JP5787253B2 - 高配向カーボンナノチューブの製造方法 - Google Patents
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さらに、特許文献3には、エタノール等のアルコール類からなる溶媒に硝酸鉄等を溶解させ、この溶液を基板上にスピンコートして触媒層を形成する方法が記載されている。
更にまた、特許文献4には、カーボンナノチューブ合成用の触媒ペーストを作製し、この触媒ペーストを多様なコーティング方法によって基板上に付着させる方法が記載されている。そして、上記コーティング法の一例として、インクジェットプリンティングが例示されている。
請求項1にかかる発明は、触媒金属を溶媒に溶解させて触媒溶液を調整する工程と、前記触媒溶液をインクジェット法によって基板に塗布する工程と、前記基板を熱処理して前記溶媒を除去する工程と、を備え、前記触媒溶液の粘度が、2.0mPa・s以下であり、前記インクジェット法における1ドット当りの吐出量が、1000ng以下であり、前記インクジェット法におけるドット間隔が、50〜1000μmの範囲であり、前記インクジェット法が、ピエゾ方式のインクジェットヘッドを用い、前記基板に塗布された触媒層の膜厚が6nm以上であることを特徴とする高配向カーボンナノチューブの製造方法である。
なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
先ず、第1工程では、触媒金属を溶媒に溶解させて触媒溶液を調整する。具体的には、先ず、図1(a)に示すように、容器1に溶媒を貯留し、この溶媒に触媒金属を添加する。次に、スターラー等を用いて溶媒を撹拌して、触媒金属を溶媒に溶解させる。最後に、インクジェットの液吐出ノズルの先端の閉塞を防止するために、フィルターを用いて溶解後の溶媒をろ過する。このようにして、触媒溶液を調製する。
次に、第2工程では、触媒溶液をインクジェット法によって基板に塗布する。具体的には、図1(b)に示すように、第1工程で調製した触媒溶液をインクジェット方式の塗布装置(インクジェット装置)のタンク(図示略)に入れ、吐出条件を調整した後に、ノズル2から基板3上に触媒溶液の塗布を行う。このようにして、基板3上に触媒溶液の塗布膜を形成する。
次に、第3工程では、触媒溶液の塗布膜が形成された基板を熱処理して溶媒を除去する。具体的には、先ず、図1(c)に示すように、ホットプレート等の加熱処理装置4を用いて基板3上に形成された塗布膜から溶媒(すなわち、濡れ性向上溶剤及び希釈剤)を除去する。基板3の熱処理は、自然乾燥が進行する前に、速やかに開始することが好ましい。これにより、高配向カーボンナノチューブを形成するのに適した触媒層を形成することができる。これに対して、自然乾燥によって基板から溶媒が除去されると、基板上の触媒層中の触媒金属の濃度を均一にすることが困難となる。
次に、第4工程では、触媒層が形成された基板を熱CVD処理する。具体的には、先ず、図1(d)に示すように、例えば内径50mmの石英反応管5に、触媒層が形成された基板を載置する。次に、石英反応管5に、ヘリウムガス等のキャリアガスを例えば200sccmの流量で流しながら、反応管内をヒータ6によって700〜800℃まで昇温する。次に、反応管5内の温度が例えば730℃に達した後、キャリアガス中に例えばアセチレンガス等の原料ガスを例えば20sccmの流量で導入する。また、反応時間は、1分以上とする。その後、原料ガスの導入を止めて、反応管5内を常温まで冷却する。このようにして、シリコン基板上に垂直に配向したカーボンナノチューブ(高配向カーボンナノチューブ)7を製造する。
<参考例>
(触媒溶液の調整)
先ず、濡れ性向上溶剤としてDMF(ジメチルホルムアミド)、触媒金属として硝酸鉄、希釈剤としてエタノールを用意し、それぞれ、4g、0.6g、16gを混合して混合溶液を作製した。次に、スターラーを用いて1時間撹拌して硝酸鉄を溶解した。硝酸鉄を溶解した後、インクジェットの液吐出ノズルの先端の閉塞を防止するために、フィルターにてろ過を行った。作製した触媒溶液の粘度を測定した結果、1.98mPa・sであった。
作製した触媒溶液をインクジェット塗布装置のタンクに導入し、下記に記した吐出条件を用いて酸化膜付きシリコンウエハーに触媒層の塗布を行った。
・インクジェット方式:ピエゾ方式
・波形種類:シングルパルス
・パルス幅:83μm
・周波数:500Hz
・電圧:90V
・吐出量:63.3ng/dot
・ドットピッチ:134μm
インクジェット塗布装置による塗布後、塗膜が形成されたシリコンウエハーをホットプレートの上に置き200℃で10分間の乾燥処理及び空気焼成処理を行った。
触媒層が形成されたシリコンウエハーをCVD炉に入れて、下記条件を用いた熱CVD処理を実施した。
・ガス流量:C2H2:20sccm、He:200sccm
・ガス圧力:大気圧
・反応温度:700℃〜800℃
・反応時間:1分以上
参考例で使用した触媒溶液を用いて、吐出条件を変化させてカーボンナノチューブ(CNT)の合成を行った。
吐出量が1ドット当たり1000ngを超えると、基板上に液溜まりが認められた。この結果、塗布膜厚が厚くなり、CNTは合成されなかった。同様に、ドットピッチが50μm未満の場合も同様に液滴同士が重なり合い、その結果、塗布膜厚が厚くなり、CNTは合成されなかった。また、ドットピッチが1000μmを超えると、液滴が接触せず孤立してしまい、その結果、膜厚は均一に生成されず、高密度のカーボンナノチューブは合成されなかった。
上記参考例で用いた触媒溶液に希釈剤を添加して、さまざまな粘度の触媒溶液を準備した(表1を参照)。これらの触媒溶液を用いて、参考例と同様にカーボンナノチューブ(表1中では、「CNT」と記す)を作製した。結果を下表1に示す。
上記参考例と同様の方法によって、硝酸鉄濃度3.0質量%、粘度1.98mPa・sの触媒溶液を作製した。次に、基板に触媒溶液を塗布する際、吐出量を835ng/dotと固定し、ドットピッチを下表2に示すように変更した吐出条件を用いた。これらの吐出条件を用いて、参考例と同様にカーボンナノチューブ(CNT)を作製した。結果を下表2に示す。
しかしながら、想定触媒層厚さが6.0nm未満となるドットピッチ397μmを超える条件(試験例6〜9)では、高配向カーボンナノチューブの作製が確認できなかった。
これに対して、想定触媒層厚さが6.0nm以上となるドットピッチ397μm以下の条件(試験例10〜12(実施例))では、高配向カーボンナノチューブが作製されたことを確認できた。
2・・・ノズル
3・・・基板
4・・・ホットプレート(加熱処理装置)
5・・・石英反応管(反応管)
6・・・ヒータ
7・・・高配向カーボンナノチューブ
Claims (1)
- 触媒金属を溶媒に溶解させて触媒溶液を調整する工程と、
前記触媒溶液をインクジェット法によって基板に塗布する工程と、
前記基板を熱処理して前記溶媒を除去する工程と、を備え、
前記触媒溶液の粘度が、2.0mPa・s以下であり、
前記インクジェット法における1ドット当りの吐出量が、1000ng以下であり、
前記インクジェット法におけるドット間隔が、50〜1000μmの範囲であり、
前記インクジェット法が、ピエゾ方式のインクジェットヘッドを用い、
前記基板に塗布された触媒層の膜厚が6nm以上であることを特徴とする高配向カーボンナノチューブの製造方法。
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KR20060002476A (ko) * | 2004-07-02 | 2006-01-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | 탄소나노튜브 제조용 촉매 베이스의 제조 방법 및 이를이용한 탄소나노튜브 제조 방법 |
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JP2010111795A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Chisso Corp | 剥離液 |
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