JP5698958B2 - インプリント用モールドの製造方法 - Google Patents
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Description
(i)結晶状態の側鎖結晶性ポリマーは、離型性に優れている。
(ii)側鎖結晶性ポリマーに対する熱インプリントは、比較的低温で行うことができるので、短時間で効率よく行うことができる。
(I)まず、前記モールドで、紫外線硬化性樹脂組成物からなる皮膜表面を加圧し、モールドの微細パターンを皮膜表面に転写する。
(II)ついで紫外線を照射し、前記微細パターンが表面に転写された皮膜を硬化させた後、該硬化被膜からモールドを剥離して微細構造を得る。
(1)微細パターンを表面に有する表面層と、この表面層の前記表面と反対の裏面を支持する支持層と、を備え、前記表面層が、紫外線硬化性官能基を有する紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーからなることを特徴とするインプリント用モールド。
(2)前記紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーは、側鎖結晶性ポリマーと紫外線硬化性官能基を有する化合物とを反応させて得られる前記(1)記載のインプリント用モールド。
(3)前記紫外線硬化性官能基が、(メタ)アクリロイルオキシ基である前記(1)または(2)記載のインプリント用モールド。
(4)前記紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーは、融点未満の温度で結晶化し、かつ前記融点以上の温度で流動性を示す前記(1)〜(3)のいずれかに記載のインプリント用モールド。
(5)前記微細パターンに離型処理が施されていない前記(1)〜(4)のいずれかに記載のインプリント用モールド。
(6)前記微細パターンがナノないしマイクロメートルスケールである前記(1)〜(5)のいずれかに記載のインプリント用モールド。
(8)前記第2工程後に紫外線を照射して前記紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーを硬化させる前記(7)記載のインプリント用モールドの製造方法。
(9)前記マスター型の微細パターンに離型処理が施されていない前記(7)または(8)記載のインプリント用モールドの製造方法。
(11)前記硬化性樹脂組成物が紫外線硬化性樹脂組成物からなり、該紫外線硬化性樹脂組成物からなる皮膜の表面を前記インプリント用モールドで加圧して前記微細パターンを皮膜の表面に転写し、ついで紫外線を照射して前記微細パターンが表面に転写された皮膜を硬化させる前記(10)記載の微細構造の製造方法。
以下、本発明のインプリント用モールドにかかる一実施形態について、図1を参照して詳細に説明する。同図に示すように、本実施形態にかかるインプリント用モールド10は、表面層1と支持層5とを備えている。
次に、モールド10の製造方法の一実施形態について、図2を参照して詳細に説明する。図2(a)に示すように、まず、支持層5上に紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーからなる表面層1を積層する(第1工程)。表面層1が積層される支持層5の表面5aは、表面層1との密着性を向上させる上で、表面処理を施し粗面化するのが好ましい。また、前記積層は、紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーを溶剤に加えた塗布液を、支持層5上に塗布して乾燥させることにより行う。
次に、モールド10を用いて微細構造を製造する一実施形態について、硬化性樹脂組成物に紫外線硬化性樹脂組成物を用いた場合を例に挙げ、図3を参照して詳細に説明する。図3(a)に示すように、まず、基板51表面に皮膜52を形成する。
まず、ベヘニルアクリレートを43部、メチルアクリレートを47部、2−ヒドロキシエチルアクリレートを10部、および重合開始剤としてパーブチルND(日油社製)を0.4部の割合で混合し、これらを酢酸エチル:ヘプタン=7:3(重量比)の混合溶媒で固形分量が30部になるように調整し、混合液を得た。
図2に示すようにして、インプリント用モールドを作製した。用いた各部材は、以下の通りである。
表面層:前記合成例で得られた紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーを用いた。
支持層:厚さ625μmのシリコンを用いた。前記表面層を支持する支持層の表面には、表面処理としてドライエッチング処理を施した。前記ドライエッチング処理は、SF6ガスで行った。
マスター型:EBリソグラフィーで形成された微細パターンを表面に有するSiO2ガラスからなる型を用いた。マスター型の微細パターンは、パターン寸法が350nm〜10μmであり、パターン深さが350nmである。このマスター型の微細パターンには、離型処理を施さなかった。
加圧温度:70℃(紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーの融点+15℃)
圧力:5MPa
加圧時間:60秒
なお、前記加圧温度の調整は、マスター型の裏面にヒーターを配設し、該ヒーターにてマスター型の微細パターンの表面温度が70℃になるよう加熱することにより行った。
得られたモールドについて、該モールドの微細パターンの形状保持性を評価した。評価方法を以下に示すとともに、その結果を表1に示す。
まず、モールドの微細パターンの高さを、感知レバーを使用した原子間力顕微鏡で測定した。次に、110℃の雰囲気温度下に2分間曝す条件でモールドを熱処理した後、微細パターンの高さを熱処理前と同様にして測定した。そして、熱処理前後の微細パターンの高さを下記式(i)に当てはめ、形状保持率(%)を算出した。
まず、紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーの溶液に代えて、前記合成例で得た側鎖結晶性ポリマーの溶液を用い、この溶液に光重合開始剤を添加しない以外は、前記実施例と同様にして支持層上に厚さ1μmの表面層を積層した。
1a,20a 表面
1b,20b 裏面
2,21 微細パターン
5 支持層
10 インプリント用モールド
20 マスター型
50 微細構造
51 基板
52 皮膜
53 硬化被膜
54 残膜
Claims (3)
- 支持層上に紫外線硬化性官能基を有する紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーからなる表面層を積層する第1工程と、
この表面層の表面を、微細パターンを有するマスター型にて、前記紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーの融点以上の温度で加圧する第2工程と、
ついで前記表面層の温度を紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーの融点未満の温度にして紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーを結晶化させた後、前記表面層の表面からマスター型を剥離し、マスター型の前記微細パターンを表面層の表面に転写する第3工程と、を含み、
前記第2工程後か、または前記第3工程後に、紫外線を照射して前記紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーを硬化させることを特徴とするインプリント用モールドの製造方法。 - 前記第2工程後に紫外線を照射して前記紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーを硬化させる請求項1記載のインプリント用モールドの製造方法。
- 前記マスター型の微細パターンに離型処理が施されていない請求項1または2記載のインプリント用モールドの製造方法。
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