JP5748088B2 - ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
1a 表面(一方の面)
1b 裏面(他方の面)
10 スパッタリング装置
12 成膜ゾーン
13 チャンバ
14 ターゲット
17 支持ガラス基板
18 支持面
Claims (6)
- 一方の面全域に薄膜が形成されたガラス基板を製造するための方法であって、成膜処理により前記薄膜を形成するに際し、
表面粗さRaが2.0nm以下とされた前記ガラス基板の他方の面を、該他方の面全域を覆う支持ガラス基板の支持面に対して剥離可能に直接接着させると共に、
前記他方の面は、膜を有さず、前記支持面は、前記支持ガラス基板が有する表面粗さRaが2.0nm以下の無機薄膜の表面であることを特徴とするガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス基板として、前記他方の面のGI値が1000pcs/m2以下のものを用いると共に、前記支持ガラス基板として、前記支持面のGI値が1000pcs/m2以下のものを用いることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記ガラス基板および前記支持ガラス基板として、実質的にアルカリ成分を含まないガラスで形成されたものを用いることを特徴とする請求項1又は2に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記支持ガラス基板として、前記ガラス基板と同一の組成を有するガラスで形成されたものを用いることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記薄膜が、無機薄膜であることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記無機薄膜が、紫外線の遮断機能を有する紫外線遮断膜であることを特徴とする請求項5に記載のガラス基板の製造方法。
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