JP5812022B2 - 含フッ素オルガノシロキサン及びその製造方法 - Google Patents
含フッ素オルガノシロキサン及びその製造方法 Download PDFInfo
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特許第4873666号公報(特許文献1)等に記載されているアクリル基含有の含フッ素オルガノシロキサンに加えて、その添加効果に優れたアクリル基含有含フッ素オルガノシロキサンが更に要望されている。
なお、本発明に関連する従来技術として、上述した文献と共に下記文献が挙げられる。
〔1〕
下記一般式(1)で示される含フッ素オルガノシロキサン。
で表される基である。kは1又は2、mは0,1又は2、nは1〜4の整数で、かつ4≦k+m+n≦6を満たす。]
〔2〕
下記一般式(2)で示される含フッ素環状シロキサンと、下記一般式(3)で示される(メタ)アクリル基含有シラノール化合物とを脱水素反応させる下記一般式(1)で示される含フッ素オルガノシロキサンの製造方法。
で表される基である。kは1又は2、pは2〜5の整数で、かつ4≦k+p≦6を満たし、またmは0,1又は2、nは1〜4の整数で、かつ4≦k+m+n≦6を満たす。]
で表される基である。kは1又は2、mは0,1又は2、nは1〜4の整数で、かつ4≦k+m+n≦6を満たす。]
F−(C3F6O)a−(C2F4O)b−(CF2O)c− (i)
(式中、aは0〜100の整数、bは0〜300の整数、cは0〜300の整数であり、好ましくはaは0〜50の整数、bは0〜100の整数、cは0〜100の整数である。なお、上記各セグメントの配列はブロックであってもランダムであっても構わない。)
F−(CdF2dO)e−CfF2f− (ii)
(式中、dは2又は3、eは1〜300の整数、好ましくは1〜100の整数であり、fは1〜3の整数である。)
で示されるパーフロロアルキルエーテル基などが例示される。
また、上記反応において、テトラヒドロフランやジグライム、トルエン等の溶剤を用いると、本反応を効率良く進めることができるため好ましい。
ここで、本発明の含フッ素オルガノシロキサンを添加し得る紫外線(UV)硬化型アクリル系ハードコート材としては、(メタ)アクリル系化合物として、例えば、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素−(2,2,2−トリ−(メタ)アクリロイルオキシメチル)エチル、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート等の2〜6官能の(メタ)アクリル化合物、これらの(メタ)アクリル化合物をエチレンオキシド、プロピレンオキシド、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品、エポキシ樹脂にアクリル酸を付加させて得られるエポキシアクリレート類、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、及びペンタエリスリトールトリアクリレートから選ばれる水酸基を有する(メタ)アクリレートと、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、及びジフェニルメタンジイソシアネートから選ばれるポリイソシアネートを反応させたウレタンアクリレート類、アクリル酸エステル共重合体の側鎖に(メタ)アクリロイル基を導入した共重合体等の多官能(メタ)アクリレート混合物等を使用することができ、これにベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の光重合開始剤を配合して用いる。
温度計、ジムロートを付した100ml三口フラスコに、下記式(I)のシクロシロキサン19.6gとテトラヒドロフラン20.0gを仕込み、この混合物にジエチルヒドロキシルアミン0.013gを添加し、5分間電磁攪拌すると、水素ガスが発生した。この混合物に下記式(II)の含フッ素シラノールの50質量%トルエン溶液13.2gを25℃で滴下すると水素ガスが発生し、発熱した。33℃まで内温が上昇したが、その後、内温が低下し、25℃で4時間攪拌したところ、水素ガス発生も収まった。テトラヒドロフラン等の揮発成分を減圧留去することにより、透明な液体を32.8g得ることができた。
1H−NMR
δ0.1〜0.2(Si−CH3)
δ0.53(Si−CH2)
δ1.62(CH2−CH2−CH2)
δ3.50(O−CH2−CH2)
δ3.81(Si−CH2−O)
δ3.94(O−CH2−CF2)
δ5.7〜6.4(アクリル基)
IR
νC=O : 1,729cm-1
νCH=CH : 1,621、1,637cm-1
温度計、ジムロートを付した100ml三口フラスコに、下記式(IV)のシクロシロキサン45.6gとテトラヒドロフラン45.0gを仕込み、この混合物にジエチルヒドロキシルアミン0.005gを添加し、5分間電磁攪拌すると、水素ガスが発生した。この混合物に下記式(II)の含フッ素シラノールの50質量%トルエン溶液10.6gを25℃で滴下すると水素ガスが発生した。25℃で28時間攪拌したところ、水素ガス発生も収まった。テトラヒドロフラン等の揮発成分を減圧留去することにより、透明な液体を32.8g得ることができた。
1H−NMR
δ0.1〜0.2(Si−CH3)
δ0.44(Si−CH2)
δ0.68(Si−CH2)
δ3.33(N−CH3)
δ3.81〜3.88(Si−CH2−O)
δ4.66(Si−H)
δ5.8〜6.4(アクリル基)
IR
νC=O : 1,729cm-1
νCH=CH : 1,621、1,637cm-1
νSi−H : 2,167cm-1
Claims (2)
- 下記一般式(1)で示される含フッ素オルガノシロキサン。
で表される基である。kは1又は2、mは0,1又は2、nは1〜4の整数で、かつ4≦k+m+n≦6を満たす。] - 下記一般式(2)で示される含フッ素環状シロキサンと、下記一般式(3)で示される(メタ)アクリル基含有シラノール化合物とを脱水素反応させる下記一般式(1)で示される含フッ素オルガノシロキサンの製造方法。
で表される基である。kは1又は2、pは2〜5の整数で、かつ4≦k+p≦6を満たし、またmは0,1又は2、nは1〜4の整数で、かつ4≦k+m+n≦6を満たす。]
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JP2013024262A JP5812022B2 (ja) | 2013-02-12 | 2013-02-12 | 含フッ素オルガノシロキサン及びその製造方法 |
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