JP5858068B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板処理装置と基板処理方法に関する。
本願は、２０１０年４月９日に出願された米国仮出願６１／３２２３４７号および２０１０年４月９日に出願された米国仮出願６１／３２２４１７号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子、電子ペーパに用いられる電気泳動素子などが知られている。現在、これらの表示素子として、基板表面に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）と呼ばれるスイッチング素子や増幅素子または電流駆動素子等を形成した後、その上にそれぞれの表示デバイスを形成する能動的表示素子（アクティブディスプレーデバイス）が主流となってきている。

近年では、シート状の基板（例えばフィルム部材など）上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。ロール方式は、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた基板（例えば、帯状のフィルム部材）を送り出すと共に、送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら基板を搬送する。

そして、基板が送り出されてから巻き取られるまでの間に、例えば複数の搬送ローラー等を用いて基板を搬送しつつ、複数の処理装置を用いてＴＦＴを構成するゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等を形成し、基板の被処理面上に表示素子の構成要素を順次形成する。例えば、有機ＥＬの素子を形成する場合には、発光層、陽極、陰極、電気回路等を基板上に順次形成する。

国際公開第２００６／１００８６８号

しかしながら、上記の手法では、基板の搬送経路に沿って処理装置を配置する必要があるため、例えば基板の搬送形態によっては装置全体が大型化してしまう。

本発明に係る態様は、省スペース化が可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供することを目的とする。

本発明の一態様による基板処理装置では、可撓性を有する長尺のシート基板を処理する基板処理装置であって、長尺方向に送られるシート基板に第１の処理を施す第１処理装置と、その第１処理装置に対してシート基板の送り方向と交差した方向にずれて配置され、シート基板に第２の処理を施す第２処理装置と、シート基板の２列を、間隔を空けて共に通すことが可能な搬入排出部を備え、第１の処理の後のシート基板、又は第２の処理の後のシート基板に類似した第３の処理を施す第３処理装置と、シート基板が第１処理装置を通って第３処理装置に向かうようにシート基板を長尺方向に搬送する第１搬送部と、シート基板が第３処理装置の後に第２処理装置に向かうようにシート基板を長尺方向に搬送する第２搬送部と、シート基板が第２処理装置の後に第３処理装置に向かうようにシート基板を長尺方向に搬送する第３搬送部とを含む搬送装置と、が設けられる。

また、本発明の一態様による基板処理方法では、可撓性を有する長尺のシート基板を長尺方向に搬送しながらシート基板に複数の処理を施す基板処理方法であって、シート基板を第１処理装置に送り、シート基板の被処理面に第１の処理を施す第１工程と、シート基板を第２処理装置に送り、第１の処理を受けたシート基板の被処理面に第２の処理を施す第２工程と、シート基板の２列を共に通すことが可能な搬入排出部を備えた第３処理装置にシート基板を送り、シート基板の被処理面に第３の処理を施す第３工程と、第１処理装置、第３処理装置、第２処理装置、及び第３処理装置の順番でシート基板を長尺方向に送る搬送装置によってシート基板を送る搬送工程と、が実行される。

本発明に係る態様によれば、省スペース化が可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供することができる。

本発明の第一実施形態に係る基板処理装置の構成を示す斜視図。 本実施形態に係る基板処理装置の構成を示す平面図。 本発明の第二実施形態に係る基板処理装置の構成を示す平面図。 本発明の第三実施形態に係る基板処理装置の構成を示す平面図。 本発明の第一実施形態に係る基板処理装置の構成を示す斜視図。 本実施形態に係る基板処理装置の構成を示す平面図。 本発明の第二実施形態に係る基板処理装置の構成を示す平面図。 本発明の第三実施形態に係る基板処理装置の構成を示す平面図。

［第一実施形態］
次に、第一実施形態に係る基板処理装置を説明する。図１は、本実施形態の基板処理装置ＦＰＡ４の構成を示す斜視図である。図２は、基板処理装置ＦＰＡ４の構成を示す平面図である。

図１及び図２に示すように、基板処理装置ＦＰＡは、シート基板（例えば、帯状のフィルム部材）ＦＢを供給する基板供給部ＳＵ、シート基板ＦＢの表面（被処理面）Ｆｐに対して処理を行う基板処理部ＰＲ、当該基板処理部ＰＲを収容するチャンバＣＢ（図１においては図示省略）、シート基板ＦＢを回収する基板回収部ＣＬ、及び、これらの各部を制御する制御部ＣＯＮＴを有している。基板処理装置ＦＰＡは、例えば工場などに設置される。本実施形態では、シート基板ＦＢは、立てた状態で供給され、処理され、回収されるようになっている。本実施形態において、当該立てた状態は、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐを水平面（ＸＹ平面）に対して所定角度で交差した状態、例えば、傾斜した状態、あるいはほぼ垂直に配置した状態を含む。言い換えれば、このシート基板ＦＢの基板処理面Ｆｐを立てた状態は、基板ＦＢの短尺方向（短手方向）が非水平姿勢の状態も含む。

以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。具体的には、水平面上の所定方向をＸ軸方向、当該水平面上においてＸ軸方向に直交する方向をＹ軸方向、鉛直方向をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。また、実施形態において、シート基板ＦＢの基板処理面Ｆｐを水平面に対してほぼ垂直にした状態を例に説明する。

基板処理装置ＦＰＡは、基板供給部ＳＵからロール状に巻かれたシート基板ＦＢが送り出されてから、基板回収部ＣＬでシート基板ＦＢをロール状に回収するまでの間に、シート基板ＦＢの表面に各種処理を実行するロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）の装置である。基板処理装置ＦＰＡは、シート基板ＦＢ上に例えば有機ＥＬ素子、液晶表示素子等の表示素子（電子デバイス）を形成する場合に用いることができる。勿論、これらの素子以外の素子を形成する場合において基板処理装置ＦＰＡを用いても構わない。

基板処理装置ＦＰＡにおいて処理対象となるシート基板ＦＢとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。

シート基板ＦＢの短尺方向（短手方向）の寸法は例えば５０ｃｍ〜２ｍ程度に形成されており、長尺方向（長手方向）の寸法は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えばシート基板ＦＢの短尺方向の寸法が５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。また、シート基板ＦＢの長尺方向の寸法が１０ｍ以下であっても構わない。

シート基板ＦＢは、例えば１ｍｍ以下の厚みを有し、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、例えば基板に少なくとも自重程度の所定の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、例えば上記所定の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、シート基板ＦＢとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。

シート基板ＦＢは、例えば２００℃程度の熱を受けても実質的に寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。

基板供給部ＳＵは、供給ポート１０（図１においては図示省略）と、当該供給ポート１０内に配置された軸部材１１及び支持部１２とを有している。軸部材１１は、例えば円柱状に形成され、中心軸が例えばＺ方向にほぼ平行になるように配置されている。このため、軸部材１１には、シート基板ＦＢを立てた状態で巻かれるようになっている。軸部材１１は、例えば支持部１２に対して着脱可能に設けられている。支持部１２は、当該軸部材１１を周方向（例えばθＺ方向）に回転可能に支持する。基板供給部ＳＵは、例えばロール状に巻かれたシート基板ＦＢを、当該シート基板ＦＢの短尺方向を立てた状態、即ち、Ｚ方向と揃った状態（言い換えれば、当該シート基板ＦＢが非水平姿勢）で基板処理部ＰＲへ送り出して供給する。

供給ポート１０内には、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐを保護する保護基板ＰＢが巻かれた軸部材１３が設けられている。なお、供給ポート１０内に設けられた軸部材１３を保護基板供給部と称してもよい。保護基板ＰＢは、基板処理部ＰＲにおける処理が完了した後、基板回収部ＣＬによって回収される前にシート基板ＦＢに貼り付けられる基板である。保護基板ＰＢは、シート基板ＦＢと同様、例えば帯状に形成され、可撓性を有する構成である。軸部材１３は、例えば円筒状に形成されており、中心軸が例えばＺ方向にほぼ平行になるように配置されている。このため、軸部材１３には、保護基板ＰＢが立てた状態で巻かれるようになっている。軸部材１３は、支持部１４によって周方向（例えばθＺ方向）に回転可能に支持されている。軸部材１３は、例えば支持部１４に対して着脱可能に設けられている。基板供給部ＳＵは、保護基板ＰＢを立てた状態で基板処理部ＰＲへ送り出して供給する。

基板回収部ＣＬは、保護基板ＰＢが貼り付けられた状態で基板処理部ＰＲから搬送されるシート基板ＦＢを、当該シート基板ＦＢ及び保護基板ＰＢの短尺方向を立てた状態で巻きとって回収する。基板回収部ＣＬの回収ポート２０（図１においては図示省略）には、基板供給部ＳＵと同様に、シート基板ＦＢ及び保護基板ＰＢを巻きつけるための軸部材２１と、当該軸部材２１を回転可能に支持する支持部２２とが設けられている。軸部材２１は、例えば支持部２２に対して着脱可能に設けられている。

基板供給部ＳＵの供給ポート１０と、基板回収部ＣＬの回収ポート２０とは、例えば基板処理部ＰＲを収容するチャンバＣＢの外部に配置されている。供給ポート１０及び回収ポート２０は、チャンバＣＢの例えば−Ｙ側の面に配置されており、基板処理部ＰＲに対して例えばＸ方向に並んで配置されている。このように供給ポート１０と回収ポート２０とが一箇所にまとめて配置されているため、当該供給ポート１０及び回収ポート２０に対して効率的にアクセスすることができるようになっている。

基板処理部ＰＲは、基板供給部ＳＵから供給されるシート基板ＦＢを立てた状態で基板回収部ＣＬへ搬送すると共に、搬送の過程で立てた状態のシート基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して処理を行う。基板処理部ＰＲは、例えば搬送機構等の搬送装置３０、処理装置４０及びアライメント装置（不図示）などを有している。基板処理部ＰＲは、空調管理されたクリーンチャンバＣＢ内に収容され、環境温度や環境湿度が一定になるように管理されると共に、塵埃等から上記各装置が保護されるようになっている。

図１及び図２に示すように、搬送装置３０は、複数（例えば１０個）の案内ローラーＲ１〜Ｒ１０と、ドラム機構ＤＲＭと、処理ローラー３２とを有している。案内ローラーＲ１〜Ｒ８は、基板供給部ＳＵから基板回収部ＣＬまでシート基板ＦＢを案内する。案内ローラーＲ９及びＲ１０は、基板供給部ＳＵから基板回収部ＣＬまで、シート基板ＦＢとは異なる経路で保護基板ＰＢを案内する。なお、ドラム機構ＤＲＭを第一ドラム機構、処理ローラー３２を第二ドラム機構としてもよい。

案内ローラーＲ１〜Ｒ３、Ｒ６〜Ｒ１０は、例えば回転軸がＺ軸方向にほぼ平行になるように配置されている。このため、案内ローラーＲ１〜Ｒ３、Ｒ６〜Ｒ８においては、シート基板ＦＢが立てた状態で掛けられるようになっている。また、案内ローラーＲ９及びＲ１０においては、保護基板ＰＢが立てた状態で掛けられるようになっている。案内ローラーＲ１〜Ｒ１０は、例えば駆動機構が設けられた構成であっても構わない。例えばシート基板ＦＢの被処理面Ｆｐが巻かれる案内ローラーＲ１、Ｒ４、Ｒ７、Ｒ８については、円筒面に気体層（エアベアリング）を形成する不図示の気体層形成装置が設けられた構成としても構わない。いずれにしても、本実施形態の場合、シート基板ＦＢは少なくとも案内ローラーＲ１〜Ｒ９の間を所定のテンションを保って送られる。

図３は、基板処理部ＰＲのうちドラム機構ＤＲＭの近傍の構成を示す斜視図である。 図３に示すように、ドラム機構ＤＲＭは、回転中心軸がＺ方向とほぼ平行になるように配置された円筒部材ＣＹＬと、当該円筒部材ＣＹＬを円周方向に回転可能に支持する回転駆動機構（駆動部）ＡＣＴとを有している。円筒部材ＣＹＬは、第一円筒部（第１ローラ）ＣＹ１と、第二円筒部（第２ローラ）ＣＹ２と、ガイド部Ｇとを有している。

第一円筒部ＣＹ１及び第二円筒部ＣＹ２は、それぞれ当該円筒部材ＣＹＬの円筒面の一部分である。第一円筒部ＣＹ１及び第二円筒部ＣＹ２は、共に１つの円筒部材ＣＹＬの一部分であるため、円筒部材ＣＹＬが回転すると第一円筒部ＣＹ１及び第二円筒部ＣＹ２が一体的に回転するようになっている。

第一円筒部ＣＹ１及び第二円筒部ＣＹ２は、例えばガイド部ＧによってＺ方向に分割されている。言い換えれば、第二円筒部ＣＹ２は、第一円筒部ＣＹ１に対してＺ方向の位置、すなわち水平方向に対して交差する方向の位置が異なる。第一円筒部ＣＹ１はガイド部Ｇの＋Ｚ側（上方）に配置されており、第二円筒部ＣＹ２はガイド部Ｇの−Ｚ側（下方）に配置されている。第一円筒部ＣＹ１及び第二円筒部ＣＹ２は、例えば互いに等しい径を有するように形成されている。第一円筒部ＣＹ１及び第二円筒部ＣＹ２は、例えば案内ローラーＲ１〜Ｒ１０よりも大きな径（例えば直径１ｍ以上）となるように形成されている。ガイド部Ｇは、シート基板ＦＢのうち第一円筒部ＣＹ１に巻かれた部分及び第二円筒部ＣＹ２に巻かれた部分がＸＹ平面に平行な面に沿って搬送されるように案内する。

シート基板ＦＢの搬送経路において、第一円筒部ＣＹ１と第二円筒部ＣＹ２との間には、案内ローラーＲ２〜Ｒ５が配置されている。案内ローラーＲ２は、第一円筒部ＣＹ１により半周程でＵ字状に折り返されて＋Ｘ方向に搬送されるシート基板ＦＢを−Ｙ方向に折り返す。案内ローラーＲ３は、−Ｙ方向に折り返されたシート基板ＦＢを−Ｘ方向に折り返す。

案内ローラーＲ４及びＲ５は、例えば＋Ｚ側の端部が＋Ｘ側に傾いた状態で配置されている。案内ローラーＲ４は、案内ローラーＲ３を介して−Ｘ方向に案内されてきたシート基板ＦＢを、斜め下方向（＋Ｘ方向であって−Ｚ側に傾いた方向）に折り返す。案内ローラーＲ５は、案内ローラーＲ４の斜め下方向（＋Ｘ方向であって−Ｚ側に傾いた方向）上に配置されている。案内ローラーＲ５は、案内ローラーＲ４から斜め下方向に搬送されるシート基板ＦＢを−Ｘ方向に折り返して、第二円筒部ＣＹ２に向かわせる。

案内ローラーＲ４及びＲ５は、図３の構成の場合はその回転軸線が互いにほぼ平行を保つと共にＸＺ平面内で所定量だけ傾くように設定されている。また案内ローラーＲ４及びＲ５には、例えば回転軸の傾き（傾き量や傾き方向）を調整可能とする為のアクチュエータが設けられている。案内ローラーＲ４及びＲ５の少なくなくとも一方の当該回転軸の傾き状態を調整することにより、案内ローラーＲ５から−Ｘ方向に送り出されるシート基板ＦＢの搬送方向を水平（Ｘ軸と平行）にしつつ、シート基板のＺ方向の位置をほぼ一定に維持することができる。案内ローラーＲ４及びＲ５の少なくとも一方の回転軸の傾き状態の調整は、例えば、案内ローラーＲ５から−Ｘ方向に送り出されるシート基板ＦＢの姿勢や位置の変化を精密にモニターするセンサーからの計測信号を受けた制御部ＣＯＮＴが、傾き調整用のアクチュエータを駆動することによって制御可能になっている。

このように、案内ローラーＲ２〜Ｒ５は、第一円筒部ＣＹ１の外周面に巻きつけられた後のシート基板ＦＢの搬送方向が第二円筒部ＣＹ２に向かう方向となるように、シート基板ＦＢの搬送方向を変換する。特に案内ローラーＲ４、Ｒ５の対によって、シート基板ＦＢの送り方向（−Ｘ方向）は変えずに、Ｚ方向の高さ位置を所定量（本実施形態ではシート基板のＺ方向の幅尺分以上）だけシフトさせることができる。尚、本実施形態のようにシート基板を折り返してＺ方向に平行シフトさせる場合、案内ローラーＲ４とＲ５の間ではシート基板ＦＢがＸＺ面内で傾斜して送られるが、この傾斜量はシート基板の幅尺、案内ローラーＲ４、Ｒ５のＸ方向の間隔、ローラーＲ４、Ｒ５の回転中心軸の傾き角度や傾き方向等により幾何学的に決まる。従って本実施形態の場合、案内ローラーＲ４、Ｒ５を、各回転中心軸がＸＺ面内で共に４５度だけ傾くように、Ｚ方向の上下に並置すると、案内ローラーＲ４とＲ５の間を進むシート基板を垂直（傾斜量９０度）にすることもができる。

また、案内ローラーＲ２〜Ｒ５により、シート基板ＦＢは、例えば案内ローラーＲ１の位置で案内されるシート基板ＦＢの−Ｚ側（下側）の空間に案内されることになる。このように、本実施形態では第一円筒部ＣＹ１へのシート基板ＦＢの巻き付け方向に対して第二円筒部ＣＹ２へのシート基板ＦＢの巻き付け方向が同じ方向になり、シート基板ＦＢの表裏が反転しないように、案内ローラーＲ２〜Ｒ５によってシート基板ＦＢが案内される。

図１及び図２に示すように、処理ローラー３２は、例えば案内ローラーＲ１〜Ｒ４によるシート基板ＦＢの案内経路に配置されている。処理ローラー３２は、例えば円筒状に形成されている。処理ローラー３２は、例えば中心軸がＺ方向にほぼ平行になるように配置されており、シート基板ＦＢが立てた状態で掛けられるようになっている。処理ローラー３２は、例えば案内ローラーＲ１〜Ｒ１０よりも大きな径となるように形成されている。当該処理ローラー３２の径が上記の第一円筒部ＣＹ１及び第二円筒部ＣＹ２とほぼ等しい径となるように構成しても構わない。

処理装置４０は、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して例えば有機ＥＬ素子を形成するための装置である。本実施形態では、例えば処理装置４０として、例えば洗浄装置４１、ＴＦＴ層形成装置４２、乾燥装置（乾燥部）４３、予備加工装置４４、発光層形成装置４５、ラミネート装置４６などが用いられている。このほか、例えば被処理面Ｆｐ上に隔壁を形成するための隔壁形成装置（不図示）など、他の装置が設けられていても構わない。

このような処理装置４０の種類としては、例えば液滴塗布装置（例えばインクジェット型塗布装置、スクリーン印刷型塗布装置など）、蒸着装置、スパッタリング装置などの成膜装置や、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置など、各種の装置が用いられる。これらの各装置は、例えばシート基板ＦＢの搬送経路上に適宜設けられている。

洗浄装置４１は、チャンバＣＢの外部から内部へ供給されたシート基板ＦＢや保護基板ＰＢを清浄化する為に設けられ、シート基板ＦＢを洗浄する第一洗浄装置４１Ａと、保護基板ＰＢを洗浄する第二洗浄装置４１Ｂとを有している。第一洗浄装置４１Ａは、シート基板ＦＢの搬送経路において例えば供給口ＳＵａ（図２参照）と円筒部材ＣＹＬとの間に設けられている。また、第二洗浄装置４１Ｂは、保護基板ＰＢの搬送経路において、例えば供給口ＳＵｂとラミネート装置４６との間に設けられている。

ドラム機構ＤＲＭの周囲に配置されたＴＦＴ層形成装置４２は、有機ＥＬ素子を駆動するためのＴＦＴ素子や電極、配線層等を形成する装置である。ＴＦＴ層形成装置４２は、例えば第一形成装置４２Ａ、第二形成装置４２Ｂ及び第三形成装置４２Ｃを有している。第一形成装置４２Ａは、円筒部材ＣＹＬの−Ｙ側に配置されている。第二形成装置４２Ｂは、円筒部材ＣＹＬの−Ｘ側に配置されている。第三形成装置４２Ｃは、円筒部材ＣＹＬの＋Ｙ側に配置されている。

このように第一形成装置４２Ａ、第二形成装置４２Ｂ及び第三形成装置４２Ｃが、円筒部材ＣＹＬの周囲に設けられ、ＴＦＴ素子及び電極、配線層等を形成する一連の工程は、例えば第一形成装置４２Ａ、第二形成装置４２Ｂ及び第三形成装置４２Ｃによって分担して行われるようになっている。

図４は、第一形成装置４２Ａ、第二形成装置４２Ｂ及び第三形成装置４２Ｃと、ドラム機構ＤＲＭの円筒部材ＣＹＬとの関係を示す図である。
図４に示すように、第一形成装置４２Ａ、第二形成装置４２Ｂ、第三形成装置４２Ｃは、それぞれ２つの処理部４２Ａ１及び４２Ａ２、処理部４２Ｂ１及び４２Ｂ２、処理部４２Ｃ１及び４２Ｃ２を有している。処理部４２Ａ１、４２Ｂ１、４２Ｃ１は、それぞれ第一円筒部ＣＹ１に対向して設けられており、当該第一円筒部ＣＹ１に掛けられたシート基板ＦＢに対して処理可能となっている。処理部４２Ａ２、４２Ｂ２、４２Ｃ２は、それぞれ第二円筒部ＣＹ２に対向して設けられており、当該第二円筒部ＣＹ２に掛けられたシート基板ＦＢに対して処理可能となっている。このように、第一形成装置４２Ａ、第二形成装置４２Ｂ及び第三形成装置４２Ｃは、立てた状態で巻かれたシート基板ＦＢに対して処理が可能になっている。なお、第一円筒部ＣＹ１及び第二円筒部ＣＹ２は、ＴＦＴ層形成装置４２による処理が行われる際に、シート基板ＦＢを支持する支持部となる。
また、第一円筒部ＣＹ１及び第二円筒部ＣＹ２がシート基板ＦＢを支持する支持部となった場合、ドラム機構を支持機構に言い換えることができる。

図１〜図３に示すように、乾燥装置４３は、シート基板ＦＢを例えば加熱することにより、当該シート基板ＦＢに形成されたＴＦＴ素子や電極などを安定化させる装置である。乾燥装置４３の−Ｘ側の面には、図７に示すように２つの挿入口４３ａ及び４３ｂが設けられている。挿入口４３ａは、＋Ｚ側に配置されており、第一円筒部ＣＹ１を経たシート基板ＦＢが挿入される。挿入口４３ｂは、−Ｚ側に配置されており、第二円筒部ＣＹ２を経たシート基板ＦＢが挿入される。

乾燥装置４３の＋Ｘ側の面には、２つの排出口４３ｃ及び４３ｄが設けられている。排出口４３ｃは、＋Ｚ側に配置されており、挿入口４３ａから挿入され乾燥処理が行われたシート基板ＦＢが排出される。排出口４３ｄは、−Ｚ側に配置されており、挿入口４３ｂから挿入され乾燥処理が行われたシート基板ＦＢが排出される。

図１及び図２に示すように、予備加工装置４４は、シート基板ＦＢに発光層を形成する際の予備工程（例えば、絶縁層形成工程など）を行う装置である。予備加工装置４４は、シート基板ＦＢの搬送経路において、乾燥装置４３と共に、例えばドラム機構ＤＲＭの円筒部材ＣＹＬと処理ローラー３２との間に配置されている。予備加工装置４４は、例えば第一加工装置４４Ａ、第二加工装置４４Ｂ及び第三加工装置４４Ｃを有しており、一連の予備加工工程が分担して行われるようになっている。

発光層形成装置４５は、有機ＥＬ素子を構成する発光層を形成する装置である。発光層形成装置４５は、例えば第一形成装置４５Ａ、第二形成装置４５Ｂ及び第三形成装置４５Ｃを有している。当該第一形成装置４５Ａ、第二形成装置４５Ｂ及び第三形成装置４５Ｃは、例えば処理ローラー３２の周囲に設けられている。発光層を形成する一連の工程は、例えば第一形成装置４５Ａ、第二形成装置４５Ｂ及び第三形成装置４５Ｃによって分担して行われるようになっている。

第一形成装置４５Ａは、処理ローラー３２の＋Ｙ側に配置されている。第二形成装置４５Ｂは、処理ローラー３２の＋Ｘ側に配置されている。第三形成装置４５Ｃは、処理ローラー３２の−Ｙ側に配置されている。

ラミネート装置４６は、シート基板ＦＢと保護基板（保護材）ＰＢとを貼り合わせる装置である。ラミネート装置４６は、シート基板ＦＢの搬送経路において、例えば処理ローラー３２と回収口ＣＬａとの間に配置されている。ラミネート装置４６は、例えばシート基板ＦＢの被処理面Ｆｐ側に保護基板ＰＢを対向配置させ、シート基板ＦＢと保護基板ＰＢとの間で位置合わせを行い、その後、シート基板ＦＢと保護基板ＰＢとを貼り合わせる構成になっている。

上記の処理装置４０のうち、例えばＴＦＴ層形成装置４２の第一形成装置４２Ａと、第一洗浄装置４１Ａと、第二洗浄装置４１Ｂと、発光層形成装置４５の第三形成装置４５Ｃとが第１方向（本実施形態では第１方向としてＸ方向）に沿って配置されている。また、ＴＦＴ層形成装置４２の第二形成装置４２Ｂと、円筒部材ＣＹＬと、処理ローラー３２と、発光層形成装置４５の第二形成装置４５ＢとがＸ方向に沿って配置されている。更に、ＴＦＴ層形成装置４２の第三形成装置４２Ｃと、乾燥装置４３と、発光層形成装置４５の第一形成装置４５ＡとがＸ方向に沿って配置されている。

また、例えばＴＦＴ層形成装置４２の第一形成装置４２Ａと、円筒部材ＣＹＬと、第三形成装置４２Ｃとが第２方向（本実施形態ではＸ方向と交差するＹ方向）に沿って配置されている。また、例えば洗浄装置４１Ａ及び４１Ｂと乾燥装置４３とがＹ方向に沿って配置されている。また、予備加工装置４４とラミネート装置４６とがＹ方向に沿って配置されている。更に、発光層形成装置４５の第一形成装置４５Ａと、処理ローラー３２と、第三形成装置４５ＣとがＹ方向に沿って配置されている。このように、搬送装置３０及び処理装置４０は、Ｘ方向及びＹ方向に沿って配置されているため、Ｘ方向及びＹ方向から見たときに各装置が互いに重なる部分が多くなるように密集して配置されている。

上記のように構成された基板処理装置ＦＰＡは、制御部ＣＯＮＴの制御により、ロール方式によって有機ＥＬ素子、液晶表示素子などの表示素子（電子デバイス）を製造する。以下、上記構成の基板処理装置ＦＰＡを用いて表示素子を製造する工程を説明する。

まず、軸部材１１にロール状に巻き付けられた帯状のシート基板ＦＢを基板供給部ＳＵの供給ポート１０内の支持部１２に取り付ける。また、軸部材１３に巻きつけられた帯状の保護基板ＰＢを基板供給部ＳＵの供給ポート１０内の支持部１４に取り付ける。更に、回収用の軸部材２１を基板回収部ＣＬの回収ポート２０内の支持部２２に取り付ける。

制御部ＣＯＮＴは、この状態から支持部１２を介して軸部材１１を回転させ、基板供給部ＳＵから当該シート基板ＦＢが送り出すようにする。基板供給部ＳＵから送り出されたシート基板ＦＢは、基板処理部ＰＲの供給口ＳＵａからチャンバＣＢ内に供給される。制御部ＣＯＮＴは、チャンバＣＢ内に供給されたシート基板ＦＢを搬送装置３０に搬送させつつ、各処理装置４０によって当該シート基板ＦＢに対して処理を行わせる。尚、軸部材１１にロール状に巻き付けられたシート基板ＦＢの先端部及び終端部には、処理装置ＦＰＡへのシート基板の自動ローディングを容易による為のリーダ・シートを貼り付けておいても良い。

この動作により、基板処理部ＰＲに供給されたシート基板ＦＢは、第一洗浄装置４１Ａによって洗浄され、案内ローラーＲ１によってドラム機構ＤＲＭの第一円筒部ＣＹ１に案内される。シート基板ＦＢは、被処理面ＦｐがＴＦＴ層形成装置４２の第一形成装置４２Ａ、第二形成装置４２Ｂ及び第三形成装置４２Ｃにそれぞれ向けられるように、第一円筒部ＣＹ１に立てた状態で巻き掛けられる。第一円筒部ＣＹ１に巻き掛けられたシート基板ＦＢの被処理面Ｆｐには、当該ＴＦＴ層形成装置４２（例えば、処理部Ａ１、Ｂ１及びＣ１）によってＴＦＴ素子や配線などが形成される。

第一円筒部ＣＹ１を経たシート基板ＦＢは、乾燥装置４３の＋Ｚ側の挿入口４３ａから乾燥装置４３の内部に供給され、例えば加熱処理などの乾燥処理が施される。乾燥処理後のシート基板ＦＢは、乾燥装置４３の＋Ｚ側の排出口４３ｃから搬出される。搬出されたシート基板ＦＢは、例えば案内ローラーＲ２によって−Ｙ方向に案内され、案内ローラーＲ３によって−Ｘ方向に案内される。案内ローラーＲ３を介したシート基板ＦＢは、案内ローラーＲ４によって斜め下方向（＋Ｘ方向であって−Ｚ側に傾いた方向）に案内され、案内ローラーＲ５によって−Ｘ方向に案内される。

案内ローラーＲ５を介したシート基板ＦＢは、ドラム機構ＤＲＭの第二円筒部ＣＹ２に立てた状態で巻き掛けられる。第二円筒部ＣＹ２に巻き掛けられたシート基板ＦＢの被処理面Ｆｐには、当該ＴＦＴ層形成装置４２（例えば、処理部Ａ２、Ｂ２及びＣ２）によってＴＦＴ素子や配線などに必要な層が重ねて形成される。

第二円筒部ＣＹ２を経たシート基板ＦＢは、乾燥装置４３の−Ｚ側の挿入口４３ｂから乾燥装置４３の内部に供給され、例えば加熱処理などの乾燥処理が再度施される。乾燥処理後のシート基板ＦＢは、乾燥装置４３の−Ｚ側の排出口４３ｄから搬出される。搬出されたシート基板ＦＢは、例えば案内ローラーＲ６を介して予備加工装置４４に供給される。予備加工装置４４では、例えば第一加工装置４４Ａ〜第三加工装置４４Ｃにおいて、シート基板ＦＢに絶縁膜や正孔注入層又は電子注入層などが形成される。

予備加工後のシート基板ＦＢは、例えば案内ローラーＲ７を介して処理ローラー３２に案内される。シート基板ＦＢは、被処理面Ｆｐが発光層形成装置４５の第一形成装置４５Ａ、第二形成装置４５Ｂ及び第三形成装置４５Ｃにそれぞれ向けられるように、処理ローラー３２に立てた状態で巻き掛けられる。処理ローラー３２に巻き掛けられたシート基板ＦＢの被処理面Ｆｐには、当該発光層形成装置４５によって発光層などが形成される。

処理ローラー３２を経たシート基板ＦＢは、ラミネート装置４６に供給され、被処理面Ｆｐに保護基板ＰＢが貼り付けられる。保護基板ＰＢが貼り付けられた後のシート基板ＦＢは、例えば回収口ＣＬａから基板回収部ＣＬに回収される。基板回収部ＣＬに回収されたシート基板ＦＢは、回収ポート２０内の軸部材２１にロール状に巻かれていく。軸部材２１に所定量のシート基板ＦＢが巻かれたら、シート基板ＦＢを例えば切断し、シート基板ＦＢの巻かれた軸部材２１を支持部２２から取り外す。当該支持部２２には、例えばシート基板ＦＢが巻かれていない新たな軸部材２１を取り付ける。

制御部ＣＯＮＴは、このような処理を行わせることにより、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して素子を形成していく。

以上のように、本実施形態によれば、シート基板ＦＢがドラム機構ＤＲＭの第一円筒部ＣＹ１の外周面の一部分に巻き付けられた後、当該シート基板ＦＢの搬送方向が第二円筒部ＣＹ２に向けて変換され、当該シート基板ＦＢが第二円筒部ＣＹ２に巻きつけられる構成とし、第一円筒部ＣＹ１の一部分に巻き付けられた被処理面Ｆｐに第一処理を行うと共に、第二円筒部の一部分に巻き付けられた被処理面Ｆｐに第二処理を行うこととしたので、シート基板ＦＢに対して高密度に処理を行うことができる。これにより、基板処理装置ＦＰＡの省スペース化を図ることが可能となる。
なお、図１及び図２に示した基板処理装置ＦＰＡでは、処理ローラー３２において、シート基板ＦＢが一回しか巻き付けられていないが、ドラム機構ＤＲＭの円筒部材ＣＹＬと同様、第１円筒部及び第２円筒部を備える２段の円筒部で構成し、各円筒部にシート基板ＦＢを巻き付けるようにしてもよい。さらに、この構成において、発光層形成装置４５を第１円筒部及び第２円筒部に配置するようにしてもよい。なお、処理ローラー３２を２段の円筒部で構成した場合、図３に示した案内ローラーＲ４、Ｒ５のように、各回転中心軸が傾いた２本の案内ローラーを使って、シート基板ＦＢを折り返すことができる。

［第二実施形態］
次に、本発明の第二実施形態を説明する。本実施形態では、ドラム機構の構成が第一実施形態とは異なっているため、ドラム機構の構成を中心に説明する。図５は、本実施形態に係るドラム機構ＤＲＭ２の構成を示す斜視図である。

前述の実施形態においては、第一円筒部ＣＹ１及び第二円筒部ＣＹ２が単一の円筒部材ＣＹＬに形成されている構成を例に挙げて説明したが、第二実施形態では、図５のように、第一円筒部ＣＹ１と第二円筒部ＣＹ２とを異なる円筒部材（例えば、第一円筒部材Ｃ１及び第二円筒部材Ｃ２）に形成する構成が示されている。

図５に示すように、第一円筒部材Ｃ１と第二円筒部材Ｃ２とがＺ方向に離れた状態で配置されている。第一円筒部材Ｃ１の＋Ｚ側の端面Ｃ１ａと、第二円筒部材Ｃ２の−Ｚ側の端面Ｃ２ａとは、互いに対向している。回転軸ＳＦの中心線は、第一円筒部材Ｃ１と第二円筒部材Ｃ２との間で共通（ＸＹ面内で同じ位置）となるように設けられている。

図５に示す構成では、例えば第一円筒部材Ｃ１と第二円筒部材Ｃ２との間で、径が異なっている。具体的には、第一円筒部材Ｃ１の径Ｄ１は、第二円筒部材Ｃ２の径Ｄ２よりも大きくなっている。このように、第一円筒部材Ｃ１と第二円筒部材Ｃ２とが異なる径を有することにより、搬送経路の経路長を調整することができる。

回転駆動機構ＡＣＴ２は、第一円筒部材Ｃ１と第二円筒部材Ｃ２とをそれぞれ独立して回転可能な構成であっても構わない。また、回転駆動機構ＡＣＴ２が第一円筒部材Ｃ１及び第二円筒部材Ｃ２のうち一方のみを回転可能な構成であっても構わない。

図５に示す構成によれば、例えば案内ローラーＲ２１を介したシート基板ＦＢが第一円筒部ＣＹ１に巻き掛けられ、案内ローラー（変換部）Ｒ２２及びＲ２３を介して第二円筒部ＣＹ２に案内される。第二円筒部ＣＹ２に巻き掛けられた後のシート基板ＦＢは、案内ローラーＲ２４を介して案内される。

第一円筒部材Ｃ１と第二円筒部材Ｃ２の直径の違いは、各円筒部材Ｃ１、Ｃ２の周囲に配置される各種の処理装置の加工態様や加工条件、加工部（加工ヘッド部等）の設置サイズ等に依存して生じ得る。

本実施形態では、第一円筒部材Ｃ１から第二円筒部材Ｃ２に渡って、連続したシート基板ＦＢが送られることから、各円筒部材Ｃ１、Ｃ２の直径が異なる場合は、その直径の差分に対応して回転速度（ｒｐｍ）にも差を持たせる必要がある。

また、第一円筒部材Ｃ１と第二円筒部材Ｃ２の各々、或いは何れか一方の円筒部材に、回転駆動用のモータを設ける場合は、シート基板ＦＢの第一円筒部材Ｃ１と接触する部分から第二円筒部材Ｃ２と接触する部分までの間に、所定のテンションを与えることが可能である。

なお、図５に示す構成において、第一円筒部材Ｃ１が−Ｚ側に配置され、第二円筒部材Ｃ２が＋Ｚ側に配置された構成となっているが、これに限られることは無く、第一円筒部材Ｃ１が＋Ｚ側、第二円筒部材Ｃ２が−Ｚ側に配置されていても構わない。

［第三実施形態］
次に、本発明の第三実施形態を説明する。本実施形態では、ドラム機構の構成が上記実施形態とは異なっているため、ドラム機構の構成を中心に説明する。図６は、本実施形態に係るドラム機構ＤＲＭ３の構成を示す斜視図である。

図６に示すように、本実施形態に係るドラム機構ＤＲＭ３は、第一円筒部（加工用基準面）ＣＹ１に対して分離された複数の第二円筒部（加工用基準面）を配置した構成となっている。具体的には、ドラム機構ＤＲＭ３は、第一円筒部ＣＹ１に対して２つの第二円筒部ＣＹ２１及びＣＹ２２を配置した構成となっている。本実施形態においては、第一円筒部ＣＹ１と第二円筒部ＣＹ２１、ＣＹ２２とが異なる円筒部材（例えば、第一円筒部材Ｃ１及び第二円筒部材Ｃ２１、Ｃ２２）に形成されている。

ドラム機構ＤＲＭ３は、第一円筒部材Ｃ１の＋Ｚ側に２つの第二円筒部材Ｃ２１及びＣ２２が配置された構成になっている。２つの第二円筒部材Ｃ２１及びＣ２２は、例えば同一の径Ｄ４及びＤ５となるように形成されている。第一円筒部材Ｃ１の径Ｄ３は、これらの径Ｄ４及びＤ５よりも大きくなるように形成されている。

図６に示すように、第一円筒部材Ｃ１と第二円筒部材Ｃ２１及びＣ２２とは、Ｚ方向に離れた状態で配置されている。第一円筒部材Ｃ１の＋Ｚ側の端面Ｃ１ａと、第二円筒部材Ｃ２１及びＣ２２の−Ｚ側の端面Ｃ２１ａ及びＣ２２ａとは、互いに対向している。第一円筒部材Ｃ１及び第二円筒部材Ｃ２１、Ｃ２２は、それぞれ別個の回転軸ＳＦ１及びＳＦ２１、ＳＦ２２を有している。回転軸ＳＦ１、回転軸ＳＦ２１及び回転軸ＳＦ２２は互いに平行となるように配置されている。回転駆動機構ＡＣＴ３は、第一円筒部材Ｃ１、第二円筒部材Ｃ２１及びＣ２２を、それぞれ独立して回転制御可能である。

図６に示す構成によれば、例えば案内ローラーＲ３１を介したシート基板ＦＢが第一円筒部ＣＹ１に巻き掛けられ、変換部としての案内ローラーＲ３２及びＲ３３（必要なら追加の案内ローラーを設ける）を介して、Ｚ方向の上段の第二円筒部ＣＹ２に案内される。第二円筒部ＣＹ２に巻き掛けられた後のシート基板ＦＢは、案内ローラーＲ３４を介して第二円筒部ＣＹ２２に巻き掛けられ、その後は案内ローラーＲ３５を介して案内される。図６に示す構成において、第一円筒部材Ｃ１が−Ｚ側に配置され、第二円筒部材Ｃ２１及びＣ２２が＋Ｚ側に配置された構成となっているが、これに限られることは無く、第一円筒部材Ｃ１が＋Ｚ側、第二円筒部材Ｃ２１及びＣ２２が−Ｚ側に配置されていても構わない。

［第四実施形態］
次に、本発明の第四実施形態を説明する。本実施形態では、ドラム機構の構成が上記実施形態とは異なっているため、ドラム機構の構成を中心に説明する。図７は、本実施形態に係るドラム機構ＤＲＭ４の構成を示す斜視図である。

図７に示すように、本実施形態に係るドラム機構ＤＲＭ４は、第一円筒部材Ｃ１、第二円筒部材Ｃ２及び第三円筒部材Ｃ３が設けられている。これら第一円筒部材Ｃ１、第二円筒部材Ｃ２及び第三円筒部材Ｃ３は、Ｚ方向に３段に配置された構成になっている。本実施形態においては、第一円筒部材Ｃ１の外周面である第一円筒部ＣＹ１、第二円筒部材Ｃ２の外周面である第二円筒部ＣＹ２、及び第三円筒部材Ｃ３の外周面である第三円筒部ＣＹ３の各々にシート基板が掛け渡され、一連の加工と処理が施される。

第一円筒部材Ｃ１、第二円筒部材Ｃ２、第三円筒部材Ｃ３は、Ｚ方向に離れた状態で配置されている。第一円筒部材Ｃ１、第二円筒部材Ｃ２、第三円筒部材Ｃ３の隣接する端面同士は互いに対向している。回転軸ＳＦは、第一円筒部材Ｃ１、第二円筒部材Ｃ２、第三円筒部材Ｃ３の間で共軸（ＸＹ面内での位置が同じ）となるように設けられている。

第一円筒部材Ｃ１、第二円筒部材Ｃ２、第三円筒部材Ｃ３は、例えば径が等しくなるように形成されている。ドラム機構ＤＲＭ４は、回転駆動機構ＡＣＴ４を有している。回転駆動機構ＡＣＴ４は、例えば３つの円筒部材Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３を一体的に回転させる構成、或いは全て個別に回転駆動させる構成であっても構わないし、第一円筒部材Ｃ１と第二円筒部材Ｃ２とをそれぞれ独立して回転可能な構成であっても構わない。また、回転駆動機構ＡＣＴ４が３つの円筒部材Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３のうちの何れか１つのみをモータ等で強制回転させる構成としても構わない。

図７に示す構成によれば、例えば案内ローラーＲ４１を介したシート基板ＦＢが第一円筒部ＣＹ１に巻き掛けられ、案内ローラー（変換部）Ｒ４２〜Ｒ４５を介して第二円筒部ＣＹ２に案内される。第二円筒部ＣＹ２に巻き掛けられた後のシート基板ＦＢは、案内ローラー（変換部）Ｒ４６〜Ｒ４９を介して第三円筒部ＣＹ３に案内される。第三円筒部ＣＹ３に巻き掛けられた後のシート基板ＦＢは、案内ローラーＲ５０を介して案内される。このように、本実施形態では、第一円筒部ＣＹ１と第二円筒部ＣＹ２の間でのシート基板の引き回し構成を、第二円筒部ＣＹ２と第三円筒部ＣＹ３との間でも同様に繰り返す構成であるため、ドラム機構ＤＲＭ４を使った処理工程をさらに高密度化（処理装置の設置床面積の削減）することができる。

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態においては、３つの円筒部ＣＹ１、ＣＹ２、ＣＹ３の各々の位置でシート基板に対する処理・加工を行なうことを想定したが、例えば、第一円筒部ＣＹ１から第二円筒部ＣＹ２までの間でシート基板ＦＢに対して処理を行なわない構成としても構わない。また、方向変換部としての機能を有する案内ローラーのところで、シート基板に対する処理を行う構成とすることもできる。

図８に示すように、案内ローラーＲ５１によってドラム機構ＤＲＭ５に案内されたシート基板ＦＢは、第一円筒部ＣＹ１に巻き掛けられ、案内ローラーＲ５２を介して案内された後、第二円筒部ＣＹ２に至るまでの経路において、例えば回転軸が水平（ＸＹ平面と平行）となるように配置された案内ローラーＲ５３に巻き掛けられる。ここで、例えば案内ローラーＲ５３に、当該シート基板ＦＢを加熱する加熱装置（加熱・乾燥用のドラム）を設ける構成とすることができる。すなわち、案内ローラーＲ５３を加熱ドラムとして構成することができる。この場合、シート基板ＦＢのうち案内ローラーＲ５３に巻き掛けられた部分が加熱されることになる。図８のように、案内ローラーＲ５３は、案内ローラーＲ５２から立った状態で送られてくるシート基板ＦＢを、案内ローラーＲ５４に立った状態で送り込む為に、ねじれを与える配置になっている。

例えば、ドラム機構ＤＲＭ５における処理装置４０として塗布装置などを用いる場合において、塗布処理された後のシート基板ＦＢに対して乾燥処理などを行うことが好ましいが、そのような場合に、案内ローラー（加熱処理用の回転ドラム）Ｒ５３に塗布工程直後のシート基板を巻き掛けて乾燥工程に利用することができる。乾燥処理後のシート基板ＦＢは、例えば案内ローラーＲ５４を介して第二円筒部ＣＹ２に案内され、第二円筒部ＣＹ２に巻かれた後、案内ローラーＲ５５によって案内される。

また、上記各説明においては、例えばシート基板ＦＢを立てた状態で搬送する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、ドラム機構ＤＲＭ及び処理ローラー３２の少なくとも一方においては、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐを水平面に対して垂直又は傾けた状態で搬送し、ドラム機構ＤＲＭ及び処理ローラー３２の少なくとも一方に搬送する搬送経路においては、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐを水平面に対して実質的に平行に配置する構成であっても構わない。また、シート基板ＦＢの搬送経路において、シート基板ＦＢを立てた状態と横にした状態とを組み合わせる構成としても構わない。
なお、シート基板ＦＢを非水平姿勢、例えば、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐを水平面（ＸＹ平面）に対して所定角度で傾けた状態で搬送又は処理する場合には、ドラム機構ＤＲＭの円筒部材ＣＹＬ、処理ローラー３２、案内ローラーＲ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８等の回転中心軸をＺ方向に対して傾斜させればよい。

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態の構成に加えて、図１、図２に示した搬送装置３０が、各案内ローラー、処理ローラー３２の他に、シート基板ＦＢの姿勢を調整する姿勢調整ローラーを有する構成としても構わない。

この姿勢調整ローラーは、例えばシート基板ＦＢの搬送経路において処理装置４０の上流側に配置することができる。また、例えば処理装置４０の直前に姿勢調整ローラーを配置した構成としても構わない。姿勢調整ローラーは、例えば中心軸がＺ方向に平行になるように配置されており、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に移動可能に設けられている。また、姿勢調整ローラーは、例えば中心軸がＺ軸方向に対して傾くように配置されている。この場合、例えば姿勢調整ローラーの傾きや位置を変化させることで、シート基板ＦＢの姿勢を調整することができる。また、上記の案内ローラーや処理ローラー、処理搬送ローラーが姿勢調整ローラーを兼ねる構成であっても構わない。
また、上述した実施形態において、処理ローラー３２が円筒状に形成されている例について説明したが、円筒状に限られるものではない。例えば、処理ローラーの形状を楕円又は多角柱にしたり、処理ローラーの表面の一部に曲率面を形成する構成であってもよい。この場合、処理ローラー３２を固定し、処理ローラー３２の表面をシート基板ＦＢが接触又は非接触で滑る構成にすることが望ましい。
また、ドラム機構ＤＲＭの円筒部材ＣＹＬも同様に、円筒部材に限られるものではない。例えば、円筒部材ＣＹＬの代わりに、各処置装置４０がシート基板の被処理面を処理する際に、被処理面を曲率面で案内できるような案内面が形成された案内部材や、被処理面を平坦に案内できるような案内面が形成された案内部材を用いてもよい。なお、案内部材を用いる場合には、シート基板ＦＢが接触又は非接触で滑る構成にすることが望ましい。

また、基板供給部ＳＵに設置されるロール状のシート基板ＦＢの先端には、シート基板ＦＢと同程度の厚みを有し、シート基板よりも剛性が高めのリーダ・シートを所定の長さで貼り付けても良い。そのようにしておくと、新しいシート基板ＦＢのロールを基板供給部ＳＵに取り付けた際に、シート基板を処理装置ＦＰＡ４内に自動装填することも可能となる。

ＦＢ…シート基板 ＳＵ…基板供給部 ＰＲ…基板処理部 ＣＢ…チャンバ ＣＬ…基板回収部 ＣＯＮＴ…制御部 Ｆｐ…被処理面 ＤＲＭ…ドラム機構 ＣＹＬ…円筒部材 ＣＹ１…第一円筒部 ＣＹ２…第二円筒部 ＡＣＴ…回転駆動機構 Ｃ１…第一円筒部材 Ｃ２…第二円筒部材 ＤＲＭ〜ＤＲＭ５…ドラム機構 Ｒ１〜Ｒ１０、Ｒ２１〜Ｒ２４、Ｒ３１〜Ｒ３５、Ｒ４１〜Ｒ５３…案内ローラー １０…供給ポート ２０…回収ポート ３０…搬送装置 ３２…処理ローラー ４０…処理装置 ４２Ａ１、４２Ａ２、４２Ｂ１、４２Ｂ２、４２Ｃ１、４２Ｃ２…処理部 ４３…乾燥装置 ＦＰＡ…基板処理装置

Claims (11)

1. 可撓性を有する長尺のシート基板を処理する基板処理装置であって、
   前記長尺の方向に送られる前記シート基板に第１の処理を施す第１処理装置と、
   該第１処理装置に対して前記シート基板の送り方向と交差した方向にずれて配置され、前記シート基板に第２の処理を施す第２処理装置と、
   前記シート基板の２列を、間隔を空けて共に通すことが可能な搬入排出部を備え、前記第１の処理の後のシート基板、又は前記第２の処理の後のシート基板に第３の処理を施す第３処理装置と、
   前記シート基板が前記第１処理装置を通って前記第３処理装置に向かうように、前記シート基板を長尺方向に搬送する第１搬送部と、前記シート基板が前記第３処理装置の後に前記第２処理装置に向かうように、前記シート基板を長尺方向に搬送する第２搬送部と、前記シート基板が前記第２処理装置の後に前記第３処理装置に向かうように、前記シート基板を長尺方向に搬送する第３搬送部とを含む搬送装置と、
   を備える基板処理装置。
2. 前記第１処理装置と前記第２処理装置は、前記シート基板の送り方向と交差した上下方向にずれて配置される、
   請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記第３処理装置の搬入排出部は、前記第１の処理の後のシート基板を搬入する第１の搬入口と前記シート基板を排出する第１の排出口と、前記第２の処理の後のシート基板を搬入する第２の搬入口と前記シート基板を排出する第２の排出口とを有し、
   前記第１の搬入口と前記第２の搬入口を上下方向に配置し、前記第１の排出口と前記第２の排出口を上下方向に配置した、
   請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記第１処理装置は、前記シート基板の被処理面を円筒面状に支持しつつ前記長尺の方向に移動可能とする第１の円筒部材と、該第１の円筒部材の周囲に配置されて前記第１の処理を行う第１の処理部とを備え、
   前記第２処理装置は、前記シート基板の被処理面を円筒面状に支持しつつ前記長尺の方向に移動可能とする第２の円筒部材と、該第２の円筒部材の周囲に配置されて前記第２の処理を行う第２の処理部とを備える、
   請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
5. 前記第１の円筒部材と前記第２の円筒部材は、上下方向に並べて配置されると共に、中心軸の周りに回転可能な回転ドラムで構成される、
   請求項４に記載の基板処理装置。
6. 前記第１搬送部、前記第２搬送部、前記第３搬送部の各々によって形成される前記シート基板の長尺方向の搬送経路には、前記シート基板の搬送方向を変換する為の複数の案内ローラーが設けられ、
   該複数の案内ローラーのうちの少なくとも２つの案内ローラーは、前記第１処理装置と前記第２処理装置の上下方向の配置のずれに応じて、前記シート基板の搬送経路が上下方向にシフトするように配置される、
   請求項２に記載の基板処理装置。
7. 前記第３処理装置による前記第３の処理は、前記シート基板を乾燥させる処理、又は所定の温度に加熱する処理である、
   請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
8. 可撓性を有する長尺のシート基板を長尺方向に搬送しながら、前記シート基板に複数の処理を施す基板処理方法であって、
   前記シート基板を第１処理装置に送り、前記シート基板の被処理面に第１の処理を施す第１工程と、
   前記シート基板を第２処理装置に送り、前記第１の処理を受けた前記シート基板の被処理面に第２の処理を施す第２工程と、
   前記シート基板の２列を共に通すことが可能な搬入排出部を備えた第３処理装置に、前記第１の処理の後の前記シート基板、及び前記第２の処理の後の前記シート基板を送り、前記シート基板の被処理面に第３の処理を施す第３工程と、
   前記第１処理装置、前記第３処理装置、前記第２処理装置、及び前記第３処理装置の順番で前記シート基板を長尺方向に送る搬送装置によって前記シート基板を送る搬送工程と、
   を含む基板処理方法。
9. 前記第３処理装置による前記第３の処理は、前記シート基板を乾燥させる処理、又は所定の温度に加熱する処理である、
   請求項８に記載の基板処理方法。
10. 前記第１処理装置と前記第２処理装置は、前記シート基板の送り方向と交差した上下方向にずれて配置される、
    請求項９に記載の基板処理方法。
11. 前記搬送装置によって形成される前記シート基板の長尺方向の搬送経路には、前記シート基板の搬送方向を変換する為の複数の案内ローラーが設けられ、
    該複数の案内ローラーのうちの少なくとも２つの案内ローラーによって、前記第１処理装置と前記第２処理装置の上下方向の配置のずれに応じて、前記シート基板の搬送経路を上下方向にシフトさせる、
    請求項１０に記載の基板処理方法。

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