according to the present embodiment, the distance between the basic coil components 1a and 1b can be made as small as possible within a practical range without deteriorating the electrical and magnetic characteristics. ing.

また、本実施の形態においても、平面スパイラル導体10a,10dについても研磨しているので、研磨した分だけコイル部品1のさらなる低背化が実現される。   Also in the present embodiment, since the planar spiral conductors 10a and 10d are also polished, a further reduction in the height of the coil component 1 is realized by the amount polished.

以上、本発明の好ましい実施の形態について説明したが、本発明はこうした実施の形態に何等限定されるものではなく、本発明が、その要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施され得ることは勿論である。   As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, this invention is not limited to such embodiment at all, and this invention can be implemented in various aspects in the range which does not deviate from the summary. Of course.

例えば、上記第1及び第2の実施の形態では、程度の差はあれど、いずれも平面スパイラル導体及び引出導体の頂面を研磨した。しかしながら、研磨は、高インダクタンス及び低背化を目的として行っているものであって、これらが要求されない場合には、研磨を行わなくてよい。   For example, in the first and second embodiments, the top surfaces of the planar spiral conductor and the lead conductor are polished to some extent. However, the polishing is performed for the purpose of high inductance and low profile. If these are not required, the polishing may not be performed.

図14は、研磨を行わずに形成したコイル部品1の断面図である。これを図2や図13の例と比べると、若干基板2aと基板2bの間の距離が広くなり、その分コイル部品1の高さが高くなっている。また、基板2aと基板2bの間の距離が広がった分、コイル部品1のインダクタンスが低下している。しかしながら、この構成によっても直流抵抗の低減は十分にできるので、高インダクタンス及び低背化が必要でない場合には、このようにしてもよい。なお、図14に示したコイル部品は、図10に示した状態の切断前の基本コイル部品を2つ単純に重ねることで、容易に製造することが可能である。   FIG. 14 is a cross-sectional view of the coil component 1 formed without polishing. Compared with the examples of FIGS. 2 and 13, the distance between the substrate 2a and the substrate 2b is slightly increased, and the height of the coil component 1 is increased accordingly. In addition, the inductance of the coil component 1 is reduced by the amount that the distance between the substrate 2a and the substrate 2b is increased. However, since the DC resistance can be sufficiently reduced even with this configuration, this may be used when high inductance and low profile are not required. The coil component shown in FIG. 14 can be easily manufactured by simply stacking two basic coil components before cutting in the state shown in FIG.

1 コイル部品
1a,1b 基本コイル部品
2a,2b 基板
2at 基板2aのおもて面
2ab 基板2aのうら面
2ax,2ay 基板2aの側面
2bt 基板2bのおもて面
2bb 基板2bのうら面
2bx,2by 基板2bの側面
10a〜10d 平面スパイラル導体
11a〜11d 引出導体
12a,12b スルーホール導体
12s,12t 導体埋込用スルーホール
13 平面導体
14a,14b 磁路形成用スルーホール
20 めっき層
21 絶縁樹脂層
22 金属磁性粉含有樹脂層
22a スルーホール磁性体
23 絶縁層
25,26 外部電極
L1〜L6 インダクタ
1 Coil parts 1a, 1b Basic coil parts 2a, 2b Substrate 2at Front surface 2ab of substrate 2a Back surface 2ax of substrate 2a, 2ay Side surface 2bt of substrate 2a Front surface 2bb of substrate 2b Back surface 2bx of substrate 2b 2by Side surfaces 10a to 10d of the substrate 2b Planar spiral conductors 11a to 11d Lead conductors 12a and 12b Through hole conductors 12s and 12t Conductor embedding through holes 13 Planar conductors 14a and 14b Magnetic path forming through holes 20 Plating layer 21 Insulating resin layer 22 Metal magnetic powder-containing resin layer 22a Through-hole magnetic body 23 Insulating layers 25, 26 External electrodes L1 to L6 Inductor

Claims (9)

第1の基板と、
おもて面が前記第1の基板のうら面と対向するよう配置された第2の基板と、
それぞれ前記第1の基板のおもて面及びうら面に形成され、それぞれの内周端が前記第1の基板を貫通する第1のスルーホール導体を介して互いに接続された第1及び第2の平面スパイラル導体と、
それぞれ前記第2の基板のおもて面及びうら面に形成され、それぞれの内周端が前記第2の基板を貫通する第2のスルーホール導体を介して互いに接続された第3及び第4の平面スパイラル導体と、
前記第2の平面スパイラル導体と前記第3の平面スパイラル導体との間に設けられた絶縁層と、
前記第1の平面スパイラル導体の外周端及び前記第4の平面スパイラル導体の外周端と接続する第1の外部電極と、
前記第2の平面スパイラル導体の外周端及び前記第3の平面スパイラル導体の外周端と接続する第2の外部電極と
を備えることを特徴とするコイル部品。
A first substrate;
A second substrate disposed such that a front surface faces the back surface of the first substrate;
Respectively made form the front surface and the back surface of the first substrate, the first and connected to each other via the first through-hole conductors, each of the inner circumferential edge through the first substrate Two planar spiral conductors;
Respectively made form the front surface and the back surface of the second substrate, the third and connected to each other through a second through-hole conductors, each of the inner peripheral edge through said second substrate Four planar spiral conductors;
An insulating layer provided between the second planar spiral conductor and the third planar spiral conductor;
A first external electrode connected to an outer peripheral end of the first planar spiral conductor and an outer peripheral end of the fourth planar spiral conductor;
A coil component comprising: an outer peripheral end of the second planar spiral conductor; and a second external electrode connected to the outer peripheral end of the third planar spiral conductor.
前記第2及び第3の平面スパイラル導体それぞれの最内周及び最外周の膜厚は、それぞれのその他の周の膜厚に比べて厚く、
前記第2の平面スパイラル導体の最内周の頂面及び前記第3の平面スパイラル導体の最内周の頂面は、前記絶縁層を貫通して互いに接触し、
前記第2の平面スパイラル導体の最外周の頂面及び前記第3の平面スパイラル導体の最外周の頂面は、前記絶縁層を貫通して互いに接触し、
前記第2の平面スパイラル導体の最内周及び最外周以外の周の頂面及び前記第3の平面スパイラル導体の最内周及び最外周以外の周の頂面は、前記絶縁層によって互いに絶縁される
ことを特徴とする請求項1に記載のコイル部品。
The innermost and outermost film thicknesses of the second and third planar spiral conductors are thicker than the film thicknesses of the other circumferences,
An innermost top surface of the second planar spiral conductor and an innermost top surface of the third planar spiral conductor are in contact with each other through the insulating layer;
The outermost top surface of the second planar spiral conductor and the outermost top surface of the third planar spiral conductor are in contact with each other through the insulating layer;
The top surface of the circumference other than the innermost circumference and the outermost circumference of the second planar spiral conductor and the top face of the circumference other than the innermost circumference and the outermost circumference of the third planar spiral conductor are insulated from each other by the insulating layer. The coil component according to claim 1, wherein:
前記第2の平面スパイラル導体の各周の膜厚は均一であり、
前記第3の平面スパイラル導体の各周の膜厚は均一である
ことを特徴とする請求項1に記載のコイル部品。
The film thickness of each circumference of the second planar spiral conductor is uniform,
The coil component according to claim 1, wherein the film thickness of each circumference of the third planar spiral conductor is uniform.
前記第1の平面スパイラル導体の各周の膜厚は均一であり、
前記第4の平面スパイラル導体の各周の膜厚は均一である
ことを特徴とする請求項3に記載のコイル部品。
The thickness of each circumference of the first planar spiral conductor is uniform,
The coil component according to claim 3, wherein a film thickness of each circumference of the fourth planar spiral conductor is uniform.
前記第1及び第4の平面スパイラル導体を覆う絶縁樹脂層と、
前記絶縁樹脂層の上から前記第1の基板のおもて面及び前記第2の基板のうら面を覆う金属磁性粉含有樹脂層とをさらに備える
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のコイル部品。
An insulating resin layer covering the first and fourth planar spiral conductors;
The metal magnetic powder-containing resin layer covering the front surface of the first substrate and the back surface of the second substrate from above the insulating resin layer is further provided. The coil component according to claim 1.
第1の基板のおもて面及びうら面にそれぞれ第1及び第2の平面スパイラル導体を電解めっきによって形成するとともに、前記第1の基板を貫通して前記第1の平面スパイラル導体の内周端と前記第2の平面スパイラル導体の内周端とを接続する第1のスルーホール導体を形成し、さらに、第2の基板のおもて面及びうら面にそれぞれ第3及び第4の平面スパイラル導体を電解めっきによって形成するとともに、前記第2の基板を貫通して前記第3の平面スパイラル導体の内周端と前記第4の平面スパイラル導体の内周端とを接続する第2のスルーホール導体を形成する導体形成工程と、
前記第2の平面スパイラル導体の各周のうち少なくとも最外周及び最内周以外の周の頂面を覆う第1の絶縁樹脂層を形成するとともに、前記第3の平面スパイラル導体の各周のうち少なくとも最外周及び最内周以外の周の頂面を覆う第2の絶縁樹脂層を形成する絶縁樹脂層形成工程と、
前記第1の基板のうら面と前記第2の基板のおもて面とが向き合うよう、前記第1及び第2の基板を重ねる積層工程と、
前記第1の平面スパイラル導体の外周端及び前記第4の平面スパイラル導体の外周端と接続する第1の外部電極と、前記第2の平面スパイラル導体の外周端及び前記第3の平面スパイラル導体の外周端と接続する第2の外部電極とを形成する外部電極形成工程と
を備えることを特徴とするコイル部品の製造方法。
First and second planar spiral conductors are formed by electrolytic plating on the front surface and the back surface of the first substrate, respectively, and the inner periphery of the first planar spiral conductor penetrates the first substrate. A first through-hole conductor connecting the end and the inner peripheral end of the second planar spiral conductor is formed, and the third and fourth planes are respectively formed on the front surface and the back surface of the second substrate. A spiral conductor is formed by electrolytic plating, and a second through that penetrates the second substrate and connects the inner peripheral end of the third planar spiral conductor and the inner peripheral end of the fourth planar spiral conductor. A conductor forming step for forming a hole conductor;
Forming a first insulating resin layer that covers at least a top surface of a circumference other than the outermost and innermost circumferences of each circumference of the second planar spiral conductor, and of each circumference of the third planar spiral conductor An insulating resin layer forming step of forming a second insulating resin layer that covers at least the top surface of the circumference other than the outermost circumference and the innermost circumference;
A stacking step of stacking the first and second substrates so that the back surface of the first substrate and the front surface of the second substrate face each other;
A first external electrode connected to an outer peripheral end of the first planar spiral conductor and an outer peripheral end of the fourth planar spiral conductor; an outer peripheral end of the second planar spiral conductor; and a third planar spiral conductor An external electrode forming step of forming a second external electrode connected to the outer peripheral end. A method for manufacturing a coil component, comprising:
前記第1の絶縁樹脂層は、前記第2の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面も覆い、
前記第2の絶縁樹脂層は、前記第3の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面も覆い、
前記絶縁樹脂層形成工程は、前記第1の絶縁樹脂層の表面を研磨することにより、前記第2の平面スパイラル導体の各周のうち最外周及び最内周以外の周の頂面が前記第1の絶縁樹脂層で覆われた状態を維持しつつ前記第2の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面を前記第1の絶縁樹脂層の表面から露出させ、かつ、前記第2の絶縁樹脂層の表面を研磨することにより、前記第3の平面スパイラル導体の各周のうち最外周及び最内周以外の周の頂面が前記第2の絶縁樹脂層で覆われた状態を維持しつつ前記第3の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面を前記第2の絶縁樹脂層の表面から露出させる研磨工程を含み、
前記積層工程は、前記第2の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面が前記第1の絶縁樹脂層の表面から露出し、かつ前記第3の平面スパイラル導体の最外周及び最内周の頂面が前記第2の絶縁樹脂層の表面から露出した状態で、前記第1及び第2の基板を重ねる
ことを特徴とする請求項6に記載のコイル部品の製造方法。
The first insulating resin layer also covers the outermost and innermost top surfaces of the second planar spiral conductor,
The second insulating resin layer also covers the outermost and innermost top surfaces of the third planar spiral conductor,
The insulating resin layer forming step includes polishing the surface of the first insulating resin layer so that the top surfaces of the circumferences other than the outermost and innermost circumferences of the second planar spiral conductor The top surfaces of the outermost and innermost circumferences of the second planar spiral conductor are exposed from the surface of the first insulating resin layer while maintaining the state covered with the first insulating resin layer, and the second By polishing the surface of the insulating resin layer, the top surface of the circumference other than the outermost and innermost circumferences of each circumference of the third planar spiral conductor is covered with the second insulating resin layer. A polishing step of exposing the outermost and innermost top surfaces of the third planar spiral conductor from the surface of the second insulating resin layer while maintaining
In the laminating step, the outermost and innermost top surfaces of the second planar spiral conductor are exposed from the surface of the first insulating resin layer, and the outermost and innermost surfaces of the third planar spiral conductor are exposed. The method for manufacturing a coil component according to claim 6, wherein the first and second substrates are overlapped in a state where a peripheral top surface is exposed from the surface of the second insulating resin layer.
前記絶縁樹脂層形成工程は、
前記第1の絶縁樹脂層の表面を研磨することにより、前記第2の平面スパイラル導体の各周の頂面を前記第1の絶縁樹脂層の表面から露出させ、かつ、前記第2の絶縁樹脂層の表面を研磨することにより、前記第3の平面スパイラル導体の各周の頂面を前記第2の絶縁樹脂層の表面から露出させる研磨工程と、
前記第1の絶縁樹脂層の表面又は前記第2の絶縁樹脂層の表面のいずれか少なくとも一方を覆う第3の絶縁樹脂層を形成する工程とを含み、
前記第2の平面スパイラル導体の各周の頂面と、前記第3の平面スパイラル導体の各周の頂面とは、前記第3の絶縁樹脂層によって絶縁される
ことを特徴とする請求項6に記載のコイル部品の製造方法。
The insulating resin layer forming step includes:
The top surface of each circumference of the second planar spiral conductor is exposed from the surface of the first insulating resin layer by polishing the surface of the first insulating resin layer, and the second insulating resin A polishing step of exposing the top surface of each circumference of the third planar spiral conductor from the surface of the second insulating resin layer by polishing the surface of the layer;
Forming a third insulating resin layer covering at least one of the surface of the first insulating resin layer or the surface of the second insulating resin layer,
The top surface of each circumference of the second planar spiral conductor and the top surface of each circumference of the third planar spiral conductor are insulated by the third insulating resin layer. The manufacturing method of the coil components as described in 2.
前記積層工程の後、前記第1及び第4の平面スパイラル導体を覆う第4の絶縁樹脂層を形成し、さらに、該第4の絶縁樹脂層の上から前記第1の基板のおもて面及び前記第2の基板のうら面を覆う金属磁性粉含有樹脂層を形成する工程と、
前記金属磁性粉含有樹脂層の表面に絶縁層を形成する工程とをさらに備え、
前記外部電極形成工程は、前記絶縁層の形成後、前記第1及び第2の外部電極を形成する
ことを特徴とする請求項6乃至8のいずれか一項に記載のコイル部品の製造方法。
After the laminating step, a fourth insulating resin layer is formed to cover the first and fourth planar spiral conductors, and the front surface of the first substrate is formed on the fourth insulating resin layer. And forming a metal magnetic powder-containing resin layer covering the back surface of the second substrate;
Further comprising a step of forming an insulating layer on the surface of the metal magnetic powder-containing resin layer,
The method of manufacturing a coil component according to any one of claims 6 to 8, wherein, in the external electrode forming step, the first and second external electrodes are formed after the insulating layer is formed.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10629362B2 (en) 2017-01-23 2020-04-21 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Coil component and method for manufacturing the same
KR20220081138A (en) 2020-12-08 2022-06-15 삼성전기주식회사 Coil component

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6120623B2 (en) * 2013-03-15 2017-04-26 オムロンオートモーティブエレクトロニクス株式会社 Magnetic device
US20150116950A1 (en) * 2013-10-29 2015-04-30 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Coil component, manufacturing method thereof, coil component-embedded substrate, and voltage adjustment module having the same
KR102004791B1 (en) * 2014-05-21 2019-07-29 삼성전기주식회사 Chip electronic component and board having the same mounted thereon
JP6564614B2 (en) * 2014-05-22 2019-08-21 新光電気工業株式会社 Inductor and method of manufacturing inductor
KR101681405B1 (en) * 2015-03-18 2016-11-30 삼성전기주식회사 Power inductor
US10395810B2 (en) 2015-05-19 2019-08-27 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Inductor
JP6500635B2 (en) 2015-06-24 2019-04-17 株式会社村田製作所 Method of manufacturing coil component and coil component
JP6477429B2 (en) 2015-11-09 2019-03-06 株式会社村田製作所 Coil parts
CN209449029U (en) 2016-11-28 2019-09-27 株式会社村田制作所 The mounting structure of multilager base plate and multilager base plate to circuit substrate
KR101875066B1 (en) * 2016-12-19 2018-07-06 주식회사 액트로 Image stabilizing coil unit and manufacturing method of this
JP6390825B1 (en) * 2017-03-01 2018-09-19 株式会社村田製作所 Mounting board
WO2018159455A1 (en) 2017-03-01 2018-09-07 株式会社村田製作所 Electric element
US10812033B2 (en) * 2017-12-29 2020-10-20 Lam Research Corporation High-power radio-frequency spiral-coil filter
JP7087428B2 (en) * 2018-02-09 2022-06-21 Tdk株式会社 Coil parts
JP6777698B2 (en) * 2018-09-11 2020-10-28 株式会社村田製作所 Coil parts

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000277354A (en) * 1999-03-23 2000-10-06 Nagano Japan Radio Co Laminted common-mode choke coil
JP2006128519A (en) * 2004-10-29 2006-05-18 Tdk Corp Method of manufacturing multilayer substrate
JP2008294085A (en) * 2007-05-22 2008-12-04 Toshiba Corp Planar magnetic element, and electronic apparatus employing the same
JP2009010268A (en) * 2007-06-29 2009-01-15 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Planal coil and manufacturing method therefor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10629362B2 (en) 2017-01-23 2020-04-21 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Coil component and method for manufacturing the same
KR20220081138A (en) 2020-12-08 2022-06-15 삼성전기주식회사 Coil component

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