JP5775383B2 - 基板洗浄方法 - Google Patents
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Description
VW=(D0/2)・ωW=(D0/2)・2πNW
となる。
VR=(DR/2)・ωR=(DR/2)・2πNR
となる。
本発明の好ましい態様は、前記ロール洗浄部材及び基板の少なくとも一方の回転速度または基板の回転方向を、1枚の基板に対するスクラブ洗浄処理の終了直前に変更することを特徴とする。
これにより、洗浄条件等に合わせて、ロール洗浄部材及び基板の回転速度の最適な組合せを選択して、最適な洗浄性能を維持することができる。
本発明のさらに他の態様は、基板の直径方向に沿って直線状に延びるロール洗浄部材を基板の表面に接触させつつ、前記ロール洗浄部材と基板を共に回転させて基板の表面をスクラブ洗浄し、基板の回転速度と前記ロール洗浄部材の回転速度の相対速度がゼロとなる点が基板の表面の洗浄エリアに存在する基板洗浄方法において、基板をスピンドルで支持し回転させながら基板の表面をスクラブ洗浄し、スクラブ洗浄処理中に、前記ロール洗浄部材及び基板の少なくとも一方の回転速度または基板の回転方向を変更することを特徴とする基板洗浄方法である。
本発明の好ましい態様は、前記ロール洗浄部材の長さは基板の直径よりも長いことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ロール洗浄部材及び基板の少なくとも一方の回転速度または基板の回転方向を、1枚の基板に対するスクラブ洗浄処理の終了直前に変更することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ロール洗浄部材及び基板の双方の回転速度をスクラブ洗浄処理中に同時に変更することを特徴とする。
図3は、本発明の基板洗浄方法に使用されるスクラブ洗浄装置の一例を示す概要図である。図3に示すように、このスクラブ洗浄装置は、表面を上にして半導体ウエハ等の基板Wの周縁部を支持し基板Wを水平回転させる、水平方向に移動自在な複数本(図では4本)のスピンドル10と、スピンドル10で支持して回転させる基板Wの上方に昇降自在に配置される上部ロールホルダ12と、スピンドル10で支持して回転させる基板Wの下方に昇降自在に配置される下部ロールホルダ14を備えている。
直径300mmで、膜厚1000nmのTEOSブランケットウェハ(基板)の表面を60秒研磨した試料を用意した。そして、この試料表面を、直径60mmのロール洗浄部材16を有する図3に示すスクラブ洗浄装置を使用し、試料の回転速度を150rpm、ロール洗浄部材16の回転速度を200rpmとした洗浄条件で28秒洗浄した後、ロール洗浄部材16の回転速度のみを200rpmから50rpmに変更して更に2秒洗浄し、洗浄後の試料をスピン乾燥させた。この時に、試料表面に残った100nm以上のパーティクル(ディフェクト)の数を計測した時の結果を、試料表面のパーティクル(ディフェクト)の分布と共に、図8に実施例1,2として示す。試料とロール洗浄部材16との接触圧力は4Nに設定した。
12 上部得オールホルダ
14 下部ロールホルダ
16 上部ロール洗浄部材(ロールスポンジ)
18 下部ロール洗浄部材(ロールスポンジ)
20 上部洗浄液供給ノズル
22 下部洗浄液供給ノズル
30 洗浄エリア
Claims (10)
- 基板の直径方向に沿って延びるロール洗浄部材を基板の表面に接触させつつ、前記ロール洗浄部材と基板を共に回転させて基板の表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、
基板をスピンドルで支持し回転させながら基板の表面をスクラブ洗浄し、
スクラブ洗浄処理中に、前記ロール洗浄部材及び基板の少なくとも一方の回転速度を段階的または連続的に変更し、または基板の回転方向を変更することを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記ロール洗浄部材の長さは基板の直径よりも長いことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄方法。
- 前記ロール洗浄部材及び基板の少なくとも一方の回転速度または基板の回転方向を、1枚の基板に対するスクラブ洗浄処理の終了直前に変更することを特徴とする請求項2記載の基板洗浄方法。
- 前記ロール洗浄部材及び基板の双方の回転速度をスクラブ洗浄処理中に同時に変更することを特徴とする請求項2記載の基板洗浄方法。
- 基板の直径方向に沿って延びるロール洗浄部材を基板の表面に接触させつつ、前記ロール洗浄部材と基板を共に回転させて基板の表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、
基板を順方向に回転させて1枚の基板の表面をスクラブ洗浄する順方向洗浄工程と、前記順方向洗浄工程と同じ回転速度で基板を逆方向に回転させて1枚の基板の表面をスクラブ洗浄する逆方向洗浄工程を任意の枚数の基板毎に繰返すことを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記任意の枚数の基板は、一枚の基板、1ロットで連続的に処理される枚数の基板、または予め定められた所定の枚数の基板であることを特徴とする請求項5記載の基板洗浄方法。
- 基板の直径方向に沿って直線状に延びるロール洗浄部材を基板の表面に接触させつつ、前記ロール洗浄部材と基板を共に回転させて基板の表面をスクラブ洗浄し、基板の回転速度と前記ロール洗浄部材の回転速度の相対速度がゼロとなる点が基板の表面の洗浄エリアに存在する基板洗浄方法において、
基板をスピンドルで支持し回転させながら基板の表面をスクラブ洗浄し、
スクラブ洗浄処理中に、前記ロール洗浄部材及び基板の少なくとも一方の回転速度または基板の回転方向を変更することを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記ロール洗浄部材の長さは基板の直径よりも長いことを特徴とする請求項7に記載の基板洗浄方法。
- 前記ロール洗浄部材及び基板の少なくとも一方の回転速度または基板の回転方向を、1枚の基板に対するスクラブ洗浄処理の終了直前に変更することを特徴とする請求項8記載の基板洗浄方法。
- 前記ロール洗浄部材及び基板の双方の回転速度をスクラブ洗浄処理中に同時に変更することを特徴とする請求項8記載の基板洗浄方法。
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