JP5765938B2 - 有機金属化合物を主成分とする光潜伏性触媒 - Google Patents

有機金属化合物を主成分とする光潜伏性触媒 Download PDF

Info

Publication number
JP5765938B2
JP5765938B2 JP2010529346A JP2010529346A JP5765938B2 JP 5765938 B2 JP5765938 B2 JP 5765938B2 JP 2010529346 A JP2010529346 A JP 2010529346A JP 2010529346 A JP2010529346 A JP 2010529346A JP 5765938 B2 JP5765938 B2 JP 5765938B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alkyl
phenyl
substituted
hydrogen
alkoxy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010529346A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011501774A (ja
JP2011501774A5 (ja
Inventor
コーリ シュテック ラヘル
コーリ シュテック ラヘル
ロルデロ カロリーヌ
ロルデロ カロリーヌ
フォーゲル トーマス
フォーゲル トーマス
ボダン ジゼル
ボダン ジゼル
ブラウン ポール
ブラウン ポール
ディートリカー クルト
ディートリカー クルト
ヒュスラー リナルド
ヒュスラー リナルド
ユング トゥンヤ
ユング トゥンヤ
ズィメンディンガー ペーター
ズィメンディンガー ペーター
ステュデ カティア
ステュデ カティア
カロワ アントワーヌ
カロワ アントワーヌ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Publication of JP2011501774A publication Critical patent/JP2011501774A/ja
Publication of JP2011501774A5 publication Critical patent/JP2011501774A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5765938B2 publication Critical patent/JP5765938B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/16Catalysts
    • C08G18/22Catalysts containing metal compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/16Catalysts
    • C08G18/22Catalysts containing metal compounds
    • C08G18/227Catalysts containing metal compounds of antimony, bismuth or arsenic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/16Catalysts
    • C08G18/22Catalysts containing metal compounds
    • C08G18/222Catalysts containing metal compounds metal compounds not provided for in groups C08G18/225 - C08G18/26
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/16Catalysts
    • C08G18/22Catalysts containing metal compounds
    • C08G18/24Catalysts containing metal compounds of tin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/42Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/62Polymers of compounds having carbon-to-carbon double bonds
    • C08G18/6216Polymers of alpha-beta ethylenically unsaturated carboxylic acids or of derivatives thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/77Polyisocyanates or polyisothiocyanates having heteroatoms in addition to the isocyanate or isothiocyanate nitrogen and oxygen or sulfur
    • C08G18/78Nitrogen
    • C08G18/79Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/77Polyisocyanates or polyisothiocyanates having heteroatoms in addition to the isocyanate or isothiocyanate nitrogen and oxygen or sulfur
    • C08G18/78Nitrogen
    • C08G18/79Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/791Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates containing isocyanurate groups
    • C08G18/792Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates containing isocyanurate groups formed by oligomerisation of aliphatic and/or cycloaliphatic isocyanates or isothiocyanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/80Masked polyisocyanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04Polyurethanes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)

Description

本発明は、新規の光潜伏性触媒化合物、および特に2ポットポリウレタンを架橋するための触媒としてのそれらの応用に関する。
例えばベンゾフェノン、ヒドロキシもしくはアミノケトン、スルホニウムまたはヨードニウム塩の光潜伏性化合物を触媒として使用することによって、ラジカル架橋性またはカチオン架橋性成分を硬化することが当該技術分野において既知である。当該化合物は、例えば、Kurt Dietliker,"A compilation of photoinitiators commercially available for UV today",Sita Technology Ltd.,Edinburgh and London,2002、およびJ.V.Crivello and K Dietliker,Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings,Inks and Paints; Photoinitiators for Free Radical,Cationic & Anionic Photopolymerization,Ed.2,Vol. Ill,1998,Sita Technology Ltd.,Londonに記載されている。
さらに、有機金属触媒、特にスズ触媒の存在下で、あらゆるヒドロキシル官能化合物およびポリチオールを含むポリオールでイソシアネート成分を架橋することによって、例えばポリウレタンを製造することが当該技術分野において既知である。対応する触媒は、多くの文献、例えば、US2005/0282700−A、US5545600、US4292252から既知である。例えばWO2006/136211に報告されているように、シラン架橋性接着剤またはシール材に使用されるような例えばシロキサン変性バインダ等の、他の縮合または付加反応を介して架橋を触媒するために同じ種類の有機金属触媒を使用することもできる。
これらの触媒は、一般に潜伏性でないため、ポリオールとポリイソシアネート、または金属触媒付加反応または縮合反応し得る他の好適な成分との反応が、室温で触媒を添加するとすぐに開始する。例えば温度等の濃度および状態に応じて、約0.5時間から2時間の短い反応時間の後に、反応が完了する。この反応時間は、混合物が生成されると配合物を処理することができる作業ウィンドウを制限する。いくつかの光潜伏性触媒が、2007年12月に公開されたWO07/147851に開示されている。
熱または光等の外的活性化を介してオンデマンドでのみ反応を誘発することが可能であることが非常に望ましい。これは、外的誘発が開始されるまで理想的には樹脂混合物を含む作業ウィンドウを拡大することを可能にする。
さらに、環境的側面を鑑みて、広く使用されているスズを別のより環境に優しい金属に取り換えることが望ましい。
したがって、本発明は、潜伏性触媒化合物が金属、特にSn、Bi、Zr、TiまたはAlに結合された光活性成分(PI)を含むこと、および200〜800nmの波長範囲の電磁放射線への曝露によって触媒が放出されると、重付加または重縮合反応が開始されることを特徴とする、ルイス酸型反応物質によって触媒される重付加または重縮合反応のための潜伏性触媒化合物の使用にある。
対応する潜伏性触媒化合物は、例えば、式IまたはII
Me(PI)(m-x)x (I)
x(PI)(m-1-x)Me−O−Me(PI)(m-1-x)x (II)
[式中、
Meは、Sn、Bi、Al、ZrまたはTiであり;
mは、1からMeの配位数までの整数を表し;
xは、0〜(m−1)の整数であり;
PIは、一価または二価の光活性成分であり、(m−x)または(m−1−x)が1より大きい場合は、PIは同一であるか、または異なっており;
Aは、C1−C20アルキル、ハロゲン、C7−C30アリールアルキル、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルカノイルオキシ、C6−C18アリール、あるいは1つ以上のC1−C20アルキルによって置換されたC6−C18アリールであり;xが1より大きい場合は、Aは同一であるか、または異なっている]の化合物である。
金属Meの「配位数」は、必ずしもそうであるとは限らないが、対応する金属原子の原子価であり得る、対応する金属原子の可能な配位子の数である。金属の配位数は、金属錯体の化学から当業者に既知である。所定の金属原子は、例えば、その酸化状態に応じて変わる、異なる「配位数」を有することができる。したがって、「配位数」は、中心元素(金属原子)への結合点の総数を指し、通常2〜16までの範囲、例えば2〜8、2〜6、2〜4または2〜3で変化する。簡単に言えば、錯体の配位数は、中心金属イオンおよび配位子の相対的な大きさ、ならびに金属イオンの電子構成に左右される電荷等の電子的要因に影響される。
Sn、Ti、Zr、AlおよびBiの配位数の例は、2、3、4、6または8、特に3、4、6または8、好ましくは4または6、特に4である。
配位子が2つ以上の可能な配位部位、例えばキレート錯体における酸素原子を有する場合は、それを異なる方法で金属原子に配位結合させることができる。配位結合の強度に応じて、異なる錯体は、安定した異性体であってよく、または室温で1つの異性体から他の異性体に相互変換することができる。したがって、本発明の化合物は、純粋の金属錯体ばかりでなく、立体異性体および位置異性体の混合物を含む。
1−C20アルキルは、直鎖状もしくは分枝状または環式であり、例えば、C1−C18−、C1−C14−、C1−C12−、C1−C8−、C1−C6−またはC1−C4アルキルである。例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、例えば、シクロペンチル、ヘキシル、例えば、シクロヘキシル、ヘプチル、2,4,4−トリメチルペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、オクタデシルおよびイコシルである。
1−C18アルキル、C1−C14アルキル、C1−C12アルキル、C1−C8アルキル、C1−C6アルキルまたはC1−C4アルキルは、対応するC原子数までのC1−C20アルキルについて以上に示されている通りである。
6−C18アリールは、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリルまたはフェニル、特にフェニルまたはナフチル、好ましくはフェニルである。
1つ以上のC1−C20アルキルによって置換されたC6−C18アリールは、例えば、1〜5回、例えば1〜4回、または1回、2回もしくは3回にわたってC1−C20アルキルで置換されている。アルキル置換基は、例えば、フェニル環の2,4,6−、2,6−、2,4−、2,5−、2,3,4−、2−、4−または5−位で結合している。
7−C30アリールアルキルは、C6−C18アリールによって置換された上記の直鎖状もしくは分枝状または環式アルキルである。好ましくは、C7−C30アリールアルキルにおけるアリールは、フェニルまたはナフチル、特にフェニルである。具体例は、ベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジル、フェニルペンチル、フェニルヘキシルまたはα,α−ジメチルベンジル、特にベンジル等のフェニル−C1−C6アルキルまたはフェニル−C1−C3アルキルである。
本発明の文脈における光活性成分は、特に150〜800nm、例えば200〜800または200〜600nmの波長の光が照射されると開裂する成分である。
好ましくは、金属原子は、そのすべての配位においてC原子含有基を介して配位子またはキレートに直接結合するのでなく、スペーサ基Oまたは(CO)Oを介して結合し、金属は、これらの基の対応するO原子に結合される。
特に、光活性成分(PI)がラジカルを放出する成分であり、または塩基を放出する成分である潜伏性触媒化合物が興味深い。
PIは、例えば、光潜伏性ラジカルまたは光潜伏性塩基化合物の成分である光活性成分である。光潜伏性ラジカル化合物の成分の例を以下に挙げる。光潜伏性塩基の成分の例は、光潜伏性二級もしくは三級アリールアミン、グアニジンまたはアミジンである(例えば、
Figure 0005765938
のような構造を有する)。
好適な光活性成分PIは、例えば、式(Z)、(B)、(C)、(D)、(E)、(F)、(G)、(H)、(J)、(K)、(L)または(M)
Figure 0005765938
[式中、
yは、0または1であり;
1、R2およびR3は、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、C8−C18−アリール、C7−C30−アラルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ、ハロゲン、N(C1−C4−アルキル)2、または−O−もしくはNR10によって場合により中断されたN(C4−C7−シクロアルキル)であり;
4は、水素、C1−C4−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、フェニル、N(C1−C4−アルキル)2、COOCH3
Figure 0005765938
であり、あるいは
3およびR4は、ともに、S、O、NR10、CH2またはCHCH3、特にSであり;
n、n’およびn"は、互いに独立して1〜10であり;
qは、1〜4であり;
5は、水素またはC1−C18−アルコキシであり;
6は、水素、C1−C18−アルキル、C1−C12−ヒドロキシアルキル、C1−C18−アルコキシ、OH、−OCH2CH2−OR18、モルホリノ、C1−C18−アルキル−S−、HS−、NR1920、H2C=CH−、H2C=C(CH3)−、H2C=CH−CO−、H2C=CH―(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−、H2C=C(CH3)−(CO)O−、
Figure 0005765938
であり;
a、bおよびcは、互いに独立して1〜3であり;
1およびG2は、互いに独立して、ポリマー構造の末端基、好ましくは水素またはメチルであり;
1およびY3は、互いに独立して、直接結合、O、(CO)O、NR10、C1−C20アルキレン、C1−C20アルキレン−O−、C1−C20アルキレン−(CO)O、または
Figure 0005765938
であり;
2は、直接結合またはC1−C20−アルキレンであり;
7およびR8は、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、非置換フェニルもしくはベンジル:またはC1−C12−アルキルによって置換されたフェニルもしくはベンジルであり;あるいはR7およびR8は、それらが結合した炭素原子と一緒になって、シクロヘキシル環を形成し;
9は、OHまたはNR1920であり;
10は、水素、C1−C18−アルキル、C2−C18アルケニル、C1−C12ヒドロキシアルキルまたはC1−C12ハロゲノアルキルであり;
11、R12、R13、R14およびR15は、互いに独立して、水素、非置換C1−C12−アルキル、もしくはOHによって置換されたC1−C12−アルキル、C1−C4−アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲンまたはCNであり;アルキル鎖は、1つ以上のOによって場合により中断されており;あるいはR11、R12、R13、R14およびR15は、互いに独立して、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ、NR1920、H2C=CH−CO−、H2C=CH−(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−またはH2C=C(CH3)−(CO)O−であり;
16は、フェニルまたはナフチルであり、いずれも非置換であるか、またはハロゲン、C1−C12アルキル、C3−C8シクロアルキル、ベンジル、フェノキシカルボニル、C2−C12アルコキシカルボニル、OR21、SR22、SOR22、SO222および/またはNR1920によって1〜7回にわたって置換されており、置換基OR21、SR22およびNR1920は、フェニルまたはナフチル環上のさらなる置換基とともに基R21、R22、R19および/またはR20を介して5員または6員環を場合によって形成し;あるいはそれらの各々が、フェニル、または1つ以上のOR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたフェニルによって置換されており;あるいは
16は、チオキサンチル、または
Figure 0005765938
であり;
17は、水素;非置換C1−C20アルキル、または1つ以上のハロゲン、OR21もしくはフェニルによって置換されたC1−C20アルキルであり;あるいはC3−C8シクロアルキルであり;あるいは非置換であるか、または1つ以上のC1−C6−アルキル、フェニル、ハロゲン、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたフェニルであり;あるいは非置換であるか、または1つ以上のC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたC1−C20アルカノイルもしくはベンゾイルであり;あるいはC2−C12アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、−CONR1920、NO2、C1−C4ハロアルキル、S(O)d−C1−C6アルキル;S(O)d−フェニルであり、
dは、1または2であり;
18は、水素、
Figure 0005765938
であり;
19およびR20は、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C4ヒドロキシアルキル、C2−C10アルコキシアルキル、C2−C5アルケニル、C3−C8シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキル、C1−C8アルカノイル、C3−C12アルケノイル、ベンゾイルであり;あるいはそれぞれが非置換であるか、またはC1−C12アルキル、ベンゾイルもしくはC1−C12アルコキシによって置換されたフェニルまたはナフチルであり;あるいはR19およびR20は、ともに、OもしくはNR21によって場合により中断され、かつ/またはOH、C1−C4アルコキシ、C2−C4アルカノイルオキシもしくはベンゾイルオキシによって場合により置換されたC2−C6アルキレンであり、あるいはそれらが結合したN原子と一緒になって、
Figure 0005765938
であり;
21およびR22は、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C12アルケニル、C3−C8シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキルであり;OH、SH、CN、C1−C8アルカノイル、非置換であるか、または1つ以上のC1−C6アルキル、ハロゲン、OH、C1−C4アルコキシもしくはC1−C4アルキルスルファニルで置換されたベンゾイルで置換されたC1−C8アルキルであり;あるいはそれぞれが非置換であるか、またはハロゲン、C1−C12アルキル、C1−C12アルコキシ、フェニル−C1−C3アルキルオキシ、フェノキシ、C1−C12アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−N(C1−C12アルキル)2、ジフェニルアミノによって置換されたフェニルまたはナフチルであり;
23は、C1−C12アルキル、フェニル、4−モルホリノフェニル、C1−C12アルキルフェニル、またはOによって場合により中断されたC3−C8シクロアルキルで置換されたフェニルであり;
24は、水素、メチルまたはエチルであり;
25は、水素またはC1−C4アルキルであり;
26およびR27は、互いに独立して、非置換であるか、またはC1−C4アルコキシもしくはフェニルによって置換されたC1−C20アルキルであり、あるいは
26およびR27は、ともにC2−C4アルキレンであり;
30は、水素、C1−C4アルキル、C2−C5アルカノイル、(C1−C4アルコキシ)カルボニルであり、あるいはフェニル、ベンゾイルもしくはベンゾイルフェニルによって置換されたアルキルであり;あるいはフェニルであり;または1つ以上のR34によって置換されたフェニルであり;
31は、C1−C12アルキル、C1−C4アルコキシ、N(C1−C4アルキル)2、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルであり;
32は、C1−C12アルキル、C1−C4アルコキシ、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルであり;
33は、C1−C4アルキル、C1−C8アルコキシ、C1−C6チオアルキル、N(C1−C4アルキル)2、ベンゾイル、または1つ以上のR34によって置換されたベンゾイルであり;
34は、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、N(C1−C4アルキル)2であり;
35およびR36は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、C1−C4ハロアルキル、CN、NO2、C2−C6アルカノイル、ベンゾイル、フェニル、−S−フェニル、フェノキシ、C2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルであり、あるいはR35およびR36は、ともに−C(R39)=C(R40)−C(R41)=C(R42)−であり;
37は、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはC4−C20ヘテロアリールであり、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはC4−C20ヘテロアリールは、非置換であるか、または1つ以上のC1−C12アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロゲン、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920および/またはS−フェニルによって置換されており、置換基OR21、SR22および/またはNR1920は、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルもしくはC4−C20ヘテロアリール環上のさらなる置換基とともに、またはフェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルもしくはC4−C20ヘテロアリール環の炭素原子の1つとともに基R21、R22、R20および/またはR19を介して5員または6員環を形成することが可能であり、あるいは
yが0であれば、R37は、さらにC2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルまたはCNであり;あるいは
38が同時に水素またはC1−C12アルキルでなければ、R37は、水素またはC1−C12アルキルであり;
38は、R37の意味の1つを有し、あるいは非置換またはCN置換フェニル、C2−C6アルカノイル、非置換であるか、またはC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたベンゾイルであり、あるいはR38は、フェノキシカルボニル、NO2、C1−C4ハロアルキルであり、あるいはR37およびR38は、CO基と一緒になって、非置換であるか、またはC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換された5員または6員環を形成し、前記環は、O、S、NR10および/またはCOによって場合により中断されており、1つ以上のベンゾ基が前記環に場合により縮合されており;
39、R40、R41およびR42は、互いに独立して、水素、C1−C4アルキル、ハロゲン、フェニル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、−S−フェニル、フェノキシ、C2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、NO2またはC1−C4ハロアルキルである]の基である。
1−C12ハロゲノアルキルは、ハロゲンによって一置換、またはすべてのH原子がハロゲンによって交換されるまで多置換された上記のアルキルである。例はクロロメチル、トリクロロメチル、トリフルオロメチルまたは2−ブロモプロピル、特にトリフルオロメチルまたはトリクロロメチルである。
1−C12ヒドロキシアルキルは、例えば上記のアルキルであるが、OHによって一置換または多置換されている。例えば、1〜6個、例えば1〜4個、あるいは1個または2個のOH置換基がアルキルに位置する。例は、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ジヒドロキシプロピル、ヒドロキシプロピル、ジヒドロキシエチル、特にヒドロキシエチルである。
アルキル鎖が1つ以上のOによって場合により中断されている非置換C1−C12−アルキルまたは置換C1−C12−アルキルは、例えば、1〜9回、1〜7回あるいは1回または2回にわたってOによって中断されている。それらの基が2つ以上のOによって中断されている場合は、前記O原子は、少なくとも1つのメチレン基によって互いに隔てられている。すなわち、O原子は、不連続である。例は、構造単位:−CH2−O−CH3、−CH2CH2−O−CH2CH3、−[CH2CH2O]2−CH3、−(CH2CH2O)3CH2CH3、−CH2−CH(CH3)−O−CH2−CH2CH3または−CH2−CH(CH3)−O−CH2CH3である。
3−C8シクロアルキルは、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロオクチル、特にシクロペンチルおよびシクロヘキシル、好ましくはシクロヘキシルである。
本出願の文脈におけるC3−C8シクロアルキルは、1つの環を少なくとも含むアルキルであると理解されるため、例えば、メチルシクロペンチル、メチルまたはジメチルシクロペンチルも定義に包含されることを意図する。さらなる例は、
Figure 0005765938
のような構造、ならびに架橋または縮合環系、例えば、
Figure 0005765938
である。
2−C18アルケニル基は、一不飽和または多不飽和直鎖状もしくは分枝状または環式であり、例えばC2−C8−、C2−C6−またはC2−C4アルケニルである。例は、アリル、メタリル、ビニル、1,1−ジメチルアリル、1−ブテニル、3−ブテニル、2−ブテニル、1,3−ペンタジエニル、5−ヘキセニルまたは7−オクテニル、特にアリルまたはビニルである。
1−C18アルコキシは、直鎖状または分枝状であり、例えばC1−C16−、C1−C12−、C1−C8−、C1−C6−またはC2−C4アルコキシである。例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、tert−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、2,4,4−トリメチルペンチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、オクタデシルオキシまたはイコシルオキシ、特に、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロピルオキシ、n−ブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、tert−ブチルオキシ、特にメトキシである。
1−C20アルキレンは、直鎖状または分枝状アルキレン、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、1−メチルエチレン、1,1−ジメチルエチレン、ブチレン、1−メチルプロピレン、2−メチル−プロピレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ドデシレン、テトラデシレン、ヘキサデシレンまたはオクタデシレンである。特に、Xは、C2−C12アルキレン、例えば、エチレン、デシレン、または例えば、
Figure 0005765938
である。
2−C12アルコキシカルボニルは、直鎖状または分枝状であり、例えば、C2−C6−およびC2−C4アルコキシカルボニル、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、n−ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニルまたはドデシルオキシカルボニル、特に、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、n−ブチルオキシカルボニルまたはイソブチルオキシカルボニル、好ましくはメトキシカルボニルである。
1−C20アルカノイルは、直鎖状または分枝状であり、例えば、C1−C18−、C1−C14−、C1−C12−、C1−C8−、C1−C6−もしくはC1−C4−アルカノイルまたはC4−C12−もしくはC4−C8アルカノイルである。例は、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、イソブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ドデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、イコサノイル、好ましくはアセチルである。
3−C12アルケノイルは、一飽和または多不飽和であり、例えば、プロペノイル、2−メチル−プロパノイル、ブテノイル、ペンテノイル、1,3−ペンタジエノイル、5−ヘキセノイルである。
2−C4アルカノイルオキシは、直鎖状または分枝状であり、例えば、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブタノイルオキシ、イソブタノイルオキシ、好ましくはアセチルオキシである。
1−C12アルキルスルファニル(=C1−C12アルキルチオ)は、「イル」成分に1つのS原子を有するC1−C12アルキルである。C1−C12アルキルは、対応するC原子数までのC1−C20アルキルについて以上に示されているのと同じ意味を有する。C1−C4アルキルスルファニルは、直鎖状もしくは分枝状または環式であり、例えば、メチルスルファニル、エチルスルファニル、プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル、n−ブチルスルファニル、sec−ブチルスルファニル、イソブチルスルファニル、tert−ブチルスルファニルである。
フェニルスルファニルはフェニルチオである。
フェニル−C1−C3アルキルオキシは、C7−C30アリールアルキルの定義において以上に示されているフェニル−C1−C3アルキルに対応する意味を有し、付加的なO原子が、その基の分子の残りに対する結合部に「オキシ」基として存在する。例は、ベンジルオキシ、フェニルエチルオキシ、α−メチルベンジルオキシ、特にベンジルオキシである。
2−C10アルコキシアルキルは、1つのO原子によって中断されたC2−C10アルキルである。C2−C10アルキルは、対応するC原子数までのC1−C20アルキルについて以上に示されているのと同じ意味を有する。例は、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポキシプロピルである。
ハロゲンは、フルオロ、クロロ、ブロモまたはヨード基、特に、フルオロ、クロロまたはブロモを表す。
3およびR4が、ともに、S、O、NR10、CH2またはCH(CH)3である場合、例えば構造:
Figure 0005765938
、好ましくは、チオキサンチル成分
Figure 0005765938
が形成される。
フェニル、ナフチル、ベンゾイルまたはナフトイル環上の置換基OR21、SR22およびNR1920が、フェニル、ナフチル、ベンゾイルまたはナフトイル環上のさらなる置換基とともに基R21、R22、R19および/またはR20を介して5または6員環を形成する場合、2つまたは3つの環(フェニル、ナフチル、ベンゾイルまたはナフトイル環を含む)を含む構造が得られる。例は、
Figure 0005765938
である。好ましくは、カルバゾール成分が形成される。
19およびR20が、ともにOまたはNR21によって場合により中断されたC2−C6アルキレンである場合は、それらは、それらが結合したN原子と一緒になって、OまたはNR21によって場合により中断された5員、6員または7員環を形成することによって、飽和または不飽和環、例えば、アジリジン、ピロール、ピロリジン、オキサゾール、ピリジン、1,3−ジアジン、1,2−ジアジン、ピペリジンまたはモルホリン、好ましくはモルホリンを形成する。
2つ以上の基「A」が本発明の式IまたはIIの触媒化合物に存在する場合は、前記基は同一であるか、または異なっている。
本文脈における「および/または」あるいは「または/および」という用語は、規定の選択肢(置換基)の1つだけでなく、規定の選択肢(置換基)のいくつかが一緒に、すなわち異なる選択肢(置換基)の混合物が存在し得ることを表すことを意図する。
「少なくとも」という用語は、1つ以上、例えば1つまたは2つまたは3つ、好ましくは1つまたは2つを定めることを意図する。
「場合により置換された」という用語は、それが指す基が非置換であるか、または置換されていることを意味する。
本明細書および続く請求項全体を通じて、文脈がそうでないことを必要としなければ、「含む(comprise)」という用語または「含む(comprises)」もしくは「含んでいる(comprising)」等の変形は、指定の整数もしくは工程または整数もしくは工程群を含むが、任意の他の整数もしくは工程または整数もしくは工程群を除外しないことを示唆するものと理解される。
本出願の文脈における「(メタ)アクリレート」という用語は、アクリレート、ならびに対応するメタクリレートを指すことを意図する。
以上に示されており、全文の文脈における概して(特に式IおよびIIの)潜伏性触媒化合物を指す選択は、そのような化合物のみを指すことを意図するものでなく、請求項のすべての範疇を指すことを意図する。すなわち、該潜伏性触媒化合物を含む組成物、ならびに前記化合物が使用される使用または方法の請求項を指す。
当業者は、ジケト化合物のこの種の錯体形成を熟知している。ケト基は、金属原子とともに、ケト基のエノール形を介してキレート錯体を形成し、第2の結合は、配位結合である。例えば、光活性成分((L)基としてのPI)は、当該キレート、例えば、
Figure 0005765938
を形成することができる。
MeがZrである場合は、本発明の化合物は、例えば、配位子Lが場合により二価であるZrL4、ZrL2L’2のような配位子に対する配位中心原子Zrを有する。
さらなる例は、例えば、その開示内容が参考として本明細書で援用されるWO2007/003966に記載されているケトアミドである。
本発明の化合物を既知の方法によって、例えば、光活性成分の対応するアルコールもしくは酸と有機金属酸化物、有機アルコキシドもしくはアリール金属(例えば、トリフェニルビスマス、テトラフェニルスズ)とを反応させることによって、または光活性成分の対応するハロゲン化物と有機金属ハロゲン化物とを反応させることによって、または光活性成分と金属ハロゲン化物(例えば三塩化アルミニウムまたは四塩化チタン)とを反応させることによって製造することができる。オキシムエステル基を有する化合物は、例えば光活性成分の対応するオキシムと有機金属酸化物もしくはアルコキシドとを反応させることによって製造される。当該反応は、概して、当業者に既知であり、例えば、Alwyn G.Davies,"Organotin Chemistry",Ed.2,2004,Wiley−VCH,Weinheim;Michel Pereyre,Jean−Paul Quinford,Alain Rahm,"Tin in organic Synthesis",1987,Butterworths,London等の化学書に公開されている。
− 方法1
よって、「C−O−金属」結合、「C−(CO)−O−金属」結合または「C=N−O−金属」結合を有する本発明による式Iの化合物は、例えば、式(Xa)、(Xb)または(Xc)の化合物と金属酸化物もしくは金属アルコキシド(XIa)または(XIb)とを反応させることによって得られる。
Figure 0005765938
式中、R17、m、x、MeおよびAは、以上に定義されている通りであり、PI’は、基(A’)、(B’)、(C’)、(D)、(D’)、(E’)、(F’)、(G’)、(H)、(J’)、(K)または(L)
Figure 0005765938
であり、
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R9、R11、R13、R14、R15、R16、R19、R20、R25、R26、R27、R30、R31、R32、Y2およびyは、以上に定義されている通りであり;Y’1およびY’3は、互いに独立して、直接結合またはC1−C20アルキレンであるため、以上に定義されている式I
Me(PI)(m-x)x (I)
の化合物になる。
上記反応において、PI’−酸、PI’COOH(Xb)を対応する無水物(Xb’):PI’−COO(CO)−PI’に置き換えることが可能であることが自明である。
以上に定義されている式II
x(PI)(m-1-x)Me−O−Me(PI)(m-1-x)x(II)
の化合物を製造するために、同じ方法が適用されるが、式(XIa)の金属酸化物の代わりに、対応する二量体アルコキシドが使用される。
− 方法2
「C−金属」結合、「C−(CO)−金属」結合または「C=N−O−金属」結合を有する本発明による式Iの化合物は、例えば、式(XIIa)および(XIIb)の対応するPI成分ハロゲン化物と有機金属ハロゲン化物(XIIIa)とを反応させることによって得られる。対応するオキシムエステル化合物は、例えば、遊離オキシム(Xc)と前記有機金属ハロゲン化物(XIIIa)とを反応させることによって製造される。
Figure 0005765938
式中、Halは、ハロゲン原子、特にClまたはBrである。R17、m、x、MeおよびAは、以上に定義されている通りであり、PI’は以上に定義されている通りである。
本発明の式IIの化合物は、例えば、上記反応における有機ハロゲン化物(XIIIa)を有機ハロゲン化物(XIIIb):
Figure 0005765938
と交換することによって得られる。
上記反応において、例えば、Znを触媒として使用することができる。
− 方法3
さらに、以上に定義されている光活性成分PI’COOH(Xb)またはPI’−COO(CO)−PI’(Xb’)の酸または無水物と、以上に定義されている有機金属ハロゲン化物(Hal)m-xMeAx(XIIIa)とを反応させることによって上記反応を実施することができる。
− 方法4
本発明の化合物の別の製造方法は、光開始剤成分、例えば、以上に定義されている式Xbの化合物の酸(または無水物)と、(アリール)(アルキル)金属、例えばジブチル−ジフェニルスズまたはトリフェニルビスマスとを反応させることにある。
m−x PI’−COOH (Xb)+Me(A)m → (PI’−COO)m-x−MeAx (I’)
[PI’、m、x、MeおよびAは、以上に定義されている通りであるが、分子Me(A)mにおけるすべてのAが同一であることはなく、該基の少なくとも1つがアリールを表す]。
− 方法5
少なくとも1つの光活性成分(PI)が基(L)である本発明の化合物は、例えば、適切な1,3−ジケトン化合物と、対応する金属アルコキシド化合物とを反応させること、例えば、1−ベンゾイルアセトンとジメトキシ−ジブチルスズとを反応させることによって製造される。
− 方法6
少なくとも1つの光活性成分(PI)が基(L)である本発明の化合物は、例えば、適切な1,3−ジケトン化合物と、対応する金属ハロゲン化物化合物とを反応させること、例えば、1−ベンゾイルアセトンと四塩化ジルコニウムとを反応させることによって製造される。
− 方法7
少なくとも1つの光活性成分(PI)が基(L)である本発明の化合物は、例えば、テトラ−アセチルアセトネート金属化合物とPI−COOH化合物とを反応させること、例えば、1−ベンゾイルアセトンとジルコニウムテトラアセチルアセトネートとを反応させることによって製造される。
1がNR10である式IまたはIIの化合物は、例えば、アルコールを対応するアミンと、または酸を対応するアミドと交換することによって、以上に示されている方法1に従って製造される。
当業者は、当該有機金属反応に考慮しなければならない条件および注意事項を熟知している。
例えば、基本的に、有機金属中間体(金属アルコキシド、例えば、スズアルコキシド、金属エノラート、例えばスズエノラート、金属エステル、例えばα−スタンニルエステル)は水分に非常に敏感であるため、不活性反応雰囲気下で作業するのが有利である。よって、反応は、有利には、通常の方法によって、例えば加熱後に排気することによって、反応前に対応する反応装置を不活性化させることによって、アルゴンガス流下で有利に実施される。
有機金属カルボキシレートは、例えば、対応するカルボン酸(または無水物)と有機金属酸化物、例えば有機スズ酸化物または水酸化物とを、通常は、前記反応において形成される水を共沸除去しながら反応させることによって最も容易に製造される。
本発明の製造物の単離および処理において、水分および酸素に対する安定性に応じて、対応する適切な注意事項を考慮することも必要である。
金属原子としてのスズに関しては、一般に、炭酸エステルおよびテトラ有機スズ化合物を、特殊な処理を施すことなく容易に取り扱うことができるが、アルコキシドはより敏感である。当該化合物の加水分解への鋭敏性をケト基、ニトリル基、エステル基、CF3基等の電子求引性基によって低減することができる。
本発明による化合物の製造方法における好適な溶媒は、例えば、非プロトン性溶媒、特に、トルエン、キシレン、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン(THF)である。
反応温度は、例えば、室温(例えば20℃)から約200℃、または室温から150℃、好ましくは50〜150℃の範囲である。
圧力は、例えば、通常圧力(760Torr)から10mmHgの範囲であり、好ましくは低真空が使用される。
上記反応において中間体として使用することができる多くのスズ化合物は、市販の、特に、アルコキシまたはハロゲンで置換されたブチル−スズ誘導体、ならびに多くのBi−、Zr−、Al−およびTi−錯体または有機金属化合物である。
新規の潜伏性触媒化合物も本発明の主題である。
したがって、式IまたはII
Me(PI)(m-x)x(I)
x(PI)(m-1-x)Me−O−Me(PI)(m-1-x)x(II)
[式中、
Meは、Sn、Bi、Al、ZrまたはTiであり;
mは、1からMeの配位数までの整数を表し;
xは、0〜(m−1)の整数であり;
Aは、C1−C20アルキル、C7−C30アリールアルキル、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルカノイルオキシ、C6−C18アリール、あるいは1つ以上のC1−C20アルキルによって置換されたC6−C18アリールであり;あるいはxが1である場合は、Aは、さらにハロゲンであり;xが1より大きい場合は、Aは同一であるか、または異なっており、
PIは、互いに独立して、式(Z)、(B)、(C)、(D)、(F)、(G)、(H)、(J)、(K)または(M)
Figure 0005765938
の基であり、
式中、yは、0または1であり;
1、R2およびR3は、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、C6−C18−アリール、C7−C30−アラルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ、ハロゲン、N(C1−C4−アルキル)2、または−O−もしくはNR10によって場合により中断されたN(C4−C7−シクロアルキル)であり;
4は、水素、C1−C4−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、フェニル、N(C1−C4−アルキル)2、COOCH3
Figure 0005765938
であり、あるいは
3およびR4は、ともに、S、O、NR10、CH2またはCHCH3、特にSであり;
n、n’およびn"は、互いに独立して1〜10であり;
qは、1〜4であり;
5は、水素またはC1−C18−アルコキシであり;
6は、水素、C1−C18−アルキル、C1−C12−ヒドロキシアルキル、C1−C18−アルコキシ、OH、−OCH2CH2−OR18、モルホリノ、C1−C18−アルキル−S−、HS−、NR1920、H2C=CH−、H2C=C(CH3)−、H2C=CH−CO−、H2C=CH―(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−、H2C=C(CH3)−(CO)O−、
Figure 0005765938
であり;
a、bおよびcは、互いに独立して1〜3であり;
1およびG2は、互いに独立して、ポリマー構造の末端基、好ましくは水素またはメチルであり;
1およびY3は、互いに独立して、直接結合、O、(CO)O、NR10、C1−C20アルキレン、C1−C20アルキレン−O−、C1−C20アルキレン−(CO)O−、または
Figure 0005765938
であり;
2は、直接結合またはC1−C20−アルキレンであり;
7およびR8は、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、非置換フェニルもしくはベンジル:またはC1−C12−アルキルによって置換されたフェニルもしくはベンジルであり;あるいはR7およびR8は、それらが結合した炭素原子と一緒になって、シクロヘキシル環を形成し;
9は、OHまたはNR1920であり;
10は、水素、C1−C18−アルキル、C2−C18アルケニル、C1−C12ヒドロキシアルキルまたはC1−C12ハロゲノアルキルであり;
11、R12、R13、R14およびR15は、互いに独立して、水素、非置換C1−C12−アルキル、もしくはOHによって置換されたC1−C12−アルキル、C1−C4−アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲンまたはCNであり;アルキル鎖は、1つ以上のOによって場合により中断されており;あるいはR11、R12、R13、R14およびR15は、互いに独立して、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ、NR1920、H2C=CH−CO−、H2C=CH−(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−またはH2C=C(CH3)−(CO)O−であり;
18は、水素、
Figure 0005765938
であり;
19およびR20は、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C4ヒドロキシアルキル、C2−C10アルコキシアルキル、C2−C5アルケニル、C3−C8シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキル、C1−C8アルカノイル、C3−C12アルケノイル、ベンゾイルであり;あるいはそれぞれが非置換であるか、またはC1−C12アルキル、ベンゾイルもしくはC1−C12アルコキシによって置換されたフェニルまたはナフチルであり;あるいはR19およびR20は、ともに、OもしくはNR21によって場合により中断され、かつ/またはOH、C1−C4アルコキシ、C2−C4アルカノイルオキシもしくはベンゾイルオキシによって場合により置換されたC2−C6アルキレンであり、あるいはそれらが結合したN原子と一緒になって、
Figure 0005765938
であり;
21およびR22は、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C12アルケニル、C3−C8シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキルであり;OH、SH、CN、C1−C8アルカノイル、非置換であるか、または1つ以上のC1−C6アルキル、ハロゲン、OH、C1−C4アルコキシもしくはC1−C4アルキルスルファニルで置換されたベンゾイルで置換されたC1−C8アルキルであり;あるいはそれぞれが非置換であるか、またはハロゲン、C1−C12アルキル、C1−C12アルコキシ、フェニル−C1−C3アルキルオキシ、フェノキシ、C1−C12アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−N(C1−C12アルキル)2、ジフェニルアミノによって置換されたフェニルまたはナフチルであり;
23は、C1−C12アルキル、フェニル、4−モルホリノフェニル、C1−C12アルキルフェニル、またはOによって場合により中断されたC3−C8シクロアルキルで置換されたフェニルであり;
24は、水素、メチルまたはエチルであり;
25は、水素またはC1−C4アルキルであり;
26およびR27は、互いに独立して、非置換であるか、またはC1−C4アルコキシもしくはフェニルによって置換されたC1−C20アルキルであり、あるいは
26およびR27は、ともにC2−C4アルキレンであり;
35およびR36は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、C1−C4ハロアルキル、CN、NO2、C2−C6アルカノイル、ベンゾイル、フェニル、−S−フェニル、フェノキシ、C2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルであり、あるいはR35およびR36は、ともに−C(R39)=C(R40)−C(R41)=C(R42)−であり;
37は、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはC4−C20ヘテロアリールであり、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはC4−C20ヘテロアリールは、非置換であるか、または1つ以上のC1−C12アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロゲン、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920および/またはS−フェニルによって置換されており、置換基OR21、SR22および/またはNR1920は、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルもしくはC4−C20ヘテロアリール環上のさらなる置換基とともに、またはフェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルもしくはC4−C20ヘテロアリール環の炭素原子の1つとともに基R21、R22、R20および/またはR19を介して5員または6員環を形成することが可能であり、あるいは
yが0であれば、R37は、さらにC2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルまたはCNであり;あるいは
38が同時に水素またはC1−C12アルキルでなければ、R37は、水素またはC1−C12アルキルであり;
38は、R37の意味の1つを有し、あるいは非置換またはCN置換フェニル、C2−C6アルカノイル、非置換であるか、またはC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたベンゾイルであり、あるいはR38は、フェノキシカルボニル、NO2、C1−C4ハロアルキルであり、あるいはR37およびR38は、CO基と一緒になって、非置換であるか、またはC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換された5員または6員環を形成し、前記環は、O、S、NR10および/またはCOによって場合により中断されており、1つ以上のベンゾ基が前記環に場合により縮合されており;
39、R40、R41およびR42は、互いに独立して、水素、C1−C4アルキル、ハロゲン、フェニル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、−S−フェニル、フェノキシ、C2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、NO2またはC1−C4ハロアルキルである]の潜伏性触媒化合物が興味深い。
式IまたはIIの化合物におけるMeは、例えば、Sn、Bi、ZrもしくはTi、例えば、Bi、ZrもしくはTiであり、または例えばBiもしくはZr、好ましくはZrである。
式IまたはIIの化合物におけるPIは、例えば、
以上に定義されている基(Z)、(B)、(C)、(D)、(E)、(F)、(G)、(H)、(J)、(K)もしくは(M)、例えば、
基(Z)、(B)、(C)、(D)、(E)、(F)、(G)、(H)、(J)、(K)もしくは(M);または
基(Z)、(B)、(C)、(D)、(F)、(G)、(H)、(J)、(K)、(L)もしくは(M);または
基(Z)、(B)、(C)、(D)、(F)、(G)、(J)、(K)もしくは(M);または
基(Z)、(B)、(C)、(D)、(F)、(G)、(H)、(J)、(K)もしくは(L);または
基(Z)、(B)、(C)、(D)、(F)、(G)、(J)もしくは(K);または
基(Z)、(B)、(C)、(D)、(E)、(F)、(G)、(L)もしくは(M);または
基(Z)、(B)、(C)、(D)、(F)もしくは(G);または
基(Z)、(B)、(C)、(D)、(F)もしくは(G);または
基(Z)もしくは(L);または
基(Z)、(B)、(C)、(D)、(F)、(G)もしくは(L)であり;
基(Z)が好適である。
特にMeがBiである場合における興味深い光活性成分「PI」の例は、例えば、R3およびR4が水素であり、R1が水素、ハロゲン、C1−C4アルコキシまたはC1−C4アルキルチオであるもの等の、以上に定義されている式(Z)の基である。
特に、MeがBiおよびZrの場合に、金属原子に結合した2〜3個の配位子PI−(CO)O−がさらに興味深い。
本発明の化合物が光活性成分PIとして基(L)を含み、xが0である場合は、興味深い化合物は、基R30、R31またはR32の少なくとも1つが芳香族基、例えばフェニルまたはベンジルを含むもの等である。
xが0であり、光活性成分PIとして基(L)を含み、光活性成分(L)に加えて、以上に定義されている基から選択される、(L)以外のさらなる光活性成分を含む本発明の当該化合物がさらに興味深い。
式IまたはII
[式中、
Meは、Sn、Bi、Al、ZrまたはTiであり;
mは、1からMeの配位数までの整数を表し;
xは、0〜(m−1)の整数であり;
Aは、C1−C20アルキル、ハロゲン、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルカノイルオキシまたはC6−C18アリールであり;
PIは、互いに独立して、式(Z)、(B)、(C)、(D)、(E)、(F)、(G)、(L)または(M)の基であり;
yは、0または1であり;
1、R2およびR3は、互いに独立して、水素またはC1−C6−アルキルであり;
4は、水素であり、またはR3およびR4は、ともにSであり;
5は、水素であり;
6は、水素であり;
1およびY3は、互いに独立して、O、(CO)O、C1−C20アルキレン、C1−C20アルキレン−O−またはC1−C20アルキレン−(CO)O−であり;
2は、直接結合であり;
7およびR8は、互いに独立して、C1−C6−アルキルであり、またはR7およびR8は、それらが結合した炭素原子と一緒になって、シクロヘキシル環を形成し;
11、R12、R13、R14およびR15は、水素であり;
16は、フェニルであり;
17は、CNであり;
19およびR20は、それらが結合したN原子と一緒になって、
Figure 0005765938
であり;
30は、水素、C1−C4アルキルであり、またはフェニルもしくはベンゾイルフェニルによって置換されたアルキルであり;
31は、C1−C12アルキル、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルであり;
32は、C1−C12アルキル、C1−C4アルコキシ、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルであり;
33は、C1−C8アルコキシまたはベンゾイルであり;
37は、非置換であるか、または1つ以上のC1−C12アルキルによって置換されたフェニルであり、あるいはyが0である場合、R37は、さらにCNであり;
38は、R37の意味の1つを有する]の潜伏性触媒化合物が興味深い。
xは、例えば、0〜6;0〜4であり;または0、1、2、3もしくは4である0〜(m−1)の整数である。
金属(Me)がSnである場合は、xは、例えば、好ましくは0、2または3、特に2または3である。
金属(Me)がBiである場合は、xは、例えば、好ましくは0、1または2、特に0または1である。
金属(Me)がZrである場合は、xは、例えば0または1、特に0である。
金属(Me)がAlである場合は、xは、好ましくは0である。
金属(Me)がTiである場合は、xは、例えば、好ましくは0または1または2である。
Meは、例えば、Sn、Bi、Al、ZrもしくはTiであり;またはSn、Bi、AlもしくはZrであり;またはSn、Bi、AlもしくはTiであり;またはSn、Bi、ZrもしくはTiであり;またはBi、Al、ZrもしくはTiであり;またはBi、ZrもしくはTiであり;またはBiもしくはZrである。Sn、Bi、Zr、特にBiおよびZrが好適である。
Aは、例えば、C1−C20アルキル、ハロゲン、C7−C30アリールアルキル、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルカノイルオキシ、C6−C18アリール、または1つ以上のC1−C20アルキルによって置換されたC6−C18アリールであり;あるいは例えば、C1−C20アルキル、ハロゲン、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルカノイルオキシまたはC6−C18アリール、特に、C1−C12アルキルまたはフェニル、特にC1−C12アルキルである。
Aがハロゲンである場合は、Xは、例えば1または2である。
2つ以上の基Aが分子内に存在する場合は、前記基は、同一であるか、または異なっている(以上に示されているAの定義の範囲内)であることが自明である。
1、R2、R3は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、C6−C18−アリール、C7−C30−アラルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、ハロゲン、N(C1−C4−アルキル)2、または−O−もしくはNR10によって場合により中断されたN(C4−C7−シクロアルキル)であり;あるいは
例えば、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、C6−C18−アリール、C1−C4−アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、N(C1−C4−アルキル)2、または−O−もしくはNR10によって場合により中断されたN(C4−C7−シクロアルキル)であり;あるいは
例えば、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、C6−C18−アリール、C1−C4−アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、N(C1−C4−アルキル)2、または−O−もしくはNR10によって場合により中断されたN(C4−C7−シクロアルキル)であり;あるいは
例えば、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、N(C1−C4−アルキル)2またはモルホリニルであり;あるいは互いに独立して、水素またはC1−C6−アルキルである。
4は、例えば、水素、C1−C4−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、フェニルまたはN(C1−C4−アルキル)2、であり、あるいはR3およびR4は、ともに、S、O、NR10、CH2またはCHCH3、特にSであり;あるいは
4は、例えば、水素、C1−C4−アルキルまたはC1−C4−ハロゲンアルキルであり、あるいはR3およびR4は、ともに、S、CH2またはCHCH3、特にSであり;あるいは
4は、例えば、水素またはC1−C4−アルキルであり、あるいはR3およびR4は、ともにSである。
5は、水素またはC1−C18−アルコキシ、特に水素である。
6は、例えば、水素、C1−C18−アルキル、C1−C12ヒドロキシアルキル、C1−C18−アルコキシ、OH、−OCH2CH2−OR18、モルホリノ、C1−C18−アルキル−S−、HS−、NR1920、H2C=CH−、H2C=C(CH3)−、H2C=CH−CO−、H2C=CH―(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−、H2C=C(CH3)−(CO)O−、
Figure 0005765938
であり;あるいは
6は、例えば、水素、C1−C18−アルキル、C1−C12ヒドロキシアルキル、C1−C18−アルコキシ、OH、−OCH2CH2−OR18、モルホリノ、C1−C18−アルキル−S−、HS−、−NR1920、H2C=CH−、H2C=C(CH3)−、H2C=CH−CO−、H2C=CH―(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−またはH2C=C(CH3)−(CO)O−であり;あるいは
6は、例えば、水素、C1−C18−アルキル、C1−C12ヒドロキシアルキル、C1−C18−アルコキシ、OH、H2C=CH−、H2C=C(CH3)−、H2C=CH−CO−、H2C=CH―(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−またはH2C=C(CH3)−(CO)O−であり;あるいは
6は、例えば、水素、C1−C18−アルキル、C1−C12ヒドロキシアルキル、C1−C18−アルコキシまたはOHであり;あるいは
6は、例えばまたは水素、C1−C18−アルキル、特に水素である。
1およびY3は、例えば、互いに独立して、直接結合、O、(CO)O、NR10、C1−C20アルキレン、C1−C20アルキレン−O−またはC1−C20アルキレン−(CO)O−であり;あるいは
1およびY3は、例えば、互いに独立して、O、(CO)O、C1−C20アルキレン、C1−C20アルキレン−O−またはC1−C20アルキレン−(CO)O−であり;
2は、直接結合またはC1−C20アルキレン;特に直接結合である。
7およびR8は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、非置換フェニルもしくはベンジル:またはC1−C12−アルキルによって置換されたフェニルもしくはベンジルであり;あるいはR7およびR8は、それらが結合した炭素原子と一緒になって、シクロヘキシル環を形成し;あるいは
7およびR8は、例えば、互いに独立して、C1−C6−アルキル、ベンジル、またはC1−C12−アルキルによって置換されたベンジルであり;あるいはR7およびR8は、それらが結合した炭素原子と一緒になって、シクロヘキシル環を形成し;あるいは
7およびR8は、例えば、互いに独立して、C1−C6−アルキル、ベンジルであり、あるいはR7およびR8は、それらが結合した炭素原子と一緒になって、シクロヘキシル環を形成し;あるいは
7およびR8は、互いに独立して、C1−C6−アルキルであり、あるいはR7およびR8は、それらが結合した炭素原子と一緒になって、シクロヘキシル環を形成する。
10は、例えば、水素、C1−C18−アルキル、C2−C18アルケニル、C1−C12ヒドロキシアルキルまたはC1−C12ハロゲノアルキルであり;あるいは
10は、例えば、水素、C1−C18−アルキルまたはC2−C18アルケニルであり;あるいは
10は、例えば、水素またはC1−C18−アルキル、特にC1−C4アルキルである。
11、R12、R13、R14およびR15は、例えば、互いに独立して、水素、非置換C1−C12−アルキル、もしくはOHによって置換されたC1−C12−アルキル、C1−C4−アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲンまたはCNであり(アルキル鎖は、1つ以上のOによって場合により中断されている)、あるいは互いに独立して、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ、NR1920、H2C=CH−CO−、H2C=CH−(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−またはH2C=C(CH3)−(CO)O−であり;あるいは
11、R12、R13、R14およびR15は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C12−アルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ、NR1920、H2C=CH−CO−、H2C=CH−(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−またはH2C=C(CH3)−(CO)O−であり;あるいは
11、R12、R13、R14およびR15は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C12−アルキル、特に水素である。
16は、例えば、フェニルまたはナフチルであり、いずれも非置換であるか、またはハロゲン、C1−C12アルキル、フェノキシカルボニル、C2−C12アルコキシカルボニル、OR21、SR22、および/またはNR1920によって1〜7回にわたって置換されており、置換基OR21、SR22およびNR1920は、フェニルまたはナフチル環上のさらなる置換基とともに基R21、R22、R19および/またはR20を介して5員または6員環を場合によって形成し;あるいはそれらの各々が、フェニル、または1つ以上のOR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたフェニルによって置換されており;あるいは
16は、チオキサンチル、または
Figure 0005765938
であり;あるいは
16は、例えば、非置換であるか、またはハロゲン、C1−C12アルキル、フェノキシカルボニル、C2−C12アルコキシカルボニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって1〜7回にわたって置換されたフェニルであり、あるいはチオキサンチル、または
Figure 0005765938
であり;あるいは
16は、例えば、非置換であるか、またはハロゲン、C1−C12アルキルおよび/またはSR22によって置換されたフェニルであり、あるいはチオキサンチル、または
Figure 0005765938
であり;特に、R16はフェニルである。
17は、例えば、水素;非置換C1−C20アルキル、または1つ以上のハロゲンによって置換されたC1−C20アルキル、OR21もしくはフェニルであり;あるいはC3−C8シクロアルキルであり;あるいは非置換であるか、または1つ以上のC1−C6−アルキル、フェニル、ハロゲン、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたフェニルであり;あるいは非置換であるか、または1つ以上のC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたC1−C20アルカノイルもしくはベンゾイルであり;あるいはC2−C12アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、−CONR1920、NO2またはC1−C4ハロアルキルであり;あるいは
17は、例えば、水素、C1−C20アルキル、1つ以上のハロゲンによって置換されたC1−C20アルキルであり;あるいはフェニル、C1−C20アルカノイル、ベンゾイル、C2−C12アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、−CONR1920、NO2またはC1−C4ハロアルキルであり;あるいは
17は、例えば、水素、C1−C20アルキル、1つ以上のハロゲンによって置換されたC1−C20アルキルであり;あるいはCNであり;
17は、特に、1つ以上のハロゲンによって置換されたC1−C20アルキルであり;あるいはCNであり、特にCNである。
19およびR20は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C4ヒドロキシアルキル、C2−C10アルコキシアルキル、C2−C5アルケニル、C3−C8シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキル、C1−C8アルカノイル、C3−C12アルケノイル、ベンゾイルであり;非置換であるか、またはC1−C12アルキル、ベンゾイルもしくはC1−C12アルコキシによって置換されたフェニルであり;あるいはR19およびR20は、ともに、OもしくはNR21によって場合により中断されたC2−C6アルキレンであり、あるいはそれらが結合したN原子と一緒になって、
Figure 0005765938
であり;あるいは
19およびR20は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C4ヒドロキシアルキル、フェニル−C1−C3アルキル、C1−C8アルカノイル、非置換であるか、またはC1−C12アルキルによって置換されたフェニルであり;あるいはR19およびR20は、ともにモルホリニルであり、あるいはそれらが結合したN原子と一緒になって、
Figure 0005765938
であり;あるいは
19およびR20は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C4ヒドロキシアルキル、フェニル−C1−C3アルキルまたはフェニルであり;あるいはR19およびR20は、ともにモルホリニルであり、あるいはそれらが結合したN原子と一緒になって、
Figure 0005765938
であり;特に、R19およびR20は、それらが結合したN原子と一緒になって、
Figure 0005765938
である。
21およびR22は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C12アルケニル、C3−C8シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキル、ベンゾイル、フェニルまたはナフチルであり;あるいは
21およびR22は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、ベンジル、ベンゾイルまたはフェニル;特に水素またはC1−C20アルキルである。
23は、例えば、C1−C12アルキル、フェニル、4−モルホリノフェニル、C1−C12アルキルフェニル、またはOによって場合により中断されたC3−C8シクロアルキルで置換されたフェニルであり;あるいは
23は、例えば、C1−C12アルキル、フェニル、4−モルホリノフェニルまたはC1−C12アルキルフェニルであり;あるいは
23は、例えば、4−モルホリノフェニルまたはC1−C12アルキルフェニルである。
26およびR27は、例えば、互いに独立して、非置換であるか、またはC1−C4アルコキシもしくはフェニルによって置換されたC1−C20アルキルであり、あるいはR26およびR27は、ともにC2−C4アルキレンであり;あるいは
26およびR27は、例えば、互いに独立して、非置換であるか、またはC1−C4アルコキシもしくはフェニルによって置換されたC1−C20アルキルであり;あるいは
26およびR27は、例えば、互いに独立してC1−C20アルキルである。
30は、例えば、水素、C1−C4アルキル、C2−C5アルカノイル、(C1−C4アルコキシ)カルボニルであり、あるいはフェニル、ベンゾイルもしくはベンゾイルフェニルによって置換されたアルキルであり;あるいはフェニルであり、または1つ以上のR34によって置換されたフェニルであり;あるいは
30は、例えば、水素、C1−C4アルキル、フェニル、ベンゾイルもしくはベンゾイルフェニルによって置換されたアルキルであり;あるいはフェニルであり;あるいは
30は、例えば、水素、C1−C4アルキル、フェニルもしくはベンゾイルフェニルによって置換されたアルキルである。
31は、例えば、C1−C12アルキル、C1−C4アルコキシ、N(C1−C4アルキル)2、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルであり;あるいは
31は、例えば、C1−C12アルキル、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルである。
32は、例えば、C1−C12アルキル、C1−C4アルコキシ、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルである。
33は、例えば、C1−C4アルキル、C1−C8アルコキシ、C1−C6チオアルキル、N(C1−C4アルキル)2、ベンゾイル、または1つ以上のR34によって置換されたベンゾイルであり;あるいは
33は、例えば、C1−C4アルキル、C1−C8アルコキシ、C1−C6チオアルキル、N(C1−C4アルキル)2またはベンゾイルであり;あるいは
33は、例えば、C1−C8アルコキシ、C1−C6チオアルキル、N(C1−C4アルキル)2またはベンゾイルであり;あるいは
33は、特に、C1−C8アルコキシまたはベンゾイルである。
34は、例えば、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキルまたはN(C1−C4アルキル)2であり;特に、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシまたはN(C1−C4アルキル)2であり、特に、C1−C4アルキルまたはC1−C4アルコキシである。
35およびR36は、例えば、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、C1−C4ハロアルキル、CN、NO2、C2−C6アルカノイル、ベンゾイル、フェニル、−S−フェニル、フェノキシ、C2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルであり、あるいはともに−C(R39)=C(R40)−C(R41)=C(R42)−であり;あるいは
35およびR36は、例えば、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1−C4アルキルであり、あるいはともに−C(R39)=C(R40)−C(R41)=C(R42)−であり;あるいは
35およびR36は、例えば、互いに独立して、水素またはC1−C4アルキル、特に水素である。
37は、例えば、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはC4−C20ヘテロアリールであり、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはC4−C20ヘテロアリールは、非置換であるか、または1つ以上のC1−C12アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロゲン、フェニル、OR21、SR22、NR1920および/または−S−フェニルによって置換されており、あるいはyが0であれば、R37は、さらにC2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルまたはCNであり、あるいは
38が同時に水素またはC1−C12アルキルでなければ、R37は、水素またはC1−C12アルキルであり;あるいは
37は、例えば、フェニルまたはナフチルであり、フェニルまたはナフチルは、非置換であるか、または1つ以上のC1−C12アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロゲン、フェニル、OR21、SR22、NR1920および/または−S−フェニルによって置換されており、あるいはyが0であれば、R37は、さらにC2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルまたはCNであり、あるいはR38が同時に水素またはC1−C12アルキルでなければ、R37は、水素またはC1−C12アルキルであり;
37は、例えば、非置換であるか、または1つ以上のC1−C12アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロゲン、フェニル、OR21、SR22、NR1920および/または−S−フェニルによって置換されたフェニルであり、あるいはyが0であれば、R37は、さらにCNであり、あるいはR38が同時に水素またはC1−C12アルキルでなければ、R37は、水素またはC1−C12アルキルである。
38は、例えば、R37の意味の1つを有する。
39、R40、R41およびR42は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C4アルキル、ハロゲン、フェニル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、−S−フェニル、フェノキシ、C2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、NO2またはC1−C4ハロアルキルであり;あるいは
39、R40、R41およびR42は、例えば、互いに独立して、水素、C1−C4アルキル、ハロゲン、CN、NO2またはC1−C4ハロアルキルであるであり;
39、R40、R41およびR42は、例えば、互いに独立して、水素またはC1−C4アルキルである。
式Iの化合物が好適である。
以下の実施例1〜59に示される化合物がさらに好適である。
金属原子のすべての配位におけるさらなる興味深い潜伏性触媒化合物は、金属−C結合(および金属−O−C結合)を含む。
Snブチル3成分を含まない当該化合物が潜伏性触媒化合物として好適である。
これらの組成物、およびそれらを架橋させるための方法は、封入剤、シール材、接着剤、発泡体、印刷基板および塗料、特に交通(自動車)用塗料および工業用塗料として有用である。交通用塗料としては、これらの組成物は、OEM(元の装置製造者)塗料および自動車用再仕上げ塗料の両方として有用である。それらを下塗り塗料として使用することもできる。それらは、しばしば雰囲気条件下で硬化して強靭な硬質塗料になり、透明または着色下塗、中間塗料および上塗として使用され得る。これにより、それらは、交通車両を野外で再塗装するのに特に有用になる。
本発明は、ルイス酸型反応物質によって触媒される重付加または重縮合反応のための触媒としての(光)潜伏性化合物を提供する。ポリオールとイソシアネートとの反応が特に好適である。
よって、本発明の主題は、また、特にブロックまたは非ブロックイソシアネートまたはイソチアシアネート成分をポリオールで架橋させてポリウレタン(PU)を形成するための、ルイス酸型反応物質によって触媒される重付加または重縮合反応のための触媒としての上記潜伏性触媒化合物、ならびに
(a)少なくとも1つのブロックまたは非ブロックイソシアネートまたはイソチオシアネート、
(b)少なくとも1つのポリオール、および
(c)少なくとも1つの上記潜伏性触媒化合物を含む重合性組成物の使用である。
該光重合性組成物は、全組成物に対して、一般に0.001〜15質量%、例えば0.05〜15質量%、好ましくは0.01〜5質量%、最も好ましくは0.1〜5質量%の潜伏性触媒化合物を含む。
本発明は、また、金属触媒または様々な金属触媒の混合物によって触媒される他の重付加または重縮合架橋方法を包含する。シリコンゴムを室温で硬化させるための金属触媒混合物の使用は、例えば、P.ScholeyらによってEP803540に記載されている。その応用の例は、例えばWO2006136211およびWO2007117552に報告されている、シラン架橋接着剤またはシール材に使用されるシロキサン変性バインダである。金属触媒架橋反応の他の例は、例えば、シロキサン末端オリゴマーと、耐摩耗性および耐光性塗料の製造に使用されるエポキシド(M.Priesch、DE19935471)との反応、エポキシ樹脂とヒドロキシル末端ポリ(ジメチルオキシシラン)およびアミノプロピルトリエトキシシラン架橋剤(M.Alagar et al.Eur.Polym.J.2000,36,2449)との反応、あるいは加水分解性シリル基を末端とするポリエーテルとエポキシシランおよびケチミン(Y.Murayama,JP06049346)またはH.M.HaugsbyらによってEP399682に記載されているオキシモ−エトキシ官能性シール材との反応である。生体汚染防止のための室温での加硫(RTV)シロキサンゴムの使用は、J.M.Delehanty et al,GB2444255によって報告されている。金属触媒によって触媒されるゾル−ゲル反応は、例えば、J.Mendez−Vivar,J.of Sol−Gel Sci.Technol.2006,38(2)、159に記載されている。
ここに挙げられている金属触媒のいくつかは、光潜伏性触媒としての使用について主張された。しかし、それらは、本出願に主張されているもののように重付加または重縮合反応を行わない異なる樹脂系に使用される。また、それらは、必然的に助触媒を必要とする。例として、S.HayaseらによってEP76102には、エポキシドの光重合のための触媒としてアルミニウムキレート化合物が主張されている。しかし、α−ケトシリル化合物が助触媒として必要である。さらに、先述の特許出願には、エポキシド単独重合の他に、例えばポリオールのイソシアネートへの付加等の他の架橋方法が挙げられていない。
本発明の別の主題は、ルイス酸の存在下で架橋することが可能な化合物を重合するための方法であって、請求項1〜6のいずれか一項に記載の化合物を前記化合物に添加し、得られた混合物に200〜650nmの波長範囲の電磁放射線を照射する方法であって、特に、ルイス酸の存在下で架橋することが可能な成分が、(a)ブロックまたは非ブロックイソシアネートまたはイソチオシアネートと(b)ポリオールとの混合物である方法である。
本発明のさらなる主題は、接着剤、塗料、シール材、注封部品、印刷インク、印刷基板、発泡体、成形材料または光構造層を製造するための上記の方法、ならびに接着剤、塗料、シール材、注封部品、印刷インク、印刷基板、発泡体、成形材料または光構造層を製造するための上記の重合性組成物の使用である。別の主題は、少なくとも1つの面が上記の組成物で塗装された塗装基材、および上記の重合または架橋組成物である。
ポリオール(成分(b))は、一般には、少なくとも2つのヒドロキシ官能基を有するポリマーまたはオリゴマー有機化学種として定義される。
好適なポリオールの例としては、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、グリセロール、1,2,6−ヘキサントリオール、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、2−メチルプロパン−1,3−ジオール、ネオペンチルグリコール、2−ブチル−2−エチル−1、3−プロパンジオール、シクロヘキサン−1,4−ジメチロール、ネオペンチルグリコールおよびヒドロキシピバル酸のモノエステル、水素化ビスフェノールA、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチルペンタン−1,3−ジオール、ジメチロールプロピオン酸、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール等、およびそれらの混合物が挙げられる。
少なくとも2つのヒドロキシル官能基を含むヒドロキシル官能性化合物を、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエステルポリオール、例えばポリ−THF−ポリオール、ポリアクリレートポリオール、ポリウレタンポリオール、セルロースアセトブチレート、ヒドロキシル官能性エポキシ樹脂、アルキド、およびWO93/17060に記載されているもの等のデンドリマーポリオールから選択することもできる。また、ヒドロキシル官能性オリゴマーおよびモノマー、例えばヒマシ油およびトリメチロールプロパン等のHO官能性ビニルオリゴマーを含めることができる。興味深いポリオールは、アクリレートポリオール、例えば、Nuplex Resinsから入手可能なアクリレートポリオールSetalux(登録商標)製品(例えばSetalux(登録商標)1157、Setal(登録商標)1606BA−80)またはBayer Material ScienceのDesmophen(登録商標)製品(例えばDesmophen(登録商標)AVP LS2350)である。
また、本発明の文脈において、例えば水性2Kポリウレタン等の水性系に好適なポリオール成分を使用することができる。当該ポリオール成分は、例えば、商品名BAYHYDROL(登録商標)、例えばBAYHYDROL(登録商標)XP2470でBayer Material Scienceから市販されている。
好適なイソシアネート成分は、例えば、ヒドロキシルと反応することが可能な官能基を有するイソシアネートであり、
Figure 0005765938
[式中、
70はヒドロカルビル構造である]の構造を有する。
有機(ポリ)イソシアネートは、例えば平均NCO官能価が2.5〜5である例えば多官能性の好ましくは遊離ポリイソシアネートを含み、本質的に脂肪族、脂環式、芳香脂肪族または芳香族であってよい。例は、ジイソシアネート、トリイソシアネートまたはテトライソシアネートである。ポリイソシアネートは、ビウレット、ウレタン、ウレトジオンおよびイソシアヌレート誘導体を含むことができる。好適なポリイソシアネートは、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレートおよびイソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート等のイソシアヌレート構造単位を有するポリイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート等の2分子のジイソシアネートとエチレングリコール等のジオールとの付加物;ヘキサメチレンジイソシアネートのウレチジオン;イソホロンジイソシアネートまたはイソホロンジイソシアネートのウレチジオン;トリメチロールプロパンとメタ−テトラメチルキシレンジイソシアネートとの付加物等を含むことができる。
これらの有機ポリイソシアネートの例としては、1,6−ジイソシアナトヘキサン、イソホロンジイソシアネート、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタン−ジイソシアネート、4,4’−ビス(イソシアナト−シクロヘキシル)メタン、1,4−ジイソシアナトブタン、1,5−ジイソシアナト−2,2−ジメチルペンタン、2,2,4−トリメチル−1,6−ジイソシアナトヘキサン、1,10−ジイソシアナトデカン、4,4−ジイソシアナト−シクロヘキサン、2,4−ヘキサヒドロトルエンジイソシアネート、2,6−ヘキサヒドロトルエンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、1−イソシアナト−3−(イソシアナトメチル)−1−メチルシクロヘキサン、m−α,α−α’,α’−テトラメチルキシレンジイソシアネート、1,2−プロピレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、2,3−ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、ω,ω−ジプロピルエーテルジイソシアネート、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、1,2−シクロヘキサンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4−メチル−1,3−ジイソシアナトシクロヘキサン、トランス−ビニリデンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、3,3’−ジメチル−ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、1,3−ビス(1−イソシアナト−メチルエチル)ベンゼン、1,4−ビス(1−イソシアナト−1−メチル−エチル)ベンゼン、1,3−ビス(イソシアナトメチル)ベンゼン、キシレンジイソシアネート、1,5−ジメチル−2,4−ビス−(イソシアナトメチル)ベンゼン、1,5−ジメチル−2,4−ビス(2−イソシアナトエチル)ベンゼン、1,3,5−トリエチル−2,4−ビス(イソシアナトメチル)ベンゼン、4,4’−ジイソシアナトジフェニル、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジイソシアナトジフェニル、3,3’−ジフェニル−4,4’−ジイソシアナトジフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジイソシアナトジフェニル、4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタン、ジイソシアナトナフタレン、それらの上記誘導体、ならびにそれらの混合物が挙げられる。さらなる例は、イソシアヌレート構造単位を有するポリイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートまたはイソホロンジイソシアネート等の2分子のジイソシアネートとエチレングリコール等のジオールとの付加物、3分子のヘキサメチレンジイソシアネートと1分子の水との付加物(例えば、商品名Desmodur(登録商標)NでBayer Corporationから入手可能)、1分子のトリメチロールプロパンと3分子のトルエンジイソシアネートとの付加物(例えば、商品名Desmodur(登録商標)LでBayer Corporationから入手可能)1分子のトリメチロールプロパンと3分子のイソホロンジイソシアネートとの付加物、1,3,5−トリイソシアナトベンゼンおよび2,4,6−トリイソシアナトトルエン等の化合物、ならびに1分子のペンタエリスリトールと4分子のトルエンジイソシアネートとの付加物である。
ヒドロキシル基と反応することが可能なイソシアネートの具体例は、BayerのDesmodur(登録商標)3300である。理想化された構造を以下に示す(ペンタマー、ヘプタマーおよびより高分子量の化学種も存在し得る)。
Figure 0005765938
通常、これらの製造物は、室温で液体であり、広範に市販されている。特に好適なイソシアネート硬化剤は、トリイソシアネートおよび付加物である。それらの例は、1,8−ジイソシアナト−4−(イソシアナトメチル)オクタン、3モルのトルエンジイソシアネートと1モルのトリメチロールプロパンとの付加物、1,6−ジイソシアナトヘキサンのイソシアヌレートトリマー、イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレートトリマー、1,6−ジイソシアナトヘキサンのウレトジオンダイマー、1,6−ジイソシアナトヘキサンのビウレットトリマー、3モルのm−α,α−α’,α’,−テトラメチルキシレンジイソシアネートと1モルのトリメチロールプロパンとの付加物、およびそれらの混合物である。
1,6−ヘキサンジイソシアネートおよびイソホロンジイソシアネートの環式トリマー(イソシアヌレート)およびウレトジオンが特に興味深い。通常、これらの化合物は、それらのより高次の相同体を少量含む。
場合により、この組成物が水性塗料組成物として使用される場合、C1−C4−アルコキシポリアルキレンオキシド基等の非イオン性基で置換された有機親水性ポリイソシアネート化合物を含むこともできる。例えば、30質量%、例えば20質量%、好ましくは15質量%の非イオン性基が、全固形ポリイソシアネート化合物上に存在することになる。
本明細書における組成物のいずれにおいても、ポリマー材料は、比較的低分子量から比較的高分子量であってよい。それらは、溶媒の必要性を回避し、または最小限にするように、架橋前の組成物の粘度を低く維持するように比較的低分子量であるのが好適である。
該組成物に場合により存在し得る他の材料は、1つ以上の溶媒を含む(かつ、溶媒としてのみ作用することを意図する)。これらは、好ましくは、ヒドロキシルまたは一級もしくは二級アミノ等の基を含まない。
用途に応じて、該組成物は、他の材料を含むことができる。成分、添加剤または助剤(d)は、顔料、染料、乳化剤(界面活性剤)、顔料分散助剤、均染剤、へこみ防止剤、消泡剤、湿潤剤、垂れ防止剤、熱安定剤、UV吸収剤、酸化防止剤および充填剤である。
例えば、特に封入剤およびシール材として使用されるときは、該組成物は、充填剤、顔料および/または酸化防止剤を含むことができる。
塗料として使用されるときは、これらの組成物は、以下に記載される、当該技術分野で既知の典型的な添加成分を場合により含むことができる。例えば、不活性であり、またはヒドロキシルもしくはイソシアネート以外の官能基を有するとともに、塗料組成物における他の反応性材料と反応することになる他のポリマー(e)(特に低分子量、「官能化オリゴマー」)が存在してよい。
塗料の成分または潜在的架橋剤として使用することができる当該官能化オリゴマーの代表例を以下に示す。
− ヒドロキシルオリゴマー:例えば、ペンタエリスリトール、ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン等の多官能性アルコールと、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物等の環式モノマー無水物との反応生成物は、酸オリゴマーを生成する。これらの酸オリゴマーをブチレンオキシドおよびプロピレンオキシド等の一官能性エポキシドとさらに反応させて、ヒドロキシルオリゴマーを形成する。
− シランオリゴマー:例えば、上記ヒドロキシルオリゴマーをイソシアナトプロピルトリメトキシシランとさらに反応させる。
− エポキシオリゴマー:例えば、シクロヘキサンジカルボン酸のジグリシジルエステル、例えばHuntsmanのAraldite(登録商標)CY−184、および脂環式エポキシド、例えばDaicel等のCelloxide 2021等、または例えば、ヒドロキシ末端エポキシ化ポリブタンジエン、例えばSartomerのPoly bd600および605。例えば、オキセタン誘導体、例えば、ToagoseiのOXT 101および121、またはPerstorpのTMSOも反応性材料として好適である。
− アルジミンオリゴマー:例えば、イソブチルアルデヒドとイソホロンジアミン等のジアミンとの反応生成物。
− ケチミンオリゴマー:例えば、メチルイソブチルケトンとイソホロンジアミン等のジアミンとの反応生成物。
− メラミンオリゴマー:例えば、Cytec IndustriesのCYMEL(登録商標)1168等の市販のメラミン。
− AB官能化オリゴマー:例えば、上記酸オリゴマーと、当量に対して50%のブチレンオキシド等の一官能性エポキシとをさらに反応させて製造された酸/ヒドロキシル官能性オリゴマー、または以上に挙げられているヒドロキシルと酸オリゴマーのブレンド、または以上に示されている任意の他のブレンド。
− CD官能化架橋剤:例えば、Dixie ChemicalのSorbitol DCE−358(登録商標)のポリグリシジルエーテル等のエポキシ/ヒドロキシ官能性架橋剤、または以上に挙げられているヒドロキシルオリゴマーとエポキシ架橋剤のブレンド、または以上に示されている任意の他のブレンド。
好適な官能化オリゴマーは、質量平均分子量が約3000を超えず、多分散度が約1.5を超えない。より好適なオリゴマーは、分子量が約2500を超えず、多分散度が約1.4を超えない。最も好適なオリゴマーは、分子量が約2200を超えず、多分散度が約1.25を超えない。
他の添加剤は、例えば、イソフェロンジアミン等のジアミンとマレイン酸ジエチル等のマレイン酸ジアルキルとの反応生成物であるポリアスパラギン酸エステルをも含む。
場合により、少なくとも1つのヒドロキシル官能基を含むヒドロキシル官能性化合物が、硬化性材料に存在してよい。少なくとも2つのヒドロキシル官能基を含むヒドロキシル官能性化合物を、例えばポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリアクリレートポリオール、ポリウレタンポリオール、セルロースアセトブチレート、ヒドロキシル官能性エポキシ樹脂、アルキド、およびWO93/17060に記載されているようなデンドリマーポリオールから選択することができる。また、ヒマシ油およびトリメチロールプロパン等のヒドロキシ官能性オリゴマーおよびモノマーを含めることができる。興味深いポリオールは、アクリレートポリオール、例えば、Nuplex Resinsから入手可能なアクリレートポリオールSetalux(登録商標)1157である。
塗料組成物を、少なくとも1つの溶媒に溶解された高固形分塗料系に調合することができる。溶媒は、通常は有機溶媒である。好適な溶媒としては、石油ナフサまたはキシレン等の芳香族炭化水素;メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンまたはアセトン等のケトン;酢酸ブチルまたは酢酸ヘキシル等のエステル;ならびにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステルが挙げられる。
本発明の組成物は、非環式オリゴマー、すなわち直鎖状または芳香族のオリゴマーのバインダ(e)をさらに含むことができる。当該非環式オリゴマーとしては、例えば、ヒドロキシルオリゴマーにおける無水コハク酸または無水フタル酸誘導成分を挙げることができる。塗料組成物としての本発明の組成物は、外観、垂れ下り抵抗、流動性および均染性の向上のために、例えば、3000を超える質量平均分子量のアクリルポリマー、またはEtna Product Inc.のSCD(登録商標)−1040等の従来のポリエステルをバインダとして含むこともできる。アクリルポリマーは、例えば、アクリレート、メタクリレートおよびスチレンの典型的なモノマー、ならびにヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルメタクリレートまたはγメタクリルプロピルトリメトキシシランの官能性モノマーで構成される。
塗料組成物は、例えば、有機媒体に分散され、立体的安定化として既知のものによって安定化されているポリマー粒子である分散アクリル成分のバインダ(e)を含むこともできる。以降、立体的障壁によってシーズされた分散相または粒子は、「巨大分子ポリマー」または「コア」と称する。このコアに結合された立体障壁を形成する安定剤は、「マクロモノマー」または「アーム」と称する。
分散ポリマーは、約50000〜500000の質量平均分子量を有する高分子量のコアを分散ポリマーの質量に対して約10〜90質量%、好ましくは50〜80質量%含む。好適な平均粒径は、0.1〜0.5μmである。コアに結合されたアームは、約10〜90質量%、好ましくは10〜59質量%の分散ポリマーを構成し、約1000〜300000、好ましくは1000〜10000の質量平均分子量を有する。分散ポリマーの巨大分子コアは、例えば、エチレン性不飽和モノマーと場合により共重合される重合アクリルモノマーで構成される。好適なモノマーとしては、スチレンアルキルアクリレートもしくはメタクリレート、エチレン性不飽和モノカルボン酸および/またはシラン含有モノマーが挙げられる。メチルメタクリレートとしての当該モノマーは、高Tg(ガラス転移温度)分散ポリマーに寄与するのに対して、ブチルアクリレートまたは2−エチルヘキシルアクリレート等の当該「軟化」モノマーは、低Tg分散ポリマーに寄与する。他の任意のモノマーは、ヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリレートまたはアクリロニトリルである。場合により、巨大分子コアを、ジアクリレートまたはアリルメタクリレート等のジメタクリレートの使用、あるいはヒドロキシル成分と多官能性イソシアネートとの後反応により架橋することができる。コアに結合されたマクロモノマーアームは、それぞれ1〜12個の炭素原子をアルキル基に有するアルキルメタクリレート、アルキルアクリレート、ならびにグリシジルアクリレートもしくはグリシジルメタクリレート、または固定および/または架橋のためのエチレン性不飽和モノカルボン酸の重合モノマーを含むことができる。典型的に有用なヒドロキシ含有モノマーは、上記のヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリレートである。
場合により、例えば、(さらなる添加剤(d)として)ケトン系キレート化剤を塗料組成物に添加することができる。これらのキレート化剤の例としては、β−ジカルボニル、α−ヒドロキシルケトン、縮合芳香族β−ヒドロキシケトン、マロン酸ジアルキル、アセト酢酸エステル、乳酸アルキルおよびピルビン酸アルキルが挙げられる。特に、アセチルアセトン等のβ−ジカルボニルが使用される。ケトン系キレート化剤は、例えば、固体に対して10質量%までの量、好ましくは5質量%までの量で使用される。
一実施形態において、塗料組成物は、ポットライフ延長剤をさらに含む。ポットライフ延長剤は、光潜伏性触媒がある程度の触媒活性をやはり潜在的な形で発揮する場合、特に有益である。それは、光潜伏性触媒が組成物のポットライフを低下させる触媒活性不純物を含む場合にも当てはまり得る。ポットライフ延長剤は、塗料組成物のポットライフ、すなわちすべての成分を混合してから、粘度が高すぎて組成物を塗布できなくなるまでの時間を延ばす。ポットライフ延長剤は、好適には、以上に挙げられている光潜伏性触媒と同様の量で存在することができる。好適なポットライフ延長剤は、特に、塗布された塗料を40〜60℃等の高温で硬化させるときに塗料組成物の乾燥速度に対する影響がごく限られたものであるか、または全くない。したがって、これらのポットライフ延長剤は、ポットライフと乾燥速度のバランスを向上させる。ポットライフ延長剤は、塗料の外観に対して有益な影響を有することもできる。好適なポットライフ延長剤の例は、酢酸、プロピオン酸またはペンタン酸等のカルボン酸基含有化合物である。芳香族カルボン酸基含有化合物、特に安息香酸が好適である。他の好適なポットライフ延長剤は、2,4−ペンタンジオン等のジカルボニル化合物、フェノール化合物、三級ブタノールおよび三級アミルアルコール等の三級アルコール、ならびにチオール基含有化合物である。芳香族カルボン酸基含有化合物とチオール基含有化合物との組合せ等の以上に挙げられているポットライフ延長剤の組合せを使用することも可能である。
本発明による組成物は、水性組成物、溶媒系組成物または無溶媒組成物であってよい。該組成物は、液体オリゴマーで構成され得るため、高固形分組成物または無溶媒組成物としての使用に特に好適である。あるいは、本発明の塗料組成物は、イソシアネート反応性化合物が20℃を超えるTgを有する水性粉末塗料分散液である。塗料組成物を粉末塗料組成物およびホットメルト塗料組成物にも使用することができる。例えば、該組成物における理論的揮発性有機含有量(VOC)は、約450g/l未満、例えば約350g/l未満、または約250g/l未満である。
特に塗料組成物としての本発明の組成物は、例えば、顔料、安定剤、流動調節剤、流動剤、強化剤および充填剤等の従来の添加剤を含むこともできる。当該付加的な添加剤は、勿論、(塗料)組成物の意図する用途に左右される。
本発明による組成物は、典型的には、吹付け、静電吹付け、ローラー塗装、カーテン塗装、浸漬または刷毛塗り等の従来の技法によって基板に塗布される。これらの配合物は、例えば、自動車および他の車両本体部等の屋外品のための透明塗料として有用である。基板は、場合により、例えば、これらの組成物で塗装される前に、下塗りおよび/または色塗りあるいは他の表面処理によって製造される。
塗料組成物の層を、例えば、放射線に対する曝露によって、潜伏性触媒を活性化した後に(放射線源の種類に応じて)数分から24時間、例えば5分〜3時間の範囲、好ましくは30分〜8時間の範囲で、雰囲気条件下で硬化させて、所望の被膜特性を有する被膜を基板に形成する。実際の硬化時間は、厚さ、潜伏性触媒濃度、配合物における成分を含むいくつかのパラメータに左右されるとともに、例えば、塗装基材に空気を連続的に流して硬化を加速させるのに役立つファン等の任意の追加的な機械的補助手段に左右されることを当業者は理解している。望まれる場合は、塗装基材を一般に約60℃〜150℃の範囲の温度で例えば約15〜90分間にわたって加熱することによって、硬化速度をさらに加速させることができる。加熱は、例えば、加熱炉にて過熱すること、サンプルを熱風に曝すこと、IR曝露、マイクロ波、または当業界で既知の任意の他の好適な手段によって実施される。先述の加熱工程は、OEM(元の装置製造者)条件下で特に有用である。硬化時間は、例えば大気の湿度等の他のパラメータにも左右され得る。
本発明の潜伏性触媒を、例えば、塗装用途、および一般にポリウレタンの硬化が必要とされる分野に使用することができる。例えば、該組成物は、工業用および整備用塗装用途における透明または着色塗料として好適である。
本発明による組成物は、紫外線硬化性接着剤における使用、例えば、感圧性接着剤、貼合せ用接着剤、ホットメルト接着剤、湿分硬化接着剤、シラン反応性接着剤またはシラン反応性シール材等の製造、および関連用途にも好適である。
前記接着剤は、ホットメルト接着剤ならびに水性もしくは溶媒系接着剤、液体無溶媒接着剤または2成分反応性接着剤であり得る。特に、感圧性接着剤(PSA)、例えば紫外線硬化性ホットメルト感圧性接着剤が好適である。前記接着剤は、例えば、少なくとも1つのゴム成分、粘着剤としての少なくとも1つの樹脂成分および少なくとも1つの油成分を例えば30:50:20の質量比で含む。好適な粘着剤は、天然または合成樹脂である。当業者は、対応する好適な化合物ならびに好適な油成分またはゴムを認識している。
イソシアネートを例えばブロック形で含む前重合接着剤を、例えば、高温で処理し、ホットメルト方法後に基板上に塗布することができ、その後、光潜伏性触媒の光活性化によって実現される、ブロックイソシアネートを含むさらなる硬化工程によって完全硬化が達成される。
ホットメルト接着剤は、感圧性接着剤として興味深く、環境の観点から望ましくない溶媒系組成物の代用に好適である。高い流動粘度を達成するためのホットメルト押出方法は、高い塗布温度を必要とする。イソシアネートを含む本発明の組成物は、架橋剤が(メタ)アクリレートPSAの官能性コモノマーと化学反応するホットメルト塗料の製造における架橋剤として好適である。塗装処理後に、最初にPSAを熱架橋し、または二重架橋メカニズムを実施し、続いてPSAをUV光で架橋する。UV架橋照射は、UV放射線装置の光源ならびに光潜伏性金属触媒に応じて、200〜400nm、さらには例えば650nmまでの可視域に及ぶ波長範囲の短波長の紫外線放射によって行われる。当該システムおよび方法は、例えば、その開示内容が参考として本明細書で援用されるUS2006/0052472に記載されている。
本発明の組成物は、様々な基板上への塗布に好適であり、例えば、自動車OEM(元の装置製造者)、または典型的には自動車本体を塗装するのに使用される再仕上げ塗布における透明塗料を提供するのに特に好適である。本発明の塗料組成物を、例えば、透明塗料組成物、着色組成物、金属化塗料組成物、下塗り組成物、一塗装組成物または下塗り塗料の形で調合することができる。基板は、例えば、これらの組成物で塗装される前に、下塗りおよび/または色塗りあるいは他の表面処理によって製造される。
本発明の塗料組成物を塗布するための好適な基板としては、自動車本体(または概して車両本体)、自動車二次供給者によって製造および塗装されたあらゆる品目、フレームレール、例えば、飲料輸送車両本体、用益車両本体、生コンクリート搬送車両本体、廃棄物運搬車両本体を含むが、それらに限定されない商用トラックおよびトラック本体、ならびに消防車および緊急車両本体、ならびに当該トラック本体の潜在的付属品または部品、バス、農場および建設装置、トラックキャップおよびカバー、商用トレーラー、消費者向けトレーラー、モーターホーム、キャンピングカー、改造ワゴン車、ワゴン車、プレジャービークル、遊覧船を含むが、それらに限定されないリクレーション車両、雪上車、全地形万能車、個人用船舶、自動二輪車、自転車、ボートおよび航空機が挙げられる。
基板は、工業的および商業的新建造物ならびにその整備;セメントおよび木質床;例えば事務所および家屋等の商業および居住用構造物の壁;遊園地設備;駐車場および車道等のコンクリート表面;アスファルトおよびコンクリート道路表面、木基板、船舶表面;橋、タワー等の屋外構造物;コイルコーティング;貨車;印刷回路基板;機械類;OEM工具;信号;繊維ガラス構造物;スポーツ用品;ゴルフボール;およびスポーツ設備をさらに含む。
しかし、本発明の組成物を、一般には、例えば接着剤(ただし、それに限定されない)のその機能で例えばプラスチック、金属、ガラス、セラミックの基板上に塗布することもできる。
本発明の潜伏性触媒で架橋されるイソシアネートとして、ブロックイソシアネートを使用することもできる。前記化合物を、例えば、組成物に使用する前に「非ブロック化」し、または反応中に非ブロック化することができ、または例えば熱もしくは放射線によって潜伏性触媒の「活性化」の過程においてブロック形態で反応させることができる。
ブロックイソシアネートは、当該技術分野で既知であり、例えば、いずれも参考として本明細書で援用されるD.A.Wicks,Z.W.Wicks,Progress in Organic Coatings,41(2001),1−83ならびにC. Guertler,M.Homann,M.Mager,M.Schelhaas,T.Stingl,Farbe+Lack 2004,110(12),34の概説記事に記載されている。
好適なイソシアネート成分は、例えば以上に示されている通りである。
イソシアネートに対する好適な遮断剤は、当該技術分野で既知のもの、例えば、アルコール、フェノール、アミン、イミド、アミド、グアニジン、アミジン、トリアゾール、ピラゾール、活性メチレン化合物、ケトキシム、オキシム、マロングラッセ、アルキルアセトアセテート、ホルミエート、ラクタム、イミダゾール、トリアゾール、ピラゾール、CH−酸性環式ケトンおよびメルカプタンである。
例は、例えば、メチル、エチル、クロロエチル、プロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルおよびラウリルアルコールならびに3,3,5−トリメチルヘキサノールを含む低級脂肪族アルコール等の脂肪族、脂環式、芳香族またはアルキル一価アルコールもしくはフェノール化合物である。芳香族アルキルアルコールとしては、例えば、フェニルカルビノールおよびエチルフェニルカルビノールが挙げられる。エチルグリコールモノエチルエーテル、エチルグリコールモノブチルエーテルおよびそれらの同等物等のグリコールエーテルを使用することができる。使用できるフェノール化合物の例は、フェノール、置換フェノール、例えば、クレゾール、キシレノール、ニトロフェノール、クロロフェノール、エチルフェノール、t−ブチルフェノールおよび2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエンを含む。
使用できる他の遮断剤の例としては、ジエチルエタノールアミン等の三級ヒドロキシルアミン、カプロラクタム等のラクタム、ならびにメチルエチルケトンオキシム、アセトンオキシムおよびシクロヘキサノンオキシム等のオキシムが挙げられる。
具体例は、ブタノンオキシム、ジイソプロイルアミン、1,2,4−トリアゾール、ジメチル−1,2,4−トリアゾール、イミダゾール、マロン酸および酢酸のエチレート、アセトンオキシム、3,5−ジメチルピラゾール、ε−カプロラクタム、N−メチル−、N−エチル、N−(イソ)プロピル、N−n−ブチル、N−イソ−ブチル−、N−tert−ブチルベンジルアミンまたは1,1−ジメチルベンジルアミン、N−アルキル−N−1,1−ジメチルメチルフェニルアミン;ベンジルアミンの付加物および活性化二重結合を有する化合物、例えば、マロン酸エステル、N,N−ジメチルアミノプロピルベンジルアミン、および三級アミン基を含む他の化合物、適宜置換ベンジルアミンおよび/またはジベンジルアミンである。
これらのオキシムまたはフェノールでブロックされたいくつかの特定のポリイソシアネートは、比較的低温でアンキャップするため、場合によってはオキシムおよびフェノールを使用するのが望ましい。
好適なCH−酸性ケトンの例は、参考として本明細書に援用されるWO04/058849に示されている。シクロペンタノン−2−カルボキシメチルエステル、シクロペンタノン−2−カルボキシエチルエステル、シクロペンタノン−2−カルボキシニトリル、シクロヘキサノン−2−カルボキシメチルエステル、シクロヘキサノン−2−カルボキシエチルエステル、シクロペンタノン−2−カルボニルメタン、特に、シクロペンタノン−2−カルボキシメチルエステル、シクロペンタノン−2−カルボキシエチルエステル、シクロヘキサノン−2−カルボキシメチルエステルおよびシクロヘキサノン−2−カルボキシエチルエステル、特に、シクロペンタノン−2−カルボキシエチルエステルおよびシクロヘキサノン−2−カルボキシエチルエステルが好適である。
異なる遮断剤の混合物を使用することもでき、ここに主張される組成物に使用することができるブロックイソシアネートは、異なる遮断基を有することができることが明らかである。
該組成物はブロックイソシアネートを、組成物全体に対して、例えば5〜95質量%、好ましくは20〜80質量%の量で含有する。イソシアネートとポリオールの比は、例えば、約2:1〜1:2、好ましくは1.2:1〜1:1.2の範囲で変化する。ブロックイソシアネートの分子量Mwは、例えば、約100〜50000、特に200〜20000の範囲である。
潜伏性触媒(c)に加えて、光重合性組成物は、様々な添加物(d)を含むことができる。
本発明の主題は、また、成分(a)、(b)および(c)に加えて、さらなる添加剤(d)、特に光増感剤化合物を含む上記重合性組成物である。
添加剤(d)は、例えば、スペクトル感度をシフトさせ、または広げる追加的な共開始剤または増感剤である。概して、これらは、芳香族カルボニル化合物、例えばベンゾフェノン、チオキサントン、アントラキノンおよび3−アシルクマリン誘導体、あるいは例えばエネルギー移動または電子移動によって全体的な量子収率を向上させるエオシン、ローダミンおよびエリトロシン染料等の染料である。共開始剤として添加することができる好適な染料は、トリアリールメタン、例えば、マラカイトグリーン、インドリン、チアジン、例えば、メチレンブルー、キサントン、チオキサントン、オキサジン、アクリジンまたはフェナジン、例えば、サフラニン、および式
Figure 0005765938
[式中、
Rは、アルキルまたはアリールであり、
R’は、水素またはアルキルもしくはアリール基である]のローダミン、例えば、ローダミンB、ローダミン6GまたはビオラミンR、ならびにスルホルホダミンBまたはスルホルホダミンGである。例えば、5,7−ジヨード−3−ブトキシ−6−フルオロン等のフルオロンも同様に好適である。
化合物(d)として好適な光増感剤のさらなる具体例は、
1.チオキサントン:
チオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−ドデシルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−メトキシ−カルボニルチオキサントン、2−エトキシカルボニルチオキサントン、3−(2−メトキシエトキシカルボニル)−チオキサントン、4−ブトキシカルボニルチオキサントン、3−ブトキシカルボニル−7−メチルチオキサントン、1−シアノ−3−クロロチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−クロロチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−エトキシチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−アミノチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−フェニルスルフリルチオキサントン、3,4−ジ−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシカルボニル]−チオキサントン、1,3−ジメチル−2−ヒドロキシ−9H−チオキサンテン−9−オン、2−エチルヘキシルエーテル、1−エトキシカルボニル−3−(1−メチル−1−モルホリノエチル)−チオキサントン、2−メチル−6−ジメトキシメチル−チオキサントン、2−メチル−6−(1,1−ジメトキシベンジル)−チオキサントン、2−モルホリノメチルチオキサントン、2−メチル−6−モルホリノメチルチオキサントン、N−アルキルチオキサントン−3,4−ジカルボキシミド、N−オクチルチオキサントン−3,4−ジカルボキシミド、N−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−チオキサントン−3,4−ジカルボキシミド、1−フェノキシチオキサントン、6−エトキシカルボニル−2−メトキシチオキサントン、6−エトキシカルボニル−2−メチルチオキサントン、チオキサントン−2−カルボン酸ポリエチレングリコールエステル、2−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチル−9−オキソ−9H−チオキサントン−2−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウム塩化物;
2.ベンゾフェノン:
ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、4−メトキシベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジメチルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)−ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)−ベンゾフェノン、4,4’−ビス(メチルエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(p−イソプロピルフェノキシ)ベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−(4−メチルチオフェニル)−ベンゾフェノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、メチル−2−ベンゾイルベンゾエート、4−(2−ヒドロキシエチルチオ)−ベンゾフェノン、4−(4−トリルチオ)−ベンゾフェノン、1−[4−(4−ベンゾイル−フェニルスルファニル)−フェニル]−2−メチル−2−(トルエン−4−スルホニル)−プロパン−1−オン、4−ベンゾイル−N,N,N−トリメチルベンゼンメタンアミニウム塩化物、2−ヒドロキシ−3−(4−ベンゾイルフェノキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウム塩化物一水和物、4−(13−アクリロイル−1,4,7,10,13−ペンタオキサトリデシル)−ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−[2−(1−オキソ−2−プロペニル)オキシ]エチル−ベンゼンメタンアミニウム塩化物;
3.クマリン:
クマリン1、クマリン2、クマリン6、クマリン7、クマリン30、クマリン102、クマリン106、クマリン138、クマリン152、クマリン153、クマリン307、クマリン314、クマリン314T、クマリン334、クマリン337、クマリン500、3−ベンゾイルクマリン、3−ベンゾイル−7−メトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジメトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジプロポキシクマリン、3−ベンゾイル−6,8−ジクロロクマリン、3−ベンゾイル−6−クロロクマリン、3,3’−カルボニル−ビス[5,7−ジ(プロポキシ)−クマリン]、3,3’−カルボニル−ビス(7−メトキシクマリン)、3,3’−カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノ−クマリン)、3−イソブチロイルクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジメトキシ−クマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジエトキシ−クマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジブトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジ(メトキシエトキシ)−クマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジ(アリルオキシ)クマリン、3−ベンゾイル−7−ジメチルアミノクマリン、3−ベンゾイル−7−ジエチルアミノクマリン、3−イソブチロイル−7−ジメチルアミノクマリン、5,7−ジメトキシ−3−(1−ナフトイル)−クマリン、5,7−ジエトキシ−3−(1−ナフトイル)−クマリン、3−ベンゾイルベンゾ[f]クマリン、7−ジエチルアミノ−3−チエノイルクマリン、3−(4−シアノベンゾイル)−5,7−ジメトキシクマリン、3−(4−シアノベンゾイル)−5,7−ジプロポキシクマリン、7−ジメチルアミノ−3−フェニルクマリン、7−ジエチルアミノ−3−フェニルクマリン、JP09−179299−AおよびJP09−325209−Aに開示されているクマリン誘導体、例えば、7−[{4−クロロ−6−(ジエチルアミノ)−S−トリアジン−2−イル}アミノ]−3−フェニルクマリン;
4.3−(アロイルメチレン)−チアゾリン
3−3−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナフトチアゾリン、3−メチル−2−ベンゾイルメチレン−ベンゾチアゾリン、3−エチル−2−プロピオニルメチレン−β−ナフトチアゾリン;
5.ロダニン
4−ジメチルアミノベンザルロダニン、4−ジエチルアミノベンザルロダニン、3−エチル−5−(3−オクチル−2−ベンゾチアゾリニリデン)−ロダニン、ロダニン誘導体、JP08−305019Aに開示されている式[1]、[2]、[7];
6.他の化合物
アセトフェノン、3−メトキシアセトフェノン、4−フェニルアセトフェノン、ベンジル、4,4−ビス(ジメチルアミノ)ベンジル、2−アセチルナフタレン、2−ナフトアルデヒド、ダンシル酸誘導体、9,10−アントラキノン、アントラセン、ピレン、アミノピレン、ペリレン、フェナントレン、フェナントレンキノン、9−フルオレノン、ジベンゾスベロン、クルクミン、キサントン、ミヒラーチオケトン、α−(4−ジメチルアミノベンジリデン)ケトン、例えば、2,5−ビス(4−ジエチルアミノベンジリデン)シクロペンタノン、2−(4−ジメチルアミノ−ベンジリデン)−インダン−1−オン、3−(4−ジメチルアミノ−フェニル)−1−インダン−5−イル−プロペノン、3−フェニルチオフタルイミド、N−メチル−3,5−ジ(エチルチオ)−フタルイミド、N−メチル−3,5−ジ(エチルチオ)−フタルイミド、フェノチアジン、メチルフェノチアジン、アミン、例えば、N−フェニルグリシン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブトキシエチル、4−ジメチルアミノアセトフェノン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、ポリ(プロピレングリコール)−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエートである。
非置換および置換ベンゾフェノンまたはチオキサントンが特に好ましい。好適なベンゾフェノンの例は、ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)−ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(エチルメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ジフェニルベンゾフェノン、4,4’−ジフェノキシベンゾフェノン、4,4’−ビス(p−イソプロピルフェノキシ)ベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、2−メトキシカルボニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニル硫化物、4−メトキシ−3,3’−メチルベンゾフェノン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、1,3−ジメチル−2−(2−エチル−ヘキシルオキシ)チオキサントンである。
例えば、ベンゾフェノンと4−メチルベンゾフェノンの混合物または4−メチルベンゾフェノンと2,4,6−トリメチルベンゾフェノンの混合物等のベンゾフェノンおよび/またはチオキサントンの混合物も同様に好適である。
さらなる通例の添加剤(d)は、意図する用途に応じて、光沢剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤、均染助剤、帯電防止剤、流動促進剤および定着剤、酸化防止剤、光安定剤、例えばUV吸収剤、例えば、ヒドロキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニル−ベンゾフェノン、オキサルアミドまたはヒドロキシフェニル−S−トリアジン型のものである。これらの化合物を、立体障害アミン(HALS)を含めて、または含めずに個々に、または混合物で使用することができる。
該組成物は、染料および/または白色および着色顔料を含むこともできる。用途の種類に応じて、有機ならびに無機顔料を使用することができる。当該添加剤は、当業者に既知であり、いくつかの例は、例えばルチル型またはアナタース型の二酸化チタン顔料、カーボンブラックRuss、亜鉛ホワイト等の酸化亜鉛、酸化鉄イエロー、酸化鉄レッド等の酸化鉄、クロムイエロー、クロムグリーン、ニッケルチタンイエロー、ウルトラマリンブルー、コバルトブルー、バナジン酸ビスマス、カドミウムイエローまたはカドミウムレッドである。有機顔料の例は、モノまたはビスアゾ顔料、ならびにそれらの金属錯体、フタルシアニン顔料、ペリレン、アントラキノン、チオインジゴ、キナクリドンまたはトリフェニルメタン顔料等の多環式顔料、ならびにジケト−ピロロ−ピロールイソインドリノン、例えば、テトラクロルイソインドリノン、イソインドリン、ジオキサジン、ベンズイミダゾロンおよびキノフタロン顔料である。
顔料は、単独で、または本発明による組成物と組み合わせて使用される。
意図する使用に応じて、顔料は、当該技術分野で通例の量、配合物全体に対して基づいて、例えば1〜60質量%、または10〜30質量%の量で使用される。
該組成物は、異なる種類の有機染料を含むこともできる。例は、アゾ染料、メチン染料、アントラキノン染料または金属錯体染料である。通例の濃度は、配合物全体に基づいて、例えば0.1〜20%、特に1〜5%である。
添加剤の選択は、用途の分野およびこの分野に必要とされる特性に応じてなされる。上記添加剤は、当該技術分野で通例であるため、それぞれの用途において通常の量で添加される。
場合によっては、露光の最中または後に加熱を行うことが有利であり得る。このように、多くの場合、架橋反応を加速させることが可能である。別の可能性は、以上に記載されているように、反応混合物に電磁放射線を照射し、照射と同時に、または照射後にそれに熱処理を施すことである。
したがって、本発明の主題は、また、該混合物に電磁放射線を照射し、放射と同時に、または放射後に熱処理を施すことを特徴とする上記方法である。
本発明の組成物を様々な目的のために、例えば、印刷インクとして、透明塗料として、例えば木材、プラスチックもしくは金属のための白色塗料として、とりわけ紙、木材、金属もしくはプラスチックのための塗料として、粉末塗料として、建築物および道路の建設のための日光硬化性外装塗料として、写真再生方法のために、ホログラフィ記録材料のために、画像記録方法のために、または有機溶媒もしくは水性アルカリ媒体を使用して展開することができる印刷基板の製造のために、スクリーン印刷用マスクの製造のために、歯科充填材として、感圧性接着剤および湿分硬化性シラン変性接着剤を含む接着剤として、シールのために、積層用樹脂として、エッチングレジストもしくは永久レジストとして、かつ電子回路のためのはんだマスクとして、注封材料のために、成形品のために、マス硬化(透明成形品におけるUV硬化)、または例えばUS4575330に記載されている光造形方法による三次元製品の製造のために、複合材料(例えば、ガラス繊維および/または他の繊維ならびに他の助剤を含有することができるスチレンポリエステル)および他の厚層組成物の製造のために、電子部品の塗装または封入のために、あるいは光学繊維のための塗料として使用することができる。
表面塗装において、プレポリマーと、一不飽和モノマーを含有する多不飽和モノマーとの混合物を使用するのが一般的である。ここで、プレポリマーは、主に塗膜の特性に係わり、それを変化させることで、熟練作業者は硬化膜に影響を与えることが可能である。多不飽和モノマーは、塗膜を不溶性にする架橋剤として機能する。多不飽和モノマーは、反応性希釈剤として機能し、それによって、溶媒を使用することを必要とせずに粘度を低下させる。
本発明の組成物は、「二重硬化」用途にも好適である。二重硬化は、例えば、(熱硬化性成分としての)2Kポリウレタンおよび(UV硬化性成分としての)アクリレート成分等の、熱架橋成分およびUV架橋成分を含む系を指す。
前記「二重硬化」組成物は、照射および加熱を同時に実施するか、または最初に照射工程を実施し、続いて加熱するか、または組成物を最初に加熱し、続いて放射線に曝露する、放射線に対する曝露と加熱との組合せによって硬化される。
「二重硬化」組成物は、一般に、熱硬化成分のための開始剤化合物、および光硬化工程のための本発明による光活性化合物を含む。
本発明の組成物は、例えば、木材、その上に保護被膜を塗布し、または画像様露光によって画像を貼ることを意図する木材、繊維、紙、セラミック、ガラス、特にフィルムの形のポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリオレフィンもしくは酢酸セルロース等のプラスチック、ならびにAl、Cu、Ni、Fe、Zn、MgまたはCoおよびGaAs、SiもしくはSiO2等の金属を例とするあらゆる種類の基板のための塗料材料として好適である。
液体組成物、溶液、分散液、エマルジョンまたは懸濁液を基板に塗布することによって基板を塗装することができる。溶媒の選択および濃度は、主として、組成物の種類および塗装方法に左右される。溶媒は、不活性でなければならない。換言すれば、それは、成分と化学反応せず、乾燥方法にて、塗装処理後に再び除去することが可能でなければならない。好適な溶媒の例は、ケトン、エーテルおよびエステル、例えば、メチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジメトキシエタン、酢酸エチル、酢酸n−ブチルおよび3−エトキシプロピオン酸エチルである。
既知の塗装方法を使用して、溶液が、例えば、スピン塗装、浸漬塗装、ナイフ塗装、カーテン塗装、刷毛塗り、吹付け−特に静電吹付け−および逆ロール塗装ならびに電気泳動塗装によって基板に均一に塗布される。層を一時的な軟質支持体に塗布し、次いで積層を介する層移動によって最終的な基板、例えば銅張回路基板を塗装することも可能である。
塗布量(層厚)および基板の性質(層支持体)は、所望の用途分野次第である。層厚の範囲は、一般に、約0.1μm〜100μmを超える値を含む。
本発明による組成物は、電着ペイントまたは下塗りにおける使用にも好適であり、電着ペイントは、一般に、原樹脂としてのヒドロキシル基を含む樹脂、および硬化剤としての遮断剤で場合によりブロックされたポリイソシアネート化合物からなる。例えば、約5〜40質量%の固形分濃度まで脱イオン水で希釈され、系のpHが4〜9の範囲に調整された電着ペイントのための樹脂組成物を含む電着浴の温度を通常15〜35℃に調整することによって、50〜400kVの負荷電圧の条件下で電着を実施することができる。
電着ペイントのための樹脂組成物を使用することによって形成可能な電着塗装膜の膜厚は、特に限定されない。好ましくは、該膜厚は、硬化膜厚に基づいて一般に10〜40μmの範囲である。UV架橋照射は、本発明による触媒におけるUV光活性成分に応じて200〜650nmの波長範囲の短波紫外線によって行われる。同時に、または後に電着ペイントに熱硬化工程を施すことも可能である。当該ペイントの例は、いずれも参考として本明細書で援用されるUS2005/0131193およびUS2001/0053828に記載されている。
本発明の組成物は、また、「粉末塗料組成物」または「粉末塗料」、熱硬化または放射線硬化性硬化塗料組成物を製造するために使用される。「粉末塗料組成物」または「粉末塗料」は、"Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry,5th,Completely Revised Edition,Vol.A 18", pages 438 to 444(1991)in Section 3.4に記載されている定義を指す。すなわち、粉末塗料は、粉末の形で主として金属の基板に塗布される熱可塑性または可焼性の架橋性ポリマーによって形成される。粉末を、塗装される工作物に接触させる方法には、静電粉末吹付け、静電流動層焼結、固定床焼結、流動層焼結、回転焼結または遠心焼結等の様々な塗布技術がある。
粉末塗料組成物のための好適な有機膜形成バインダは、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル−ヒドロキシアルキルアミド、ポリエステル−グリコルリル、エポキシ−ポリエステル樹脂、ポリエステル−トリグリシジルイソシアネート、ヒドロキシ官能性ポリエステル−ブロックイソシアネート、ヒドロキシ官能性ポリエステル−ウレトジオン、硬化剤を含むアクリレート樹脂、または当該樹脂の混合物を主成分とするストービング系である。
放射線硬化性粉末塗料は、例えば、固形樹脂、ならびに反応性二重結合を含むモノマー、例えば、マレエート、ビニルエーテル、アクリレート、アクリルアミドおよびそれらの混合物を主成分とする。本発明の組成物と混合されたUV硬化性粉末塗料を、不飽和ポリエステル樹脂と固形アクリルアミド(例えば、メチルメチルアクリルアミドグリコレート)、アクリレート、メタクリレートまたはビニルエーテルおよび遊離ラジカル光開始剤と混合することによって調合することができ、当該配合物は、例えば、文献"Radiation Curing of Powder Coating",Conference Proceedings,Rad−tech Europe 1993 by M.Wittig and Th.Gohmannに記載されている。粉末塗料は、例えば、DE4228514およびEP636669に記載されているバインダを含むこともできる。
粉末塗料は、白色または着色顔料をさらに含むことができる。例えば、好ましくは、良好な隠蔽力を有する硬化粉末塗料を得るために、二酸化ルチルチタンを50質量%までの濃度で使用することができる。手順は、通常、基板、例えば金属または木材に粉末を静電もしくは摩擦帯電吹付けし、加熱によって粉末を溶融し、滑らかな膜が形成された後に塗料を紫外光および/または可視光で放射線硬化することを含む。
本発明の組成物を、例えばさらに印刷インクの製造に使用することができる。印刷インクは、概して当業者に既知であり、当該技術分野で広く使用され、文献に記載されている。それらは、例えば、着色印刷インクおよび染料で染色された印刷インクである。
本発明の放射線官能性組成物に画像様露光を施すこともできる。この場合、それらは、ネガチブレジストとして使用される。それらは、エレクトロニクス(ガルバノレジスト、エッチングレジストおよびはんだレジスト)、オフセット印刷基板、フレキソグラフィーおよびレリーフ印刷基板またはスクリーン印刷基板等の印刷基板の製造、刻印スタンプの製造に好適であり、化学的切削加工に、または集積回路の製造におけるマイクロレジストとして使用され得る。見込まれる層支持体および塗装基材の処理条件に相応に広い選択幅がある。
「画像様」露光という用語は、所定のパターン、例えばスライドを含むフォトマスクを介する露光、例えば塗装基材上をコンピュータ制御下で移動することで画像を生成するレーザビームによる露光、ならびにコンピュータ制御された電子ビームの照射に関する。
材料の画像様露光と現像の間に、露光部のみを熱硬化させる短時間の熱処理を実施するのが有利であり得る。採用される温度は、一般に50〜150℃、好ましくは80〜130℃であり、熱処理の時間は、一般に0.25〜10分間である。
光硬化のさらなる用途分野は、金属塗装、例えば、金属パネルおよび管、缶またはボトルトップの表面塗装、ならびにポリマー塗装物、例えば、PVCを主成分とする床または壁被覆物に対する光硬化の分野である。
紙塗装物の光硬化の例は、ラベル、レコード立てまたはブックカバーの無色ワニスがけである。
複合組成物から製造された成形品を処理するための本発明の組成物の使用も興味深い。該複合組成物は、光硬化配合物が含浸される自己支持マトリックス材料、例えば、ガラス繊維織物、または例えば植物繊維の織物等[K.−P.Mieck,T.Reussmann in Kunststoffe 85(1995),366−370参照]で構成される。本発明による組成物から製造される成形品は、高度な機械的安定性および抵抗性を有する。本発明の組成物は、例えばEP007086に記載されている成形用、含浸用および塗装用組成物に使用される。当該組成物の例は、それらの硬化活性および黄色化に対する抵抗性に関して厳しい要件が課される繊細な塗料樹脂、あるいは平面、または縦方向もしくは横方向波形光拡散パネル等の繊維強化成形体である。
新規の組成物の放射線に対する感度は、一般に、約190nmからUV領域、そして赤外領域(約20000nm、特に1200nm)内に至る範囲、特に190nm〜650nmの範囲(場合により、以上に記載されている増感剤と組み合わせた光開始剤成分による)であるため、非常に広範囲に及ぶ。好適な放射線は、例えば、日光または人工的な光源からの光に存在する。そのため、多くの非常に様々な種類の光源が使用される。点源およびアレイ(「ランプカーペット」)の両方が好適である。例は、炭素アークランプ、キセノンアークランプ、恐らくは金属ハロゲン化物ドープ(金属−ハロゲンランプ)を含む中、超高、高および低圧水銀ランプ、マイクロ波刺激金属蒸気ランプ、エキシマランプ、超化学線蛍光管、蛍光ランプ、アルゴン白熱ランプ、電子閃光灯、写真用投光ランプ、電子ビームおよびX線である。ランプと、本発明に従って露光される基板との距離は、意図する用途ならびにランプの種類および出力に応じて異なっていてよく、例えば、2cm〜150cmであってよい。レーザ光源、例えば、248nmにおける露光のためのクリプトンFレーザ等のエキシマレーザも好適である。可視領域におけるレーザを使用することもできる。
あるいは、発光ダイオード(LED)または有機発光ダイオード(OLED)、例えばUV発光ダイオード(UV−LED)によって化学線が供給される。前記LEDは、放射線源の瞬時オン/オフ切換を可能にする。さらに、UV−LEDは、一般に、波長分布が狭く、ピーク波長を変更する可能性を与えるとともに、電気エネルギーのUV放射線への効率的な変換をもたらす。
以上に記載されているように、使用する光源に応じて、その吸収スペクトルが放射線源の発光スペクトルに可能な限り近い上記の増感剤を使用することが多くの場合に有利である。
以下に示す実施例は、本発明の範囲を前記実施例のみに限定することなく、本発明をより詳細に説明するものである。部および百分率は、明細書の以降の箇所および請求項において、他に指定する場合を除いて質量部および質量百分率である。3個を超える炭素原子を有するアルキル基が、具体的な異性体に言及することなく示される場合は、それぞれの場合においてn−異性体を指す。
製造実施例
実施例1 2−ヒドロキシ−1−{4−[(トリブチルスタニル)オキシ]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンの製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、(EP1072326、実施例A.1、A.2、A.3に記載されている方法に従って得られた)3.0g(16.6mmol)の2−ヒドロキシ−1−(4−ヒドロキシ−フェニル)−2−メチル−プロパン−1−オンをアルゴン下で15gの乾燥アセトニトリルに溶解させる。5.9g(18.3mmol)のトリ−n−ブチルメトキシスズを室温で1時間にわたって徐々に添加する。1時間後、1H−NMR−スペクトルによって変換の完了を確認する。反応混合物を8mlのヘプタンで2回抽出し、アセトニトリルの相を濃縮する。5.6gの黄色粗製物を得る。この製造物を20mlのヘプタンに溶解させ、0.3gの褐色油を沈殿させる。透明な主溶液を濃縮し、その沈殿を高真空にて乾燥させる。5.2gの表題製造物を透明油として得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。
実施例2 4−[(トリブチルスタニル)オキシ]−ベンゾフェノンの製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、1.5g(7.6mmol)の4−ヒドロキシ−ベンゾフェノンを25mlの1,2−ジクロロエタンに懸濁させ、アルゴン流下で加熱して還流させる。2.7g(8.4mmol)のトリ−n−ブチルメトキシスズを0.5時間にわたって該溶液に添加する。1H−NMR−スペクトルに従って変換を完了させる。該溶液を濃縮し、高真空にて乾燥させる。4.1gの橙色油が結晶化する。該粗製物を90℃で20mlのヘプタンに溶解させる。該溶液を冷却すると、約60℃で褐色の結晶が形成し始める。濾過、さらなる冷却および凍結後、結晶の形成を継続させる。結晶を濾過し、乾燥させ、分析する。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。3.0gの表題製造物を得る(融点76〜82℃)。
実施例3 オキシビス[ジブチル(4−ベンゾイル−フェニルオキシ)−スズ]の製造
Figure 0005765938
バルブ・ツー・バルブ蒸留装置(「Kugelrohr」)において、3g(15.1mmol)の4−ヒドロキシ−ベンゾフェノンおよび1.9g(7.6mmol)の酸化ジブチルスズを高真空(0.009mbar)にて150℃まで徐々に加熱する。該混合物が溶融を開始し、200℃で蒸留を開始し、約10分後に終了させる。冷却後、無色の留出液が4−ヒドロキシ−ベンゾフェノンであることを1H−NMRスペクトルによって確認する。残渣(約3.3g)を高温トルエンから数回結晶化させる。2.0gの表題製造物を、150〜159℃で溶融する白色結晶として得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによってさらに確認する。
実施例4 トリ−n−ブチル−(4−ベンゾイル−ベンゾイルオキシ)−スズの製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、30mlの1,2−ジクロロエタン中2.0g(8.8mmol)の4−ベンゾイル安息香酸をアルゴン流下で懸濁させ、加熱して還流させる。2.8g(8.8mmol)スズ−n−ブチルメトキシスズを0.5時間にわたって徐々に添加する。1H−NMR−スペクトルに従って変換を完了させる。わずかに濁った高温溶液を濾過し、冷却し、濃縮する。3.6gの粗製物を黄色油として得る。その2.4gをバルブ・ツー・バルブ蒸留装置(0.03mbar)にて加熱し、190℃で蒸留する。1.9gの表題製造物を無色油として得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。
実施例5 ビス[(4−ベンゾイル−ベンゾイル)オキシ]ジブチルスタンナンの製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、3.0g(13.3mmol)の4−ベンゾイル安息香酸および2.8g(6.65mmol)のジブチルジフェニルスズをアルゴン流下で加熱する。該混合物を、約130℃で溶融させ、撹拌する。加熱を150℃まで継続させ、1H−NMR−スペクトルで変換の完了を確認する。120℃で10mlの乾燥トルエンを添加し、濁った溶液を90℃で濾過する。室温で、濾液が再び濁ると、それをもう1回濾過する。1H−NMR−スペクトルによれば、残渣は4−ベンゾイル安息香酸である。濾液を濃縮し、結晶化する4.4gのわずかに黄色の油を得る。この製造物を30mlの高温シクロヘキサンから再結晶させ、再び30mlの高温ヘプタンから再結晶させる。109〜115℃で溶融する2.5gの表題製造物の白色結晶を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによってさらに確認する。
実施例6 2,2−ジブチル−4−ベンゾイル−4−フェニル−1,3,2−ジオキサスタノランの製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、2.1g(8.3mmol)の酸化ジブチルスズ、2.0g(8.3mmol)の2,3−ジヒドロキシ−1,2−ジフェニル−プロパン−1−オン[H.J.Hageman,Macro−molekulare Chemie,Rapid Communications(1981),2(8),517−521]および20mlのトルエンをアルゴン流下で加熱して還流させる。少量の水を透明溶液から蒸留除去する。1H−NMR−スペクトルによれば、2時間後に変換が完了する。該溶液を濃縮し、粗製物(4.0g)を15mlのシクロヘキサンから再結晶させる。白色結晶(2.3g)を10mlのヘプタンおよび3mlのシクロヘキサンから再結晶させる。1.6gの表題製造物を、140〜145℃で溶融する白色粉末として得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによってさらに確認する。
実施例7 4−[(トリブチルスタニル)オキシメチル]−ベンゾフェノンの製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、2.5g(7.8mmol)のトリ−n−ブチルメトキシスズを室温にてアルゴン下で0.5時間にわたって15mlの1,2−ジクロロエタン中1.5g(7.1mmol)の4−(ヒドロキシメチル)−ベンゾフェノンに添加する。1H−NMR−スペクトルで変換の完了を確認する。該溶液を濃縮し、粗製物である3.6gの黄色油を160〜170℃で真空(0.016mbar)にてバルブ・ツー・バルブ蒸留装置で蒸留する。得られた無色油(2.8g)を再びバルブ・ツー・バルブ蒸留装置(0.020mbar)で蒸留する。2.0gの表題製造物を無色油(沸点範囲294〜308℃)として得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによってさらに確認する。
実施例8 トリ−n−ブチル{[4−(ベンゾイル)フェニルアセチル}オキシ}−スタンナンの製造
Figure 0005765938
(4−ベンゾイル−フェニル)−酢酸とトリ−n−ブチルスズメトキシドとを反応させることによって、実施例7に記載されている方法に従って表題製造物を製造する。
バルブ・ツー・バルブ蒸留装置での蒸留を190℃で真空(0.030mbar)にて2回実施して、結晶化し、50〜53℃で溶融する3.2gのわずかに黄色の油(DSCによる沸点範囲が331〜350℃)を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによってさらに確認する。
実施例9 ビス−n−ブチル−ビス{[4−(ベンゾイル)フェニルアセチル]オキシ}−スタンナンの製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、3.0g(12.5mmol)の(4−ベンゾイル−フェニル)−酢酸および2.4g(6.25mmol)のジブチルジフェニルスズをアルゴン流下で加熱して還流させる。該混合物は、約125℃で溶融する。1時間後、わずかに黄色の溶液を冷却し、3mlの温ヘプタンおよび30mlのシクロヘキサンに溶解させる。沈殿生成物を室温で濾別し、20mlの温ヘプタン、5mlのトルエンおよび30mlのシクロヘキサンに再び溶解させる。製造物を結晶化させ、90〜96℃で溶融する(DSC)2.3gの白色結晶を濾別する。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによってさらに確認する。濾液から、0.7gのさらなる製造物を得る。
実施例10 [(4−ベンゾイル)フェニルメチル]−トリブチル−スタンナンの製造
Figure 0005765938
2mlのテトラヒドロフラン(THF)中2.4g(7.3mmol)のトリブチルスズを窒素下で50mlの乾燥三口フラスコに入れる。0.48g(7.3mmol)の亜鉛粉末および一滴の飽和塩化アンモニウム溶液を添加する。10mlのTHF中2.0g(7.3mmol)の(4−ブロモメチル)ベンゾフェノンを0.5時間にわたって添加する。さらに0.5時間後に、反応を完了させ、反応混合物を20mlのトルエンで希釈し、塩化ナトリウムの飽和溶液で3回洗浄する。有機相をMgSO4で乾燥させ、濾過し、濃縮する。3.3gの黄色油を粗製物として得る。バルブ・ツー・バルブ蒸留装置(0.010mbar;140〜160℃)での2.1gの粗製物の分別蒸留により無色の表題製造物を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。また、残留粗製物をバルブ・ツー・バルブ蒸留装置(0.035mbar/140〜190℃)にて処理して、0.55gの表題製造物を得る。再び、1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルで構造を確認する。製造物の沸点範囲をDSCによって測定すると、352〜410℃である。CDCl3119Sn−NMRスペクトル(186mHz):基準としてテトラブチル−スタンナン(δ=−11.7ppm)を用いた場合のδ=−5.7ppm。
実施例11 ビス[(4−ベンゾイル)フェニルメチル]−ジブチル−スタンナンの製造
Figure 0005765938
2mlのTHF中2.2g(7.3mmol)の二塩化ジブチルスズ、0.98g(15.0mmol)亜鉛粉末、一滴の飽和塩化アンモニウム溶液および4.0g(14.6mmol)の(4−ブロモメチル)−ベンゾフェノンを実施例10に記載されている方法に従って反応させる。3.9gの粗製物を黄色油として得る。バルブ・ツー・バルブ蒸留装置(0.017mbar/100〜140℃)での分別蒸留により副産物(4−メチルベンゾフェノンおよび(4−ブロモメチル)ベンゾフェノン)を除去する。1H−NMR−スペクトルによれば、残渣である3.4gの黄色油は、ビス[(4−ベンゾイル)フェニルメチル]−ジブチル−スタンナンである。残渣をトルエンで希釈し、漂白土で濾過し、2.4gのわずかに黄色の油を得る。製造物の構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。CDCl3119Sn−NMRスペクトル(186mHz):基準としてテトラブチル−スタンナン(δ=−11.7ppm)を用いた場合のδ=−8.8ppm。
実施例12 フェニルグリオキシルオキシ−トリブチル−スタンナンの製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、6.64g(20.7mmol)のトリ−n−ブチルメトキシスズを20mlの1,2−ジクロロエタン中3.0g(20.0mmol)のフェニルグリオキシル酸に室温にてアルゴン下で0.5時間にわたって添加する。反応混合物を100mlのペンタンに注ぎ込み、得られた沈殿を濾別する。濾液を濃縮して、8.7gの黄色油を得る。5.4gの前記油をバルブ・ツー・バルブ蒸留装置(0.02mbar/120〜140℃)で蒸留する。2.6gの表題製造物を無色油として得て、それを結晶化させる。結晶は、47〜53℃(DSC)で溶融する。製造物の構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。
実施例13 ビス(フェニルグリオキシルオキシ)ジブチル−スタンナンの製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、4.9g(33.0mmol)のフェニルグリオキシル酸を、1.45g(36.3mmol)のNaOHを6mlの水に溶解させた溶液に0℃にて窒素下で溶解させる。15mlのTHF中5.0g(16.5mmol)の二塩化ジブチルスズを0℃で0.5時間にわたって一滴ずつ添加する。エマルジョンを室温で徐々に加温し、次いで40℃に加熱し、30分間撹拌する。形成された油を分離し、水相を数回にわたって塩化メチレンで抽出する。油および塩化メチレン相を一緒にし、MgSO4で乾燥させ、濾過し、濃縮する。得られた油を加熱しながら20mlのペンタンおよび10mlのトルエンに溶解させ、冷却する。結晶を0℃で濾別し、20mlのアセトニトリルに溶解させ、10mlのヘプタンで抽出する。アセトニトリル溶液を濃縮して、2.6gの表題製造物を黄色油として得て、それを10mlのペンタンおよび4mlのオルト−キシレンから再結晶させる。白色結晶は、82〜84℃で溶融する。製造物の構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによってさらに確認する。
実施例14 [(トリブチルスタニル)オキシイミノ]ベンゼンアセトニトリルの製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコ、3.0g(9.34mmol)のトリ−n−ブチルメトキシスズをアルゴン下でシリンジにより1.36g(9.34mmol)の(ヒドロキシイミノ)ベンゼンアセトニトリルに添加する。徐々に混合物が溶解する。反応装置を排気し、40℃に徐々に加熱し、この温度に1時間維持する。得られた3.4gの黄色油の2.7gをバルブ・ツー・バルブ蒸留装置(0.02mbar/130〜220℃)にて分別蒸留する。2.0gの表題製造物を無色油として得る。製造物の構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。
実施例15 オキシビス[ジブチル(フェニル−シアノ−メチリデンアミノオキシ)−スズ]の製造
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、5.1g(17.1mmol)のジ−n−ブチルジメトキシスズをアルゴン下で5mlのトルエン中5.0g(34.2mmol)の(ヒドロキシイミノ)ベンゼンアセトニトリルに添加する。得られた溶液を還流しながら加熱する(約110℃)。2時間後、該溶液を10mlのトルエンで希釈し、0℃で結晶化させる。濃縮された濾液から、6.9gの褐色結晶を得て、それを30mlのオルト−キシレンから再結晶させる。残留する濾液からさらなる製造物を得る。オキシビス[ジブチル(フェニル−シアノ−メチリデンアミノ−オキシ)−スズ]は、62〜69℃(DSC)で溶融する微細な黄色結晶として結晶化する。2.5gの前記結晶を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。
実施例16 ビスマス(III)フェニルオキソアセテートの製造
Figure 0005765938
乾燥三口フラスコにおいて、5mlのトルエンに溶解させた1.5g(3.4mmol)のトリフェニルビスマスをアルゴン下で1.53g(10.22mmol)のフェニルグリオキシル酸に添加し、得られた溶液を0.5時間にわたって70℃に加熱する。10mlのTHFを該混合物に添加し、該溶液を1時間にわたって80℃に加熱する。該混合物を室温まで冷却し、濾過して、1.2gの製造物を得て、それをトルエンから再結晶させる。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。
Figure 0005765938
実施例17
Figure 0005765938
の製造
乾燥三口フラスコにおいて、5mlのジオキサンに溶解させた1.5g(3.4mmol)のトリフェニルビスマスをアルゴン下で1.49g(10.22mmol)の(ヒドロキシイミノ)ベンゼンアセトニトリルに添加し、得られた溶液を24時間にわたって100℃に加熱する。該混合物を室温まで冷却し、濃縮して、1.5gの製造物を得る。構造を1H−NMRによって確認する。
Figure 0005765938
実施例18 ビスマス(III)ベンゾイルベンゾエートの製造
Figure 0005765938
乾燥三口フラスコにおいて、5mlのジオキサンに溶解させた1.5g(3.4mmol)のトリフェニルビスマスをアルゴン下で3mlのジオキサン中2.31g(10.2mmol)のベンゾイル安息香酸の溶液に添加し、得られた溶液を1.5時間にわたって110℃に加熱する。該混合物を室温まで冷却し、濃縮して、1.5gの製造物を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。
Figure 0005765938
実施例19
Figure 0005765938
の製造
乾燥三口フラスコにおいて、10mlのトルエンに溶解させた1.5g(3.4mmol)のトリフェニルビスマスをアルゴン下で10mlのトルエン中1.54g(6.8mmol)のベンゾイル安息香酸の溶液に添加し、得られた溶液を3.5時間にわたって100℃に加熱する。該混合物を室温まで冷却し、濾過して、2.1gの製造物を得る。構造を1H−NMRスペクトルによって確認する。
Figure 0005765938
実施例20
Figure 0005765938
の製造
乾燥三口フラスコにおいて、0.92g(6.38mmol)の2−エチルヘキサン酸および0.77g(3.40mmol)のベンゾイル安息香酸をアルゴン下で2mlのジオキサンに溶解させる。1.5g(3.40mmol)のトリフェニルビスマスを5mlのジオキサンに溶解させた溶液を添加する。該混合物を4時間にわたって110℃に加熱する。反応混合物を室温まで冷却し、濃縮し、残渣を70℃にて高真空下で乾燥させて、2.1gの透明樹脂を得る。構造を1H−NMRスペクトルによって確認する。
実施例21 トリス(1,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオナト−κO,κO’)−アルミニウムの製造
Figure 0005765938
100mlの三口フラスコにおいて、3.36g(0.015mol)のジベンゾイルメタンをわずかなアルゴンの流動下で50gのトルエンに溶解させる。続いて、0.7g(0.005mol)の塩化アルミニウムをこの溶液に添加する。添加後、黄色懸濁液を室温で20時間撹拌する。懸濁液を濾過して、2.3g(66%)のトリス(1,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオナト−κO、κO’)−アルミニウムを、融点が103〜147℃の黄色固体として得る。
実施例22 三塩化アルミニウムからのトリス(1,3−ジ[4−メチオキシフェニル]−1,3−プロパンジオナト−κO,κO’)−アルミニウムの製造
Figure 0005765938
本実施例の化合物を、1,3ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−プロパンジオンを出発材料として使用する以外は、実施例21の化合物について記載されている手順に従って製造する。トリス(1,3−ジ[4−メチオキシフェニル]−1,3−プロパンジオナト−κO,κO’)−アルミニウムを、融点が266〜274℃の黄色固体として得る。
実施例23 三塩化アルミニウムからのトリス(1−フェニル−1,3−ブタンジオナト−κO,κO’)−アルミニウムの製造
Figure 0005765938
(異性体混合物)
50mlの三口フラスコにおいて、アルゴンをわずかに流しながら、1.46g(0.009mol)の1−フェニル−1,3−ブタンジオンを20gのトルエンに溶解させる。この溶液に対して、0.4g(0.003mol)の塩化アルミニウムを添加する。添加後、黄色懸濁液を室温で20時間撹拌する。該懸濁液を濾過し、濾液を真空にて濃縮する。ヘプタンとともに撹拌すると、わずかに黄色の固形粗製物が白色になる。該懸濁液を濾過して、0.8g(52%)のトリス(1−フェニル−1,3−ブタンジオナト−κO,κO’)−アルミニウムを、融点が224〜229℃の白色固体として得る。
実施例24〜26
第1表に報告されている出発材料を1−フェニル−1,3−ブタンジオンの代わりに使用する点を除いては、実施例23について記載されている方法に従って以下の実施例24〜26の化合物を製造する。
第1表
Figure 0005765938
(異性体混合物)
Figure 0005765938
実施例27 アルミニウムトリス(イソプロポキシド)からのトリス(1−フェニル−1,3−ブタンジオナト−κO,κO’)−アルミニウムの製造
Figure 0005765938
100mlの乾燥三口フラスコにおいて、2.47g(0.0152mol)の1−フェニル−1,3−ブタンジオンを80gのトルエンに溶解させる。この溶液に対して、1.02g(0.005mol)のアルミニウムイソプロポキシドを添加する。添加後、黄色懸濁液を6時間にわたって加熱して還流させる。続いて、反応混合物を室温まで冷却し、懸濁液を濾過する。濾液を真空にて濃縮して、わずかに黄色の固形粗製物を得て、それをヘプタン中で撹拌して白色にする。懸濁液を濾過して、1.1g(43%)のトリス(1−フェニル−1,3−ブタンジオナト−κO,κO’)−アルミニウムを、融点が223〜228℃の白色固体として得る。
実施例28 アルミニウムトリス(イソプロポキシド)からのトリス(1,3−ジ[4−メチオキシフェニル]−1,3−プロパンジオナト−κO,κO’)−アルミニウムの製造
Figure 0005765938
4.32g(0.0152mol)の1.3ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−プロパンジオンおよび150gのトルエンを250mlの乾燥三口フラスコに入れる。この懸濁液に対して、1.02g(0.005mol)のアルミニウムイソプロポキシドを添加する。添加後、黄色懸濁液を24時間にわたって加熱して還流させる。続いて、反応混合物を室温まで冷却し、懸濁液を濾過して、2.0g(46%)のトリス(1,3−ジ[4−メチオキシフェニル]−1,3−プロパンジオナト−κO,κO’)−アルミニウムを、融点が273〜281℃の白色固体として得る。
実施例29
Figure 0005765938
の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、2.6g(8.25mmol)のトリ−n−ブチルメトキシスズをアルゴン下でシリンジにより2.0g(8.25mmol)の[5−[(E)−ヒドロキシイミノ]−5H−チオフェン−(2E)−イリデン]−o−トリルアセトニトリルに添加する。反応装置を排気し、30℃まで徐々に加熱し、1時間にわたってこの温度に維持する。反応混合物をペンタンに溶解させ、アセトニトリルで抽出する。ペンタンを濃縮する。2.0gの表題製造物を橙色油として得る。製造物の構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。
Figure 0005765938
実施例30
Figure 0005765938
の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、1.82g(6.16mmol)のジ−n−ブチルジメトキシスズを室温にてアルゴン下で0.5時間にわたって20mlの1,2−ジクロロエタン中2g(12.33mmol)の1−ベンゾイルアセトンに添加する。該溶液を濃縮して、黄色油として粗製物(3.6g)を得る。この製造物をペンタンに溶解させ、アセトニトリルで抽出する。ペンタン溶液を濃縮して、製造物(2.0g)を透明黄色油として得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。Bp>221℃(分解;DSC)。
Figure 0005765938
実施例31
Figure 0005765938
の製造
31.1 配位子1−(4−ベンゾイル−フェニル)−4−メチル−ペンタン−1,3−ジオンの製造
Figure 0005765938
10g(39mmol)のベンゾイル安息香酸エチルエステルを0℃にてアルゴン下で60mlのTHF中3.94g(35mmol)のカリウム−tert−ブトキシドに添加する。2.82g(33mmol)の3−メチル−2−ブタノンを1時間で添加しながら、温度を25℃に上昇させる。40℃で2時間放置後、反応混合物を、10mlの濃HClを含む500mlの氷水に注ぎ込む。トルエンで抽出し、蒸発させて、粗製物(8.5g)を得て、それをヘプタン中での結晶化によって精製して、3.7gの白色固体を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。融点:76.5〜78℃。
Figure 0005765938
31.2 表題化合物の製造
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、0.75g(2.55mmol)のジ−n−ブチルジメトキシスズを、20mlの1,2−ジクロロエタン中実施例31.1で得られた1.5g(5.09mmol)の化合物にアルゴン下で室温にて0.5時間にわたって添加する。該溶液を濃縮して、粗製物(1.8g)を橙色油として得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。融点>287℃(分解(DSC))。
Figure 0005765938
実施例32 テトラ−(4−ベンゾイル−ベンゾイルオキシ)−スズ
Figure 0005765938
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、1.27g(5.6mmol)の4−ベンゾイル−安息香酸を室温にてアルゴン下で5mlのジオキサン中0.5g(1.41mmol)のテトライソプロポキシドスズに添加する。反応物を2時間にわたって50℃に加熱する。該溶液を濃縮して、1.4gの橙色固体を得る。トルエン中で結晶化させて、0.6gの灰色固体を得て、その構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。融点:191〜197℃(DSC)。
Figure 0005765938
実施例33 トリス−(4−ベンゾイル−ベンジルオキシ)−ビスマス
Figure 0005765938
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、1.81g(10.1mmol)のナトリウムメチレートを0℃にてアルゴン下で15mlのTHF中2.0g(10.1mmol)の4−ヒドロキシベンゾフェノンに添加する。反応物を15分間撹拌する。THF中1.06g(3.36mmol)の三塩化ビスマスの懸濁液を30分間にわたって添加し、該混合物を0℃で1時間撹拌する。反応混合物を濾過し、濃縮して、1.8gの黄色固体を得て、その構造を1H−NMRおよび13C−NMR−スペクトルによって確認する。融点:390〜522℃(DSC、分解)。
Figure 0005765938
実施例34
Figure 0005765938
の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、15mlのジオキサンに溶解させた2.0g(4.5mmol)のトリフェニルビスマスをアルゴン下で3mlのジオキサン中2.8g(13.6mmol)のN−フタロイルグリシンの溶液に添加し、得られた溶液を3.5時間にわたって80℃に加熱する。該混合物を室温まで冷却し、濾過し、濃縮して、3.2gの製造物を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。融点:324:329℃
Figure 0005765938
実施例35
Figure 0005765938
の製造
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、15mlのトルエンに溶解させた3.0g(6.8mmol)のトリフェニルビスマスを60℃にてアルゴン下で15mlのトルエン中3.5g(12.9mmol)の7−メチル−9−オキソ−9H−チオキサンテン−3−カルボン酸の溶液に添加し、得られた溶液を2時間にわたって100℃に加熱する。該混合物を室温まで冷却し、製造物を沈殿させ、濾過して、黄色固体(4.8g)を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。融点:263〜294℃。
Figure 0005765938
実施例36
Figure 0005765938
の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、0.25g(1.57mmol)の2−エチルカプロン酸を、10mlのジオキサンに溶解させた実施例37の1.3g(1.57mmol)の化合物の懸濁液に室温にてアルゴン下で添加する。該混合物を室温まで冷却し、表題化合物(1.0g)を濾過によって黄色固体として単離し、その構造を1H−NMRおよび13C−NMRによって確認する。融点:>350℃(分解、DSC)。
実施例37
Figure 0005765938
の製造
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、1.81g(10.1mmol)の30%ナトリウムメタノレート溶液を0℃にてアルゴン下で15mlのTHF中1.63g(10.1mmol)のベンゾイルアセトンの溶液に添加する。0℃で0.5時間撹拌した後、20mlのTHF中1.06g(3.36mmol)の三塩化ビスマスの懸濁液を添加し、0℃で2時間にわたって撹拌を継続させる。該混合物を濾過し、濃縮して、2.0gの製造物を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。融点:175:194℃。
実施例38
Figure 0005765938
の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、0.61g(3.39mmol)の30%ナトリウムメタノレート溶液を0℃にてアルゴン下で5mlのTHF中実施例31.1の1.0g(3.39mmol)の化合物の溶液に添加する。0℃で0.5時間撹拌した後、10mlのTHF中0.36g(1.13mmol)の三塩化ビスマスの懸濁液を添加する。該混合物を0℃で1時間撹拌し、25℃まで徐々に加温し、濾過する。透明な濾液を濃縮して、1.1gの黄色油を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。融点:254〜345℃(分解DSC)。
Figure 0005765938
実施例39
Figure 0005765938
の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、8mlのジオキサン中1.04g(2.36mmol)のトリフェニルビスマスを、フィルタを介して、1.7g(7.07mmol)の4−ベンゾイルフェニル−酢酸に添加し、該混合物を100℃で2時間撹拌する。室温まで冷却した後、該混合物を濾過し、蒸発させて、1.6gの白色発泡体を得て、その構造を1H−および13C−NMRによって確認する。融点=264〜323℃(DSC)。
Figure 0005765938
Me=Zrの化合物の以下の製造実施例(実施例40〜46、50.2、52.2および53)では、以下の一般手順を採用する。
一般手順A:ジルコニウム(IV)テトラブトキシドと
1)アルコール、または
2)酸、または
3)1,3−ジカルボニル化合物との反応。
乾燥三口フラスコにおいて、ジルコニウムテトラブトキシド(Zr(OBu)4)をアルゴン下で5mlのジオキサンに溶解させる。1)または2)または3)の10mlのジオキサン溶液を30分間にわたって添加する。反応混合物を実施例に記載されている反応条件下で撹拌する。製造物をジオキサンの蒸発によって単離する。必要であれば、各化合物についてさらなる精製を示唆する。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。
実施例40
Figure 0005765938
の製造
2.0gのZr(OBu)4および3.30gの4−ヒドロキシベンゾフェノンを使用して、一般手順Aに従って製造する。反応物を25℃で2時間にわたって撹拌し、50℃で蒸発させて、3.8gの製造物を橙色固体として得る。融点:337:367℃(分解、DSC)。
実施例41
Figure 0005765938
の製造
1.55gのZr(OBu)4および2.74gの4−(ヒドロキシメチル)−ベンゾフェノンを使用して、一般手順Aに従って製造し、反応物を40℃で2時間にわたって撹拌し、50℃で蒸発させて、2.9gの製造物を黄色樹脂として得る。融点>151℃(分解、DSC)。
実施例42
Figure 0005765938
の製造
1.59gのZr(OBu)4および3.0gのベンゾイル安息香酸を使用して、一般手順Aに従って製造し、反応物を25℃で2時間にわたって撹拌し、60℃で蒸発させて、2.7gの白色固体を得る。融点:189〜204℃(DSC)。
Figure 0005765938
実施例43
Figure 0005765938
の製造
1.48gのZr(OBu)4および2.0gのベンゾイル−アセトンを使用して、一般手順Aに従って製造し、反応物を45℃で0.5時間にわたって撹拌し、60℃で蒸発させる。残渣をトルエンから再結晶させて、1.44gの白色固体を得る。融点:214〜223℃。
Figure 0005765938
実施例44
Figure 0005765938
の製造
1.45gのZr(OBu)4および実施例31.1の1.12gの化合物を使用して、一般手順Aに従って製造し、反応物を25℃で1時間および60℃で0.5時間にわたって撹拌し、次いで60℃で蒸発させて、1.3gの黄色固体を得る。融点:217〜221℃。
Figure 0005765938
実施例45
Figure 0005765938
の製造
1.60gのZr(OBu)4および1.74gの3−エチル−2,4−ペンタジオンを使用して、一般手順Aに従って製造し、反応物を25℃で1時間および40℃で2時間にわたって撹拌し、次いで45℃で蒸発させる。残渣をトルエンから再結晶させて、0.7gの白色固体を得る。融点:191〜197℃。
Figure 0005765938
実施例46
Figure 0005765938
の製造
3.52g(7.34mmol)のZr(OBu)4および6.1g(29.37mmol)の2,2−ジメチル−5−フェニル−3,5−ペンタジオンを使用して、一般手順Aに従って製造し、反応物を45℃で0.5時間にわたって撹拌し、45℃にて真空下で蒸発させる。残渣を15mlのシクロヘキサンに溶解させ、0.5時間にわたって45℃に加熱する。真空下で蒸発させて、5.8gの粘着性透明固体を得て、その構造を1H−および13C−NMRによって確認する。
Figure 0005765938
実施例47
Figure 0005765938
の製造
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、5mlのジオキサン中0.75g(6.15mmol)の安息香酸を室温で1時間にわたって20mlのジオキサン中1.5g(3.1mmol)のジルコニウム(IV)テトラ−アセチルアセトナトに添加する。該混合物を室温で1時間撹拌し、60℃で蒸発させる。残渣をトルエンから再結晶させて、73%の表題製造物、14%の四安息香酸ジルコニウム、3%のジルコニウム(IV)テトラ−アセチルアセトナト、10%のアセチルアセトネートで構成された製造物を得る(1H−NMRによって確認)。融点=177〜181℃(DSC)。
実施例48
Figure 0005765938
の製造
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、2.31g(10.25mmol)のベンゾイル安息香酸を室温で35mlのジクロロエタン中2.5g(5.12mmol)のジルコニウム(IV)テトラ−アセチルアセトナトの溶液に添加する。該混合物を3時間で70℃に加熱する。3.5時間後、2mlのジオキサンを添加し、該混合物を濾過し、60℃で蒸発させる。製造物を、69%の表題製造物と14%のテトラベンゾイル安息香酸ジルコニウムと3%のジルコニウム(IV)テトラアセチルアセトナトと13%のアセチルアセトネートとの混合物として単離する(1H−NMRによって確認)。融点=75〜135℃(DSC、分解)。
実施例49
Figure 0005765938
の製造
49.1
配位子
Figure 0005765938
の製造
10.04g(72.7mmol)の無水炭酸カリウムを100mlのMEK中17.7g(109mmol)のベンゾイルアセトンの溶液に添加する。58mgの臭化テトラブチルアンモニウム(触媒)を添加する。100℃で2時間撹拌した後、該混合物を60℃まで冷却し、10mlのMEK中10g(36.3mmol)のベンゾイルベンジルブロミドの溶液を添加する。反応物を100℃で0.5時間撹拌し、次いで室温まで冷却し、濾過し、蒸発させる。粗製物を蒸留して、5.2gの黄色油を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。融点:>270℃(分解、DSC)。
Figure 0005765938
49.2 表題化合物の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、0.76g(4.2mmol)の30%ナトリウムメタノレート溶液を0℃にてアルゴン下で15mlのTHF中1.5g(4.2mmol)の3−(4−ベンゾイル−ベンジル)−1−フェニル−2,4−ペンタジオンの溶液に添加する。0℃で0.5時間撹拌した後、5mlのTHF中0.245g(1.05mmol)の四塩化ジルコニウムの溶液を添加し、撹拌を室温で2時間、そして50℃で3時間継続させる。該混合物を濾過し、濃縮して、1.65gの橙色油を得る。トルエンおよびシクロヘキサンで処理して、表題製造物を黄色固体として得る。構造を1H−NMRおよびMSスペクトルによって確認する。MS APCI(neg)1191(M−1H)。
実施例50
Figure 0005765938
の製造
50.1
配位子
Figure 0005765938
の製造
1.5g(10.9mmol)の無水炭酸カリウムを20mlの2−ブタノン中2.31g(21.8mmol)のアセチルアセトンの溶液に添加する。13mgの臭化テトラブチルアンモニウム(触媒)を添加する。100℃で2時間撹拌した後、該混合物を35℃まで冷却し、10mlの2ブタノン中2g(36.3mmol)の4−ベンゾイルベンジルブロミドの溶液を添加する。反応物を40℃で5時間撹拌し、室温まで冷却し、濾過し、蒸発させる。2.1gの粗製物をクロマトグラフィー(トルエン/酢酸エチル9/1)によって精製して、1.6gの白色固体を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。融点:84:94℃(DSC、分解)。
Figure 0005765938
50.2 表題化合物の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、0.51(1.1mmol)のZr(OBu)4を3mlのジオキサン中1.21g(4.10mmol)の4−ベンゾイルベンジル−2,4−ペンタジオンに添加する。該混合物を室温で1時間および50℃で1時間撹拌する。蒸発させて、1.1gの表題製造物を橙色固体として得て、それをトルエン中で再結晶させて、0.39gの白色固体を得る。構造を1H−NMRによって確認する。融点=159〜169℃(DSC)。
実施例51
Figure 0005765938
の製造
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、0.71g(3.96mmol)の30%ナトリウムメタノレート溶液を0℃にてアルゴン下で15mlのTHF中1g(3.96mmol)の3−ベンジル−1−フェニル−2,4−ペンタジオンの溶液に添加する。0℃で0.5時間撹拌した後、10mlのTHF中0.23g(0.99mmol)の四塩化ジルコニウムの溶液を添加し、撹拌を室温で2.5時間継続させる。80mgのナトリウムメタノレートを添加し、該混合物を0.5時間撹拌する。該混合物を濾過し、濃縮して、1gの橙色油を得る。トルエンおよびペンタンで処理して、0.5gの表題製造物を黄色固体として得る。構造を1H−NMRおよびMS APCl(neg)871.9(M−1H)よって確認する。
実施例52
Figure 0005765938
の製造
52.1
配位子
Figure 0005765938
の製造
11.24g(96.78mmol)のピバル酸メチルを40℃にてアルゴン下で60mlのDMF中14.48g(129mmol)のカリウムtert−ブトキシドの溶液に添加する。10mlのDMFに溶解させた9.69g(64.5mmol)の4−メトキシアセトフェノンを40〜50℃にて1時間で添加する。40℃で20時間放置後、反応混合物を、30mlのH2SO4(10%)を含む200mlの氷水に注ぐ。製造物を濾過し、ヘプタン中結晶化で精製して、6.6gの白色固体を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。融点:55〜60℃。
Figure 0005765938
52.1 表題化合物の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、1mlのジオキサン中1.28g(2.66mmol)のZr(OBu)4を15mlのジオキサン中2.5g(10.67mmol)の5−(4−メトキシフェニル)−2,2−ジメチル−3,5−ペンタジオンの溶液に添加する。室温で2.5時間撹拌した後、該混合物を真空下で濃縮する。残渣をトルエンおよびペンタンで処理し、濾過する。濾液を濃縮して、1.9gの表題化合物を得る。構造を1H−および13C−NMRならびにMSによって確認する。
Figure 0005765938
実施例53
Figure 0005765938
の製造
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、15mlのジクロロメタン中3.41g(16.68mmol)の(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル)−フェニル−メタノン(IRGACURE(登録商標)184)を室温で15mlのジクロロメタン中Zr(OBu)4の溶液に添加し、該混合物を4時間撹拌する。真空下で濃縮した後、残渣をヘプタンで処理して、3.5gの白色固体を得る。融点318〜326℃(DSC)。
実施例54
Figure 0005765938
の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、2g(10.09mmol)の4−ヒドロキシベンゾフェノンを1.14g(3.36mmol)のチタン(IV)テトラ−ブトキシドに添加する。該混合物を真空下で1時間にわたって80℃に加熱する。トルエン(4ml)を添加し、該混合物を45℃にて真空下で濃縮して、表題製造物を赤色発泡体として得る。構造を1H−NMRによって確認する。融点=111〜125℃。
Figure 0005765938
実施例55
Figure 0005765938
の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、1.5(7.34mmol)の2,2−ジメチル−5−フェニル−3,5−ペンタジオンを1.25g(3.67mmol)のチタン(IV)テトラブチラトに添加する。該混合物を真空下で2時間にわたって40℃に加熱する。室温まで冷却して、1.6gの橙色油を得る。構造を1H−および13C−NMRならびにMSによって確認する。融点=294〜304℃(DSC)。
実施例56
Figure 0005765938
の製造
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、2.54g(14.1mmol)の30%ナトリウムメタノレート溶液を0℃にてアルゴン下で15mlのTHF中3.0g(14.1mmol)の4−(ヒドロキシメチル)−ベンゾフェノンの溶液に添加する。0℃で0.5時間撹拌した後、20mlのTHF中1.48g(4.71mmol)の三塩化ビスマスの懸濁液を添加し、撹拌を0℃で2時間および25℃で1時間継続させる。該混合物を濾過し、濃縮して、2.0gの製造物を得る。構造を1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルによって確認する。
Figure 0005765938
実施例57
Figure 0005765938
の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、10mlのTHFに溶解させた実施例52.1の2.0(8.53mmol)の化合物を1.21g(4.26mmol)のチタン(IV)テトラ−イソプロピラトに添加する。反応混合物を25度で3時間撹拌し、蒸発させて、2.7gの橙色固体を得る。構造を1H−および13C−NMRならびにMS APCl573.19(M−OCH(CH32)によって確認する。融点=252〜303℃(DSC)。
実施例58
Figure 0005765938
の製造
25mlの乾燥三口フラスコにおいて、0.27g(1.26mmol)の4−(ヒドロキシメチル)−ベンゾフェノンを実施例57の0.8g(1.26mmol)の化合物に添加する。反応混合物を25℃で0.5時間撹拌し、蒸発させて、1.0gの橙色固体を得る。構造を1H−NMRによって確認する。融点=253〜295℃(分解DSC)。
実施例59
Figure 0005765938
の製造
50mlの乾燥三口フラスコにおいて、0.72g(4.49mmol)の2エチルヘキサノン酸を50mlのトルエンに溶解させた実施例19の4.0g(4.49mmol)の製造物の溶液に100℃で添加する。該混合物を110℃で1時間撹拌する。室温まで冷却して、固体を形成させ、濾過によって単離する。融点:374〜403℃(DSC)。
応用実施例:
重合性組成物は、一般に、固形分に基づいて、0.04質量%〜15質量%の有機金属化合物を含む。
A− ポリアクリルポリオールおよび脂肪族ポリイソシアネートを主成分とする2パックポリウレタン系の硬化
ポリウレタンは、2つの基本成分、すなわちポリオール(成分A)とポリイソシアネート(成分B)との反応生成物である。AとBの反応速度を高めるために、有機金属光潜伏性触媒をAとBの全組成物に添加する。望まれる場合は、従来の増感剤を系に添加して、光触媒の活性化を促進させる。以下の実施例において、成分Aは、ポリイソシアネート以外のすべての成分を含む。成分Bの添加前に、光潜伏性触媒と増感剤とを慎重に成分Aに混入する。
成分A
73.1部のポリオール(Desmophen(登録商標)A VP LS2350;Bayer AG)
0.9部の流動促進剤(Byk355;Byk−Chemie)
0.7部の消泡剤(Byk141;Byk−Chemie)
0.7部の流動促進剤(Byk333;Byk−Chemie)
24.6部のキシレン/メトキシプロピルアセテート/ブチルアセテート(1/1/1)
成分B
脂肪族ポリイソシアネート[(HDI−トリマー)Desmodur(登録商標)N3390BA;Bayer AG]
基本試験配合物は、
7.52部の成分Aと、
2.00部の成分Bとで構成される。
実施例A1
0.5質量%の有機金属触媒および0.5質量%の増感剤(ベンゾフェノン;DAROCUR(登録商標)BP、Ciba Inc.)を基本試験配合物に添加することによって試験サンプルを製造する。
該混合物を76μmのスプリットコーターで長さ30cmの2つのガラス板に塗布する。一方の板には、5m/分のベルト速度でIST MetzのUV処理装置(80W/cmで動作する2つの水銀ランプ)を使用して照射するのに対して、第2の板には照射しない。「不粘着時間」を測定することによって混合物の反応性を測定する。したがって、針が24時間にわたって塗装基材上を一定の速度で移動するByK Gardnerの乾燥記録計にサンプルを設置する。室温にて暗所で記録を行う。「不粘着時間」は、記録計の針が接触すると表面に粘着物が残らないようにサンプルを硬化させるのに必要な時間である。「不粘着時間」の値が小さいほど、ポリオールとイソシアネートの反応が速い。
照射サンプルと非照射サンプルの「不粘着時間」の値の差(照射サンプルの不粘着値の方が非照射サンプルのそれより小さい)が大きいほど、触媒の「光潜伏性」が強い。
該配合物のポットライフを室温で視覚的に監視する。換言すれば、それは、配合物がフラスコ内でゲル化する時間に対応する。
ポットライフの値が大きいほど、フラスコにおける混合物の安定性が高い。
試験に使用した触媒ならびに試験の結果を以下の第1表に集約する。
第1表:
Figure 0005765938
*1(C492Sn[O(CO)−(CH210CH32CAS:77−56−7;Merckによって提供される
実施例A2
0.01質量%の有機金属触媒および0.01質量%の増感剤(ベンゾフェノン;DAROCUR(登録商標)BP、Ciba Inc.)を添加することによってサンプルを製造する。
該混合物を76μmのスプリットコーターで長さ30cmの2つのガラス板に塗布する。一方の板には、5m/分のベルト速度でIST MetzのUV処理装置(80W/cmで動作する2つの水銀ランプ)を使用して照射するのに対して、第2のサンプルには照射しない。
「不粘着時間」を測定することによって混合物の反応性を測定する。したがって、針が24時間にわたって塗装基材上を一定の速度で移動するByK Gardnerの乾燥記録計にサンプルを設置する。室温にて暗所で記録を行う。「不粘着時間」は、記録計の針が接触すると表面に粘着物が残らないようにサンプルを硬化させるのに必要な時間である。「不粘着時間」の値が小さいほど、ポリオールとイソシアネートの反応が速い。
照射サンプルと非照射サンプルの「不粘着時間」の値の差(照射サンプルの不粘着値の方が非照射サンプルより小さい)が大きいほど、触媒の「光潜伏性」が強い。
試験に使用した触媒ならびに試験の結果を以下の第2表に要約する。
第2表:
Figure 0005765938
*1(C492Sn[O(CO)−(CH210CH32CAS:77−56−7;Merckによって提供される
実施例A3
以下のサンプルを試験のために製造する。
Figure 0005765938
該混合物を12μm較正巻線バーコーターでBaF2レンズに塗布する。サンプル3および4を5m/分のベルト速度でIST MetzのUV処理装置(80W/cmで動作する2つの水銀ランプ)のUV処理装置に曝露するのに対して、サンプル1および2には照射しない。いずれの場合も、NCOシグナルの消失を、TermoのIR分光光度計Nicolet380とOMNIC(登録商標)ソフトウェアとの組合せによって追跡する。IR測定を240分間にわたって常時実施する。試験中に、レンズを60℃にて暗所に保管する。
NCO含有量の減少が速いほど、配合物の反応性が高い。
結果を以下の第3表に示す。
第3表:
Figure 0005765938
実施例A4
以下のサンプルを試験のために製造する。
Figure 0005765938
該混合物を室温にて暗所で保管する。流動計MCR100(CP50−1/Q1)を用いて0、10、75および330分後に23℃で粘度を測定することによって各配合物のポットライフを監視する。粘度は、時間とともに増加する。
粘度の増加が遅いほど、配合物のポットライフが長いため、作業ウィンドウが大きい。結果を第4表に示す。
第4表:
Figure 0005765938
重合性組成物は、一般に、固形分に基づいて0.04質量%〜15質量%の有機金属化合物を含む。
以下の応用例、すなわち含まれる実施例A5〜C1までにおいて、同一の金属濃度において様々な有機金属触媒の比較を可能にする濃度で有機金属触媒を添加することによってサンプルを製造する。
実施例A5:
(固形分に対して)0.1質量%の有機金属触媒および(固形分に対して)0.5質量%の増感剤(ベンゾフェノン;DAROCUR(登録商標)BP、Ciba Inc.)を添加することによってサンプルを製造する。該混合物を76μmのスプリットコーターで長さ30cmの2つのガラス板に塗布する。一方の板には、5m/分のベルト速度でIST MetzのUV処理装置(100W/cmで動作する2つの水銀ランプ)を使用して照射するのに対して、第2のサンプルには照射しない。「不粘着時間」を測定することによって混合物の反応性を測定する。したがって、針が24時間にわたって塗装基材上を一定の速度で移動するByK Gardnerの乾燥記録計にサンプルを設置する。室温にて暗所で記録を行う。「不粘着時間」は、記録計の針が接触すると表面に粘着物が残らないようにサンプルを硬化させるのに必要な時間である。「不粘着時間」の値が小さいほど、ポリオールとイソシアネートの反応が速い。
照射サンプルと非照射サンプルの「不粘着時間」の値の差(照射サンプルの不粘着値の方が非照射サンプルより小さい)が大きいほど、触媒の「光潜伏性」が強い。
試験に使用した触媒ならびに試験の結果を以下の第5表に要約する。
第5表:
Figure 0005765938
実施例A6
以下のサンプルを試験のために製造する。
Figure 0005765938
該混合物を76μmのスプリットコーターで長さ30cmの2つのガラス板に塗布する。一方の板をDr.Hoenle GmbHのUVASPOT 400/Tランプ(ガリウムドープランプ)の下で露光するのに対して、第2のサンプルには照射しない。「不粘着時間」を測定することによって混合物の反応性を測定する。したがって、針が24時間にわたって塗装基材上を一定の速度で移動するByK Gardnerの乾燥記録計にサンプルを設置する。室温にて暗所で記録を行う。「不粘着時間」は、記録計の針が接触すると表面に粘着物が残らないようにサンプルを硬化させるのに必要な時間である。「不粘着時間」の値が小さいほど、ポリオールとイソシアネートの反応が速い。
照射サンプルと非照射サンプルの「不粘着時間」の値の差(照射サンプルの不粘着値の方が非照射サンプルより小さい)が大きいほど、触媒の「光潜伏性」が強い。
結果を第6表に示す。
第6表:
Figure 0005765938
B−1パックポリウレタン系の硬化
ポリウレタンは、2つの基本成分、すなわちポリオール(成分A)とポリイソシアネート(成分B)との反応生成物である。1パックポリウレタンの場合は、ポリイソシアネートは、ブロックポリイソシアネートである。高温は、ブロック基を非ブロック化することができ、このようにすることによって架橋を可能にする。AとBの反応速度を高めるために、有機金属光潜伏性触媒を配合物に添加する。望まれる場合は、従来の増感剤を系に添加して、光触媒の活性化を促進させる。
以下の実施例において、該触媒と増感剤とを成分Aに混入する。
成分A
1部のポリオール(Desmophen(登録商標)1100、すなわち分枝状ポリエステルポリオール;Bayer M.S.)
1部のブチルアセテート
高度な表面張力軽減のための0.1部のシリコーン添加剤(Byk306;Byk−Chemie)
成分B
ブロックイソシアネート(Desmodur(登録商標)BL4265SN、IPDIを主成分とするブロック脂肪族ポリイソシアネート;Bayer Material Science)
基本試験配合物は、
8.4部の成分Aと、
7.56部の成分Bとで構成される。
実施例B1
以下のサンプルを試験のために製造する。
Figure 0005765938
該混合物を120μm較正巻線バーで2つのアルミニウムコイルコートに塗布する。一方のパネルには、5m/分のベルト速度でIST MetzのUV処理装置(100W/cmで動作する2つの水銀ランプ)を使用して照射し、130℃で20分間加熱を行うのに対して、第2のパネルには130℃で20分間加熱を行うのみである。
硬化塗料の振り子硬度(Koenig;DIN53157)を硬化の30分後に測定する。振り子硬度測定値が大きいほど、硬化表面が硬く、重合効率が高い。結果を第7表に示す。
第7表:
Figure 0005765938
C−2パックポリウレタン系の硬化
ポリウレタンは、2つの基本成分、すなわちポリオール(成分A)とポリイソシアネート(成分B)との反応生成物である。(AとBの反応速度を高めるために)有機金属光潜伏性触媒をAとBの組成物に添加する。望まれる場合は、従来の増感剤を系に添加して、光触媒の活性化を促進させる。
以下の実施例において、成分Aは、ポリオール以外の成分を含む。光潜伏性触媒と増感剤とを成分Aに混入する。
成分A
8.18部のポリエステルポリオール(Setal(登録商標)1606BA−80;Nuplex Resins)
0.182部の流動促進剤(Byk331;Byk−Chemie)BuAc中10%
5.1部のブチルアセテート
成分B
脂肪族ポリイソシアネート[(HDI−トリマー)Tolonate(登録商標)HDL LV 2D103;Rodia]
基本試験配合物は、
13.46部の成分Aと、
3.84部の成分Bとで構成される。
実施例C1
以下のサンプルを試験のために製造する。
Figure 0005765938
該混合物を12μm較正巻線バーコーターで2つのBaF2レンズに塗布する。一方のレンズをhoenleのUVAスポット400/T(ガリウムドープランプ)に6分間曝露し、他方のレンズをUVAスポットランプに1分間曝露し、60℃で30分間乾燥させる。いずれの場合も、NCOシグナルの消失を、TermoのIR分光光度計Nicolet380とOMNIC(登録商標)ソフトウェアとの組合せによって追跡する。IR測定を硬化前後に実施する。NCO含有量が小さいほど、重合が良好である。
硬化方法の終了時に乾燥膜を得ることが重要である。それを「接触乾燥法」によって監視する(指で触れた際に表面に粘着物が残らない場合に乾燥膜が得られる)。当該評価では、該配合物を120μm較正巻線によってアルミニウムコイルコートに塗布する。
結果を第13表および第14表に示す。
第13表
Figure 0005765938
第14表
Figure 0005765938

Claims (12)

  1. ブロックまたは非ブロックイソシアネートまたはイソチオシアネート成分をポリオールで架橋してポリウレタン(PU)を形成するための潜伏性触媒化合物の使用であって、潜伏性触媒化合物は、金属に結合した光活性成分(PI)を含み、ポリウレタン(PU)の形成は、触媒が200〜800nmの波長範囲の電磁放射線に対する曝露によって放出されて開始されることを特徴とし、潜伏性触媒は、式IまたはII
    Me(PI)(m-x)x(I)
    x(PI)(m-1-x)Me−O−Me(PI)(m-1-x)x(II)
    [式中、
    Meは、Sn、Bi、Al、ZrまたはTiであり;
    mは、1からMeの配位数までの整数を表し;
    xは、0〜(m−1)の整数であり;
    Aは、C1−C20アルキル、ハロゲン、C7−C30アリールアルキル、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルカノイルオキシ、C6−C18アリール、あるいは1つ以上のC1−C20アルキルによって置換されたC6−C18アリールであり;xが1より大きい場合は、Aは同一であるか、または異なっており;
    PIは、互いに独立して、式(Z)、(B)、(C)、(D)、(E)、(F)、(G)、(H)、(J)、(K)、(L)または(M)
    Figure 0005765938
    の基であり、
    式中、yは、0または1であり;
    1、R2およびR3は、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、C8−C18アリール、C7−C30アラルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、ハロゲン、N(C1−C4−アルキル)2、または−O−もしくはNR10によって場合により中断されたN(C4−C7−シクロアルキル)であり;
    4は、水素、C1−C4−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、フェニル、N(C1−C4−アルキル)2、COOCH3
    Figure 0005765938
    であり、あるいは
    3およびR4は、ともに、S、O、NR10、CH2またはCHCH3であり;
    n、n’およびn”は、互いに独立して1〜10であり;
    qは、1〜4であり;
    5は、水素またはC1−C18−アルコキシであり;
    6は、水素、C1−C18−アルキル、C1−C12ヒドロキシアルキル、C1−C18−アルコキシ、OH、−OCH2CH2−OR18、モルホリノ、C1−C18−アルキル−S−、HS−、−NR1920、H2C=CH−、H2C=C(CH3)−、H2C=CH−CO−、H2C=CH―(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−、H2C=C(CH3)−(CO)O−、
    Figure 0005765938
    であり;
    a、bおよびcは、互いに独立して1〜3であり;
    1およびY3は、互いに独立して、直接結合、O、(CO)O、NR10、C1−C20アルキレン、C1−C20アルキレン−O−、C1−C20アルキレン−(CO)O−、または
    Figure 0005765938
    であり;
    2は、直接結合またはC1−C20−アルキレンであり;
    7およびR8は、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、非置換フェニルもしくはベンジル:またはC1−C12−アルキルによって置換されたフェニルもしくはベンジルであり;あるいはR7およびR8は、それらが結合した炭素原子と一緒になって、シクロヘキシル環を形成し;
    9は、OHまたはNR1920であり;
    10は、水素、C1−C18−アルキル、C2−C18アルケニル、C1−C12ヒドロキシアルキルまたはC1−C12ハロゲノアルキルであり;
    11、R12、R13、R14およびR15は、互いに独立して、水素、非置換C1−C12−アルキル、もしくはOHによって置換されたC1−C12−アルキル、C1−C4−アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲンまたはCNであり;アルキル鎖は、1つ以上のOによって場合により中断されており;あるいはR11、R12、R13、R14およびR15は、互いに独立して、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ、NR1920、H2C=CH−CO−、H2C=CH−(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−またはH2C=C(CH3)−(CO)O−であり;
    16は、フェニルまたはナフチルであり、いずれも非置換であるか、またはハロゲン、C1−C12アルキル、C3−C8シクロアルキル、ベンジル、フェノキシカルボニル、C2−C12アルコキシカルボニル、OR21、SR22、SOR22、SO222および/またはNR1920によって1〜7回にわたって置換されており、置換基OR21、SR22およびNR1920は、フェニルまたはナフチル環上のさらなる置換基とともに基R21、R22、R19および/またはR20を介して5員または6員環を場合によって形成し;あるいはそれらの各々が、フェニル、または1つ以上のOR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたフェニルによって置換されており;あるいは
    16は、チオキサンチル、または
    Figure 0005765938
    であり;
    17は、水素;非置換C1−C20アルキル、または1つ以上のハロゲン、OR21もしくはフェニルによって置換されたC1−C20アルキルであり;あるいはC3−C8シクロアルキルであり;あるいは非置換であるか、または1つ以上のC1−C6−アルキル、フェニル、ハロゲン、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたフェニルであり;あるいは非置換であるか、または1つ以上のC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたC1−C20アルカノイルもしくはベンゾイルであり;あるいはC2−C12アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、−CONR1920、NO2、C1−C4ハロアルキル、S(O)d−C1−C6アルキル;S(O)d−フェニルであり、
    dは、1または2であり;
    18は、水素、
    Figure 0005765938
    であり;
    19およびR20は、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C4ヒドロキシアルキル、C2−C10アルコキシアルキル、C2−C5アルケニル、C3−C8シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキル、C1−C8アルカノイル、C3−C12アルケノイル、ベンゾイルであり;あるいはそれぞれが非置換であるか、またはC1−C12アルキル、ベンゾイルもしくはC1−C12アルコキシによって置換されたフェニルまたはナフチルであり;あるいはR19およびR20は、ともに、OもしくはNR21によって場合により中断され、かつ/またはOH、C1−C4アルコキシ、C2−C4アルカノイルオキシもしくはベンゾイルオキシによって場合により置換されたC2−C6アルキレンであり、あるいはそれらが結合したN原子と一緒になって、
    Figure 0005765938
    であり;
    21およびR22は、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C12アルケニル、C3−C8シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキルであり;OH、SH、CN、C1−C8アルカノイル、非置換であるか、または1つ以上のC1−C6アルキル、ハロゲン、OH、C1−C4アルコキシもしくはC1−C4アルキルスルファニルで置換されたベンゾイルで置換されたC1−C8アルキルであり;あるいはそれぞれが非置換であるか、またはハロゲン、C1−C12アルキル、C1−C12アルコキシ、フェニル−C1−C3アルキルオキシ、フェノキシ、C1−C12アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−N(C1−C12アルキル)2、ジフェニルアミノによって置換されたフェニルまたはナフチルであり;
    23は、C1−C12アルキル、フェニル、4−モルホリノフェニル、C1−C12アルキルフェニル、またはOによって場合により中断されたC3−C8シクロアルキルで置換されたフェニルであり;
    24は、水素、メチルまたはエチルであり;
    25は、水素またはC1−C4アルキルであり;
    26およびR27は、互いに独立して、非置換であるか、またはC1−C4アルコキシもしくはフェニルによって置換されたC1−C20アルキルであり、あるいは
    26およびR27は、ともにC2−C4アルキレンであり;
    30は、水素、C1−C4アルキル、C2−C5アルカノイル、(C1−C4アルコキシ)カルボニルであり、あるいはフェニル、ベンゾイルもしくはベンゾイルフェニルによって置換されたアルキルであり;あるいはフェニルであり;または1つ以上のR34によって置換されたフェニルであり;
    31は、C1−C12アルキル、C1−C4アルコキシ、N(C1−C4アルキル)2、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルであり;
    32は、C1−C12アルキル、C1−C4アルコキシ、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルであり;
    33は、C1−C4アルキル、C1−C8アルコキシ、C1−C6チオアルキル、N(C1−C4アルキル)2、ベンゾイル、または1つ以上のR34によって置換されたベンゾイルであり;
    34は、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、またはN(C1−C4アルキル)2であり;
    35およびR36は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、C1−C4ハロアルキル、CN、NO2、C2−C6アルカノイル、ベンゾイル、フェニル、−S−フェニル、フェノキシ、C2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルであり、あるいはR35およびR36は、ともに−C(R39)=C(R40)−C(R41)=C(R42)−であり;
    37は、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはC4−C20ヘテロアリールであり、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはC4−C20ヘテロアリールは、非置換であるか、または1つ以上のC1−C12アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロゲン、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920および/または−S−フェニルによって置換されており、置換基OR21、SR22および/またはNR1920は、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルもしくはC4−C20ヘテロアリール環上のさらなる置換基とともに、またはフェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルもしくはC4−C20ヘテロアリール環の炭素原子の1つとともに基R21、R22、R20および/またはR19を介して5員または6員環を形成することが可能であり、あるいは
    yが0であれば、R37は、さらにC2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルまたはCNであり;あるいは
    38が同時に水素またはC1−C12アルキルでなければ、R37は、水素またはC1−C12アルキルであり;
    38は、R37の意味の1つを有し、あるいは非置換またはCN置換フェニル、C2−C6アルカノイル、非置換であるか、またはC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたベンゾイルであり、あるいはR38は、フェノキシカルボニル、NO2、C1−C4ハロアルキルであり、あるいはR37およびR38は、CO基と一緒になって、非置換であるか、またはC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換された5員または6員環を形成し、前記環は、O、S、NR10および/またはCOによって場合により中断されており、1つ以上のベンゾ基が前記環に場合により縮合されており;
    39、R40、R41およびR42は、互いに独立して、水素、C1−C4アルキル、ハロゲン、フェニル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、−S−フェニル、フェノキシ、C2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、NO2またはC1−C4ハロアルキルである]の化合物であることを特徴とする潜伏性触媒化合物の使用。
  2. 式IまたはIIの潜伏性触媒化合物において、
    Meは、Sn、Bi、Al、ZrまたはTiであり;
    mは、1からMeの配位数までの整数を表し;
    xは、0〜(m−1)の整数であり;
    Aは、C1−C20アルキル、ハロゲン、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルカノイルオキシまたはC6−C18アリールであり;
    PIは、互いに独立して、式(Z)、(B)、(C)、(D)、(E)、(F)、(G)、(L)または(M)の基であり;
    yは、0または1であり;
    1、R2およびR3は、互いに独立して、水素またはC1−C6−アルキルであり;
    4は、水素であり、またはR3およびR4は、ともにSであり;
    5は、水素であり;
    6は、水素であり;
    1およびY3は、互いに独立して、O、(CO)O、C1−C20アルキレン、C1−C20アルキレン−O−またはC1−C20アルキレン−(CO)O−であり;
    2は、直接結合であり;
    7およびR8は、互いに独立して、C1−C6−アルキルであり、またはR7およびR8は、それらが結合した炭素原子と一緒になって、シクロヘキシル環を形成し;
    11、R12、R13、R14およびR15は、水素であり;
    16は、フェニルであり;
    17は、CNであり;
    19およびR20は、それらが結合したN原子と一緒になって、
    Figure 0005765938
    であり;
    30は、水素、C1−C4アルキルであり、またはフェニルもしくはベンゾイルフェニルによって置換されたアルキルであり;
    31は、C1−C12アルキル、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルであり;
    32は、C1−C12アルキル、C1−C4アルコキシ、フェニル、または1つ以上のR33によって置換されたフェニルであり;
    33は、C1−C8アルコキシまたはベンゾイルであり;
    37は、非置換であるか、または1つ以上のC1−C12アルキルによって置換されたフェニルであり、あるいはyが0である場合は、R37は、さらにCNであり;
    38は、R37の意味の1つを有する、請求項1に記載の使用。
  3. (a)少なくとも1つのブロックまたは非ブロックイソシアネートまたはイソチオシアネート成分と、
    (b)少なくとも1つのポリオールと、
    (c)請求項1に定義されている少なくとも1つの潜伏性触媒化合物と
    を含む重合性組成物。
  4. 成分(a)、(b)および(c)に加えて、さらなる添加剤(d)を含む、請求項3に記載の重合性組成物。
  5. 全組成物に対して0.001〜15質量%の潜伏性触媒化合物を含む、請求項3に記載の重合性組成物。
  6. ブロックまたは非ブロックイソシアネートまたはイソチアシアネート成分をポリオールで架橋させてポリウレタン(PU)を形成するための方法であって、請求項1に定義されている潜伏性触媒化合物をブロックまたは非ブロックイソシアネートまたはイソチアシアネート成分とポリオールとの混合物に添加し、得られた混合物に200〜800nmの波長範囲の電磁放射線を照射することを特徴とする方法。
  7. 前記混合物に電磁放射線を照射し、照射と同時に、もしくは照射後に熱処理を施すことを特徴とする、請求項6に記載の方法。
  8. 接着剤、シール材、塗料、注封部品、印刷インク、印刷基板、発泡体、成形材料または光構造層を製造するための、請求項6に記載の方法。
  9. 接着剤、塗料、シール材、注封部品、印刷インク、印刷基板、発泡体、成形材料または光構造層を製造するための請求項3から5までのいずれか1項に記載の重合性組成物の使用。
  10. 請求項3から5までのいずれか1項に記載の組成物が少なくとも1つの表面に塗装された塗装基材。
  11. 請求項3から5までのいずれか1項に記載の重合性組成物を硬化することによって得られる重合または架橋組成物。
  12. 式IまたはII
    Me(PI)(m-x)x(I)
    x(PI)(m-1-x)Me−O−Me(PI)(m-1-x)x(II)
    [式中、
    Meは、Sn、Bi、Al、ZrまたはTiであり;
    mは、1からMeの配位数までの整数を表し;
    xは、0〜(m−1)の整数であり;
    Aは、C1−C20アルキル、C7−C30アリールアルキル、C1−C20アルコキシ、C2−C20アルカノイルオキシ、C6−C18アリール、あるいは1つ以上のC1−C20アルキルによって置換されたC6−C18アリールであり;あるいはxが1である場合は、Aは、さらにハロゲンであり;xが1より大きい場合は、Aは同一であるか、または異なっており、
    PIは、互いに独立して、式(Z)、(B)、(C)、(D)、(F)、(G)、(H)、(J)、(K)または(M)
    Figure 0005765938
    の基であり、
    式中、yは、0または1であり;
    1、R2およびR3は、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、C6−C18−アリール、C7−C30−アラルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ、ハロゲン、N(C1−C4−アルキル)2、または−O−もしくはNR10によって場合により中断されたN(C4−C7−シクロアルキル)であり;
    4は、水素、C1−C4−アルキル、C1−C4−ハロゲンアルキル、フェニル、N(C1−C4−アルキル)2、COOCH3
    Figure 0005765938
    であり、あるいは
    3およびR4は、ともに、S、O、NR10、CH2またはCHCH3であり;
    n、n’およびn”は、互いに独立して1〜10であり;
    qは、1〜4であり;
    5は、水素またはC1−C18−アルコキシであり;
    6は、水素、C1−C18−アルキル、C1−C12−ヒドロキシアルキル、C1−C18−アルコキシ、OH、−OCH2CH2−OR18、モルホリノ、C1−C18−アルキル−S−、HS−、−NR1920、H2C=CH−、H2C=C(CH3)−、H2C=CH−CO−、H2C=CH―(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−、H2C=C(CH3)−(CO)O−、
    Figure 0005765938
    であり;
    a、bおよびcは、互いに独立して1〜3であり;
    1およびY3は、互いに独立して、直接結合、O、(CO)O、NR10、C1−C20アルキレン、C1−C20アルキレン−O−、C1−C20アルキレン−(CO)O−、または
    Figure 0005765938
    であり;
    2は、直接結合またはC1−C20−アルキレンであり;
    7およびR8は、互いに独立して、水素、C1−C6−アルキル、非置換フェニルもしくはベンジル:またはC1−C12−アルキルによって置換されたフェニルもしくはベンジルであり;あるいはR7およびR8は、それらが結合した炭素原子と一緒になって、シクロヘキシル環を形成し;
    9は、OHまたはNR1920であり;
    10は、水素、C1−C18−アルキル、C2−C18アルケニル、C1−C12ヒドロキシアルキルまたはC1−C12ハロゲノアルキルであり;
    11、R12、R13、R14およびR15は、互いに独立して、水素、非置換C1−C12−アルキル、もしくはOHによって置換されたC1−C12−アルキル、C1−C4−アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲンまたはCNであり;アルキル鎖は、1つ以上のOによって場合により中断されており;あるいはR11、R12、R13、R14およびR15は、互いに独立して、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ、NR1920、H2C=CH−CO−、H2C=CH−(CO)O−、H2C=C(CH3)−CO−またはH2C=C(CH3)−(CO)O−であり;
    18は、水素、
    Figure 0005765938
    であり;
    19およびR20は、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C4ヒドロキシアルキル、C2−C10アルコキシアルキル、C2−C5アルケニル、C3−C8シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキル、C1−C8アルカノイル、C3−C12アルケノイル、ベンゾイルであり;あるいはそれぞれが非置換であるか、またはC1−C12アルキル、ベンゾイルもしくはC1−C12アルコキシによって置換されたフェニルまたはナフチルであり;あるいはR19およびR20は、ともに、OもしくはNR21によって場合により中断され、かつ/またはOH、C1−C4アルコキシ、C2−C4アルカノイルオキシもしくはベンゾイルオキシによって場合により置換されたC2−C6アルキレンであり、あるいはそれらが結合したN原子と一緒になって、
    Figure 0005765938
    であり;
    21およびR22は、互いに独立して、水素、C1−C20アルキル、C2−C12アルケニル、C3−C8シクロアルキル、フェニル−C1−C3アルキルであり;OH、SH、CN、C1−C8アルカノイル、非置換であるか、または1つ以上のC1−C6アルキル、ハロゲン、OH、C1−C4アルコキシもしくはC1−C4アルキルスルファニルで置換されたベンゾイルで置換されたC1−C8アルキルであり;あるいはそれぞれが非置換であるか、またはハロゲン、C1−C12アルキル、C1−C12アルコキシ、フェニル−C1−C3アルキルオキシ、フェノキシ、C1−C12アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−N(C1−C12アルキル)2、ジフェニルアミノによって置換されたフェニルまたはナフチルであり;
    23は、C1−C12アルキル、フェニル、4−モルホリノフェニル、C1−C12アルキルフェニル、またはOによって場合により中断されたC3−C8シクロアルキルで置換されたフェニルであり;
    24は、水素、メチルまたはエチルであり;
    25は、水素またはC1−C4アルキルであり;
    26およびR27は、互いに独立して、非置換であるか、またはC1−C4アルコキシもしくはフェニルによって置換されたC1−C20アルキルであり、あるいは
    26およびR27は、ともにC2−C4アルキレンであり;
    35およびR36は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、C1−C4ハロアルキル、CN、NO2、C2−C6アルカノイル、ベンゾイル、フェニル、−S−フェニル、フェノキシ、C2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルであり、あるいはR35およびR36は、ともに−C(R39)=C(R40)−C(R41)=C(R42)−であり;
    37は、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはC4−C20ヘテロアリールであり、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルまたはC4−C20ヘテロアリールは、非置換であるか、または1つ以上のC1−C12アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロゲン、フェニル、OR21、SR22、NR1920および/または−S−フェニルによって置換されており、置換基OR21、SR22および/またはNR1920は、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルもしくはC4−C20ヘテロアリール環上のさらなる置換基とともに、またはフェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリルもしくはC4−C20ヘテロアリール環の炭素原子の1つとともに基R21、R22、R20および/またはR19を介して5員または6員環を形成することが可能であり、あるいは
    yが0であれば、R37は、さらにC2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルまたはCNであり;あるいは
    38が同時に水素またはC1−C12アルキルでなければ、R37は、水素またはC1−C12アルキルであり;
    38は、R37の意味の1つを有し、あるいは非置換またはCN置換フェニル、C2−C6アルカノイル、非置換であるか、またはC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換されたベンゾイルであり、あるいはR38は、フェノキシカルボニル、NO2、C1−C4ハロアルキルであり、あるいはR37およびR38は、CO基と一緒になって、非置換であるか、またはC1−C6アルキル、フェニル、OR21、SR22および/またはNR1920によって置換された5員または6員環を形成し、前記環は、O、S、NR10および/またはCOによって場合により中断されており、1つ以上のベンゾ基が前記環に場合により縮合されており;
    39、R40、R41およびR42は、互いに独立して、水素、C1−C4アルキル、ハロゲン、フェニル、C1−C4アルコキシ、C1−C4チオアルキル、−S−フェニル、フェノキシ、C2−C6アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CN、NO2またはC1−C4ハロアルキルである]の、ブロックまたは非ブロックイソシアネートまたはイソチオシアネート成分をポリオールで架橋してポリウレタン(PU)を形成するための潜伏性触媒化合物。
JP2010529346A 2007-10-17 2008-10-10 有機金属化合物を主成分とする光潜伏性触媒 Active JP5765938B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP07118662.1 2007-10-17
EP07118662 2007-10-17
EP07123189.8 2007-12-14
EP07123189 2007-12-14
PCT/EP2008/063608 WO2009050115A1 (en) 2007-10-17 2008-10-10 Photolatent catalysts based on organometallic compounds

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011501774A JP2011501774A (ja) 2011-01-13
JP2011501774A5 JP2011501774A5 (ja) 2011-11-24
JP5765938B2 true JP5765938B2 (ja) 2015-08-19

Family

ID=40344996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010529346A Active JP5765938B2 (ja) 2007-10-17 2008-10-10 有機金属化合物を主成分とする光潜伏性触媒

Country Status (8)

Country Link
US (1) US8318830B2 (ja)
EP (1) EP2203496B1 (ja)
JP (1) JP5765938B2 (ja)
KR (1) KR101528648B1 (ja)
CN (1) CN101874050B (ja)
BR (1) BRPI0818584B1 (ja)
RU (1) RU2489450C9 (ja)
WO (1) WO2009050115A1 (ja)

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101752516B1 (ko) * 2009-09-15 2017-06-29 바스프 에스이 광-잠재성 티타늄 촉매
KR101752517B1 (ko) * 2009-09-15 2017-06-29 바스프 에스이 광-잠재성 티타늄-킬레이트 촉매
RU2012121583A (ru) 2009-10-28 2013-12-10 Баейр Матириальсайенс Аг Катализаторы и их применение
US20120302718A1 (en) 2010-02-02 2012-11-29 Bayer Intellectual Property GmbH Creative Campus Monheim Polyisocyanate Polyaddition Products, Method for Producing Same, and Use Thereof
JP5528181B2 (ja) * 2010-04-06 2014-06-25 ダンロップスポーツ株式会社 ゴルフボール
EP2465886A1 (de) 2010-12-16 2012-06-20 Bayer MaterialScience AG Polyisocyanat-Polyadditionsprodukte, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
DE102011009235A1 (de) * 2011-01-22 2012-07-26 Schott Ag Festigkeitssteigernde Beschichtung auf Polyurethan-basis
JP6184401B2 (ja) 2011-04-05 2017-08-23 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 光潜在性チタン−オキソ−キレート触媒
JP5776358B2 (ja) * 2011-06-16 2015-09-09 東ソー株式会社 ポリウレタン樹脂製造用触媒及びポリウレタン樹脂の製造方法
EP2604615A1 (de) * 2011-12-12 2013-06-19 Sika Technology AG Bismuthaltiger Katalysator für Polyurethan-Zusammensetzungen
EP2818525B1 (en) * 2012-02-21 2016-12-28 Nitto Kasei Co., Ltd. Electrodeposition coating composition, and catalyst for electrodeposition coating composition
JP2015108029A (ja) * 2012-03-12 2015-06-11 日東化成株式会社 電着塗料組成物、電着塗料組成物用触媒
US9339832B2 (en) 2012-03-22 2016-05-17 Basf Se Spraygun for producing cured coating films and methods of use thereof
EP2828001A1 (de) 2012-03-22 2015-01-28 Basf Se Verfahren und vorrichtung zur herstellung von gehärteten lackschichten
US9315636B2 (en) * 2012-12-07 2016-04-19 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Stable metal compounds, their compositions and methods
KR101674989B1 (ko) * 2013-05-21 2016-11-22 제일모직 주식회사 레지스트 하층막용 조성물, 이를 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스
WO2015111498A1 (ja) * 2014-01-21 2015-07-30 日東化成株式会社 ウレタン樹脂製造用触媒、該触媒存在下で製造されるウレタン樹脂組成物、および該ウレタン樹脂組成物の製造方法
WO2015111497A1 (ja) * 2014-01-21 2015-07-30 日東化成株式会社 ウレタン樹脂製造用触媒、該触媒存在下で製造されるウレタン樹脂組成物、および該ウレタン樹脂組成物の製造方法
WO2015151788A1 (ja) * 2014-04-01 2015-10-08 日東化成株式会社 有機重合体又はオルガノポリシロキサン用硬化触媒、湿気硬化型組成物、硬化物及びその製造方法
WO2015151787A1 (ja) * 2014-04-01 2015-10-08 日東化成株式会社 有機重合体又はオルガノポリシロキサン用硬化触媒、湿気硬化型組成物、硬化物及びその製造方法
CN106232750B (zh) * 2014-04-28 2018-05-22 日东化成株式会社 电沉积涂料组合物、电沉积涂料组合物用催化剂
US9315695B2 (en) * 2014-06-26 2016-04-19 Dymax Corporation Actinic radiation and moisture dual curable composition
EP3197930B1 (de) * 2014-09-22 2023-11-08 Sika Technology AG Lagerstabiler, feuchtigkeitshärtender polyurethanklebstoff mit raschem haftungsaufbau auf glas
EP3224292A1 (en) 2014-11-24 2017-10-04 PPG Industries Ohio, Inc. Methods for reactive three-dimensional printing by inkjet printing
JP6936244B2 (ja) 2016-03-29 2021-09-15 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ポリウレタン及び潜在性触媒を含有するラミネート用接着剤配合物
US10053596B2 (en) * 2016-08-30 2018-08-21 Prc-Desoto International, Inc. Curable film-forming compositions demonstrating increased wet-edge time
EP3363840A1 (en) 2017-02-17 2018-08-22 Henkel AG & Co. KGaA Two-component polyurethane composition comprising a latent catalyst
EP3381959A1 (de) 2017-03-27 2018-10-03 Covestro Deutschland AG Dual cure-verfahren unter verwendung von thermisch latenten zinnkatalysatoren
CN108659211B (zh) * 2017-03-29 2020-06-23 中国科学院大连化学物理研究所 疏水性醇类金属化合物和异山梨醇改性聚酯的制备方法
US10434704B2 (en) 2017-08-18 2019-10-08 Ppg Industries Ohio, Inc. Additive manufacturing using polyurea materials
EP3762143A1 (en) 2018-03-09 2021-01-13 PPG Industries Ohio Inc. Compounds for coordinating with a metal, compositions containing such compounds, and methods of catalyzing reactions
US20210354203A1 (en) * 2018-09-21 2021-11-18 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Three-dimensional printing
EP3921352A1 (de) * 2019-02-07 2021-12-15 BASF Coatings GmbH Bismuthaltiger katalysator umfassend mindestens einen aromatischen substituenten
US20220005687A1 (en) * 2020-07-02 2022-01-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method of manufacturing a semiconductor device and pattern formation method
EP4152426A1 (en) * 2021-09-20 2023-03-22 Novaled GmbH An organic electronic device comprising a substrate, an anode layer, a cathode layer, at least one first emission layer, and a hole injection layer that comprises a metal complex as well as a metal complex
EP4385060A1 (en) 2021-09-20 2024-06-19 Novaled GmbH An organic electronic device comprising a substrate, an anode layer, a cathode layer, at least one first emission layer, and a hole injection layer that comprises a metal complex as well as a metal complex
CN114247480B (zh) * 2022-01-01 2022-12-13 大连理工大学 一种面向惰性c-h活化的染料基金属有机框架光催化剂制备方法及其应用
WO2023247716A2 (en) * 2022-06-24 2023-12-28 Basf Se Bismuth-containing catalyst comprising a dicarboxylate ligand

Family Cites Families (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1158548A (en) * 1965-07-26 1969-07-16 Nitto Kasei Co Ltd Stabilizing Synthetic Polymer against Light
US3565929A (en) * 1966-07-26 1971-02-23 Nitto Kasei Co Ltd Organotin benzoylphenolates or hydroxide,oxide,mercaptide carboxylate and thiocarboxylate derivatives thereof
JPS5549222B2 (ja) * 1971-11-17 1980-12-10
EP0007086B1 (de) 1978-07-14 1982-02-10 BASF Aktiengesellschaft Lichthärtbare Form-, Tränk- und Überzugsmassen sowie daraus hergestellte Formkörper
US4292252A (en) 1978-07-28 1981-09-29 Tenneco Chemicals Inc. Process for preparing organotin esters
JPS5857428A (ja) * 1981-09-30 1983-04-05 Toshiba Corp 光重合組成物
US4549945A (en) * 1984-01-11 1985-10-29 Phillips Petroleum Company UV Cured polyurethanes using organotin promoters
US4575330A (en) 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
US4788083A (en) * 1986-03-27 1988-11-29 Ashland Oil, Inc. Tin or bismuth complex catalysts and trigger cure of coatings therewith
EP0269573B1 (de) * 1986-11-26 1991-03-27 Ciba-Geigy Ag Flüssige Photoinitiatorgemische
US4950696A (en) * 1987-08-28 1990-08-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-induced dual curable compositions
US4740577A (en) * 1987-08-28 1988-04-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy polymerizable polyurethane precursors
US4973623A (en) 1989-05-26 1990-11-27 Dow Corning Corporation Fast curing oximo-ethoxy functional siloxane sealants
US5238744A (en) * 1990-08-16 1993-08-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Tough polymeric mixtures
SE9200564L (sv) 1992-02-26 1993-03-15 Perstorp Ab Dendritisk makromolekyl av polyestertyp, foerfarande foer framstaellning daerav samt anvaendning daerav
JP3325307B2 (ja) 1992-06-05 2002-09-17 積水化学工業株式会社 室温硬化性組成物
DE4228514A1 (de) 1992-08-27 1994-03-03 Hoechst Ag Bindemittel für Pulverlacke
BE1007373A3 (nl) 1993-07-30 1995-05-30 Dsm Nv Stralingsuithardbare bindmiddelsamenstelling voor poederverfformuleringen.
FR2723008B1 (fr) * 1994-07-29 1996-09-20 Inst Francais Du Petrole Dispositif concentrateur en particules fines ou cassees
JP3884094B2 (ja) * 1994-09-16 2007-02-21 株式会社東芝 エポキシ樹脂用硬化触媒および該触媒を含有するエポキシ樹脂組成物
US5545600A (en) 1994-12-21 1996-08-13 Knudsen; George A. Process for the preparation of dialkyltin dialkoxide
JPH08305019A (ja) 1995-05-10 1996-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH09179299A (ja) 1995-12-21 1997-07-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感放射線性組成物
DE19616795A1 (de) 1996-04-26 1997-11-06 Huels Silicone Gmbh Katalysator/Vernetzer-Komponente für RTV-Siliconkautschukmischungen
JPH09325209A (ja) 1996-06-06 1997-12-16 Fuji Photo Film Co Ltd Lcd表示装置用カラーフィルター
US5846897A (en) * 1997-03-19 1998-12-08 King Industries, Inc. Zirconium urethane catalysts
JP2000066017A (ja) * 1998-08-19 2000-03-03 Toray Ind Inc カラーフィルター用熱硬化性樹脂溶液組成物、カラーフィルターならびに液晶表示装置
CA2292483A1 (en) 1998-12-17 2000-06-17 Sinzi Hirato Electrodeposition paint composition
DE19935471A1 (de) 1999-07-28 2001-02-08 Goldschmidt Ag Th Beschichtung von Oberflächen
US6376568B1 (en) 1999-07-29 2002-04-23 Ciba Specialty Chemicals Corporation Surface-active photoinitiators
BR0111020B1 (pt) * 2000-05-26 2011-02-22 composição de revestimento fotoativável, processo para produção de uma camada de revestimento, e, uso de uma composição de revestimento.
DE10260299A1 (de) 2002-12-20 2004-07-01 Bayer Ag Reaktivsysteme, deren Herstellung und deren Verwendung
US6969754B2 (en) 2003-12-11 2005-11-29 Valspar Sourcing, Inc. Blocked isocyanate crosslinker solution
WO2006007407A1 (en) 2004-06-16 2006-01-19 E.I. Dupont De Nemours And Company Air-activated organotin catalysts for polyurethane synthesis
DE102004044085A1 (de) 2004-09-09 2006-03-16 Tesa Ag Haftklebemasse mit dualem Vernetzungsmechanismus
MX2007003197A (es) * 2004-09-17 2007-05-24 Akzo Nobel Coatings Int Bv Composicion de recubrimiento basada en el curado con tiol-nco.
DE102005029282A1 (de) 2005-06-23 2006-12-28 Henkel Kgaa Silanvernetzende Kleb- und Dichtstoffmassen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
GB0513616D0 (en) 2005-07-04 2005-08-10 Johnson Matthey Plc Novel zirconium compound, catalyst and its use for polyurethane manufacture
JP2007246863A (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Nippon Steel Chem Co Ltd 塗料組成物
US20070244249A1 (en) 2006-04-06 2007-10-18 General Electric Company Two-part translucent silicone rubber-forming composition
EP2029650B1 (en) 2006-06-22 2018-01-10 Ciba Holding Inc. Actinic radiation-curable coating composition
GB2444255A (en) 2006-11-30 2008-06-04 Formerol Ltd Mouldable one-part RTV silicone elastomer

Also Published As

Publication number Publication date
CN101874050B (zh) 2013-10-23
RU2489450C2 (ru) 2013-08-10
JP2011501774A (ja) 2011-01-13
KR20100091182A (ko) 2010-08-18
BRPI0818584B1 (pt) 2019-05-28
EP2203496B1 (en) 2018-04-11
RU2489450C9 (ru) 2014-01-27
KR101528648B1 (ko) 2015-06-15
CN101874050A (zh) 2010-10-27
US20100234485A1 (en) 2010-09-16
WO2009050115A1 (en) 2009-04-23
BRPI0818584A2 (pt) 2015-04-22
RU2010119301A (ru) 2011-11-27
US8318830B2 (en) 2012-11-27
EP2203496A1 (en) 2010-07-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5765938B2 (ja) 有機金属化合物を主成分とする光潜伏性触媒
JP5894919B2 (ja) 光潜在性チタンキレート触媒
EP2066721B1 (en) Photolatent bases for systems based on blocked isocyanates
JP5606308B2 (ja) 光活性窒素塩基
JP5645939B2 (ja) 光潜在性チタン触媒
US20180105719A1 (en) Photo-latent titanium oxo-chelate catalysts

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20101228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111007

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111007

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130619

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130624

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20130911

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20130919

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140804

RD13 Notification of appointment of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433

Effective date: 20140814

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20140814

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141028

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141125

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150518

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150616

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5765938

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250