JP5747842B2 - 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
この基板保持部を鉛直軸周りに回転させるための回転駆動部と、
回転する前記基板の上面の中央部に、基板上の薬液を除去するためにリンス液を供給するための第1ノズルと、
前記第1ノズルを基板の中央部の上方位置と基板側方の退避位置との間で移動させるための第1移動機構と、
基板の周縁部よりも内側の基板の上方位置から、周縁部へ向けてリンス液を吐出する第2ノズルと、
前記第2ノズルを基板の周縁部よりも内側の上方位置と基板側方の退避位置との間で移動させる第2移動機構と、
予め設定した回転速度で回転する基板の中央部の上方位置にて、前記第1ノズルから基板にリンス液を供給することと、次いで、前記第1ノズルからリンス液を供給しながら、前記基板の回転速度を低下させることと、しかる後、基板の回転速度が第1回転速度まで低下したら、基板の回転速度を低下させながら、前記中央部から周縁部側へ向けて第1ノズルを移動させることと、その後、前記第1ノズルが、予め設定された終了位置に到達し、且つ、前記基板の回転速度が前記第1回転速度よりも小さい第2回転速度であるとき、当該第1ノズルからのリンス液の供給を停止する一方、前記第2ノズルにより、前記周縁部よりも内側の基板の上方位置から、前記第2回転速度で回転する基板の周縁部へ向けて、前記第1ノズルよりも大きな供給速度にてリンス液を供給することと、を実行させる制御部と、を備えたことを特徴とする。
(a)基板の上面に薬液を供給するための薬液ノズルと、前記第1ノズルとが設けられたノズルブロックを備え、前記第1移動機構は、このノズルブロックを移動させること。
(b)前記第2ノズルは、前記薬液ノズル及び第1ノズルと共通のノズルブロックに設けられ、前記第1移動機構と第2移動機構とは共通化されていること。
(c)前記薬液ノズルと第1ノズルとが共通のノズルであること。
(d)前記第1ノズルの吐出口の開口面積が前記第2ノズルの吐出口の開口面積よりも大きいこと。また、前記第1ノズルから供給されるリンス液の単位時間あたりの流量が、前記第2ノズルから供給されるリンス液の単位時間あたりの流量よりも大きいこと。
また、支持プレート21の外方には、支持ピン23によって支持されたウエハWをその周縁及び斜め上方側から覆うためのカップ11が設けられている。
上述の第1ノズル411を支持するノズルブロック42やノズルアーム43、スライダー44やガイドレール45は、第1ノズル411を移動させる第1移動機構に相当する。またノズルブロック42は、図1、図2に示した形状のものに限られるものではなく、第1ノズル411を保持する機能を備えていればよい。
また、第2ノズル51は、ノズルブロック52やノズルアーム53の内部に形成された液流路や開閉弁V1が設けられた接続管路を介して既述のDIW供給部61に接続されている。
背景技術にて説明したように、DIWを供給しながら第1ノズル411をウエハWの中央部の上方位置から周縁部の上方位置へ移動させたとき、薬液の反応生成物がDIW中に取り込まれ、ウエハWの周縁部に残存するとの課題が存在することを確認する実験を行った。
図4に示したステップS3〜S8までの手順にて処理液(SC−1、DHF、DIW)を供給してウエハWの液処理を行い、その後、ステップS9の第2ノズル51による周縁部のリンス処理を行うことなくウエハWをスピン乾燥した(ステップS10)。その後、ウエハWの表面に残存するパーティクルの分布をパーティクルカウンターにて測定した。
上記実験後におけるウエハWの表面のパーティクルの分布を図12に示す。図12によれば、ウエハWの中心部側においてはパーティクルの数が少ない一方、図中に円で囲んだウエハWの周縁部の領域内に多数のパーティクルが観察される。これは、第1ノズル411を移動させることによってウエハWの中央部側から周縁部側へ押し流されてきた反応生成物がウエハWの外へ排出されず、ウォーターマークとなってしまった結果であると考えられる。
このような観察結果に基づいて、周縁部の範囲を決定し、この周縁部に1ノズル411よりも大きな供給速度で第2ノズル51からDIWを供給することにより、ウォーターマークの原因となる反応生成物をウエハWの外に押し流すことができる。
W ウエハ
21 支持プレート
23 支持ピン
30 回転駆動部
411 第1ノズル
42 ノズルブロック
51 第2ノズル
52 ノズルブロック
61 DIW供給部
62 IPA供給部
63 DHF供給部
64 SC−1供給部
7 制御部
Claims (8)
- 基板を水平に保持するための基板保持部と、
この基板保持部を鉛直軸周りに回転させるための回転駆動部と、
回転する前記基板の上面の中央部に、基板上の薬液を除去するためにリンス液を供給するための第1ノズルと、
前記第1ノズルを基板の中央部の上方位置と基板側方の退避位置との間で移動させるための第1移動機構と、
基板の周縁部よりも内側の基板の上方位置から、周縁部へ向けてリンス液を吐出する第2ノズルと、
前記第2ノズルを基板の周縁部よりも内側の上方位置と基板側方の退避位置との間で移動させる第2移動機構と、
予め設定した回転速度で回転する基板の中央部の上方位置にて、前記第1ノズルから基板にリンス液を供給することと、次いで、前記第1ノズルからリンス液を供給しながら、前記基板の回転速度を低下させることと、しかる後、基板の回転速度が第1回転速度まで低下したら、基板の回転速度を低下させながら、前記中央部から周縁部側へ向けて第1ノズルを移動させることと、その後、前記第1ノズルが、予め設定された終了位置に到達し、且つ、前記基板の回転速度が前記第1回転速度よりも小さい第2回転速度であるとき、当該第1ノズルからのリンス液の供給を停止する一方、前記第2ノズルにより、前記周縁部よりも内側の基板の上方位置から、前記第2回転速度で回転する基板の周縁部へ向けて、前記第1ノズルよりも大きな供給速度にてリンス液を供給することと、を実行させる制御部と、を備えたことを特徴とする液処理装置。 - 基板の上面に薬液を供給するための薬液ノズルと、前記第1ノズルとが設けられたノズルブロックを備え、前記第1移動機構は、このノズルブロックを移動させることを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。
- 前記第2ノズルは、前記薬液ノズル及び第1ノズルと共通のノズルブロックに設けられ、前記第1移動機構と第2移動機構とは共通化されていることを特徴とする請求項2に記載の液処理装置。
- 前記薬液ノズルと第1ノズルとが共通のノズルであることを特徴とする請求項2または3に記載の液処理装置。
- 前記第1ノズルの吐出口の開口面積が前記第2ノズルの吐出口の開口面積よりも大きいことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記第1ノズルから供給されるリンス液の単位時間あたりの流量が、前記第2ノズルから供給されるリンス液の単位時間あたりの流量よりも大きいことを特徴とする請求項5に記載の液処理装置。
- 水平に保持された基板を予め設定した回転速度で鉛直軸周りに回転させる工程と、
回転する前記基板の中央部の上方位置にて、基板上の薬液を除去するために第1リンス液を供給する工程と、
次いで、前記第1リンス液の供給を継続しながら、前記基板の回転速度を低下させる工程と、
しかる後、基板の回転速度が第1回転速度まで低下したら、基板の回転速度を低下させながら、前記中央部から周縁部側へ向けて第1リンス液の供給位置を移動させる工程と、
その後、前記第1リンス液の供給位置が、予め設定された終了位置に到達し、且つ、前記基板の回転速度が前記第1回転速度よりも小さい第2回転速度であるとき、当該第1リンス液の供給を停止一方、基板の周縁部よりも内側の基板の上方位置から、前記第2回転速度で回転する基板の周縁部へ向けて、前記第1リンス液の供給速度よりも大きな供給速度にて第2リンス液を供給する工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。 - 水平に保持され、鉛直軸周りに回転する基板の表面に、薬液とリンス液とを切り替えて供給することにより当該基板の液処理を行う液処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは請求項7に記載された液処理方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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