JP5810467B2 - 結像光学系及び該結像光学系を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 - Google Patents

Description

本発明は、物体平面内の物体視野を像平面内の像視野内に結像する複数のミラーを有する結像光学系に関する。更に、本発明は、この種の結像光学系を有する投影露光装置、この種の投影露光装置を用いて微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素を生成する方法、及び本方法によって製造される微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素に関する。

冒頭で示した種類の結像光学系の実施形態は、ＵＳ ２００６／０２３２８６７ Ａ１、ＵＳ ２００８／０１１８８４９ Ａ１、及びＵＳ ６，７５０，９４８ Ｂ２から公知である。

ＵＳ ２００６／０２３２８６７ Ａ１ ＵＳ ２００８／０１１８８４９ Ａ１ ＵＳ ６，７５０，９４８ Ｂ２

本発明の目的は、結像光に対して、小さい結像誤差と、管理可能な生産と、良好な収量との制御可能な組合せが達成されるような方法で冒頭に示した種類の結像光学系を開発することである。

本発明によるとこの目的は、請求項１に開示する特徴を有する結像光学系によって達成される。

２つの結像部分ビームの交差領域は、結像ビーム経路内で第３及び第４のミラーの領域内の小型のビーム進路の可能性をもたらす。交差領域の前のビーム経路には、自由設置空間を設けることができる。結像ビーム経路のうちで、更に別の結像部分ビームからの間隔に起因して自由であるこの部分内には、機械的に接近可能であり、１回の通過を受ける瞳を瞳平面に配置することができ、従って、他の結像部分ビームの遮蔽なしに、又は実質的にこの遮蔽なしに掩蔽絞りの配列が可能であり、従って、周辺遮光がない。一般的に、結像光学系の瞳は、結像ビーム経路の境界を定める開口絞りの全ての像を意味するように理解される。これらの像が収まる平面を瞳平面と呼ぶ。しかし、開口絞りの像は、必ずしも厳密に平坦ではないので、一般的に、これらの像に近似的に一致する平面を同様に瞳平面と呼ぶ。開口絞り自体の平面も瞳平面と呼ぶ。開口絞りの像におけるものと同様に開口絞りが平面ではない場合には、開口絞りに最良に一致する平面を瞳平面と呼ぶ。

結像光学系の入射瞳は、開口絞りが、結像光学系のうちで物体平面と開口絞りの間に位置する部分によって結像される場合に生成され、開口絞りの像を意味するように理解される。それに応じて射出瞳は、開口絞りが、結像光学系のうちで像平面と開口絞りの間に位置する部分によって結像される場合に生成され、開口絞りの像である。

入射瞳が開口絞りの虚像である場合には、言い換えれば、入射瞳平面が物体視野の前に位置する場合には、入射瞳の負後部焦点が参照される。この場合、主光線は、結像ビーム経路の前の点から射出したかのように全ての物体視野点に延びている。各物体点に対する主光線又は主ビームを物体点と入射瞳の中心点の間の接続ビームとして定める。従って、入射瞳の負の後部焦点の場合には、全ての物体点に対する主光線は、物体視野において発散するビーム進路を有する。

関連付けられた物体点から発する全てのビームが、開口部内である像要素に到達しない場合には、この像要素において遮蔽又は掩蔽された入射瞳が存在する。従って、射出瞳内で、この像要素からいかなるビームも到達することができない領域が存在する。この領域を瞳掩蔽と呼ぶ。

瞳の別の定義は、結像光学系の結像ビーム経路内で、物体視野点から発する個別ビームが交差し、これらの物体視野点から発する主光線に対して各場合に同じ照明角度に関連付けられる領域である。この平面を瞳平面と呼ぶことができ、瞳平面には別の瞳定義に従って個別ビームの交差点が位置するか、又は瞳平面は、必ずしも平面に厳密に位置しなくてもよいこれらの交差点の空間分布の最もの近くにくる。

別途ビーム経路に影響を与えることなく、瞳に関連付けられた瞳平面内の絞り構造によって一部分で、及び／又は縁部において瞳を遮蔽し、及び／又はその境界を定めることができる場合には、この瞳は機械的に接近可能であり、周辺遮光がない。物体視野の前の結像ビーム経路内、言い換えれば、物体視野と像視野の間の結像ビーム経路の外側に配置された入射瞳は、結像光学系の物体視野を少数の構成要素しか持たない照明光学系を用いて照明する可能性をもたらし、これは結像光損失を最小にするのに役立つ。機械的に接近可能な瞳を取り囲む自由設置空間は、瞳の開口部の周囲で、機械的に接近可能な瞳の直径、言い換えれば自由開口部の直径の０．２５倍、０．５倍、０．７５倍、又は１．０倍の広がりを有することができる。

本発明による機械的に接近可能な瞳内には、更に大きい設置空間を存在させることができる。

請求項２に記載の結像光学系は、小さい結像誤差と、管理可能な生産と、良好な結像光収量との特に有利な組合せを可能にする。

請求項３に記載の開口絞りの配列により、瞳掩蔽率を予め定めることができるのみならず、１回の通過を受ける瞳又は機械的に接近可能な瞳の外側形態を予め定めることができる。一方で掩蔽絞りと他方で開口絞りとは、機械的に接近可能な瞳の領域に配置された厳密に１つの絞りユニットの絞り領域とすることができる。

請求項４に記載の１回の通過を受ける瞳又は機械的に接近可能な瞳の配列は、機械的に特に良好に接近することができる瞳の可能性をもたらす。

請求項５に記載の配列は、第２のミラーと物体視野の間に、例えば、物体視野を照明するための照明光学系の構成要素の配列に対して使用することができる設置空間を与える。

請求項６に記載の２つの中間像平面は、結像ビーム経路のうちで、比較的小さい直径を有する結像光のビーム束が決定的である領域に配置することができる。

請求項７及び請求項８に記載の中間像平面の配列は、結像光の小型の誘導に特に適することが明らかにされた。第１の中間像平面は、結像ビーム経路のうちで、結像光が結像光学系のミラーのうちの１つを通り越して誘導される領域内に位置させることができる。第２の中間像平面は、結像光の通過のためのミラーのうちの１つの貫通開口部の領域に配置することができる。

請求項９に記載の中心瞳掩蔽率は、瞳中心の領域内で結像光収量の僅かな損失しか招かない。中心瞳掩蔽率は、機械的に接近可能な瞳内の結像光のビーム束の直径の最大で２４％又は最大で２３％とすることができる。

請求項１０及び請求項１１に記載の結像パラメータは、精密な結像を有利にもたらす。最大波面誤差は、５０ｍλとすることができ、更には２０ｍλとすることができ、λは、各場合に結像光の波長を表す。

請求項１２に記載の非掩蔽部分対物系と掩蔽部分対物系への結像光学系の分割は、結像光学系の設計を簡素化する。

請求項１３に記載の反射光学系は、色結像誤差を回避する。

請求項１４に記載の結像光学系を投影光学系として使用する場合、及び請求項１５に記載の光学系内では、この結像光学系の利点は特に明確に浮かび上がる。

本発明による投影露光装置の利点は、本発明による結像光学系に関して上記に列挙したものに対応する。投影露光装置の光源は、広帯域のものとすることができ、例えば、１ｎｍよりも大きく、１０ｎｍよりも大きく、又は１００ｎｍよりも大きい帯域幅を有することができる。更に、投影露光装置は、異なる波長の光源で作動させることができるように構成することができる。特にマイクロリソグラフィに使用される他の波長のための光源、例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、１２６ｎｍ、１０９ｎｍの波長、更には特に１００ｎｍよりも短い、例えば、５ｎｍと３０ｎｍの間の波長を有する光源を本発明による結像光学系と併用することができる。

投影露光装置の光源は、５ｎｍと３０ｎｍの間の波長を有する照明光を生成するように構成することができる。この種の光源は、ミラー上に、最小の反射率を満たすために小さい入射角許容帯域幅しか持たない反射コーティングを必要とする。本発明による結像光学系により、小さい入射角許容帯域幅というこの要件を満たすことができる。

本発明による生産方法及びそれによって生産される微細構造化構成要素には、対応する利点が適用される。

本発明の実施形態を図面を用いて以下により詳細に説明する。

ＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置の概略図である。 図１に記載の投影露光装置内で投影対物系として使用することができる結像光学系の構成を示し、結像ビーム経路を３つの代表的な視野点の主光線に対して（仮想的に）、更に上側及び下側のコマビームに対して示す図である。 実結像ビーム経路を様々な個別ビームに対して示す図２に記載の結像光学系の図である。 図１に記載の投影露光装置内で投影対物系として使用することができる結像光学系の更に別の構成を図２と類似の図に示す図である。 図４に記載の結像光学系を図３と類似の図に示す図である。

マイクロリソグラフィのための投影露光装置１は、照明光又は結像光３のための光源２を有する。光源２は、例えば、５ｎｍと３０ｎｍの間、特に５ｎｍと１５ｎｍの間の波長範囲の光を生成するＥＵＶ光源である。光源２は、特に６．９ｎｍの波長を有する光源、又はそうでなければ１３．５ｎｍの中心波長を有する光源とすることができる。他のＥＵＶ波長も可能である。一般的に、マイクロリソグラフィに対して使用することができ、適切なレーザ光源及び／又はＬＥＤ光源に対して利用可能なあらゆる波長（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、１２９ｎｍ、１０９ｎｍ）、例えば、可視波長又はそうでなければ他の波長でさえも、投影露光装置１内で誘導される照明光３において可能である。図１には、照明光３のビーム経路を非常に概略的に示している。

光源２から物体平面５内の物体視野４に向けて照明光３を誘導する上で照明光学系６が使用される。投影光学系又は結像光学系７を用いて、物体視野４は、像平面９内の像視野８内に所定の縮小スケールで結像される。像視野８は、ｘ方向に１３ｍｍの広がりを有し、ｙ方向に１ｍｍの広がりを有する。図２及びそれ以降の図に図示の実施形態のうちの１つを投影光学系７に対して使用することができる。図２に記載の投影光学系７は、８倍の縮小を行う。他の縮小スケール、例えば、４×、５×、又はそうでなければ８×よりも大きい縮小スケールも可能である。８×の結像スケールは、それによって反射マスク１０上の物体側の入射角を小さく保つことができるので、特にＥＵＶ波長を有する照明光３に適している。８×の結像スケールは、不要に大きいマスクを使用する必要性を招くこともない。図２及びそれ以降の図に記載の構成では、投影光学系７内の像平面９は、物体平面５と平行に配置される。この場合、物体視野４と一致する反射マスク１０の詳細内容が結像され、この反射マスクをレチクルとも呼ぶ。

投影光学系７による結像は、基板ホルダ１２によって担持されてウェーハの形態にある基板１１の面上で発生する。図１では、レチクル１０と投影光学系７の間に、投影光学系７を進む照明光３のビーム束１３を略示しており、投影光学系７と基板１１の間に、投影光学系７から射出する照明光３のビーム束１４を略示している。図２に記載の構成における投影光学系７の像視野側開口数は、０．５０である。図１では、この開口数を正確な縮尺で示していない。

投影露光装置１及び投影光学系７の様々な構成の説明を容易にするために、図面内に直交ｘｙｚ座標系を提供し、この直交ｘｙｚ座標系から、図に示す構成要素のそれぞれの位置関係がもたらされる。図１では、ｘ方向は作図面と垂直にそれに向けて延びている。ｙ方向は右に延び、ｚ方向は下向きに延びている。

投影露光装置１は、スキャナ型のものである。レチクル１０と基板１１の両方が、投影露光装置１の作動中にｙ方向に走査される。基板１１の個々の露光の合間にレチクル１０及び基板１１の段階的な変位がｙ方向に発生するステッパ型の投影露光装置１も可能である。

図２及び図３は、第１の実施形態の投影光学系７の光学設計を示している。図２には、図２でｙ方向に互いから分離する５つの物体視野点から発する３つのそれぞれの個別ビーム１５のビーム経路を示している。これらの５つの物体視野点のうちの１つに属する３つの個別ビーム１５は、各場合に２つの物体視野点における３つの異なる照明方向に関連付けられる。中心瞳掩蔽の理由から、投影光学系７の瞳平面１７内で瞳の中心を通過する主光線又は主ビーム１６は、投影光学系７の実結像ビーム経路ではなく、仮想結像ビーム経路であるから、図２ではこれらの主光線を図式的な理由でのみ示している。これらの主光線１６は、物体平面５から発して最初に発散して進む。下記では、これを投影光学系７の入射瞳の負の後部焦点距離とも呼ぶことにする。図２及び図３に記載の投影光学系７の入射瞳は、投影光学系７内に位置せず、物体平面５の前のビーム経路に位置する。それによって、例えば、照明光学系６の瞳構成要素は、投影光学系７の前のビーム経路内の投影光学系７の入射瞳に配置することができ、この瞳構成要素と物体平面５の間に更に別の結像光学構成要素を置く必要がない。投影光学系７の入射瞳内への照明光学系６の瞳構成要素の配列というこの事例では、中間の結像光学構成要素なしに、例えば、瞳構成要素と物体平面５の間にビームを偏向するだけの機能を提供するミラー、例えば、かすめ入射のためのミラーを配置することができる。

図２及び図３に記載の投影光学系７は、物体視野４から発する個別ビーム１５のビーム経路の順にＭ１からＭ８と順次番号が振られた合計で８つのミラーを有する。図２及び図３は、ミラーＭ１からＭ８の計算上の反射面を示している。図２の図に見られるように、これらの計算上の反射面のうちで小さい領域のみが使用される。反射面のうちでこの実際に使用される領域のみが実際のミラーＭ１からＭ８に存在する。これらの有用反射面は、ミラー本体によって公知の方式で担持される。

図２及び図３に記載の投影光学系７の光学データを２つの表を用いて以下に示している。第１の表は、「半径」という列に、ミラーＭ１からＭ８のそれぞれの曲率半径を示している。第３の列（厚み）は、物体平面５から進んで各場合に次の面からのｚ方向の間隔を記載している。

第２の表は、ミラーＭ１からＭ８の反射面の精密な面形状を記載しており、定数Ｋ及びＡからＧは、矢状高さｚに関する次式に代入されるものである。

ここで、ｈは、投影光学系７の光軸１８からの間隔である。従って、ｈ²＝ｘ²＋ｙ²が適用される。ｃには、「半径」の逆数値が代入される。

（表１）

（表２）

物体視野４及び像視野８は、光軸１８の回りのリングセグメント形状で配置される。ミラーＭ１からＭ４は、ほぼリングセグメント形方式で、かつ光軸１８に対して軸外に使用される。従って、ミラーＭ１からＭ４の使用光学反射面は、光軸１８から離れている。物体視野４及び像視野８は、光軸１８から分離して配置される。全てのミラーＭ１からＭ８の反射面は、光軸１８に関する矢状高さｚに関する上述の式に従って回転対称である。代替的に、ミラーＭ１からＭ８が、回転対称形状からの偏位を有することができる。

ミラーＭ１、Ｍ３、Ｍ４、Ｍ６、及びＭ８は、凹ミラーとして構成される。ミラーＭ２、Ｍ５、及びＭ７は、凸ミラーとして構成される。

ミラーＭ１とＭ６及びＭ５とＭ８は、これらミラーの反射面の向きに関して対向して配置される。

ミラーＭ１からＭ６の光学的使用領域は、結像光の通過のためのいかなる貫通開口部も持たず、言い換えれば掩蔽されない。

ミラーＭ６とＭ７の間の結像ビーム経路では、個別ビーム１５は、ミラーＭ８内の貫通開口部１９を通過する。貫通開口部１９の周囲のミラーＭ８が使用される。従って、ミラーＭ８は掩蔽されたミラーである。ミラーＭ８の他には、ミラーＭ７も同様に掩蔽され、更に各場合に事実上中心の貫通開口部１９を有する。ミラーＭ７の貫通開口部１９は、ミラーＭ８と像視野８の間の結像ビーム経路内で像視野８に達する直前に結像光３による通過を受ける。

投影光学系７内のミラーＭ２とＭ３の間の結像ビーム経路には瞳平面１７が位置する。瞳平面１７は、物体視野４とミラーＭ８の貫通開口部１９の間の結像ビーム経路に位置する。瞳平面１７内には、投影光学系７の瞳の中心遮蔽のための掩蔽絞り２０が配置される。瞳平面１７内の瞳は、この目的のために機械的に接近可能に配置される。掩蔽絞り２０は、瞳平面１７内で、貫通開口部１９の理由から物体視野７の結像に寄与しない結像光３の中心領域を遮蔽する。この種の掩蔽絞りは、例えば、結像光の極小部分しか遮光しない薄い金属支柱によって機械的に担持することができる（ＵＳ ２００６／０２３２８６７ Ａ１の図７ｄを参照されたい）。特許出願ＵＳ ２００６／０２３２８６７ Ａ１に記載の図７ｂには、機械的ホルダにおける更に別の変形が示されている。

図２及び図３には、掩蔽絞り２０のみを示している。図３には、掩蔽絞り２０の光学効果を示しており、投影光学系７を通じる実結像ビーム経路を代表的な種類の個別ビーム１５を用いて示している。図３では、この種類の個別ビーム１５の中心領域が掩蔽絞り２０の周囲の結像ビーム経路内で遮蔽されることを明確に見ることができる。この中心遮蔽は、物体視野４と像視野８の間の結像ビーム経路内の更に別の瞳平面の領域内にも見ることができる。これらの更に別の瞳平面のうちの１つである瞳平面２１は、ミラーＭ５とＭ６の間の結像ビーム経路に位置する。更に、投影光学系７の射出瞳の領域内の掩蔽絞り２０の中心遮蔽効果をミラーＭ７及びＭ８内の結像ビーム経路領域内に見ることができる。

ミラーＭ２とＭ３の間の結像ビーム経路内では、瞳平面１７の後に、投影光学系７の第１の中間像平面２２が位置する。投影光学系７の瞳平面２１と射出瞳の間では、ミラーＭ６とＭ７の間の結像ビーム経路に第２の中間像平面２３が位置する。第２の中間像は、ミラーＭ８内の貫通開口部１９に密接する第２の中間像平面２３内に位置する。その結果、この貫通開口部１９は、ミラーＭ８の使用反射面と比較して非常に小さくすることができる。投影光学系７内の中心瞳掩蔽率は、瞳平面１７内の結像光３のビーム束全体の直径の２４％である。それに応じて、瞳平面１７では結像光３のビーム束の断面積の５．７６％しか遮蔽されない。

投影光学系７内の第１の結像部分ビーム２４は、ミラーＭ２とＭ３の間を進む。第２の結像部分ビーム２５は、ミラーＭ４とＭ５との間を進む。これらの２つの結像部分ビーム２４、２５は、交差領域２６内で互いに交差する。この交差領域は、ミラーＭ６に空間的に近い。

掩蔽絞り２０に加えて、瞳平面１７内に投影光学系７の瞳の外側形態を予め定めるための開口絞りを配置することができる。掩蔽絞り２０は、特にこの種の開口絞りの機能を付加的に有することができる。

掩蔽絞り２０及び瞳平面１７内に同様に配置される開口絞りは、各場合に結像ビーム経路が厳密に１回通過する絞りである。

結像ビーム経路内の第２のミラーＭ２は、結像ビーム経路内の第４のミラーＭ４よりも物体平面５から遠く離れている。その結果、第２のミラーＭ２と物体視野４の間には、図２に破線で示し、例えば、照明光学系６のミラー、特にかすめ入射ミラーを内部に配置することができる設置空間２７が設けられる。設置空間２７には円柱を書き込むことができ、その回転対称軸は、光軸１８と一致する。この設置円柱空間のｚ広がりは、投影光学系７の設置全長、言い換えれば物体平面５と像平面９の間の間隔の１６％よりも長い。この設置円柱空間の半径は、光軸１８からの物体視野４のｙ間隔に対応するｙ寸法を有する。

投影光学系７は、１３ｎｍの結像光波長において約１３ｍλの波面補正量を有する。

投影光学系７は、５ｎｍの最大歪曲を有する。

投影光学系７は、ミラーＭ１からＭ６を有し、言い換えれば結像光３に対する貫通開口部を持たない第１の非掩蔽部分対物系と、結像光３に対する貫通開口部１９を有するミラーＭ７、Ｍ８を有する第２の部分対物系とから構成される。

投影光学系７は、反射光学系、言い換えれば、ミラーＭ１、Ｍ８のみで構成された光学系である。

図４及び図５は、投影露光装置１内で投影光学系７の代わりに使用することができる更に別の実施形態の投影光学系２８を示している。図１から図３を参照して上述したものに対応する構成要素及び詳細内容は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には解説しない。

以下には、構造に関して投影光学系７のための表に対応する２つの表を用いて投影光学系２８の光学データを示している。

（表）

投影光学系２８では、結像ビーム経路内の第１の中間像平面２２は、投影光学系７におけるものよりも瞳平面１７に近い。

投影光学系２８は、ＮＡ＝０．６０の像側開口数を有する。

投影光学系２８では、波面補正量は、約１６ｍλである。投影光学系２８は、０．７ｎｍの最大歪曲を有する。

投影光学系２８内の中心瞳掩蔽率は、例えば、瞳平面１７内で結像光３のビーム束の直径の２３％であり、相応に瞳平面１７内の結像光３のビーム束の断面積の５．２９％である。

瞳平面１７内の結像光３のビーム束に近い結像部分ビームは、瞳平面１７を通過する結像光３のビーム束から非常に分離しているので、この種の開口絞りは、開口絞りが隣接する結像部分ビームを遮ることなく、瞳平面１７内に機械的に配置することができる。

設置空間２７に書き込むことができる設置円柱空間は、投影光学系２８内で物体平面５と像平面９の間の投影光学系２８の設置全長の約１８％であるｚ広がりを有する。

微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素を生成するために、投影露光装置１は、以下の通りに使用される。最初に、反射マスク１０又はレチクルと基板又はウェーハ１１とが準備される。次に、レチクル１０上の構造が、投影露光装置を用いてウェーハ１１の感光層上に投影される。その後に、感光層を現像することにより、ウェーハ１１上に微細構造又はナノ構造が生成され、従って、微細構造化構成要素が生成される。

３ 結像光
４ 物体視野
５ 物体平面
７ 結像光学系
８ 像視野
９ 像平面
１７ 瞳平面
１９ 貫通開口部
２０ 掩蔽絞り
２４ 第１の結像部分ビーム
２５ 第２の結像部分ビーム
２６ 交差領域
Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４、Ｍ５、Ｍ６、Ｍ７、Ｍ８ ミラー

Claims (16)

1. 物体平面（５）の物体視野（４）を像平面（９）の像視野（８）に結像する少なくとも６つのミラー（Ｍ１からＭ８）を有する結像光学系（７；２８）であって、
   物体視野（４）の互いに離間した点から発する主光線（１６）が、互いに発散するビーム進路を有し、
   前記ミラーのうちの少なくとも１つ（Ｍ７，Ｍ８）が、結像光（３）の通過のための貫通開口部（１９）を有し、
   前記ミラーのうちの２つの間にある瞳平面（１７）において前記物体視野（４）と前記貫通開口部（１９）の最初のものとの間の結像ビーム経路に位置するのが、前記結像光（３）が１回通過し、かつ結像光学系（７；２８）の射出瞳の中心遮蔽のための掩蔽絞り（２０）が配置された瞳であり、
   前記物体視野（４）の後の前記結像ビーム経路における第２のミラー（Ｍ２）の直後の第１の結像部分ビーム（２４）と、該物体視野（４）の後の該結像ビーム経路における第４のミラー（Ｍ４）の直後の第２の結像部分ビーム（２５）とが、交差領域（２６）において互いに交差する、
   ことを特徴とする結像光学系。
2. 厳密に８つのミラー（Ｍ１からＭ８）を有することを特徴とする請求項１に記載の結像光学系。
3. 結像光学系（７；２８）の前記瞳の外側形態を予め定めるための開口絞りも、１回の通過を受ける該瞳を有する前記瞳平面（１７）に配置されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の結像光学系。
4. １回の通過を受ける前記瞳を有する前記瞳平面（１７）は、前記物体視野（４）の後の前記結像ビーム経路において前記第２（Ｍ２）のミラーと第３（Ｍ３）のミラーの間に配置されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の結像光学系。
5. 前記結像ビーム経路における前記第２のミラー（Ｍ２）は、該結像ビーム経路における前記第４のミラー（Ｍ４）よりも前記物体平面（５）から遠く離れていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の結像光学系。
6. 前記物体視野（４）と前記像視野（８）の間の前記結像ビーム経路における２つの中間像平面（２２，２３）を有し、
   第１の中間像平面（２２）が、前記結像ビーム経路において前記第２のミラー（Ｍ２）と前記第３のミラー（Ｍ３）の間に配置され、
   第２の中間像平面（２３）が、前記結像ビーム経路において第６のミラー（Ｍ６）と第７のミラー（Ｍ７）の間に配置される、
   ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の結像光学系。
7. 前記瞳平面（１７）における前記結像光（３）のビーム束の直径に対して最大で３０％の中心瞳掩蔽率を特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の結像光学系。
8. ７０ｍλの最大波面誤差を特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の結像光学系。
9. １０ｎｍの最大歪曲を特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の結像光学系。
10. 前記結像光（３）に対する貫通開口部なしでミラー（Ｍ１からＭ６）から専ら構成された第１の部分対物系と、該結像光（３）の通過のための貫通開口部（１９）を備えた少なくとも１つのミラー（Ｍ７，Ｍ８）を有する第２の部分対物系とを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の結像光学系。
11. 反射光学系として構成されることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の結像光学系。
12. 結像光学系（７；２８）が、マイクロリソグラフィのための投影光学系として構成されることを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の結像光学系。
13. 請求項１２に記載の投影光学系と、
    結像光学系（７；２８）の物体視野（４）に向けて照明光（３）を誘導するための照明光学系（６）と、
    を有することを特徴とする光学系。
14. マイクロリソグラフィのための投影露光装置であって、
    請求項１３に記載の光学系と、
    照明及び結像光（３）のための光源（２）と、
    を有することを特徴とする投影露光装置。
15. 照明光（３）を生成するための前記光源（２）は、５と３０ｎｍの間の波長を用いて構成されることを特徴とする請求項１４に記載の投影露光装置。
16. 構造化構成要素を生成する方法であって、
    レチクル（１０）及びウェーハ（１１）を準備する方法段階と、
    請求項１４又は請求項１５に記載の投影露光装置を用いて、前記レチクル（１０）上の構造を前記ウェーハ（１１）の感光層上に投影する方法段階と、
    前記ウェーハ（１１）上に微細構造又はナノ構造を生成する方法段階と、
    を含むことを特徴とする方法。

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