JP2012519872A - 結像光学系及び該結像光学系を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2
Description
ここで、hは、投影光学系7の光軸18からの間隔である。従って、h2=x2+y2が適用される。cには、「半径」の逆数値が代入される。
4 物体視野
5 物体平面
7 結像光学系
8 像視野
9 像平面
17 瞳平面
19 貫通開口部
20 掩蔽絞り
24 第1の結像部分ビーム
25 第2の結像部分ビーム
26 交差領域
M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、M8 ミラー
Claims (19)
- 物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)に結像する少なくとも6つのミラー(M1からM8)を有する結像光学系(7;28)であって、
物体視野(4)の互いから離間した点から発する主光線(16)が、互いに発散するビーム進路を有し、
ミラーのうちの少なくとも1つ(M7,M8)が、結像光(3)の通過のための貫通開口部(19)を有し、
瞳平面(17)において前記物体視野(4)と前記貫通開口部(19)の最初のものとの間の結像ビーム経路に位置するのが、前記結像光(3)が1回通過し、かつ結像光学系(7;28)の射出瞳の中心遮蔽のための掩蔽絞り(20)が配置された瞳であり、
前記物体視野(4)の後の前記結像ビーム経路における第2のミラー(M2)の直後の第1の結像部分ビーム(24)と、該物体視野(4)の後の該結像ビーム経路における第4のミラー(M4)の直後の第2の結像部分ビーム(25)とが、交差領域(26)において互いに交差する、
ことを特徴とする結像光学系。 - 厳密に8つのミラー(M1からM8)を有することを特徴とする請求項1に記載の結像光学系。
- 結像光学系(7;28)の前記瞳の外側形態を予め定めるための開口絞りも、1回の通過を受ける該瞳を有する前記瞳平面(17)に配置されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の結像光学系。
- 1回の通過を受ける前記瞳を有する前記瞳平面(17)は、前記物体視野(4)の後の前記結像ビーム経路において前記第2(M2)のミラーと第3(M3)のミラーの間に配置されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記結像ビーム経路における前記第2のミラー(M2)は、該結像ビーム経路における前記第4のミラー(M4)よりも前記物体平面(5)から遠く離れていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記物体視野(4)と前記像視野(8)の間の前記結像ビーム経路における2つの中間像平面(22,23)を特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 第1の中間像平面(22)が、前記結像ビーム経路において前記第2のミラー(M2)と前記第3のミラー(M3)の間に配置されることを特徴とする請求項6に記載の結像光学系。
- 第2の中間像平面(23)が、前記結像ビーム経路において第6のミラー(M6)と第7のミラー(M7)の間に配置されることを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の結像光学系。
- 前記瞳平面(17)における前記結像光(3)のビーム束の直径に対して最大で30%の中心瞳掩蔽率を特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 70mλの最大波面誤差を特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 10nmの最大歪曲を特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記結像光(3)に対する貫通開口部なしでミラー(M1からM6)から専ら構成された第1の部分対物系と、該結像光(3)の通過のための貫通開口部(19)を備えた少なくとも1つのミラー(M7,M8)を有する第2の部分対物系とを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 反射光学系として構成されることを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 結像光学系(7;28)が、マイクロリソグラフィのための投影光学系として構成されることを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 請求項14に記載の投影光学系と、
結像光学系(7;28)の物体視野(4)に向けて照明光(3)を誘導するための照明光学系(6)と、
を有することを特徴とする光学系。 - マイクロリソグラフィのための投影露光装置であって、
請求項15に記載の光学系と、
照明及び結像光(3)のための光源(2)と、
を有することを特徴とする投影露光装置。 - 照明光(3)を生成するための前記光源(2)は、5と30nmの間の波長を用いて構成されることを特徴とする請求項16に記載の投影露光装置。
- 構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル(10)及びウェーハ(11)を準備する方法段階と、
請求項16又は請求項17に記載の投影露光装置を用いて、前記レチクル(10)上の構造を前記ウェーハ(11)の感光層上に投影する方法段階と、
前記ウェーハ(11)上に微細構造又はナノ構造を生成する方法段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項18に記載の方法によって生成された構造化構成要素。
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