JP5748730B2 - 液浸リソグラフィ装置、シャッター部材、および基板テーブル - Google Patents
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Description
時に、液浸液が断続的に接触する表面を有し、表面が1μm以下の表面粗さRaと、液浸液との79°以上の後退接触角とを有する液浸リソグラフィ装置が提供される。
[0033] 図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
「Bilatal Al」は、シュウ酸内で陽極酸化処理されたアルミニウムを示す。グラフから、表面粗さRaが1000nm以下の基板は、長期間の超純水中の断続的な液浸後に安定する79%以上のRCAを達成することができることが分かる。基板材料もRCAの安定性に影響するが、連続的な液浸に基づく上記の結果と実験は、RCAの安定性が表面粗さに大きく依存することを示している。
Claims (13)
- 液浸液を通して基板上に像を投影する液浸リソグラフィ装置であって、使用時に液浸液が接触する表面を有し、前記表面が、0.2μm以下の表面粗さRaであって、前記表面の粗さの算術平均である表面粗さと、液浸液との60°以上の後退接触角とを有し、前記表面がコーティングされた表面であり、
前記表面が、基層と、その上のコンフォーマルコーティングとを含み、コーティングされた前記基層の表面が、0より大きく、かつ、0.2μm以下の表面粗さRaを有する、液浸リソグラフィ装置。 - 前記液浸液に泡が形成されないように、前記液浸液との前進接触角及び前記後退接触角の差を低減するように使用時に前記液浸液が接触する前記表面の前記表面粗さが選択される、請求項1に記載の装置。
- 前記コンフォーマルコーティングが、SiOxCyから構成される、請求項1または2に記載の装置。
- 前記表面が、非コンフォーマルコーティングを有し、前記非コンフォーマルコーティングの外部表面が、0.2μm以下の表面粗さRaと、液浸液との60°以上の後退接触角とを有する、請求項1に記載の装置。
- 前記表面が、液浸液に接触する投影システムの表面、センサ、基板ホルダ、基板テーブル、シャッター部材、流体ハンドリング構造、液浸液に接触するように構成された装置の一部分上に提供された交換式構成要素、位置決めフィーチャ、又は基板ホルダ、基板テーブル、又はシャッター部材からなるグループから選択される少なくとも2つの間のギャップ内に位置する流体抽出デバイスを含むグループから選択される装置の一部分の表面である、請求項1から4のいずれか1項に記載の装置。
- 前記一部分が、投影システムの最終光学要素であり、0.2μm以下の表面粗さRaを有する前記表面が、投影ビームの経路に位置しない、前記最終光学要素の表面である、請求項5に記載の装置。
- 液浸リソグラフィ装置で使用するシャッター部材であって、前記液浸リソグラフィ装置が、液浸液を通して基板上に像を投影するように配置され、前記シャッター部材が、使用時に前記液浸液が接触する表面を有し、前記表面が、0.2μm以下の表面粗さRaであって、前記表面の粗さの算術平均である表面粗さと、液浸液との60°以上の後退接触角とを有し、前記表面がコーティングされた表面であり、
前記表面が、基層と、その上のコンフォーマルコーティングとを含み、コーティングされた前記基層の表面が、0より大きく、かつ、0.2μm以下の表面粗さRaを有する、シャッター部材。 - 液浸リソグラフィ装置内の基板を支持する基板テーブルであって、前記液浸リソグラフィ装置が、液浸液を通して基板上に像を投影するように配置され、前記基板テーブルが、使用時に前記液浸液が接触する表面を有し、前記表面が、0.2μm以下の表面粗さRaであって、前記表面の粗さの算術平均である表面粗さと、液浸液との60°以上の後退接触角とを有し、前記表面がコーティングされた表面であり、
前記表面が、基層と、その上のコンフォーマルコーティングとを含み、コーティングされた前記基層の表面が、0より大きく、かつ、0.2μm以下の表面粗さRaを有する、基板テーブル。 - 液浸液を通して基板上に像を投影する液浸リソグラフィ装置であって、前記装置が、使用時に前記液浸液が断続的に接触する表面を有し、前記表面が、1μm以下の表面粗さRaであって、前記表面の粗さの算術平均である表面粗さと、液浸液との79°以上の後退接触角とを有し、前記表面がコーティングされた表面であり、
前記表面が、基層と、その上のコンフォーマルコーティングとを含み、コーティングされた前記基層の表面が、0より大きく、かつ、1μm以下の表面粗さRaを有する、液浸リソグラフィ装置。 - 前記表面が、基層と、その上のコーティングであって、Si及びOを含むコーティングとを含む、請求項9に記載の装置。
- 前記表面が、
液浸液に接触するように構成された投影システムの表面、
センサ、
基板ホルダ、
基板テーブル、
シャッター部材、
流体ハンドリング構造、
前記液浸液に接触するように構成された装置の一部分上に提供された交換式構成要素、
位置決めフィーチャ、又は
基板ホルダ、基板テーブル、又はシャッター部材からなるグループから選択される少なくとも2つの間のギャップ内に位置する流体抽出デバイスを含むグループから選択される前記装置の一部分の表面である、請求項9または10に記載の装置。 - 液浸リソグラフィ装置で使用するシャッター部材であって、前記液浸リソグラフィ装置が、液浸液を通して基板上に像を投影するように配置され、前記シャッター部材が、使用時に前記液浸液が断続的に接触する表面を有し、前記表面が、1μm以下の表面粗さRaであって、前記表面の粗さの算術平均である表面粗さと、液浸液との90°以上、80°以上、又は82°以上の後退接触角とを有し、前記表面がコーティングされた表面であり、
前記表面が、基層と、その上のコンフォーマルコーティングとを含み、コーティングされた前記基層の表面が、0より大きく、かつ、1μm以下の表面粗さRaを有する、シャッター部材。 - 液浸リソグラフィ装置内の基板を支持する基板テーブルであって、前記液浸リソグラフィ装置が、液浸液を通して基板上に像を投影するように配置され、前記基板テーブルが、使用時に前記液浸液が断続的に接触する表面を有し、前記表面が、1μm以下の表面粗さRaであって、前記表面の粗さの算術平均である表面粗さと、液浸液との79°以上、80°以上、又は82°以上の後退接触角とを有し、前記表面がコーティングされた表面であり、
前記表面が、基層と、その上のコンフォーマルコーティングとを含み、コーティングされた前記基層の表面が、0より大きく、かつ、1μm以下の表面粗さRaを有する、基板テーブル。
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