JP2022058788A - マスク対及び両面露光装置 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 203
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 3
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 abstract description 21
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 36
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】 基板Sの両面を露光する両面露光装置に搭載されるマスク対のうちの第一のマスク1は第一マスクマーク11と第一補助マスクマーク12を有し、第二のマスク2は第二マスクマーク21と第二補助マスクマーク22を有する。マスク1,2同士のアライメントの際には基板Sを外れた位置で第一補助マスクマーク12と第二補助マスクマーク22を重ね合わせてこの状態をカメラ8で確認する。基板Sに対するマスク1,2のアライメントの際には、第一マスクマーク11と第二マスクマーク21を重ね合わせ、基板Sのアライメント開口Smを通してカメラ8で撮影する。
【選択図】 図1
Description
ロールから引き出しての基板の搬送は間欠的であり、搬送後に停止した基板のうち、一対の露光ユニットの間に位置する部位の両面に所定のパターンの光が照射され、両面が同時に露光される。
上記のようなアライメント構造において、当然ながら、一つのマスクにおいて各マスクマークは基板の大きさの範囲内に入っている。即ち、基板の板面に平行で長尺方向に垂直な方向を基板幅方向とすると、一つのマスクにおける各マスクマークの基板幅方向の離間距離は、基板の幅より短い。
第一のマスクは、基板に対するアライメントのために設けられた二つの第一マスクマークと、第二のマスクに対するアライメントのために設けられた二つの第一補助マスクマークとを有しており、
第二のマスクは、基板に対するアライメントのために設けられた二つの第二マスクマークと、第一のマスクに対するアライメントのために設けられた二つの第二補助マスクマークとを有しており、
第一のマスクには、基板の一方の面に転写しようとするパターンが描かれたパターン領域が設けられているとともに、第二のマスクには、当該基板の他方の面に転写しようとするパターンが描かれたパターン領域が設けられており、
第一のマスクにおいて、二つの第一マスクマーク及び二つの第一補助マスクマークはパターン領域の外側に設けられており、
第二のマスクにおいて、二つの第二マスクマーク及び二つの第二補助マスクマークはパターン領域の外側に設けられており、
第一のマスクにおいて、二つの第一マスクマークのパターン領域までの距離は、二つの第一補助マスクマークのパターン領域までの距離よりも短い距離であり、
第二のマスクにおいて、二つの第二マスクマークのパターン領域までの距離は、二つの第二補助マスクマークのパターン領域までの距離よりも短い距離であり、
二つの第一補助マスクマークは二つの第一マスクマークと同一直線上に並んでおり、
二つの第二補助マスクマークは二つの第二マスクマークと同一直線上に並んでおり、
第一のマスクにおける二つの第一マスクマーク同士の距離は、第二のマスクにおける二つの第二マスクマーク同士の距離に等しく、第一のマスクにおける二つの第一補助マスクマーク同士の距離は、第二のマスクにおける二つの第二補助マスクマーク同士の距離に等しいという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項2記載の発明は、ロールに巻かれたフレキシブルな基板を引き出して間欠的に送る搬送系と、
送られた基板を挟む位置に配置された請求項1記載のマスク対と、
搬送系が基板を停止させてアライメントが行われた後に基板に前記第一第二のマスクを通して光を照射して基板の両面を露光する露光ユニットと
を備えており、
基板は、露光すべき領域に対して所定の位置関係で設けられた二つのアライメントマークを有しており、
前記第一のマスクは、二つの前記第一マスクマーク及び二つの前記第一補助マスクマークが並ぶ前記同一直線が基板の幅方向になるように搭載されており、
前記第二のマスクは、二つの前記第二マスクマーク及び二つの前記第二補助マスクマークが並ぶ前記同一直線が基板の幅方向になるように搭載されており、
二つの前記第一マスクマークと二つの前記第一補助マスクマークとが並ぶ同一直線と、二つの前記第二マスクマークと二つの前記第二補助マスクマークとが並ぶ同一直線とは、各マスクに垂直な方向で見た際には重なっており、
前記各第一マスクマーク、前記各第二マスクマーク、前記各第一補助マスクマーク、前記各第二補助マスクマーク、及び基板の各アライメントマークを撮影することが可能なカメラと、
前記各第一マスクマーク、前記各第二マスクマーク及び基板の各アライメントマークを撮影したカメラからの撮影データにより前記第一第二のマスクを基板の露光すべき領域に対して位置合わせするアライメント手段とが設けられており、
カメラは、
前記第一第二のマスクを基板に対してアライメントするために一方の前記第一マスクマーク及び一方の前記第二マスクマークを撮影する基板アライメント位置と、
前記第一第二のマスク同士をアライメントするために一方の前記第一補助マスクマーク及び一方の前記第二補助マスクマークを撮影するマスクアライメント位置と、
前記第一第二のマスクを基板に対してアライメントするために他方の前記第一マスクマーク及び他方の前記第二マスクマークを撮影する基板アライメント位置と、
前記第一第二のマスク同士をアライメントするために他方の前記第一補助マスクマーク及び他方の前記第二補助マスクマークを撮影するマスクアライメント位置
にそれぞれ設けられているという構成を有する。
また、請求項2記載の発明によれば、上記効果に加え、マスク同士のアライメントの際にマスク対の基板に対するアライメント用のカメラとは別のカメラを使用するので、構造的に簡略になり、またカメラの移動に要する時間が省かれる。
まず、マスク対の発明の実施形態について説明する。図1は、実施形態のマスク対の斜視概略図である。
「マスク対」とは、一対のマスクのセットという意味である。マスク対は、基板の両面を露光する両面露光装置に搭載される第一のマスク1と第二のマスク2とから成っている。各マスク1,2は板状であり、この実施形態では方形である。
露光に使用されるものであるため、各マスク1,2には、転写しようとするパターンが描かれている。各マスク1,2において、パターンが描かれた領域をパターン領域と呼び、図1にPで示す。
図1に示すように、露光作業位置において基板Sも水平な姿勢である。コンタクト露光が行われる場合、図1に示す状態から各マスク1,2が基板Sに向けて移動し、基板Sに密着する。密着状態で各マスク1,2を通して光が照射されて露光が行われる。
これら補助マスクマーク12,22は、マスク1,2同士をアライメントするために特別に設けられたものとなっている。この例では、補助マスクマーク12,22は各マスク1,2に二つずつ設けられている。
四つの第二マスクマーク21も同様であり、基板幅方向においてパターンPの外側に、基板Sの幅Swよりも短い離間距離で形成されている。したがって、第二のマスク2が基板Sに密着した際、四つの第二マスクマーク21は基板1の板面内に位置する。
尚、この実施形態では、二つの第一補助マスクマーク12を結んだ方向は基板幅方向に等しく、二つの第二補助マスクマーク22を結んだ方向は基板幅方向に等しい。また、二つの第一補助マスクマーク12の離間距離は、二つの第二補助マスクマーク22の離間距離に等しい。
このような第一第二補助マスクマーク12,22は、後述するように、マスク1,2同士のアライメントの際に利用される。
図2は、参考例の両面露光装置の正面概略図である。図2に示すように、両面露光装置は、搬送系3と、露光ユニット4とを備えている。
両面露光装置は、前述したように帯状の基板を露光する装置である。このような基板は、例えばポリイミド製で、フレキシブルプリント基板用の基板が例として挙げられる。
送り出し側ピンチローラ32と巻き取り側ピンチローラ34との間に、露光作業位置が設定されている。露光作業位置は、露光ユニット4により基板Sの両面に同時に露光を行う位置である。
第一のマスク1は第一のマスクステージ10に搭載され、第二のマスク2は第二のマスクステージ20に搭載される。各マスクステージ10,20は、方形の枠状であり、各マスク1,2を通した光照射に支障のない形状である。
また、各マスク1,2には、不図示のZ方向移動機構が設けられている。Z方向移動機構は、コンタクト露光のため、各マスク1,2を基板Sに向けて移動させ、基板Sに密着させるための機構である。
図2に示すように、送り出し側ピンチローラ32と、第一駆動ローラ35との間が送り出し側バッファエリア301となっている。また、第二駆動ローラ36と巻き取り側ピンチローラ34との間が巻き取り側バッファエリア302となっている。
巻き取り側バッファエリア302も同様であり、不図示のセンサが配置されている。センサからの信号に従い、弛み量が限度まで多くなると、巻き取り側ピンチローラ34と巻き取り側芯ローラ33が同期して動作し、設定された最小値まで弛み量が減るように基板Sを巻き取る。
図2及び図3に示すように、装置は、アライメントのためのカメラ8を備えている。この参考例では、前述したように、第一マスクマーク11、第二マスクマーク21がそれぞれ四つ設けられているので、これらに合わせて、四台のカメラ8が設けられている。図3に示すように、四台のカメラは、方形の角に相当する位置に設けられている。
マスク1,2同士のアライメントは、装置に初めて各マスク1,2を搭載した際、又は後述するようにマスク1,2を交換した際に行われる。マスク1,2同士のアライメントについては、四つのカメラ8のうちの両側の二つのカメラが使用される。例えば、図3に示す四つのカメラ8のうち、左側の二つのカメラがマスク1,2同士のアライメントに使用される。以下、この二つのカメラ8を、兼用カメラと呼ぶ。
この参考例では、各第一補助マスクマーク12は円周状であり、各第二補助マスクマーク22は、第一補助マスクマーク12より小さい円形であるので、各第二補助マスクマーク22は、各第一補助マスクマーク12内に位置する。そして、各第二補助マスクマーク22の中心が各第一補助マスクマーク12の中心と必要な精度の範囲内で一致すれば、二つのマスク1,2は互いにアライメントされたことになる。
上記マスク1,2同士のアライメントを行った場合、兼用カメラ8は元の位置に戻していく。元の位置とは、基板Sに対するアライメントを行う際のカメラ8の配置位置として設定された位置である。以下、この位置を、基板アライメント位置という。
メインコントローラ6には、メインシーケンスプログラム7から呼び出されて実行されるサブプログラムとして、開口有無判定プログラム71、開口検索プログラム72、開口欠け判定プログラム73、開口欠け解消プログラム74、マーク隠れ判定プログラム75、仮アライメントプログラム76、マーク欠け判定プログラム77、マーク欠け解消プログラム78、本アライメントプログラム79が実装されている。
第一マスクマーク11の中心と第二マスクマーク21の中心が必要な精度で一致しているのを確認した上で、本アライメントプログラム79は、それら中心の中間点を求める。そして、本アライメントプログラム79は、基板Sのアライメント用開口Smの中心を求め、一対のマスクマーク11,21の中心の中間点とのずれを求め、そのずれを解消させるための各マスク1,2の移動の向きと距離を算出する。
一対のマスク1,2は、Z方向において、基板Sから離れた待機位置に位置している。この位置は、マスク対の基板Sに対するアライメントが行われるXY平面が存在する位置である。
メインシーケンスプログラム7が実行されているメインコントローラ6からは、送りストロークLfの分だけ基板Sを送るよう搬送系3に制御信号が送られる。これにより、第一駆動ローラ35及び第二駆動ローラ36が同期して動作し、基板Sが送りストロークLfだけX方向前側(巻き取り側)に送られる。
各マスク1,2が待機位置に戻ったのが確認されると、メインシーケンスプログラム7は、搬送系3に制御信号を送り、送りストロークLfの分だけ基板SをX方向前側に送らせる。その後は、上記と同じ動作であり、送りストロークLfの基板Sの間欠送りの合間にアライメントをした上で露光を行う動作を繰り返す。
前述したように、マスク1,2の交換の際、長さ方向の途中まで処理した基板Sをいったん巻き取り、交換後に再び引き出して元の状態にするのは大変面倒であるので、参考例の装置では、基板Sはそのままにしてマスク1,2を交換する。即ち、第一のマスク1を第一のマスクステージ10から取り外し、別の第一のマスク1を第一のマスクステージ10に装着する。また、第二のマスク2を第二のマスクステージ20から取り外し、別の第二のマスク2を第二のマスクステージ20に装着する。
マスク1,2のアライメントが完了すると、これらマスク1,2での露光の準備が完了するので、以後、上述した動作を繰り返す。
また、実施形態のマスク対は、補助マスクマーク12,22を有しており、第一補助マスクマーク12と第二補助マスクマーク22の基板幅方向での離間距離が基板Sの幅Swを超えているので、基板Sを外れた位置で両側の各補助マスクマーク12,22をカメラ8で撮影することができ、それによりマスク1,2同士のアライメントができる。このため、マスク1,2同士のアライメント完了後にマスク1,2を元の位置に戻すような移動動作は不要であり、極めて簡便に短時間にマスク1,2同士のアライメントが行える。
尚、上記参考例及び実施形態において、マスク1,2の交換時のマスク1,2同士のアライメントはマニュアル作業であったが、間欠送りのたびに繰り返される露光に先立ってのアライメント動作においてもマスク1,2同士のアライメントは行われる場合があり、これは、メインコントローラ6による自動制御となっている。また、マスク交換時のマスク1,2同士のアライメントはマニュアル作業であるように説明したが、メインコントローラ6による自動制御でこれを行うことも可能である。
尚、搬送系3としては、基板Sの送り方向が上下方向の場合もある。この場合は、垂直な姿勢の基板Sの両面にマスクを通して露光を行うことになり、左右に露光ユニット4が配置される。
尚、二つの第一マスクマーク11の基板幅方向の離間距離や二つの第二マスクマーク21の離間距離が、基板Sの幅Swに一致している場合もある。例えば、基板Sのアライメントマークが基板Sの両側縁に設けられていたり、両側縁に設けた切り欠きであったりした場合、二つの第一マスクマーク11の基板幅方向の離間距離が基板Sの幅に一致し、二つの第二マスクマーク21の基板幅方向の離間距離が基板Sの幅に一致する場合がある。
また、マスク交換方法の実施形態の説明において、両方のマスク1,2を交換するとして説明したが、一方のマスク1,2のみを交換する場合もある。この場合でも、交換後のマスク1,2同士のアライメントは必要になり、上記補助マスクマーク12,22を有する構成は、アライメントの簡便化に貢献する。
尚、プロキシミティ方式や投影露光方式の場合、一対のマスクを基板に密着させることは不要であるので、マスクをZ方向に移動させる機構が設けられない場合もある。
11 第一マスクマーク
12 第一補助マスクマーク
2 第二のマスク
21 第二マスクマーク
22 第二補助マスクマーク
3 搬送系
4 露光ユニット
41 光源
42 光学系
5 マスク移動機構
6 メインコントローラ
61 記憶部
7 メインシーケンスプログラム
71 開口有無判定プログラム
72 開口検索プログラム
73 開口欠け判定プログラム
74 開口欠け解消プログラム
75 マーク隠れ判定プログラム
76 仮アライメントプログラム
77 マーク欠け判定プログラム
78 マーク欠け解消プログラム
79 本アライメントプログラム
8 カメラ
81 カメラ移動機構
S 基板
Sm アライメント用開口
Claims (2)
- 基板の両面を露光する両面露光装置に搭載される第一のマスクと第二のマスクとから成るマスク対であって、
第一のマスクは、基板に対するアライメントのために設けられた二つの第一マスクマークと、第二のマスクに対するアライメントのために設けられた二つの第一補助マスクマークとを有しており、
第二のマスクは、基板に対するアライメントのために設けられた二つの第二マスクマークと、第一のマスクに対するアライメントのために設けられた二つの第二補助マスクマークとを有しており、
第一のマスクには、基板の一方の面に転写しようとするパターンが描かれたパターン領域が設けられているとともに、第二のマスクには、当該基板の他方の面に転写しようとするパターンが描かれたパターン領域が設けられており、
第一のマスクにおいて、二つの第一マスクマーク及び二つの第一補助マスクマークはパターン領域の外側に設けられており、
第二のマスクにおいて、二つの第二マスクマーク及び二つの第二補助マスクマークはパターン領域の外側に設けられており、
第一のマスクにおいて、二つの第一マスクマークのパターン領域までの距離は、二つの第一補助マスクマークのパターン領域までの距離よりも短い距離であり、
第二のマスクにおいて、二つの第二マスクマークのパターン領域までの距離は、二つの第二補助マスクマークのパターン領域までの距離よりも短い距離であり、
二つの第一補助マスクマークは二つの第一マスクマークと同一直線上に並んでおり、
二つの第二補助マスクマークは二つの第二マスクマークと同一直線上に並んでおり、
第一のマスクにおける二つの第一マスクマーク同士の距離は、第二のマスクにおける二つの第二マスクマーク同士の距離に等しく、第一のマスクにおける二つの第一補助マスクマーク同士の距離は、第二のマスクにおける二つの第二補助マスクマーク同士の距離に等しいことを特徴とするマスク対。 - ロールに巻かれたフレキシブルな基板を引き出して間欠的に送る搬送系と、
送られた基板を挟む位置に配置された請求項1記載のマスク対と、
搬送系が基板を停止させてアライメントが行われた後に基板に前記第一第二のマスクを通して光を照射して基板の両面を露光する露光ユニットと
を備えており、
基板は、露光すべき領域に対して所定の位置関係で設けられた二つのアライメントマークを有しており、
前記第一のマスクは、二つの前記第一マスクマーク及び二つの前記第一補助マスクマークが並ぶ前記同一直線が基板の幅方向になるように搭載されており、
前記第二のマスクは、二つの前記第二マスクマーク及び二つの前記第二補助マスクマークが並ぶ前記同一直線が基板の幅方向になるように搭載されており、
二つの前記第一マスクマークと二つの前記第一補助マスクマークとが並ぶ同一直線と、二つの前記第二マスクマークと二つの前記第二補助マスクマークとが並ぶ同一直線とは、各マスクに垂直な方向で見た際には重なっており、
前記各第一マスクマーク、前記各第二マスクマーク、前記各第一補助マスクマーク、前記各第二補助マスクマーク、及び基板の各アライメントマークを撮影することが可能なカメラと、
前記各第一マスクマーク、前記各第二マスクマーク及び基板の各アライメントマークを撮影したカメラからの撮影データにより前記第一第二のマスクを基板の露光すべき領域に対して位置合わせするアライメント手段とが設けられており、
カメラは、
前記第一第二のマスクを基板に対してアライメントするために一方の前記第一マスクマーク及び一方の前記第二マスクマークを撮影する基板アライメント位置と、
前記第一第二のマスク同士をアライメントするために一方の前記第一補助マスクマーク及び一方の前記第二補助マスクマークを撮影するマスクアライメント位置と、
前記第一第二のマスクを基板に対してアライメントするために他方の前記第一マスクマーク及び他方の前記第二マスクマークを撮影する基板アライメント位置と、
前記第一第二のマスク同士をアライメントするために他方の前記第一補助マスクマーク及び他方の前記第二補助マスクマークを撮影するマスクアライメント位置
にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項1記載の両面露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022011878A JP7234426B2 (ja) | 2017-11-30 | 2022-01-28 | マスク対及び両面露光装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017231298A JP7323267B2 (ja) | 2017-11-30 | 2017-11-30 | 両面露光装置 |
JP2022011878A JP7234426B2 (ja) | 2017-11-30 | 2022-01-28 | マスク対及び両面露光装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017231298A Division JP7323267B2 (ja) | 2017-11-30 | 2017-11-30 | 両面露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022058788A true JP2022058788A (ja) | 2022-04-12 |
JP7234426B2 JP7234426B2 (ja) | 2023-03-07 |
Family
ID=87884753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022011878A Active JP7234426B2 (ja) | 2017-11-30 | 2022-01-28 | マスク対及び両面露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7234426B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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---|---|
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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