JP5858068B2 - Substrate processing apparatus and substrate processing method - Google Patents
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Description
本発明は、基板処理装置と基板処理方法に関する。
本願は、2010年4月9日に出願された米国仮出願61/322347号および2010年4月9日に出願された米国仮出願61/322417号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method.
This application claims priority based on US provisional application 61/322347 filed on April 9, 2010 and US provisional application 61/322417 filed on April 9, 2010, the contents of which are hereby incorporated by reference herein. Incorporated into.
ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)素子、電子ペーパに用いられる電気泳動素子などが知られている。現在、これらの表示素子として、基板表面に薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)と呼ばれるスイッチング素子や増幅素子または電流駆動素子等を形成した後、その上にそれぞれの表示デバイスを形成する能動的表示素子(アクティブディスプレーデバイス)が主流となってきている。 As display elements constituting display devices such as display devices, for example, liquid crystal display elements, organic electroluminescence (organic EL) elements, electrophoretic elements used for electronic paper, and the like are known. Currently, as these display elements, a switching element called a thin film transistor (TFT), an amplifying element, a current driving element, or the like is formed on a substrate surface, and then each display device is formed thereon. (Active display devices) are becoming mainstream.
近年では、シート状の基板(例えばフィルム部材など)上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式(以下、単に「ロール方式」と表記する)と呼ばれる手法が知られている(例えば、特許文献1参照)。ロール方式は、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた基板(例えば、帯状のフィルム部材)を送り出すと共に、送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら基板を搬送する。 In recent years, a technique for forming a display element on a sheet-like substrate (for example, a film member) has been proposed. As such a technique, for example, a technique called a roll-to-roll system (hereinafter simply referred to as “roll system”) is known (see, for example, Patent Document 1). In the roll method, a substrate (for example, a belt-like film member) wound around a supply roller on the substrate supply side is sent out, and the substrate is conveyed while being wound up by a collection roller on the substrate recovery side.
そして、基板が送り出されてから巻き取られるまでの間に、例えば複数の搬送ローラー等を用いて基板を搬送しつつ、複数の処理装置を用いてTFTを構成するゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等を形成し、基板の被処理面上に表示素子の構成要素を順次形成する。例えば、有機ELの素子を形成する場合には、発光層、陽極、陰極、電気回路等を基板上に順次形成する。 Then, during the period from when the substrate is sent out to when it is wound up, for example, the substrate is transferred using a plurality of transfer rollers, etc., and the gate electrode, the gate insulating film, and the semiconductor constituting the TFT using a plurality of processing apparatuses A film, source / drain electrodes, and the like are formed, and constituent elements of the display element are sequentially formed on the surface to be processed of the substrate. For example, in the case of forming an organic EL element, a light emitting layer, an anode, a cathode, an electric circuit, and the like are sequentially formed on a substrate.
しかしながら、上記の手法では、基板の搬送経路に沿って処理装置を配置する必要があるため、例えば基板の搬送形態によっては装置全体が大型化してしまう。 However, in the above method, since it is necessary to arrange the processing apparatus along the substrate transport path, for example, the entire apparatus becomes large depending on the substrate transport mode.
本発明に係る態様は、省スペース化が可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of saving space.
本発明の一態様による基板処理装置では、可撓性を有する長尺のシート基板を処理する基板処理装置であって、長尺方向に送られるシート基板に第1の処理を施す第1処理装置と、その第1処理装置に対してシート基板の送り方向と交差した方向にずれて配置され、シート基板に第2の処理を施す第2処理装置と、シート基板の2列を、間隔を空けて共に通すことが可能な搬入排出部を備え、第1の処理の後のシート基板、又は第2の処理の後のシート基板に類似した第3の処理を施す第3処理装置と、シート基板が第1処理装置を通って第3処理装置に向かうようにシート基板を長尺方向に搬送する第1搬送部と、シート基板が第3処理装置の後に第2処理装置に向かうようにシート基板を長尺方向に搬送する第2搬送部と、シート基板が第2処理装置の後に第3処理装置に向かうようにシート基板を長尺方向に搬送する第3搬送部とを含む搬送装置と、が設けられる。 A substrate processing apparatus according to an aspect of the present invention is a substrate processing apparatus that processes a long sheet substrate having flexibility, and a first processing apparatus that performs a first process on a sheet substrate that is fed in a longitudinal direction. And a second processing apparatus for performing the second processing on the sheet substrate, and the two rows of the sheet substrates, spaced apart from each other in a direction crossing the sheet substrate feeding direction with respect to the first processing apparatus. And a third processing apparatus for performing a third process similar to the sheet substrate after the first process or the sheet substrate after the second process, and a sheet substrate. A first transport unit that transports the sheet substrate in the longitudinal direction so as to go to the third processing device through the first processing device, and the sheet substrate so that the sheet substrate goes to the second processing device after the third processing device. A second conveying section that conveys the sheet in the longitudinal direction, and a sheet substrate A conveying device comprising after two processing devices and a third conveying unit that conveys the sheet substrate to face the third processing unit in the longitudinal direction, is provided.
また、本発明の一態様による基板処理方法では、可撓性を有する長尺のシート基板を長尺方向に搬送しながらシート基板に複数の処理を施す基板処理方法であって、シート基板を第1処理装置に送り、シート基板の被処理面に第1の処理を施す第1工程と、シート基板を第2処理装置に送り、第1の処理を受けたシート基板の被処理面に第2の処理を施す第2工程と、シート基板の2列を共に通すことが可能な搬入排出部を備えた第3処理装置にシート基板を送り、シート基板の被処理面に第3の処理を施す第3工程と、第1処理装置、第3処理装置、第2処理装置、及び第3処理装置の順番でシート基板を長尺方向に送る搬送装置によってシート基板を送る搬送工程と、が実行される。 The substrate processing method according to an aspect of the present invention is a substrate processing method for performing a plurality of processes on a sheet substrate while conveying a flexible long sheet substrate in the longitudinal direction. 1st process which sends to a processing apparatus and performs the 1st process on the to-be-processed surface of a sheet substrate, and sends a sheet substrate to the 2nd processing apparatus, and the 2nd to the to-be-processed surface of the sheet substrate which received the 1st process The sheet substrate is sent to a second process for performing the above process and a third processing apparatus having a carry-in / out unit capable of passing two rows of sheet substrates together, and a third process is performed on the surface to be processed of the sheet substrate. A third step and a conveying step of sending the sheet substrate by a conveying device that sends the sheet substrate in the longitudinal direction in the order of the first processing device, the third processing device, the second processing device, and the third processing device are executed. The
本発明に係る態様によれば、省スペース化が可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供することができる。 According to the aspect of the present invention, it is possible to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of saving space.
[第一実施形態]
次に、第一実施形態に係る基板処理装置を説明する。図1は、本実施形態の基板処理装置FPA4の構成を示す斜視図である。図2は、基板処理装置FPA4の構成を示す平面図である。
[First embodiment]
Next, the substrate processing apparatus according to the first embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of the substrate processing apparatus FPA4 of the present embodiment. FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the substrate processing apparatus FPA4.
図1及び図2に示すように、基板処理装置FPAは、シート基板(例えば、帯状のフィルム部材)FBを供給する基板供給部SU、シート基板FBの表面(被処理面)Fpに対して処理を行う基板処理部PR、当該基板処理部PRを収容するチャンバCB(図1においては図示省略)、シート基板FBを回収する基板回収部CL、及び、これらの各部を制御する制御部CONTを有している。基板処理装置FPAは、例えば工場などに設置される。本実施形態では、シート基板FBは、立てた状態で供給され、処理され、回収されるようになっている。本実施形態において、当該立てた状態は、シート基板FBの被処理面Fpを水平面(XY平面)に対して所定角度で交差した状態、例えば、傾斜した状態、あるいはほぼ垂直に配置した状態を含む。言い換えれば、このシート基板FBの基板処理面Fpを立てた状態は、基板FBの短尺方向(短手方向)が非水平姿勢の状態も含む。 As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate processing apparatus FPA processes a substrate supply unit SU that supplies a sheet substrate (for example, a strip-shaped film member) FB, and a surface (surface to be processed) Fp of the sheet substrate FB. A substrate processing unit PR for performing the above processing, a chamber CB (not shown in FIG. 1) for housing the substrate processing unit PR, a substrate recovery unit CL for recovering the sheet substrate FB, and a control unit CONT for controlling these units. doing. The substrate processing apparatus FPA is installed in a factory, for example. In the present embodiment, the sheet substrate FB is supplied, processed, and collected in an upright state. In the present embodiment, the standing state includes a state in which the processing surface Fp of the sheet substrate FB intersects the horizontal plane (XY plane) at a predetermined angle, for example, an inclined state or a state in which the surface is inclined substantially vertically. . In other words, the state where the substrate processing surface Fp of the sheet substrate FB is raised includes a state where the short direction (short direction) of the substrate FB is in a non-horizontal posture.
以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。具体的には、水平面上の所定方向をX軸方向、当該水平面上においてX軸方向に直交する方向をY軸方向、鉛直方向をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸まわりの回転(傾斜)方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。また、実施形態において、シート基板FBの基板処理面Fpを水平面に対してほぼ垂直にした状態を例に説明する。 In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. Specifically, the predetermined direction on the horizontal plane is the X-axis direction, the direction orthogonal to the X-axis direction on the horizontal plane is the Y-axis direction, and the vertical direction is the Z-axis direction. Further, the rotation (inclination) directions around the X axis, Y axis, and Z axis are the θX, θY, and θZ directions, respectively. In the embodiment, a description will be given of an example in which the substrate processing surface Fp of the sheet substrate FB is substantially perpendicular to the horizontal plane.
基板処理装置FPAは、基板供給部SUからロール状に巻かれたシート基板FBが送り出されてから、基板回収部CLでシート基板FBをロール状に回収するまでの間に、シート基板FBの表面に各種処理を実行するロール・トゥ・ロール方式(以下、単に「ロール方式」と表記する)の装置である。基板処理装置FPAは、シート基板FB上に例えば有機EL素子、液晶表示素子等の表示素子(電子デバイス)を形成する場合に用いることができる。勿論、これらの素子以外の素子を形成する場合において基板処理装置FPAを用いても構わない。 The substrate processing apparatus FPA includes a surface of the sheet substrate FB from when the sheet substrate FB wound in a roll shape is sent out from the substrate supply unit SU until the sheet substrate FB is collected in a roll shape by the substrate recovery unit CL. And a roll-to-roll method (hereinafter simply referred to as “roll method”). The substrate processing apparatus FPA can be used when forming a display element (electronic device) such as an organic EL element or a liquid crystal display element on the sheet substrate FB. Of course, when forming elements other than these elements, the substrate processing apparatus FPA may be used.
基板処理装置FPAにおいて処理対象となるシート基板FBとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔(フォイル)を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。 As the sheet substrate FB to be processed in the substrate processing apparatus FPA, for example, a foil such as a resin film or stainless steel can be used. For example, the resin film is made of polyethylene resin, polypropylene resin, polyester resin, ethylene vinyl copolymer resin, polyvinyl chloride resin, cellulose resin, polyamide resin, polyimide resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, vinyl acetate resin, etc. Can be used.
シート基板FBの短尺方向(短手方向)の寸法は例えば50cm〜2m程度に形成されており、長尺方向(長手方向)の寸法は例えば10m以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えばシート基板FBの短尺方向の寸法が50cm以下であっても構わないし、2m以上であっても構わない。また、シート基板FBの長尺方向の寸法が10m以下であっても構わない。 The dimension in the short direction (short direction) of the sheet substrate FB is, for example, approximately 50 cm to 2 m, and the dimension in the long direction (longitudinal direction) is, for example, 10 m or more. Of course, this dimension is only an example and is not limited thereto. For example, the dimension in the short direction of the sheet substrate FB may be 50 cm or less, or 2 m or more. Moreover, the dimension of the longitudinal direction of the sheet | seat board | substrate FB may be 10 m or less.
シート基板FBは、例えば1mm以下の厚みを有し、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、例えば基板に少なくとも自重程度の所定の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、例えば上記所定の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、シート基板FBとしては、1枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。 The sheet substrate FB has a thickness of 1 mm or less, for example, and is formed to have flexibility. Here, the term “flexibility” refers to the property that the substrate can be bent without being broken or broken even when a predetermined force of at least its own weight is applied to the substrate. Further, for example, the property of bending by the predetermined force is also included in the flexibility. The flexibility varies depending on the material, size, thickness, environment such as temperature, etc. of the substrate. In addition, as the sheet | seat board | substrate FB, you may use the sheet | seat-like board | substrate of 1 sheet, However, It is good also as a structure formed by connecting a some unit board | substrate and forming in a strip | belt shape.
シート基板FBは、例えば200℃程度の熱を受けても実質的に寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。 The sheet substrate FB preferably has a smaller coefficient of thermal expansion so that, for example, the size does not change substantially even when it receives heat of about 200 ° C. For example, an inorganic filler can be mixed with a resin film to reduce the thermal expansion coefficient. Examples of the inorganic filler include titanium oxide, zinc oxide, alumina, silicon oxide and the like.
基板供給部SUは、供給ポート10(図1においては図示省略)と、当該供給ポート10内に配置された軸部材11及び支持部12とを有している。軸部材11は、例えば円柱状に形成され、中心軸が例えばZ方向にほぼ平行になるように配置されている。このため、軸部材11には、シート基板FBを立てた状態で巻かれるようになっている。軸部材11は、例えば支持部12に対して着脱可能に設けられている。支持部12は、当該軸部材11を周方向(例えばθZ方向)に回転可能に支持する。基板供給部SUは、例えばロール状に巻かれたシート基板FBを、当該シート基板FBの短尺方向を立てた状態、即ち、Z方向と揃った状態(言い換えれば、当該シート基板FBが非水平姿勢)で基板処理部PRへ送り出して供給する。
The substrate supply unit SU has a supply port 10 (not shown in FIG. 1), and a
供給ポート10内には、シート基板FBの被処理面Fpを保護する保護基板PBが巻かれた軸部材13が設けられている。なお、供給ポート10内に設けられた軸部材13を保護基板供給部と称してもよい。保護基板PBは、基板処理部PRにおける処理が完了した後、基板回収部CLによって回収される前にシート基板FBに貼り付けられる基板である。保護基板PBは、シート基板FBと同様、例えば帯状に形成され、可撓性を有する構成である。軸部材13は、例えば円筒状に形成されており、中心軸が例えばZ方向にほぼ平行になるように配置されている。このため、軸部材13には、保護基板PBが立てた状態で巻かれるようになっている。軸部材13は、支持部14によって周方向(例えばθZ方向)に回転可能に支持されている。軸部材13は、例えば支持部14に対して着脱可能に設けられている。基板供給部SUは、保護基板PBを立てた状態で基板処理部PRへ送り出して供給する。
In the
基板回収部CLは、保護基板PBが貼り付けられた状態で基板処理部PRから搬送されるシート基板FBを、当該シート基板FB及び保護基板PBの短尺方向を立てた状態で巻きとって回収する。基板回収部CLの回収ポート20(図1においては図示省略)には、基板供給部SUと同様に、シート基板FB及び保護基板PBを巻きつけるための軸部材21と、当該軸部材21を回転可能に支持する支持部22とが設けられている。軸部材21は、例えば支持部22に対して着脱可能に設けられている。
The substrate collection unit CL collects and collects the sheet substrate FB transported from the substrate processing unit PR in a state where the protective substrate PB is pasted in a state where the sheet substrate FB and the protection substrate PB are set in the short direction. . As with the substrate supply unit SU, a
基板供給部SUの供給ポート10と、基板回収部CLの回収ポート20とは、例えば基板処理部PRを収容するチャンバCBの外部に配置されている。供給ポート10及び回収ポート20は、チャンバCBの例えば−Y側の面に配置されており、基板処理部PRに対して例えばX方向に並んで配置されている。このように供給ポート10と回収ポート20とが一箇所にまとめて配置されているため、当該供給ポート10及び回収ポート20に対して効率的にアクセスすることができるようになっている。
The
基板処理部PRは、基板供給部SUから供給されるシート基板FBを立てた状態で基板回収部CLへ搬送すると共に、搬送の過程で立てた状態のシート基板FBの被処理面Fpに対して処理を行う。基板処理部PRは、例えば搬送機構等の搬送装置30、処理装置40及びアライメント装置(不図示)などを有している。基板処理部PRは、空調管理されたクリーンチャンバCB内に収容され、環境温度や環境湿度が一定になるように管理されると共に、塵埃等から上記各装置が保護されるようになっている。
The substrate processing unit PR conveys the sheet substrate FB supplied from the substrate supply unit SU to the substrate recovery unit CL in an upright state, and with respect to the processing surface Fp of the sheet substrate FB in the upright state. Process. The substrate processing unit PR includes, for example, a
図1及び図2に示すように、搬送装置30は、複数(例えば10個)の案内ローラーR1〜R10と、ドラム機構DRMと、処理ローラー32とを有している。案内ローラーR1〜R8は、基板供給部SUから基板回収部CLまでシート基板FBを案内する。案内ローラーR9及びR10は、基板供給部SUから基板回収部CLまで、シート基板FBとは異なる経路で保護基板PBを案内する。なお、ドラム機構DRMを第一ドラム機構、処理ローラー32を第二ドラム機構としてもよい。
As illustrated in FIGS. 1 and 2, the
案内ローラーR1〜R3、R6〜R10は、例えば回転軸がZ軸方向にほぼ平行になるように配置されている。このため、案内ローラーR1〜R3、R6〜R8においては、シート基板FBが立てた状態で掛けられるようになっている。また、案内ローラーR9及びR10においては、保護基板PBが立てた状態で掛けられるようになっている。案内ローラーR1〜R10は、例えば駆動機構が設けられた構成であっても構わない。例えばシート基板FBの被処理面Fpが巻かれる案内ローラーR1、R4、R7、R8については、円筒面に気体層(エアベアリング)を形成する不図示の気体層形成装置が設けられた構成としても構わない。いずれにしても、本実施形態の場合、シート基板FBは少なくとも案内ローラーR1〜R9の間を所定のテンションを保って送られる。 The guide rollers R1 to R3 and R6 to R10 are arranged, for example, such that the rotation axis is substantially parallel to the Z-axis direction. For this reason, in the guide rollers R1 to R3 and R6 to R8, the sheet substrate FB is hung in an upright state. Further, the guide rollers R9 and R10 are hung with the protective substrate PB standing upright. The guide rollers R1 to R10 may have a configuration in which a drive mechanism is provided, for example. For example, for the guide rollers R1, R4, R7, and R8 around which the processing surface Fp of the sheet substrate FB is wound, a gas layer forming device (not shown) that forms a gas layer (air bearing) on the cylindrical surface may be provided. I do not care. In any case, in the case of this embodiment, the sheet substrate FB is fed with a predetermined tension at least between the guide rollers R1 to R9.
図3は、基板処理部PRのうちドラム機構DRMの近傍の構成を示す斜視図である。 図3に示すように、ドラム機構DRMは、回転中心軸がZ方向とほぼ平行になるように配置された円筒部材CYLと、当該円筒部材CYLを円周方向に回転可能に支持する回転駆動機構(駆動部)ACTとを有している。円筒部材CYLは、第一円筒部(第1ローラ)CY1と、第二円筒部(第2ローラ)CY2と、ガイド部Gとを有している。 FIG. 3 is a perspective view showing a configuration in the vicinity of the drum mechanism DRM in the substrate processing unit PR. As shown in FIG. 3, the drum mechanism DRM includes a cylindrical member CYL disposed so that a rotation center axis thereof is substantially parallel to the Z direction, and a rotational drive mechanism that supports the cylindrical member CYL so as to be rotatable in the circumferential direction. (Driver) ACT. The cylindrical member CYL has a first cylindrical portion (first roller) CY1, a second cylindrical portion (second roller) CY2, and a guide portion G.
第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、それぞれ当該円筒部材CYLの円筒面の一部分である。第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、共に1つの円筒部材CYLの一部分であるため、円筒部材CYLが回転すると第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2が一体的に回転するようになっている。 Each of the first cylindrical portion CY1 and the second cylindrical portion CY2 is a part of the cylindrical surface of the cylindrical member CYL. Since the first cylindrical portion CY1 and the second cylindrical portion CY2 are both part of one cylindrical member CYL, the first cylindrical portion CY1 and the second cylindrical portion CY2 rotate integrally when the cylindrical member CYL rotates. It has become.
第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、例えばガイド部GによってZ方向に分割されている。言い換えれば、第二円筒部CY2は、第一円筒部CY1に対してZ方向の位置、すなわち水平方向に対して交差する方向の位置が異なる。第一円筒部CY1はガイド部Gの+Z側(上方)に配置されており、第二円筒部CY2はガイド部Gの−Z側(下方)に配置されている。第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、例えば互いに等しい径を有するように形成されている。第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、例えば案内ローラーR1〜R10よりも大きな径(例えば直径1m以上)となるように形成されている。ガイド部Gは、シート基板FBのうち第一円筒部CY1に巻かれた部分及び第二円筒部CY2に巻かれた部分がXY平面に平行な面に沿って搬送されるように案内する。 The first cylindrical part CY1 and the second cylindrical part CY2 are divided in the Z direction by a guide part G, for example. In other words, the second cylindrical portion CY2 is different from the first cylindrical portion CY1 in the position in the Z direction, that is, in the direction intersecting the horizontal direction. The first cylindrical part CY1 is arranged on the + Z side (upper side) of the guide part G, and the second cylindrical part CY2 is arranged on the −Z side (lower side) of the guide part G. The first cylindrical part CY1 and the second cylindrical part CY2 are formed so as to have the same diameter, for example. The first cylindrical portion CY1 and the second cylindrical portion CY2 are formed to have a larger diameter (for example, a diameter of 1 m or more) than the guide rollers R1 to R10, for example. The guide part G guides the sheet substrate FB so that the part wound around the first cylindrical part CY1 and the part wound around the second cylindrical part CY2 are conveyed along a plane parallel to the XY plane.
シート基板FBの搬送経路において、第一円筒部CY1と第二円筒部CY2との間には、案内ローラーR2〜R5が配置されている。案内ローラーR2は、第一円筒部CY1により半周程でU字状に折り返されて+X方向に搬送されるシート基板FBを−Y方向に折り返す。案内ローラーR3は、−Y方向に折り返されたシート基板FBを−X方向に折り返す。 Guide rollers R2 to R5 are disposed between the first cylindrical portion CY1 and the second cylindrical portion CY2 in the conveyance path of the sheet substrate FB. The guide roller R2 folds back the sheet substrate FB which is folded back in a U shape by the first cylindrical portion CY1 and conveyed in the + X direction in the -Y direction. The guide roller R3 folds the sheet substrate FB folded in the −Y direction in the −X direction.
案内ローラーR4及びR5は、例えば+Z側の端部が+X側に傾いた状態で配置されている。案内ローラーR4は、案内ローラーR3を介して−X方向に案内されてきたシート基板FBを、斜め下方向(+X方向であって−Z側に傾いた方向)に折り返す。案内ローラーR5は、案内ローラーR4の斜め下方向(+X方向であって−Z側に傾いた方向)上に配置されている。案内ローラーR5は、案内ローラーR4から斜め下方向に搬送されるシート基板FBを−X方向に折り返して、第二円筒部CY2に向かわせる。 The guide rollers R4 and R5 are arranged, for example, with the + Z side end inclined to the + X side. The guide roller R4 folds back the sheet substrate FB that has been guided in the −X direction via the guide roller R3 in a diagonally downward direction (a direction that is + X direction and tilted to the −Z side). The guide roller R5 is disposed obliquely below the guide roller R4 (the + X direction and the direction inclined to the −Z side). The guide roller R5 folds the sheet substrate FB conveyed obliquely downward from the guide roller R4 in the −X direction and directs it toward the second cylindrical portion CY2.
案内ローラーR4及びR5は、図3の構成の場合はその回転軸線が互いにほぼ平行を保つと共にXZ平面内で所定量だけ傾くように設定されている。また案内ローラーR4及びR5には、例えば回転軸の傾き(傾き量や傾き方向)を調整可能とする為のアクチュエータが設けられている。案内ローラーR4及びR5の少なくなくとも一方の当該回転軸の傾き状態を調整することにより、案内ローラーR5から−X方向に送り出されるシート基板FBの搬送方向を水平(X軸と平行)にしつつ、シート基板のZ方向の位置をほぼ一定に維持することができる。案内ローラーR4及びR5の少なくとも一方の回転軸の傾き状態の調整は、例えば、案内ローラーR5から−X方向に送り出されるシート基板FBの姿勢や位置の変化を精密にモニターするセンサーからの計測信号を受けた制御部CONTが、傾き調整用のアクチュエータを駆動することによって制御可能になっている。 In the case of the configuration of FIG. 3, the guide rollers R4 and R5 are set so that their rotational axes are substantially parallel to each other and are inclined by a predetermined amount in the XZ plane. In addition, the guide rollers R4 and R5 are provided with an actuator for making it possible to adjust the inclination (inclination amount and inclination direction) of the rotating shaft, for example. By adjusting the inclination state of at least one of the rotation shafts of the guide rollers R4 and R5, the conveying direction of the sheet substrate FB fed in the -X direction from the guide roller R5 is made horizontal (parallel to the X axis). The position of the sheet substrate in the Z direction can be maintained almost constant. Adjustment of the tilt state of at least one of the rotation axes of the guide rollers R4 and R5 is performed by, for example, measuring signals from a sensor that precisely monitors changes in the posture and position of the sheet substrate FB sent in the −X direction from the guide roller R5. The received control unit CONT can be controlled by driving an actuator for tilt adjustment.
このように、案内ローラーR2〜R5は、第一円筒部CY1の外周面に巻きつけられた後のシート基板FBの搬送方向が第二円筒部CY2に向かう方向となるように、シート基板FBの搬送方向を変換する。特に案内ローラーR4、R5の対によって、シート基板FBの送り方向(−X方向)は変えずに、Z方向の高さ位置を所定量(本実施形態ではシート基板のZ方向の幅尺分以上)だけシフトさせることができる。尚、本実施形態のようにシート基板を折り返してZ方向に平行シフトさせる場合、案内ローラーR4とR5の間ではシート基板FBがXZ面内で傾斜して送られるが、この傾斜量はシート基板の幅尺、案内ローラーR4、R5のX方向の間隔、ローラーR4、R5の回転中心軸の傾き角度や傾き方向等により幾何学的に決まる。従って本実施形態の場合、案内ローラーR4、R5を、各回転中心軸がXZ面内で共に45度だけ傾くように、Z方向の上下に並置すると、案内ローラーR4とR5の間を進むシート基板を垂直(傾斜量90度)にすることもができる。 In this way, the guide rollers R2 to R5 are arranged on the sheet substrate FB so that the conveying direction of the sheet substrate FB after being wound around the outer peripheral surface of the first cylindrical portion CY1 is the direction toward the second cylindrical portion CY2. Change the transport direction. In particular, the pair of guide rollers R4 and R5 does not change the feeding direction (−X direction) of the sheet substrate FB, and the height position in the Z direction is a predetermined amount (in this embodiment, more than the width of the sheet substrate in the Z direction). ) Can only be shifted. When the sheet substrate is folded and shifted in parallel in the Z direction as in the present embodiment, the sheet substrate FB is inclined between the guide rollers R4 and R5 in the XZ plane. , The distance between the guide rollers R4 and R5 in the X direction, the inclination angle and the inclination direction of the rotation center axis of the rollers R4 and R5, and the like. Therefore, in the case of this embodiment, when the guide rollers R4 and R5 are juxtaposed vertically in the Z direction so that each rotation center axis is inclined by 45 degrees in the XZ plane, the sheet substrate advances between the guide rollers R4 and R5. Can be made vertical (inclination amount 90 degrees).
また、案内ローラーR2〜R5により、シート基板FBは、例えば案内ローラーR1の位置で案内されるシート基板FBの−Z側(下側)の空間に案内されることになる。このように、本実施形態では第一円筒部CY1へのシート基板FBの巻き付け方向に対して第二円筒部CY2へのシート基板FBの巻き付け方向が同じ方向になり、シート基板FBの表裏が反転しないように、案内ローラーR2〜R5によってシート基板FBが案内される。 In addition, the sheet substrate FB is guided by the guide rollers R2 to R5 to, for example, a space on the −Z side (lower side) of the sheet substrate FB guided at the position of the guide roller R1. Thus, in this embodiment, the winding direction of the sheet substrate FB around the second cylindrical portion CY2 is the same as the winding direction of the sheet substrate FB around the first cylindrical portion CY1, and the front and back sides of the sheet substrate FB are reversed. The sheet substrate FB is guided by the guide rollers R2 to R5.
図1及び図2に示すように、処理ローラー32は、例えば案内ローラーR1〜R4によるシート基板FBの案内経路に配置されている。処理ローラー32は、例えば円筒状に形成されている。処理ローラー32は、例えば中心軸がZ方向にほぼ平行になるように配置されており、シート基板FBが立てた状態で掛けられるようになっている。処理ローラー32は、例えば案内ローラーR1〜R10よりも大きな径となるように形成されている。当該処理ローラー32の径が上記の第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2とほぼ等しい径となるように構成しても構わない。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
処理装置40は、シート基板FBの被処理面Fpに対して例えば有機EL素子を形成するための装置である。本実施形態では、例えば処理装置40として、例えば洗浄装置41、TFT層形成装置42、乾燥装置(乾燥部)43、予備加工装置44、発光層形成装置45、ラミネート装置46などが用いられている。このほか、例えば被処理面Fp上に隔壁を形成するための隔壁形成装置(不図示)など、他の装置が設けられていても構わない。
The
このような処理装置40の種類としては、例えば液滴塗布装置(例えばインクジェット型塗布装置、スクリーン印刷型塗布装置など)、蒸着装置、スパッタリング装置などの成膜装置や、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置など、各種の装置が用いられる。これらの各装置は、例えばシート基板FBの搬送経路上に適宜設けられている。
Examples of such a
洗浄装置41は、チャンバCBの外部から内部へ供給されたシート基板FBや保護基板PBを清浄化する為に設けられ、シート基板FBを洗浄する第一洗浄装置41Aと、保護基板PBを洗浄する第二洗浄装置41Bとを有している。第一洗浄装置41Aは、シート基板FBの搬送経路において例えば供給口SUa(図2参照)と円筒部材CYLとの間に設けられている。また、第二洗浄装置41Bは、保護基板PBの搬送経路において、例えば供給口SUbとラミネート装置46との間に設けられている。
The
ドラム機構DRMの周囲に配置されたTFT層形成装置42は、有機EL素子を駆動するためのTFT素子や電極、配線層等を形成する装置である。TFT層形成装置42は、例えば第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cを有している。第一形成装置42Aは、円筒部材CYLの−Y側に配置されている。第二形成装置42Bは、円筒部材CYLの−X側に配置されている。第三形成装置42Cは、円筒部材CYLの+Y側に配置されている。
The TFT
このように第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cが、円筒部材CYLの周囲に設けられ、TFT素子及び電極、配線層等を形成する一連の工程は、例えば第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cによって分担して行われるようになっている。
As described above, the first forming
図4は、第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cと、ドラム機構DRMの円筒部材CYLとの関係を示す図である。
図4に示すように、第一形成装置42A、第二形成装置42B、第三形成装置42Cは、それぞれ2つの処理部42A1及び42A2、処理部42B1及び42B2、処理部42C1及び42C2を有している。処理部42A1、42B1、42C1は、それぞれ第一円筒部CY1に対向して設けられており、当該第一円筒部CY1に掛けられたシート基板FBに対して処理可能となっている。処理部42A2、42B2、42C2は、それぞれ第二円筒部CY2に対向して設けられており、当該第二円筒部CY2に掛けられたシート基板FBに対して処理可能となっている。このように、第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cは、立てた状態で巻かれたシート基板FBに対して処理が可能になっている。なお、第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2は、TFT層形成装置42による処理が行われる際に、シート基板FBを支持する支持部となる。
また、第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2がシート基板FBを支持する支持部となった場合、ドラム機構を支持機構に言い換えることができる。
FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between the first forming
As shown in FIG. 4, the first forming
Further, when the first cylindrical portion CY1 and the second cylindrical portion CY2 serve as support portions that support the sheet substrate FB, the drum mechanism can be paraphrased as a support mechanism.
図1〜図3に示すように、乾燥装置43は、シート基板FBを例えば加熱することにより、当該シート基板FBに形成されたTFT素子や電極などを安定化させる装置である。乾燥装置43の−X側の面には、図7に示すように2つの挿入口43a及び43bが設けられている。挿入口43aは、+Z側に配置されており、第一円筒部CY1を経たシート基板FBが挿入される。挿入口43bは、−Z側に配置されており、第二円筒部CY2を経たシート基板FBが挿入される。
As shown in FIGS. 1 to 3, the drying
乾燥装置43の+X側の面には、2つの排出口43c及び43dが設けられている。排出口43cは、+Z側に配置されており、挿入口43aから挿入され乾燥処理が行われたシート基板FBが排出される。排出口43dは、−Z側に配置されており、挿入口43bから挿入され乾燥処理が行われたシート基板FBが排出される。
Two
図1及び図2に示すように、予備加工装置44は、シート基板FBに発光層を形成する際の予備工程(例えば、絶縁層形成工程など)を行う装置である。予備加工装置44は、シート基板FBの搬送経路において、乾燥装置43と共に、例えばドラム機構DRMの円筒部材CYLと処理ローラー32との間に配置されている。予備加工装置44は、例えば第一加工装置44A、第二加工装置44B及び第三加工装置44Cを有しており、一連の予備加工工程が分担して行われるようになっている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
発光層形成装置45は、有機EL素子を構成する発光層を形成する装置である。発光層形成装置45は、例えば第一形成装置45A、第二形成装置45B及び第三形成装置45Cを有している。当該第一形成装置45A、第二形成装置45B及び第三形成装置45Cは、例えば処理ローラー32の周囲に設けられている。発光層を形成する一連の工程は、例えば第一形成装置45A、第二形成装置45B及び第三形成装置45Cによって分担して行われるようになっている。
The light emitting
第一形成装置45Aは、処理ローラー32の+Y側に配置されている。第二形成装置45Bは、処理ローラー32の+X側に配置されている。第三形成装置45Cは、処理ローラー32の−Y側に配置されている。
The first forming
ラミネート装置46は、シート基板FBと保護基板(保護材)PBとを貼り合わせる装置である。ラミネート装置46は、シート基板FBの搬送経路において、例えば処理ローラー32と回収口CLaとの間に配置されている。ラミネート装置46は、例えばシート基板FBの被処理面Fp側に保護基板PBを対向配置させ、シート基板FBと保護基板PBとの間で位置合わせを行い、その後、シート基板FBと保護基板PBとを貼り合わせる構成になっている。
The
上記の処理装置40のうち、例えばTFT層形成装置42の第一形成装置42Aと、第一洗浄装置41Aと、第二洗浄装置41Bと、発光層形成装置45の第三形成装置45Cとが第1方向(本実施形態では第1方向としてX方向)に沿って配置されている。また、TFT層形成装置42の第二形成装置42Bと、円筒部材CYLと、処理ローラー32と、発光層形成装置45の第二形成装置45BとがX方向に沿って配置されている。更に、TFT層形成装置42の第三形成装置42Cと、乾燥装置43と、発光層形成装置45の第一形成装置45AとがX方向に沿って配置されている。
Among the
また、例えばTFT層形成装置42の第一形成装置42Aと、円筒部材CYLと、第三形成装置42Cとが第2方向(本実施形態ではX方向と交差するY方向)に沿って配置されている。また、例えば洗浄装置41A及び41Bと乾燥装置43とがY方向に沿って配置されている。また、予備加工装置44とラミネート装置46とがY方向に沿って配置されている。更に、発光層形成装置45の第一形成装置45Aと、処理ローラー32と、第三形成装置45CとがY方向に沿って配置されている。このように、搬送装置30及び処理装置40は、X方向及びY方向に沿って配置されているため、X方向及びY方向から見たときに各装置が互いに重なる部分が多くなるように密集して配置されている。
Further, for example, the first forming
上記のように構成された基板処理装置FPAは、制御部CONTの制御により、ロール方式によって有機EL素子、液晶表示素子などの表示素子(電子デバイス)を製造する。以下、上記構成の基板処理装置FPAを用いて表示素子を製造する工程を説明する。 The substrate processing apparatus FPA configured as described above produces display elements (electronic devices) such as an organic EL element and a liquid crystal display element by a roll method under the control of the control unit CONT. Hereinafter, a process of manufacturing a display element using the substrate processing apparatus FPA having the above configuration will be described.
まず、軸部材11にロール状に巻き付けられた帯状のシート基板FBを基板供給部SUの供給ポート10内の支持部12に取り付ける。また、軸部材13に巻きつけられた帯状の保護基板PBを基板供給部SUの供給ポート10内の支持部14に取り付ける。更に、回収用の軸部材21を基板回収部CLの回収ポート20内の支持部22に取り付ける。
First, the belt-like sheet substrate FB wound around the
制御部CONTは、この状態から支持部12を介して軸部材11を回転させ、基板供給部SUから当該シート基板FBが送り出すようにする。基板供給部SUから送り出されたシート基板FBは、基板処理部PRの供給口SUaからチャンバCB内に供給される。制御部CONTは、チャンバCB内に供給されたシート基板FBを搬送装置30に搬送させつつ、各処理装置40によって当該シート基板FBに対して処理を行わせる。尚、軸部材11にロール状に巻き付けられたシート基板FBの先端部及び終端部には、処理装置FPAへのシート基板の自動ローディングを容易による為のリーダ・シートを貼り付けておいても良い。
From this state, the control unit CONT rotates the
この動作により、基板処理部PRに供給されたシート基板FBは、第一洗浄装置41Aによって洗浄され、案内ローラーR1によってドラム機構DRMの第一円筒部CY1に案内される。シート基板FBは、被処理面FpがTFT層形成装置42の第一形成装置42A、第二形成装置42B及び第三形成装置42Cにそれぞれ向けられるように、第一円筒部CY1に立てた状態で巻き掛けられる。第一円筒部CY1に巻き掛けられたシート基板FBの被処理面Fpには、当該TFT層形成装置42(例えば、処理部A1、B1及びC1)によってTFT素子や配線などが形成される。
By this operation, the sheet substrate FB supplied to the substrate processing unit PR is cleaned by the
第一円筒部CY1を経たシート基板FBは、乾燥装置43の+Z側の挿入口43aから乾燥装置43の内部に供給され、例えば加熱処理などの乾燥処理が施される。乾燥処理後のシート基板FBは、乾燥装置43の+Z側の排出口43cから搬出される。搬出されたシート基板FBは、例えば案内ローラーR2によって−Y方向に案内され、案内ローラーR3によって−X方向に案内される。案内ローラーR3を介したシート基板FBは、案内ローラーR4によって斜め下方向(+X方向であって−Z側に傾いた方向)に案内され、案内ローラーR5によって−X方向に案内される。
The sheet substrate FB having passed through the first cylindrical portion CY1 is supplied into the drying
案内ローラーR5を介したシート基板FBは、ドラム機構DRMの第二円筒部CY2に立てた状態で巻き掛けられる。第二円筒部CY2に巻き掛けられたシート基板FBの被処理面Fpには、当該TFT層形成装置42(例えば、処理部A2、B2及びC2)によってTFT素子や配線などに必要な層が重ねて形成される。 The sheet substrate FB via the guide roller R5 is wound in a standing state on the second cylindrical portion CY2 of the drum mechanism DRM. Layers necessary for TFT elements and wirings are superimposed on the processing surface Fp of the sheet substrate FB wound around the second cylindrical portion CY2 by the TFT layer forming device 42 (for example, the processing portions A2, B2, and C2). Formed.
第二円筒部CY2を経たシート基板FBは、乾燥装置43の−Z側の挿入口43bから乾燥装置43の内部に供給され、例えば加熱処理などの乾燥処理が再度施される。乾燥処理後のシート基板FBは、乾燥装置43の−Z側の排出口43dから搬出される。搬出されたシート基板FBは、例えば案内ローラーR6を介して予備加工装置44に供給される。予備加工装置44では、例えば第一加工装置44A〜第三加工装置44Cにおいて、シート基板FBに絶縁膜や正孔注入層又は電子注入層などが形成される。
The sheet substrate FB that has passed through the second cylindrical portion CY2 is supplied to the inside of the drying
予備加工後のシート基板FBは、例えば案内ローラーR7を介して処理ローラー32に案内される。シート基板FBは、被処理面Fpが発光層形成装置45の第一形成装置45A、第二形成装置45B及び第三形成装置45Cにそれぞれ向けられるように、処理ローラー32に立てた状態で巻き掛けられる。処理ローラー32に巻き掛けられたシート基板FBの被処理面Fpには、当該発光層形成装置45によって発光層などが形成される。
The sheet substrate FB after the preliminary processing is guided to the
処理ローラー32を経たシート基板FBは、ラミネート装置46に供給され、被処理面Fpに保護基板PBが貼り付けられる。保護基板PBが貼り付けられた後のシート基板FBは、例えば回収口CLaから基板回収部CLに回収される。基板回収部CLに回収されたシート基板FBは、回収ポート20内の軸部材21にロール状に巻かれていく。軸部材21に所定量のシート基板FBが巻かれたら、シート基板FBを例えば切断し、シート基板FBの巻かれた軸部材21を支持部22から取り外す。当該支持部22には、例えばシート基板FBが巻かれていない新たな軸部材21を取り付ける。
The sheet substrate FB that has passed through the
制御部CONTは、このような処理を行わせることにより、シート基板FBの被処理面Fpに対して素子を形成していく。 The control unit CONT forms elements on the processing surface Fp of the sheet substrate FB by performing such processing.
以上のように、本実施形態によれば、シート基板FBがドラム機構DRMの第一円筒部CY1の外周面の一部分に巻き付けられた後、当該シート基板FBの搬送方向が第二円筒部CY2に向けて変換され、当該シート基板FBが第二円筒部CY2に巻きつけられる構成とし、第一円筒部CY1の一部分に巻き付けられた被処理面Fpに第一処理を行うと共に、第二円筒部の一部分に巻き付けられた被処理面Fpに第二処理を行うこととしたので、シート基板FBに対して高密度に処理を行うことができる。これにより、基板処理装置FPAの省スペース化を図ることが可能となる。
なお、図1及び図2に示した基板処理装置FPAでは、処理ローラー32において、シート基板FBが一回しか巻き付けられていないが、ドラム機構DRMの円筒部材CYLと同様、第1円筒部及び第2円筒部を備える2段の円筒部で構成し、各円筒部にシート基板FBを巻き付けるようにしてもよい。さらに、この構成において、発光層形成装置45を第1円筒部及び第2円筒部に配置するようにしてもよい。なお、処理ローラー32を2段の円筒部で構成した場合、図3に示した案内ローラーR4、R5のように、各回転中心軸が傾いた2本の案内ローラーを使って、シート基板FBを折り返すことができる。
As described above, according to the present embodiment, after the sheet substrate FB is wound around a part of the outer peripheral surface of the first cylindrical portion CY1 of the drum mechanism DRM, the conveyance direction of the sheet substrate FB is set to the second cylindrical portion CY2. The sheet substrate FB is wound around the second cylindrical portion CY2, the first processing is performed on the processing surface Fp wound around a part of the first cylindrical portion CY1, and the second cylindrical portion Since the second process is performed on the processing target surface Fp wound around a part, the sheet substrate FB can be processed with a high density. Thereby, space saving of the substrate processing apparatus FPA can be achieved.
In the substrate processing apparatus FPA shown in FIGS. 1 and 2, the sheet substrate FB is wound only once in the
[第二実施形態]
次に、本発明の第二実施形態を説明する。本実施形態では、ドラム機構の構成が第一実施形態とは異なっているため、ドラム機構の構成を中心に説明する。図5は、本実施形態に係るドラム機構DRM2の構成を示す斜視図である。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, since the configuration of the drum mechanism is different from that of the first embodiment, the configuration of the drum mechanism will be mainly described. FIG. 5 is a perspective view showing a configuration of the drum mechanism DRM2 according to the present embodiment.
前述の実施形態においては、第一円筒部CY1及び第二円筒部CY2が単一の円筒部材CYLに形成されている構成を例に挙げて説明したが、第二実施形態では、図5のように、第一円筒部CY1と第二円筒部CY2とを異なる円筒部材(例えば、第一円筒部材C1及び第二円筒部材C2)に形成する構成が示されている。 In the above-described embodiment, the configuration in which the first cylindrical portion CY1 and the second cylindrical portion CY2 are formed in a single cylindrical member CYL has been described as an example. In the second embodiment, as illustrated in FIG. The structure which forms 1st cylindrical part CY1 and 2nd cylindrical part CY2 in a different cylindrical member (for example, 1st cylindrical member C1 and 2nd cylindrical member C2) is shown.
図5に示すように、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2とがZ方向に離れた状態で配置されている。第一円筒部材C1の+Z側の端面C1aと、第二円筒部材C2の−Z側の端面C2aとは、互いに対向している。回転軸SFの中心線は、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2との間で共通(XY面内で同じ位置)となるように設けられている。 As shown in FIG. 5, the first cylindrical member C1 and the second cylindrical member C2 are arranged in a state separated from each other in the Z direction. The + Z side end face C1a of the first cylindrical member C1 and the −Z side end face C2a of the second cylindrical member C2 face each other. The center line of the rotation axis SF is provided so as to be common (the same position in the XY plane) between the first cylindrical member C1 and the second cylindrical member C2.
図5に示す構成では、例えば第一円筒部材C1と第二円筒部材C2との間で、径が異なっている。具体的には、第一円筒部材C1の径D1は、第二円筒部材C2の径D2よりも大きくなっている。このように、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2とが異なる径を有することにより、搬送経路の経路長を調整することができる。 In the configuration shown in FIG. 5, for example, the diameter is different between the first cylindrical member C1 and the second cylindrical member C2. Specifically, the diameter D1 of the first cylindrical member C1 is larger than the diameter D2 of the second cylindrical member C2. Thus, the path length of a conveyance path | route can be adjusted because the 1st cylindrical member C1 and the 2nd cylindrical member C2 have a different diameter.
回転駆動機構ACT2は、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2とをそれぞれ独立して回転可能な構成であっても構わない。また、回転駆動機構ACT2が第一円筒部材C1及び第二円筒部材C2のうち一方のみを回転可能な構成であっても構わない。 The rotational drive mechanism ACT2 may be configured to be able to rotate the first cylindrical member C1 and the second cylindrical member C2 independently of each other. Further, the rotational drive mechanism ACT2 may be configured to be able to rotate only one of the first cylindrical member C1 and the second cylindrical member C2.
図5に示す構成によれば、例えば案内ローラーR21を介したシート基板FBが第一円筒部CY1に巻き掛けられ、案内ローラー(変換部)R22及びR23を介して第二円筒部CY2に案内される。第二円筒部CY2に巻き掛けられた後のシート基板FBは、案内ローラーR24を介して案内される。 According to the configuration shown in FIG. 5, for example, the sheet substrate FB via the guide roller R21 is wound around the first cylindrical portion CY1, and is guided to the second cylindrical portion CY2 via the guide rollers (conversion units) R22 and R23. The The sheet substrate FB after being wound around the second cylindrical portion CY2 is guided via the guide roller R24.
第一円筒部材C1と第二円筒部材C2の直径の違いは、各円筒部材C1、C2の周囲に配置される各種の処理装置の加工態様や加工条件、加工部(加工ヘッド部等)の設置サイズ等に依存して生じ得る。 The difference in diameter between the first cylindrical member C1 and the second cylindrical member C2 is that the processing modes and processing conditions of various processing devices arranged around the cylindrical members C1 and C2, and the installation of processing parts (processing head parts, etc.). It can occur depending on the size and the like.
本実施形態では、第一円筒部材C1から第二円筒部材C2に渡って、連続したシート基板FBが送られることから、各円筒部材C1、C2の直径が異なる場合は、その直径の差分に対応して回転速度(rpm)にも差を持たせる必要がある。 In this embodiment, since the continuous sheet | seat board | substrate FB is sent over the 2nd cylindrical member C2 from the 1st cylindrical member C1, when the diameter of each cylindrical member C1 and C2 differs, it respond | corresponds to the difference of the diameter. Therefore, it is necessary to provide a difference in the rotation speed (rpm).
また、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2の各々、或いは何れか一方の円筒部材に、回転駆動用のモータを設ける場合は、シート基板FBの第一円筒部材C1と接触する部分から第二円筒部材C2と接触する部分までの間に、所定のテンションを与えることが可能である。 Further, when a rotation driving motor is provided in each of the first cylindrical member C1 and the second cylindrical member C2, or in any one of the cylindrical members, the first cylindrical member C1 and the second cylindrical member C2 are arranged from the portion in contact with the first cylindrical member C1 of the sheet substrate FB. It is possible to apply a predetermined tension to the portion in contact with the two cylindrical members C2.
なお、図5に示す構成において、第一円筒部材C1が−Z側に配置され、第二円筒部材C2が+Z側に配置された構成となっているが、これに限られることは無く、第一円筒部材C1が+Z側、第二円筒部材C2が−Z側に配置されていても構わない。 In the configuration shown in FIG. 5, the first cylindrical member C <b> 1 is arranged on the −Z side and the second cylindrical member C <b> 2 is arranged on the + Z side. One cylindrical member C1 may be disposed on the + Z side, and the second cylindrical member C2 may be disposed on the −Z side.
[第三実施形態]
次に、本発明の第三実施形態を説明する。本実施形態では、ドラム機構の構成が上記実施形態とは異なっているため、ドラム機構の構成を中心に説明する。図6は、本実施形態に係るドラム機構DRM3の構成を示す斜視図である。
[Third embodiment]
Next, a third embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, since the configuration of the drum mechanism is different from that of the above-described embodiment, the configuration of the drum mechanism will be mainly described. FIG. 6 is a perspective view showing a configuration of the drum mechanism DRM3 according to the present embodiment.
図6に示すように、本実施形態に係るドラム機構DRM3は、第一円筒部(加工用基準面)CY1に対して分離された複数の第二円筒部(加工用基準面)を配置した構成となっている。具体的には、ドラム機構DRM3は、第一円筒部CY1に対して2つの第二円筒部CY21及びCY22を配置した構成となっている。本実施形態においては、第一円筒部CY1と第二円筒部CY21、CY22とが異なる円筒部材(例えば、第一円筒部材C1及び第二円筒部材C21、C22)に形成されている。 As shown in FIG. 6, the drum mechanism DRM3 according to the present embodiment has a configuration in which a plurality of second cylindrical portions (processing reference surfaces) separated from the first cylindrical portion (processing reference surface) CY1 are arranged. It has become. Specifically, the drum mechanism DRM3 has a configuration in which two second cylindrical portions CY21 and CY22 are arranged with respect to the first cylindrical portion CY1. In the present embodiment, the first cylindrical portion CY1 and the second cylindrical portions CY21, CY22 are formed in different cylindrical members (for example, the first cylindrical member C1 and the second cylindrical members C21, C22).
ドラム機構DRM3は、第一円筒部材C1の+Z側に2つの第二円筒部材C21及びC22が配置された構成になっている。2つの第二円筒部材C21及びC22は、例えば同一の径D4及びD5となるように形成されている。第一円筒部材C1の径D3は、これらの径D4及びD5よりも大きくなるように形成されている。 The drum mechanism DRM3 has a configuration in which two second cylindrical members C21 and C22 are arranged on the + Z side of the first cylindrical member C1. The two second cylindrical members C21 and C22 are formed to have the same diameters D4 and D5, for example. The diameter D3 of the first cylindrical member C1 is formed to be larger than these diameters D4 and D5.
図6に示すように、第一円筒部材C1と第二円筒部材C21及びC22とは、Z方向に離れた状態で配置されている。第一円筒部材C1の+Z側の端面C1aと、第二円筒部材C21及びC22の−Z側の端面C21a及びC22aとは、互いに対向している。第一円筒部材C1及び第二円筒部材C21、C22は、それぞれ別個の回転軸SF1及びSF21、SF22を有している。回転軸SF1、回転軸SF21及び回転軸SF22は互いに平行となるように配置されている。回転駆動機構ACT3は、第一円筒部材C1、第二円筒部材C21及びC22を、それぞれ独立して回転制御可能である。 As shown in FIG. 6, the first cylindrical member C1 and the second cylindrical members C21 and C22 are arranged in a state of being separated in the Z direction. The + Z side end face C1a of the first cylindrical member C1 and the −Z side end faces C21a and C22a of the second cylindrical members C21 and C22 face each other. The first cylindrical member C1 and the second cylindrical members C21, C22 have separate rotation axes SF1, SF21, SF22, respectively. The rotation axis SF1, the rotation axis SF21, and the rotation axis SF22 are arranged to be parallel to each other. The rotation driving mechanism ACT3 can independently control the rotation of the first cylindrical member C1 and the second cylindrical members C21 and C22.
図6に示す構成によれば、例えば案内ローラーR31を介したシート基板FBが第一円筒部CY1に巻き掛けられ、変換部としての案内ローラーR32及びR33(必要なら追加の案内ローラーを設ける)を介して、Z方向の上段の第二円筒部CY2に案内される。第二円筒部CY2に巻き掛けられた後のシート基板FBは、案内ローラーR34を介して第二円筒部CY22に巻き掛けられ、その後は案内ローラーR35を介して案内される。図6に示す構成において、第一円筒部材C1が−Z側に配置され、第二円筒部材C21及びC22が+Z側に配置された構成となっているが、これに限られることは無く、第一円筒部材C1が+Z側、第二円筒部材C21及びC22が−Z側に配置されていても構わない。 According to the configuration shown in FIG. 6, for example, the sheet substrate FB via the guide roller R31 is wound around the first cylindrical portion CY1, and guide rollers R32 and R33 (additional guide rollers are provided if necessary) as conversion units. Through the second cylindrical portion CY2 in the upper Z direction. The sheet substrate FB after being wound around the second cylindrical portion CY2 is wound around the second cylindrical portion CY22 via the guide roller R34, and thereafter guided via the guide roller R35. In the configuration shown in FIG. 6, the first cylindrical member C1 is arranged on the −Z side, and the second cylindrical members C21 and C22 are arranged on the + Z side. One cylindrical member C1 may be arranged on the + Z side, and the second cylindrical members C21 and C22 may be arranged on the −Z side.
[第四実施形態]
次に、本発明の第四実施形態を説明する。本実施形態では、ドラム機構の構成が上記実施形態とは異なっているため、ドラム機構の構成を中心に説明する。図7は、本実施形態に係るドラム機構DRM4の構成を示す斜視図である。
[Fourth embodiment]
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, since the configuration of the drum mechanism is different from that of the above-described embodiment, the configuration of the drum mechanism will be mainly described. FIG. 7 is a perspective view showing the configuration of the drum mechanism DRM4 according to the present embodiment.
図7に示すように、本実施形態に係るドラム機構DRM4は、第一円筒部材C1、第二円筒部材C2及び第三円筒部材C3が設けられている。これら第一円筒部材C1、第二円筒部材C2及び第三円筒部材C3は、Z方向に3段に配置された構成になっている。本実施形態においては、第一円筒部材C1の外周面である第一円筒部CY1、第二円筒部材C2の外周面である第二円筒部CY2、及び第三円筒部材C3の外周面である第三円筒部CY3の各々にシート基板が掛け渡され、一連の加工と処理が施される。 As shown in FIG. 7, the drum mechanism DRM4 according to the present embodiment is provided with a first cylindrical member C1, a second cylindrical member C2, and a third cylindrical member C3. The first cylindrical member C1, the second cylindrical member C2, and the third cylindrical member C3 are arranged in three stages in the Z direction. In the present embodiment, the first cylindrical portion CY1, which is the outer peripheral surface of the first cylindrical member C1, the second cylindrical portion CY2, which is the outer peripheral surface of the second cylindrical member C2, and the outer peripheral surface of the third cylindrical member C3. A sheet substrate is stretched over each of the three cylindrical portions CY3, and a series of processing and processing is performed.
第一円筒部材C1、第二円筒部材C2、第三円筒部材C3は、Z方向に離れた状態で配置されている。第一円筒部材C1、第二円筒部材C2、第三円筒部材C3の隣接する端面同士は互いに対向している。回転軸SFは、第一円筒部材C1、第二円筒部材C2、第三円筒部材C3の間で共軸(XY面内での位置が同じ)となるように設けられている。 The first cylindrical member C1, the second cylindrical member C2, and the third cylindrical member C3 are arranged in a state separated in the Z direction. Adjacent end faces of the first cylindrical member C1, the second cylindrical member C2, and the third cylindrical member C3 are opposed to each other. The rotation axis SF is provided so as to be coaxial (same position in the XY plane) among the first cylindrical member C1, the second cylindrical member C2, and the third cylindrical member C3.
第一円筒部材C1、第二円筒部材C2、第三円筒部材C3は、例えば径が等しくなるように形成されている。ドラム機構DRM4は、回転駆動機構ACT4を有している。回転駆動機構ACT4は、例えば3つの円筒部材C1、C2、C3を一体的に回転させる構成、或いは全て個別に回転駆動させる構成であっても構わないし、第一円筒部材C1と第二円筒部材C2とをそれぞれ独立して回転可能な構成であっても構わない。また、回転駆動機構ACT4が3つの円筒部材C1、C2、C3のうちの何れか1つのみをモータ等で強制回転させる構成としても構わない。 The first cylindrical member C1, the second cylindrical member C2, and the third cylindrical member C3 are formed to have the same diameter, for example. The drum mechanism DRM4 has a rotation drive mechanism ACT4. The rotational drive mechanism ACT4 may be configured to rotate, for example, the three cylindrical members C1, C2, and C3 integrally, or may be configured to rotate all of them individually, and the first cylindrical member C1 and the second cylindrical member C2. And may be configured to be independently rotatable. Further, the rotational drive mechanism ACT4 may be configured to forcibly rotate only one of the three cylindrical members C1, C2, and C3 with a motor or the like.
図7に示す構成によれば、例えば案内ローラーR41を介したシート基板FBが第一円筒部CY1に巻き掛けられ、案内ローラー(変換部)R42〜R45を介して第二円筒部CY2に案内される。第二円筒部CY2に巻き掛けられた後のシート基板FBは、案内ローラー(変換部)R46〜R49を介して第三円筒部CY3に案内される。第三円筒部CY3に巻き掛けられた後のシート基板FBは、案内ローラーR50を介して案内される。このように、本実施形態では、第一円筒部CY1と第二円筒部CY2の間でのシート基板の引き回し構成を、第二円筒部CY2と第三円筒部CY3との間でも同様に繰り返す構成であるため、ドラム機構DRM4を使った処理工程をさらに高密度化(処理装置の設置床面積の削減)することができる。 According to the configuration shown in FIG. 7, for example, the sheet substrate FB via the guide roller R41 is wound around the first cylindrical part CY1 and guided to the second cylindrical part CY2 via the guide rollers (conversion parts) R42 to R45. The The sheet substrate FB after being wound around the second cylindrical portion CY2 is guided to the third cylindrical portion CY3 via guide rollers (converting portions) R46 to R49. The sheet substrate FB after being wound around the third cylindrical portion CY3 is guided via the guide roller R50. Thus, in the present embodiment, the configuration in which the sheet substrate is routed between the first cylindrical portion CY1 and the second cylindrical portion CY2 is similarly repeated between the second cylindrical portion CY2 and the third cylindrical portion CY3. Therefore, it is possible to further increase the density of the processing process using the drum mechanism DRM4 (reduction in the floor area of the processing apparatus).
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態においては、3つの円筒部CY1、CY2、CY3の各々の位置でシート基板に対する処理・加工を行なうことを想定したが、例えば、第一円筒部CY1から第二円筒部CY2までの間でシート基板FBに対して処理を行なわない構成としても構わない。また、方向変換部としての機能を有する案内ローラーのところで、シート基板に対する処理を行う構成とすることもできる。
The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, in the above-described embodiment, it is assumed that the sheet substrate is processed and processed at each of the three cylindrical portions CY1, CY2, and CY3. For example, from the first cylindrical portion CY1 to the second cylindrical portion CY2. The sheet substrate FB may not be processed between the two. Moreover, it can also be set as the structure which performs the process with respect to a sheet | seat board | substrate in the guide roller which has a function as a direction change part.
図8に示すように、案内ローラーR51によってドラム機構DRM5に案内されたシート基板FBは、第一円筒部CY1に巻き掛けられ、案内ローラーR52を介して案内された後、第二円筒部CY2に至るまでの経路において、例えば回転軸が水平(XY平面と平行)となるように配置された案内ローラーR53に巻き掛けられる。ここで、例えば案内ローラーR53に、当該シート基板FBを加熱する加熱装置(加熱・乾燥用のドラム)を設ける構成とすることができる。すなわち、案内ローラーR53を加熱ドラムとして構成することができる。この場合、シート基板FBのうち案内ローラーR53に巻き掛けられた部分が加熱されることになる。図8のように、案内ローラーR53は、案内ローラーR52から立った状態で送られてくるシート基板FBを、案内ローラーR54に立った状態で送り込む為に、ねじれを与える配置になっている。 As shown in FIG. 8, the sheet substrate FB guided to the drum mechanism DRM5 by the guide roller R51 is wound around the first cylindrical portion CY1, guided through the guide roller R52, and then to the second cylindrical portion CY2. In the route up to, for example, it is wound around a guide roller R53 arranged so that the rotation axis is horizontal (parallel to the XY plane). Here, for example, the guide roller R53 may be provided with a heating device (heating / drying drum) for heating the sheet substrate FB. That is, the guide roller R53 can be configured as a heating drum. In this case, a portion of the sheet substrate FB that is wound around the guide roller R53 is heated. As shown in FIG. 8, the guide roller R53 is arranged to give a twist in order to feed the sheet substrate FB sent from the guide roller R52 while standing on the guide roller R54.
例えば、ドラム機構DRM5における処理装置40として塗布装置などを用いる場合において、塗布処理された後のシート基板FBに対して乾燥処理などを行うことが好ましいが、そのような場合に、案内ローラー(加熱処理用の回転ドラム)R53に塗布工程直後のシート基板を巻き掛けて乾燥工程に利用することができる。乾燥処理後のシート基板FBは、例えば案内ローラーR54を介して第二円筒部CY2に案内され、第二円筒部CY2に巻かれた後、案内ローラーR55によって案内される。
For example, when a coating device or the like is used as the
また、上記各説明においては、例えばシート基板FBを立てた状態で搬送する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、ドラム機構DRM及び処理ローラー32の少なくとも一方においては、シート基板FBの被処理面Fpを水平面に対して垂直又は傾けた状態で搬送し、ドラム機構DRM及び処理ローラー32の少なくとも一方に搬送する搬送経路においては、シート基板FBの被処理面Fpを水平面に対して実質的に平行に配置する構成であっても構わない。また、シート基板FBの搬送経路において、シート基板FBを立てた状態と横にした状態とを組み合わせる構成としても構わない。
なお、シート基板FBを非水平姿勢、例えば、シート基板FBの被処理面Fpを水平面(XY平面)に対して所定角度で傾けた状態で搬送又は処理する場合には、ドラム機構DRMの円筒部材CYL、処理ローラー32、案内ローラーR1、R2、R6、R7、R8等の回転中心軸をZ方向に対して傾斜させればよい。
In each of the above explanations, for example, the configuration in which the sheet substrate FB is conveyed while standing is described as an example, but the present invention is not limited to this. For example, in at least one of the drum mechanism DRM and the
When the sheet substrate FB is transported or processed in a non-horizontal posture, for example, in a state where the processing surface Fp of the sheet substrate FB is inclined at a predetermined angle with respect to the horizontal plane (XY plane), the cylindrical member of the drum mechanism DRM The rotation center axes of CYL, processing
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態の構成に加えて、図1、図2に示した搬送装置30が、各案内ローラー、処理ローラー32の他に、シート基板FBの姿勢を調整する姿勢調整ローラーを有する構成としても構わない。
The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, in addition to the configuration of the above-described embodiment, the
この姿勢調整ローラーは、例えばシート基板FBの搬送経路において処理装置40の上流側に配置することができる。また、例えば処理装置40の直前に姿勢調整ローラーを配置した構成としても構わない。姿勢調整ローラーは、例えば中心軸がZ方向に平行になるように配置されており、X方向、Y方向及びZ方向に移動可能に設けられている。また、姿勢調整ローラーは、例えば中心軸がZ軸方向に対して傾くように配置されている。この場合、例えば姿勢調整ローラーの傾きや位置を変化させることで、シート基板FBの姿勢を調整することができる。また、上記の案内ローラーや処理ローラー、処理搬送ローラーが姿勢調整ローラーを兼ねる構成であっても構わない。
また、上述した実施形態において、処理ローラー32が円筒状に形成されている例について説明したが、円筒状に限られるものではない。例えば、処理ローラーの形状を楕円又は多角柱にしたり、処理ローラーの表面の一部に曲率面を形成する構成であってもよい。この場合、処理ローラー32を固定し、処理ローラー32の表面をシート基板FBが接触又は非接触で滑る構成にすることが望ましい。
また、ドラム機構DRMの円筒部材CYLも同様に、円筒部材に限られるものではない。例えば、円筒部材CYLの代わりに、各処置装置40がシート基板の被処理面を処理する際に、被処理面を曲率面で案内できるような案内面が形成された案内部材や、被処理面を平坦に案内できるような案内面が形成された案内部材を用いてもよい。なお、案内部材を用いる場合には、シート基板FBが接触又は非接触で滑る構成にすることが望ましい。
This posture adjustment roller can be disposed, for example, on the upstream side of the
In the above-described embodiment, an example in which the
Similarly, the cylindrical member CYL of the drum mechanism DRM is not limited to the cylindrical member. For example, instead of the cylindrical member CYL, when each
また、基板供給部SUに設置されるロール状のシート基板FBの先端には、シート基板FBと同程度の厚みを有し、シート基板よりも剛性が高めのリーダ・シートを所定の長さで貼り付けても良い。そのようにしておくと、新しいシート基板FBのロールを基板供給部SUに取り付けた際に、シート基板を処理装置FPA4内に自動装填することも可能となる。 In addition, a leader sheet having a thickness similar to that of the sheet substrate FB and having a rigidity higher than that of the sheet substrate is provided at a predetermined length at the tip of the roll-shaped sheet substrate FB installed in the substrate supply unit SU. It may be pasted. By doing so, it is possible to automatically load the sheet substrate into the processing apparatus FPA4 when a roll of a new sheet substrate FB is attached to the substrate supply unit SU.
FB…シート基板 SU…基板供給部 PR…基板処理部 CB…チャンバ CL…基板回収部 CONT…制御部 Fp…被処理面 DRM…ドラム機構 CYL…円筒部材 CY1…第一円筒部 CY2…第二円筒部 ACT…回転駆動機構 C1…第一円筒部材 C2…第二円筒部材 DRM〜DRM5…ドラム機構 R1〜R10、R21〜R24、R31〜R35、R41〜R53…案内ローラー 10…供給ポート 20…回収ポート 30…搬送装置 32…処理ローラー 40…処理装置 42A1、42A2、42B1、42B2、42C1、42C2…処理部 43…乾燥装置 FPA…基板処理装置
FB ... Sheet substrate SU ... Substrate supply unit PR ... Substrate processing unit CB ... Chamber CL ... Substrate recovery unit CONT ... Control unit Fp ... Surface to be processed DRM ... Drum mechanism CYL ... Cylindrical member CY1 ... First cylindrical unit CY2 ... Second cylinder Part ACT ... Rotation drive mechanism C1 ... first cylindrical member C2 ... second cylindrical member DRM-DRM5 ... drum mechanism R1-R10, R21-R24, R31-R35, R41-R53 ... guide
Claims (11)
前記長尺の方向に送られる前記シート基板に第1の処理を施す第1処理装置と、
該第1処理装置に対して前記シート基板の送り方向と交差した方向にずれて配置され、前記シート基板に第2の処理を施す第2処理装置と、
前記シート基板の2列を、間隔を空けて共に通すことが可能な搬入排出部を備え、前記第1の処理の後のシート基板、又は前記第2の処理の後のシート基板に第3の処理を施す第3処理装置と、
前記シート基板が前記第1処理装置を通って前記第3処理装置に向かうように、前記シート基板を長尺方向に搬送する第1搬送部と、前記シート基板が前記第3処理装置の後に前記第2処理装置に向かうように、前記シート基板を長尺方向に搬送する第2搬送部と、前記シート基板が前記第2処理装置の後に前記第3処理装置に向かうように、前記シート基板を長尺方向に搬送する第3搬送部とを含む搬送装置と、
を備える基板処理装置。 A substrate processing apparatus for processing a long sheet substrate having flexibility,
A first processing device for performing a first processing on the sheet substrate sent in the long direction;
A second processing apparatus which is arranged to be shifted in a direction crossing the feeding direction of the sheet substrate with respect to the first processing apparatus, and which performs a second process on the sheet substrate;
A loading / discharging unit capable of passing two rows of the sheet substrates together with a gap therebetween, and a third substrate on the sheet substrate after the first process or the sheet substrate after the second process. A third processing device for performing processing;
A first transport unit configured to transport the sheet substrate in a longitudinal direction so that the sheet substrate is directed to the third processing device through the first processing device; and the sheet substrate is disposed after the third processing device. A second transport unit configured to transport the sheet substrate in a longitudinal direction so as to go to the second processing apparatus; and the sheet substrate so that the sheet substrate goes to the third processing apparatus after the second processing apparatus. A transport device including a third transport unit for transporting in the longitudinal direction;
A substrate processing apparatus comprising:
請求項1に記載の基板処理装置。 The first processing apparatus and the second processing apparatus are arranged so as to be shifted in a vertical direction crossing a feeding direction of the sheet substrate;
The substrate processing apparatus according to claim 1.
前記第1の搬入口と前記第2の搬入口を上下方向に配置し、前記第1の排出口と前記第2の排出口を上下方向に配置した、
請求項2に記載の基板処理装置。 The carry-in / discharge unit of the third processing apparatus includes a first carry-in port for carrying in the sheet substrate after the first process, a first discharge port for discharging the sheet substrate, and after the second process. A second carry-in port for carrying in the sheet substrate and a second discharge port for discharging the sheet substrate,
The first carry-in port and the second carry-in port are arranged in the vertical direction, and the first discharge port and the second discharge port are arranged in the vertical direction.
The substrate processing apparatus according to claim 2.
前記第2処理装置は、前記シート基板の被処理面を円筒面状に支持しつつ前記長尺の方向に移動可能とする第2の円筒部材と、該第2の円筒部材の周囲に配置されて前記第2の処理を行う第2の処理部とを備える、
請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理装置。 The first processing apparatus is disposed around a first cylindrical member that is movable in the longitudinal direction while supporting a processing target surface of the sheet substrate in a cylindrical shape. And a first processing unit that performs the first processing.
The second processing apparatus is disposed around a second cylindrical member that is movable in the longitudinal direction while supporting a processing target surface of the sheet substrate in a cylindrical shape. Ru and a second processing unit that performs the second processing Te,
The substrate processing apparatus as described in any one of Claims 1-3 .
請求項4に記載の基板処理装置。 The first cylindrical member and the second cylindrical member are arranged side by side in the vertical direction and are configured by a rotating drum that is rotatable around a central axis.
The substrate processing apparatus according to claim 4.
該複数の案内ローラーのうちの少なくとも2つの案内ローラーは、前記第1処理装置と前記第2処理装置の上下方向の配置のずれに応じて、前記シート基板の搬送経路が上下方向にシフトするように配置される、
請求項2に記載の基板処理装置。 A plurality of guides for changing the transport direction of the sheet substrate in the longitudinal transport path of the sheet substrate formed by each of the first transport unit, the second transport unit, and the third transport unit. A roller is provided,
At least two guide rollers of the plurality of guide rollers are configured to shift the transport path of the sheet substrate in the vertical direction in accordance with the vertical displacement of the first processing apparatus and the second processing apparatus. Placed in the
The substrate processing apparatus according to claim 2.
請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理装置。 The third process by the third processing apparatus is a process of drying the sheet substrate or a process of heating to a predetermined temperature.
The substrate processing apparatus as described in any one of Claims 1-6.
前記シート基板を第1処理装置に送り、前記シート基板の被処理面に第1の処理を施す第1工程と、
前記シート基板を第2処理装置に送り、前記第1の処理を受けた前記シート基板の被処理面に第2の処理を施す第2工程と、
前記シート基板の2列を共に通すことが可能な搬入排出部を備えた第3処理装置に、前記第1の処理の後の前記シート基板、及び前記第2の処理の後の前記シート基板を送り、前記シート基板の被処理面に第3の処理を施す第3工程と、
前記第1処理装置、前記第3処理装置、前記第2処理装置、及び前記第3処理装置の順番で前記シート基板を長尺方向に送る搬送装置によって前記シート基板を送る搬送工程と、
を含む基板処理方法。 A substrate processing method for performing a plurality of processes on the sheet substrate while conveying a flexible long sheet substrate in the longitudinal direction,
A first step of sending the sheet substrate to a first processing apparatus and performing a first process on a surface to be processed of the sheet substrate;
A second step of sending the sheet substrate to a second processing apparatus and applying a second process to the surface of the sheet substrate that has undergone the first process;
The sheet processing substrate after the first processing and the sheet substrate after the second processing are provided in a third processing apparatus having a loading / unloading unit capable of passing two rows of the sheet substrates together. A third step of performing a third process on the processing surface of the sheet substrate;
Said first processing unit, the third processing unit, the second processing unit, and a conveying step of sending the sheet substrate by a conveying device for feeding the sheet substrate in the longitudinal direction in the order of the third processing unit,
A substrate processing method.
請求項8に記載の基板処理方法。 The third process by the third processing apparatus is a process of drying the sheet substrate or a process of heating to a predetermined temperature.
The substrate processing method according to claim 8.
請求項9に記載の基板処理方法。 The first processing apparatus and the second processing apparatus are arranged so as to be shifted in a vertical direction crossing a feeding direction of the sheet substrate;
The substrate processing method according to claim 9.
該複数の案内ローラーのうちの少なくとも2つの案内ローラーによって、前記第1処理装置と前記第2処理装置の上下方向の配置のずれに応じて、前記シート基板の搬送経路を上下方向にシフトさせる、
請求項10に記載の基板処理方法。 A plurality of guide rollers for changing the conveyance direction of the sheet substrate are provided in the conveyance path in the longitudinal direction of the sheet substrate formed by the conveyance device,
The transport path of the sheet substrate is shifted up and down by at least two guide rollers of the plurality of guide rollers according to the displacement in the vertical direction of the first processing device and the second processing device,
The substrate processing method according to claim 10.
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